CN1168659A - 辐照组件及其应用和自清洗方法 - Google Patents

Abstract

一种从辐照组件上清除污物的方法，该方法包括下列步骤：(i)使辐照组件的至少一部分浸在流体里，和(ii)使辐照组件在足以基本上阻止污物附着到至少一个辐射源上的频率下振动。一种用于流体处理系统的辐照组件，该组件包括：一个在流体处理系统中固定该组件的支件；至少一个从支件上伸出的辐照部件，和至少一个与辐照部件相连的振动发生器。辐照组件是自清洗式的，并可以采取辐照组件或辐射传感器组件的形式。本文还叙述了辐照源组件在流体处理系统中的一体化。

Description

辐照组件及其应用和自清洗方法

                      技术领域

本发明的一个方面涉及从辐照组件上清除污物的方法。

本发明的另一个方面涉及用于流体处理系统的辐照组件，更具体而言，涉及自清洗式辐照源组件。

本发明的另一个方面还涉及流体处理系统，更具体而言，涉及自清洗式流体处理系统。

本发明的另一个方面还涉及在包括辐照源组件的流体处理系统中处理流体的方法，更具体而言，涉及在流体处理期间采用避免在辐照源组件上形成污物的方式处理流体的方法。

                      技术背景

流体处理装置和系统是众所周知的。例如美国专利4,482,809、4,872,980、5,006,244和5,418,370(全都转让给本发明的受让人)，这些专利公开的内容都并入本发明作为参考。这些专利都叙述了自流式加料的流体处理系统，该系统采用紫外线(UV)辐照使在流体中存在的微生物失活。

在’809、’980和’244专利中所述的装置和系统通常包括几个UV灯，其中每个UV灯都安装在延伸到灯架的二个支承臂之间的套筒里。该灯架浸在被处理的流体里，然后根据要求辐照该流体。对被辐照流体的辐射强度由流体与灯的距离确定。可采用一个或多个UV传感器监测这些灯的UV输出功率，且通常利用液位控制闸门等方法在处理装置的下游控制流体的液位使其达到一定的高度。

然而，上述这些系统存在一些缺点，UV灯外围的套筒经过一定时间会被外来物质所污染粘附，这些物质妨碍套筒向流体透射UV辐射的能力，污染的程度取决于所处理流体的质量。如果发生了污染，可根据历史上的运行资料或通过UV传感器测定来确定必须用手工清洗套筒除去污染物的时间间隔。无论所采用的UV灯架是敞开式的流槽系统还是封闭系统，清洗套筒都是不现实的。

在敞开式流槽系统中，通常从流槽上拆下包括套筒在内的组件，再将其浸泡在一个装有适当清洗液体的容器里。在封闭式系统中，必须使该装置停止运行，然后装入适宜的清洗液体或采用对敞开式流槽系统所述的方法拆下灯和套筒，对套筒进行清洗。在这两种类型的系统中操作者都必须接受处理系统长时间的停机，和/或投入很多的额外资金，花费在具有适当控制装置的相当长的系统上，以便从被清洗的系统转移流体流。

’370专利所述的系统在技术上是非常先进的，它避免了’809，’980和’244专利的许多缺点。更准确地说，在它的一个实施方案中，’370专利所述的系统包括在流体处理系统中配置辐照源部件的清洗装置。该清洗装置包括与辐照源部件外表的一部分相接的清洗套筒，且该套筒在缩回和伸出位置之间是可移动的。在缩回的位置上，辐照源部件的前部浸泡在被处理的流体流中。在伸出的位置上，辐照源部件的前部被清洗套筒所遮盖。清洗套筒包括一个与所述辐照源部件前部吻合的腔，且其中装有适宜的清洗溶液，以便从辐照源部件的前部除去所不需要的物质。

虽然’370专利所述的清洗装置在技术上是先进的，但制作它既比较复杂又比较昂贵，要建造成套的流体处理设备，需要投入较多的资金。而且在某些设备中，该装置使被处理的流体流产生较大的水力压头损失。因此希望有一种能保持’370专利所述清洗装置的特性，同时在构造上既比较简单又比较便宜的设备。

                     发明内容

本发明的一个目的是提供一种从辐照组件上清洗污物的新颖方法。

本发明的另一个目的是提供一种新型的辐照组件。

本发明的另一个目的是提供一种新型的流体处理装置，该装置避免或减少了现有技术的至少一个缺点。

本发明的另一个目的是提供一种新颖的处理流体的方法，该方法避免或减少了现有技术的至少一个缺点。

因此，本发明的一个方面提供一种从辐照组件上清洗污物的方法，该方法包括以下步骤：

(I)将辐照组件的至少一部分浸在流体里；和

(ii)使辐照组件在足以基本上阻止污物附着到辐照组件上的频率下振动。

本发明的另一个方面提供一种用于流体处理系统的辐照组件，该组件包括：

一个支件，用于在流体处理系统中固定该组件；

至少一个从支件上伸出的辐照部件；和

至少一个与辐照部件相连的振动发生器。

本发明的另一个方面还提供一种流体处理系统，其中包括流体入口、流体出口和配置在流体入口和出口之间的流体处理区以及至少一个辐照组件，该组件包括一个支件、至少一个从支件伸进流体处理区的辐照部件和至少一个与辐照部件相连的振动发生器。

本发明的另一个方面还提供一种在流体处理系统中处理流体的方法，该流体处理系统包括流体入口、流体出口和配置在流体入口和流体出口之间的流体处理区以及至少一个辐照组件该组件包括一个支件、至少一个从支件伸进流体处理区的辐照部件和至少一个与辐照部件相连的振动发生器；这种方法包括下列步骤：

(i)向流体入口提供流体流；

(ii)将流体流从流体入口导入流体处理区；

(iii)使流体流在流体处理区受到辐照；

(iv)使振动发生器在足以清洗至少一个辐射部件的频率下工作；和

(v)将流体流输送到流体出口。

因此，本发明的一个方面涉及用于流体处理系统的辐射组件。本说明书自始至终所用的术语“辐照组件(radiation module)”包括发射和检测射线的组件。因此，在一个优选的实施方案中，本发明的辐照组件是一个在流体处理系统中发出辐射线的辐照源组件。在另一个实施方案中，本发明的辐照组件是一个检测从另一个辐射源发出的辐射线的辐照传感器组件。

                    附图简述

将参照附图叙述本发明的一些实施方案，其中：

图1是根据本发明的辐照源组件第一个实施方案局部剖开的正视图；

图2是图1所示辐照源组件的俯视图；

图3是图1所示辐照源组件的侧视图；和

图4是图1A区的放大图。

在这些图中，使用相同的编号标明各个图中相同的部件。

                 实施本发明的最佳方式

本发明的辐照组件优选是一种基本上是自清洗式的辐照源组件。本说明书自始至终所用术语“自清洗”和“清洗”的定义很宽，包括从组件的辐照源部件上除去污物或阻止污物附着到组件的辐照源部件上或这二种同时起作用。在大多数情况下，如果在整个流体处理期间，振动发生器一直在工作(即连续方式)，则会出现后一情况。然而，显然预期在流体处理期间，辐照源组件可以在振动发生器定期工作的情况下运行(即半连续方式)。在这种情况下，在振动发生器工作时，会很快除掉在振动发生器未工作时附着到辐射源部件上的污物。

在组件中，振动发生器与辐照源部件相连并使辐照源部件产生瞬间的机械振动。在理想情况下，振动发生器的表面与辐照源部件表面暴露在流体中(因而很可能被污染)的一端邻接，而振动发生器的另一面与辐照源组件的刚性表面邻接。这会最大限度地将振动能从振动发生器转移到辐照源部件的自由端。这种连接可以是直接或间接的。优选将本身不是振动发生器的刚性绝缘件分别配置在振动发生器和辐照源组件的刚性表面以及辐照源部件之间。这会使辐照源部件和辐照源组件刚性表面之间形成电绝缘。振动以往复方式进行，这对本领域的技术人员来说是显而易见的。就辐照源部件而言，优选在轴向上产生振动。可利用压电振子产生这种振动，优选采用压电陶瓷振子。压电陶瓷振子一直惯用于声纳。适用于本发明辐照源组件的适宜的压电陶瓷振子在市场上可从EDO Corporation(犹他州、盐湖城)买到，它们基本上是由满足美国海军第1类(I)或美国海军第3类(III)技术规格的陶瓷元件组件。满足美国海军第1类技术规格的陶瓷元件是一种居里点高于约310℃的硬质锆钛酸铅和满足美国海军第3类技术规格的陶瓷元件是一种居里点高于约290℃非常坚硬的锆钛酸铅，这对本领域的技术人员是显而易见的。在1984年2月28日公布的国防部标准DOD-STD 1376A(SH)中可以查到这些陶瓷元件技术规格的详细说明，在此引入其内容作为参考。

优选辐照源部件包括作为辐照源的紫外线灯。更优选辐照源部件还包括一个围绕紫外线灯的套筒，最优选石英套筒，该套筒限定了紫外线灯和被处理流体间的绝缘间隙。优选的套筒具有在支件远侧的封闭端及密封连接到支件上的开口端。当采用这种配置时，优选采用配置在支件连接表面和套筒开口端之间的环形压电振子作为振动发生器。

振动发生器通常可以在约1kHz至约100kHz，优选在约10kHz至约20kHz，更优选在约10kHz至约15kHz的频率下工作，优选压电振子，更优选环形的压电振子。

本发明的辐照源组件非常适用于包括流体入口、流体出口和配置在流体入口和流体出口之间的流体处理区的流体处理系统。流体处理系统可以是敞开式系统或者是封闭式系统。

本说明书自始至终使用的关于流体处理(即辐照)的术语“封闭式系统”，规定其包括流体流在流体处理区(即流体在其中被辐照的区域)中被加压，且在整个处理中基本上完全处于封闭状态为特征的系统。对流体流的压力来源没有特殊限制。例如可由泵和/或靠重力作用加压。这种封闭式系统的一些实例可在引入的美国专利5,418,370(注意，是根据处理/辐照区的功能将该系统称作封闭式系统的)和1994年10月17日提交的本发明人的美国专利申请号08/323,808，现在的专利号*中查到，在此均引入本发明作为参考。

本说明书还自始至终使用关于流体处理(即辐照)的术语“敞开式系统”，规定其包括流体流在处理区被容纳在一个未被流体完全充满的敞口容器(例如流槽)中并被处理(即被辐照)为特征的系统。这种敞开式系统的一些实例可在引入的美国专利4,482,809、4,872,980和5,006,244中查到。

本发明的辐照源组件应用于封闭式流体处理系统中是理想的，因为这会将清洗问题最大的这类系统的停机时间和需要的冗长系统减少到最小。

在一个优选的实施方案中，封闭式流体处理系统具有一个包括一个外壳和至少一个辐照源组件的流体处理区，该辐照源组件包括密封连接到支件上的辐照源，该支件密封固定在外壳上。优选(但并非必须)使辐照源基本上与流体流平行配置。更优选流体入口、流体出口和流体处理区具有基本上相同的横截面且基本上以共线方式排列。外壳最好是一个基本上细长的圆筒，具有在基本上圆形的横截面。在这个实施方案中，支件离辐照源远的一端可具有与外壳密封连接的安装板。优选封闭式的流体处理系统包括在限定辐照源环的外壳周围呈圆形安装的多个辐照源组件，更优选它们彼此间具有相同的距离。如果需要，该外壳可以包括多个这样的辐照源环。辐照源环的数量和每个环上组件的数量因各设备的不同而改变，并可由本领域的技术人员基于对一个或多个下列因素的考虑而选择：外壳的横截面积、流过外壳的流体的体积、每个组件的辐射功率、系统所需的总辐射量等。这个封闭式流体处理系统的实施方案可以在常规流体(例如水)管道中“在线”使用。管道直径可根据具体应用确定，对于家庭使用，直径最大可达4英寸左右，而对市政使用，直径可达1英尺-3英尺或更大。

在另一个优选的实施方案中，封闭式流体处理系统是自流加料并具有流体处理区，该区具有封闭式的横截面，将被处理流体限制在预定离辐照源部件的最大距离内。本文所用的术语“自流加料(gravity fed)”包括在其中由液位变化得到流体水力压头的系统。应当理解，这样的系统包括自然自流加料和通过泵或其它机械装置改变流体液位提供自流加料这两类系统。优选辐照源部件是细长的，且其纵向轴基本上平行于流体通过流体处理区流动的方向。流体处理区的横截面积优选小于流体入口和流体出口的横截面积。在大多数情况下，这会导致流体的流动在流体入口有第一种速度，在流体处理区有第二种速度和在流体出口有第三种速度。在理想情况下，第二种速度(即在流体处理区)大于第一和第三两种速度中的至少一种速度。且优选大于这两种速度。优选第三种速度基本上等于第一种速度更优选流体处理区的横截面积小于流体入口的横截面积，并将流体处理区配置在一个包括将流体入口与流体处理区连通的第一过渡区的处理区内，该过渡区能减少入口和流体处理区之间流体的压力损失并能增加流体的流速。更优选流体处理区的横截面积小于流体出口的横截面积，并将流体处理区配置在包括将流体出口与流体处理区连通的第二过渡区的处理区内，该过渡区能减少出口和流体处理区之间流体的压力损失，并能降低流体的流速。最优选流体处理区包括第一和第二过渡区。

参照附图，所示辐照源组件10包括支件15、从支件15伸出的辐照源部件20以及将辐照源组件10固定在流体处理系统中的安装板25。

辐照源部件20包括一个同轴渐缩管30，该管可被焊接到支件15上或与支件15制成一体。环35固定在渐缩管30上，安装套筒40固定在环35上。安装套筒40离同轴渐缩管30远的一端有螺纹段45。具有螺纹段55的内套筒50被配置在安装套筒40之内，螺帽60拧在螺纹段55上。内套筒50带有适当的凹槽，以安放一对有弹性的O形环65、70。内套筒50离同轴渐缩管30远的一端邻接一个有弹性的楔形密封环75。安装螺帽80拧在安装套筒40的螺纹段45上，并与楔形密封环75邻接。安装螺帽80开有施加扭力的凹槽85，该凹槽用于安放适当的工具，以将安装螺帽80扭进与安装套筒40的密封连接处。

一个环形的压电陶瓷振子90配置在内套筒50内，该振子是由多个单独的环形压电陶瓷振子(未示出)粘附在一起制成的多层结构。振子90的一端与内套筒50邻接，而振子90的另一端与石英套筒95的开口端邻接。如图中所示，石英套筒95的另一端是封闭的。本领域的技术人员会理解，也可使用两端开口的石英套筒。辐照源100配置在石英套筒95内。在理想情况下，辐照源是紫外线灯。对紫外线灯没有特殊限制，且紫外线灯的选择是在本领域技术人员的权限内。在石英套筒95内配置一对隔板105、110，用其使石英套筒95内的辐照源100位于中心并被固定在合适的位置上。

从辐照源100引出一对电导线115、120，它们被接到第一接线器135上。从振子90引出另一对电导线125、130，它们也接到第一接线器135上。第一接线器135与第二接线器140连接。电线导管145从第二接线器140上引出并穿过同轴渐缩管30、支件15和安装板25。电线导管145与本领域惯用的适当电源和控制系统(未示出)连接。

第一接线器135和第二接线器140各自的一部分由绝缘环150围绕着。绝缘环150由不导电的材料制成，并用来减少或消除在连接第一接线器135和第二接线器140的电接头间产生的电弧。优选绝缘环150是非弹性的且由硬橡胶或塑料(例如Delrin^TM)制成。

在用图说明的实施方案中，安装板25是弯曲的并具有多个孔155。在加压的、封闭式系统中，例如在所引入的共同未决的1994年10月17日提交的本发明人的美国专利申请S.N 08/323,808，现为专利号*中所述的系统中，采用辐照源组件10的这个实施方案是有利的。在这个实施方案中，将辐照源部件20通过尺寸比安装板25上的孔小但形状与其相似的孔插入外壳。螺栓在外壳上的排布与安装板25上孔的排布相同。然后扭动每个螺栓上的螺帽将辐照源组件固定在合适的位置上，这种方法借助于安装板25和外壳之间的O形环(或其它密封环，未示出)提供密封。

辐照源组件可用下列方法组装。首先将绝缘环150放在内套筒50的一端，并将螺帽60拧在内套筒50的螺纹段55上，把绝缘环固定在合适的位置上。将第一接线器135的一部分插进绝缘环150，并将振子90放在与内套筒50邻接的位置上。将O形环70放在内套筒50内的凹槽中并将石英套筒95(装有辐照源100)插入内套筒50，使其与振子90邻接。将O形环65和楔形密封环75放在相对内套筒50的适当位置上，然后将内套筒50插入安装套筒40中。在全部插进安装套筒40之前，将第一接线器135和第二接线器140接上。然后将安装螺帽80拧到安装套筒40的螺纹段45上。采用适当的工具(未示出)扭转安装螺帽80，所施加的力要达到两个目的。第一，所施加的力应足以压紧O形环65、70和楔形密封环75，以使在辐照源部件20之外的流体和辐照源部件20之内的电导线115、120、125、130之间形成密封。第二，所施加的力应足以确保石英套筒95和振子90以及振子90和内套筒50之间相应的连接。

在使用时，将辐照源组件10放在被处理的流体(例如水)中，以使辐射源100基本上完全被浸没。将电线导管145连接到适合用于驱动辐照源100的振子90的电源上。在工作期间，流体流被辐照源100辐照。同时，振子90使石英套筒95以图4中箭头B所示的往复方式振动。这种往复运动起着去除可能附着到石英套筒上的污物(例如矿物质、细菌等)的作用。往复运动还起着防止流体载带的污物附着到石英套筒上的作用。往复作用使石英套筒95上的污物受到很大的剪切力，这种剪切力可从石英套筒95上除去附着的污物，或可防止在石英套筒95上形成污物，这对本领域的技术人员是会清楚了解的。

本领域的技术人员自然也会理解，为了适合特定的流体处理系统，可在不离开本发明内容的条件下改变所列举的辐照源组件的实施方案。例如可以省去安装板25，并可将支件15加长成一个支柱，其长度等于或大于辐照源部件20的长度。这类辐照源组件适用于流体处理系统，例如上文引入的’809，’980，’244和’370专利所述的一些系统。在保持密封的同时，还可改变密封环(即O形环、楔形环等)的数量、类型和配置。虽然本发明的辐照源组件在用于辐照流体的同时保持辐照源部件不受其中污物的污染更为有利，但也可以从流体处理装置中拆下辐射源组件，将其放在流体(例如在外部容器中的清洗液)里并只开动振动发生器(即不辐照流体)-这种变动涉及在不同时处理或纯化流体的条件下清洗辐照源组件中辐照源部件的方案。

虽然上文的叙述讲授了辐照源组件，但正如上文所讨论的，本发明的实施方案涉及到声纳组件。这种组件可用能检测所关心的特定波长发射的辐射强度的光电二极管(或类似物)替代辐照源100和电导线115、120、125、130来制作。对光电二极管(或类似物)的选择没有特殊限制，且可选择在目前的辐射传感器中常用的材料。光电二极管的电气连接和控制也是常规的，这对本领域的技术人员而言，也是不难做到的。

因此很显然，虽然本文已叙述了本发明有代表性的实施方案，但本发明并不局限于这些有代表性的实施方案，而且在不离开所附权利要求所规定的本发明内容范围的条件下，本领域的技术人员可做出这样或那样的变动和改变。

Claims (47)

1、用于流体处理系统的辐照组件，该组件包括：一个用于在流体处理系统中固定该组件的支件；至少一个从支件上伸出的辐照部件；和至少一个与辐照源部件相连的振动发生器。

2、权利要求1的辐照组件，其中的辐照部件是辐照源部件。

3、权利要求2的辐照组件，其中振动发生器配置在支件和至少一个辐照源部件之间。

4、权利要求2的辐照组件，其中至少一个辐照源部件包括一个紫外线灯。

5、权利要求4的辐照源组件，其中辐照源部件还包括在紫外线灯周围的套筒，该套筒限定了紫外线灯和被处理流体之间的绝缘间隙。

6、权利要求5的辐照源组件，其中套筒具有在支件远侧的封闭端和与支件密封连接的开口端。

7、权利要求2的辐照源组件，其中振动发生器包括至少一个配置在支件连接面和套筒开口端之间的环形压电振子。

8、权利要求2的辐照源组件，其中振动发生器包括多个互相粘附在一起且配置在支件邻接表面和套筒开口端之间的环形压电振子。

9、权利要求2的辐照源组件，其中支件包括至少二个与其连接的紫外线灯。

10、权利要求2的辐照源组件，其中振动发生器能在约1kHz至约100kHz的频率下工作。

11、权利要求2的辐照源组件，其中振动发生器能在约10kHz至约15kHz的频率下工作。

12、权利要求2的辐照源组件，其中支件包括向辐照源部件和振动发生器提供电源所通过的导管装置。

13、权利要求1的辐照组件，其中辐照部件是辐照传感器部件。

14、一种从辐照组件上清除污物的方法，该方法包括下列步骤：

(i)将辐照组件的至少一部分浸在流体中，和(ii)使辐照组件在足以基本上阻止污物附着到至少一个辐照源上的频率下振动。

15、权利要求14的方法，其中频率为约1kHz至约100kHz。

16、权利要求14的方法，其中频率为约10kHz至约20kHz。

17、权利要求14的方法，其中频率为约10kHz至约15kHz。

18、权利要求14的方法，其中间断地施加频率。

19、权利要求14的方法，其中连续地施加频率。

20、权利要求14的方法，其中还包括使流体受辐照的步骤。

21、权利要求14的方法，其中辐照是紫外线辐照。

22、流体处理系统，其中包括流体入口、流体出口和配置在流体入口和流体出口之间的一个流体处理区以及至少一个辐照源组件，该组件包括一个支件、至少一个从支件伸进流体处理区的辐照源部件和至少一个与辐照源部件相连的振动发生器。

23、权利要求22的流体处理系统，其中振动发生器被配置在支件和至少一个辐照源部件之间。

24、权利要求22的流体处理系统，其中至少一个辐照源部件包括紫外线灯。

25、权利要求24的流体处理系统，其中辐照源部件还包括在紫外线灯周围的套筒，该套筒限定了紫外线灯和被处理流体之间的绝缘间隙。

26、权利要求25的流体处理系统，其中套筒具有在支件远侧的封闭端和与支件密封连接的开口端。

27、权利要求22的流体处理系统，其中振动发生器包括至少一个配置在支件连接表面和套筒开口端之间的环形压电振子。

28、权利要求22的流体处理系统，其中振动发生器包括多个互相粘附在一起并配置在支件连接表面和套筒开口端之间的环形压电振子。

29、权利要求22的流体处理系统，其中振动发生器能在约1kHz至约100kHz的频率下工作。

30、权利要求22的流体处理系统，其中支件包括为辐照源部件和振动发生器提供电源所通过的导管装置。

31、权利要求22的流体处理系统，其中流体处理区包括一个外壳，和至少一个辐照源组件包括一个与支件密封连接的辐照源，该支件密封安装在外壳上。

32、权利要求32的流体处理系统，其中辐照源基本上与流体流平行配置。

33、权利要求32的流体处理系统，其中流体入口、流体出口和流体处理区基本上具有相同的横截面。

34、权利要求33的流体处理系统，其中流体入口、流体、流体出口和流体处理区以基本上共线的方式排列。

35、权利要求22的流体处理系统，其中该系统是自流加料，且流体处理区是封闭的，其横截面将处理的流体限制在预定离开至少一个辐照源部件的最大距离之内。

36、权利要求35的流体处理系统，其中至少一个辐照源部件是细长的，且其纵向轴基本上平行于流体通过流体处理区流动的方向。

37、权利要求35的流体处理系统，其中流体处理区的横截面积小于流体入口和流体出口的横截面积，配置在处理区内的流体处理区包括第一和第二过渡区，第一过渡区使流体入口与流体处理区相通和第二过渡区使流体处理区与流体出口相通，第一和第二过渡区分别减少了流体入口和流体处理区之间以及流体处理区和流体出口之间流体的压力损失。

38、一种在流体处理系统中处理流体的方法，该系统包括流体入口、流体出口和配置在流体入口和流体出口之间的流体处理区以及至少一个辐照源组件，该组件包括一个支件、至少一个从支件伸进流体处理区的辐照源部件和与至少一个辐照源部件相连的振动发生器，该方法包括下列步骤：

(I)向流体入口提供流体流；

(ii)将流体流从流体入口导入流体处理区；

(iii)使流体流在流体处理区受辐照；

(iv)使振动发生器在足以清洗至少一个辐照源部件的频率下工作；和

(v)将流体流输送到流体出口。

39、权利要求38的方法，其中振动发生器在约1kHz至约100kHz的频率下工作。

40、权利要求38的方法，其中还包括在基本上与至少一个辐照源平行的方向加入流体流的步骤。

41、权利要求40的方法，其中通过流体入口、流体出口和流体处理区的流体流基本上呈共线。

42、权利要求41的方法，其中还包括选择具有基本上相同横截面的流体入口、流体出口和流体处理区的步骤。

43、权利要求38的方法，其中辐照源包括至少一个紫外线灯。

44、权利要求43的方法，其中至少一个辐照源部件还包括一个围绕至少一个紫外线灯外表的一部分的套筒。

45、权利要求38的方法，其中流体以第一种速度在流体入口流动，以第二种速度在处理区流动，以第三种速度在流体出口流动，第二种速度大于第一、第三这两种速度。

46、权利要求45的方法，其中在步骤(ii)之前，流体流被导入过渡区，该过渡区使流体的流速增加。

47、权利要求45的方法，其中在步骤(v)之前，流体流被导入过渡区，该过渡区使流体的流速下降。

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