TW298615B - - Google Patents

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393615 B7 經濟部中央橾準局貝工消费合作社印裝 五、發明説明 ' 丨 1 I C 技 藝 領 域 ] 1 1 I 在 本 發 明 之 — 個 方 向 中 本 發 明 係 是 有 關 於 — 白 輻 射 1 I 模 姐 上 濟 除 污 物 之 方 法 〇 請 先 1 1 閲 | 在 本 發 明 之 另 一 個 方 向 中 本 發 明 係 是 有 Μ 於 —— 用 在 讀 背 | I —· 流 體 處 理 % 統 中 之 輻 射 模 組 更 特 而 之 係 是 有 醑 於 — 之 注 1 1 具 備 自 我 澝 潔 作 用 之 輻 射 源 模 组 0 意 事 1 項 再 在 本 發 明 之 另 一 個 方 向 中 本 發 明 係 是 有 Μ 於 一 流 體 填 1 處 理 系 統 更 特 定 而 之 係 是 有 闞 於 一 具 白 我 澝 潔 功 能 的 寫 本 頁 裝 1 流 體 處 理 % 统 0 1 1 在 本 發 明 之 另 — 個 方 向 中 本 發 明 係 是 有 一 於 — 在 一 1 I 包 含 有 ""'« 輻 射 源 模 組 之 流 « 處 理 % 統 中 來 處 理 流 體 之 方 法 1 訂 9 更 特 而 之 係 是 有 關 於 — Μ 下 述 方 式 來 處 理 流 體 之 方 法 1 1 : 在 該 流 體 處 理 期 間 排 除 在 該 輻 射 源 模 組 上 污物 之 形 成 0 1 1 發 明 背 景 ] 1 1 流 體 處 理 裝 置 和 糸 統 是 為 已 知 的 〇 例 如 美 國 専 利 第 ^1 、Ά 4 4 8 2 8 0 9 號 4 8 7 2 9 8 0 號 、 5 0 1 I 0 6 2 4 4 號 和 5 4 1 8 3 7 0 號 ( Μ 上 皆 是 被 授 1 1 權 予 本 發 明 之 受 諶 人 ) 上 逑 每 一 個 專 利 案 之 内 容 是 被 併 1 1 入 本 案 中 以 作 為 參 考 用 上 述 所 有 專 利 案 係 揭 示 Μ 重 力 饋 1 I 送 之 流 體 處 理 糸 統 其 藉 由 使 用 紫 外 線 ( U V ) 來 殺 死 出 1 I 現 在 該 流 體 中 之 微 生 物 〇 1 1 該 被 揭 示 在 第 / 8 0 9 / 9 8 0 和 / 2 4 4 號 中 之 1 1 專 利 其 通 常 係 包 含 有 數 個 紫 3 · 外 線 燈 每 俚 紫 外 媒 燈 是 1 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家揉準(CNS ) A4規格(210X297公釐) A7 _B7_ 五、發明説明(1) 被装設在套简中,該套茼係延伸介於該櫬架之二個支撐桿 资之間。該機架是被沈浸在該要被處理之流體之中,該流 體係依據須要而被紫外線輻射。該流體被皤置Μ由紫外媒 輻射之量,其是由該流體對紫外線燈之接近程度來決定之 。一或數個絮外線感測器是可被使用Μ監視該紫外線燈之 紫外線輪出,且該流體高度,其通常是拜由在該處理裝置 下游處之高度閛門或其類似物來做某一程度的控制。因為 在較高的流動速率下,重力鋇入糸统係很難來達成精確的 流體高度控制,流體高度的變動是無法遴免。如此之變動 係會導致該被處理之流體不均勻的輻射。 經濟部中央標準局負工消费合作社印製 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 然而,在該上述的系統中係存在有缺點。依據該被處 理之流體之品質,環繞該紫外線燈之套筒係會周期性地由 雜質所弄雜,進而抑止該套筒來傅送紫外線輻射至該流體 之能力。當弄Ρ時(其之期限是可由該操作賁料歷史或是 由該紫外線感測器之量測來決定之),該套简係必須被手 動地清理Μ除出該髒東西。不管該紫外線燈之機架是被使 用在一開放、溝渠狀糸統中或是在一密封糸統中·該套茼 之清理是為不方便的。 在開放、溝渠狀的糸統中,該包含套筒之棋組通常是 自該溝渠中來被移開,然後,該包含該套筒之横組是被沈 浸在一包含合適清潔流S8的分別容桶中。在密封系统中, 該裝置必須被關掉,然後,該套茼是藉由填充一合遘濟潔 流體來被淸理•或是藉由一如同用於該開放、溝渠狀系統 本紙張尺度適用中國國家揉準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) ♦ ♦ 經濟部中央標準局員工消費合作社印装 置。之伸一位。分源 代貴成施 装成部延第的蓋部射 係昂的設 潔總外 一 一展覆 一輻 置及多些 清源之和之伸所第該。裝雑較某 1 射成置成該筒該自液潔複要在 有輻總位總在套之來溶清地須 , 括 一 源回源。潔成用潔之當係者 包之射縮射下澝缌合澝中相置步 侫中輻 I 輻動該源逋之利是裝 I 利統該在該流由射一料專其潔進 專系和可,體是輻有材號,淸。 之理茼係上流分該應須 ο 而之廠 中處套筒置之部和供所 7 然利工 號體潔套位理 一 室被為 3 ,專理 ο 滾淸潔回處第容是不, 步號處 7 該一清縮被之 | 筒去在進 0體 3 在有該該要成有套移示 一 7 流 , 理括且在一缌括潔上揭之 3 一 在清包,。在源包清分被上 / 起 示來係合動置射係該部該藝該立 揭用置嚯移暘輻筒且 I ,技建建 被以裝相間被該套,第然關搆以 該供潔分之是,潔觸之雖相來賁 , 提淸部置分上淸接成 在要投 者之該 一 位部置該相總 表,本 Α7 Β7 五、發明説明(\) 中之方法來移開該紫外線燈Μ清理該套筒。在以上所述之 二種糸統中,該操作者係必須來接受該系統之一相當長的 停機時間,及/或投資相當多的額外資本Μ在適當的位置 來具有具備通當控制糸統之充分多餘糸铳Μ自該要被清潔 的系统上來分滾該流體之流動。 該被揭示在'3 7 0號專利案中之糸統在此一技蕕中 係為一相當長逭的進步,其係排除由該'809號、'9 8 0號和’244號專利之裝置和系统所導致之一多數缺 點。更特定而言之,在該'370號專利之實施例中之一 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) ---------裝------訂------^ ^ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局負工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明(+) 上,該'370號專利係在該要被處理之流«流動上產生 較多的水力揚程損失。 〔本發明之掲示〕 本發明之一個目的是要來提供一新穎的自輻射撗组上 清除污物之方法。 本發明之另一個目的是要來提供一新穎的輻射棋組。 本發明之另一個目的是要來提供一新穎的流體處理方 法*其係可排除或減輕習用技蕕中之缺點之至少一項。 因此•在本發明之一個方向中,本發明係提供一用來 自一輻射棋组淸除污物之方法,該方法係包括有K下之步 驟: (i )將該輻射棋組之至少一部分沈浸在一流體中; 及 (i i)使該輻射模組來接受在一頻率下之振動,其 中*該頻率係可充分地來大致抑制汚物粘附至該輻射棋組 上。 在本發明之另一個方向中,本發明係提供一用在一流 體處理糸統中之輻射横組,其係包括有: —支撐元件•其係用來安裝該模組在該流嫌處理糸铳 中; 至少為一之幅射縴成,其係自該支撐元件上來延伸; 一振動產生機構,其係和該至少為一之輻射缌成相連 接。 -6 _ 本紙張尺度適用中國國家梂準(CNS ) A4規格(210X297公釐) ---------^.1 裝------訂------^ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央樣準局更工消費合作杜印製 A7 B7 五、發明説明(() 在本發明之另一個方向中,本發明係提供一流體處理 系铳,其係包括有一流體入口、一流體出口、一流體處理 區間被置放在介於該流體入口和該流體出口之間、及至少 為一之輻射模組係包括有一支撐元件,至少為一之輻射總 成係自該支撐元件來延伸進入該流體處理區間中,及一振 動產生機構係和該至少為一之流體處理區間相連接。 在依然為本發明之另一個方向中,本發明係提供一在 一流艚處理糸統中來處理一流體之方法•該流體處理系統 係包括有一流體入口、一流體出口、一流體處理區間被置 放在介於該流體入口和該流體出口之間、及至少為一之箱 射棋組係包括有一支撐元件,至少為一之輻射總成係自該 支撐元件來延伸進入該流髓處理區間中,及一振動產生機 構係和該至少為一之流體處理區間相連接,該方法處理方 法係包括有以下之步驟: (i)提供一流體流動至該流體入口上; (ί ί )自該流體入口饋送該流體流動至該流體處理 區間上; (ί i i)在該流體處理區間中來使該流體流動曝置 在輻射下;及 (i v) M —頻率來操作該振動產生櫬構,其中,該 頻率係足夠來清潔該至少為一之輻射總成;及 (v)饋送該流體流動至該流體出口上。 因此,在本發明之一個方向上,本發明係是有關於一 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS〉A4規格(210X297公釐) ---------jri 裝------訂------^..^ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消费合作杜印製 293615 at __B7_ 五、發明説明(& ) 用在一流《處理糸統中之輻射模組。該被使用在本案說明 窨中之術語〃輻射撗組",其係被用來包括所有的發射或 感測輻射之模組。因此,在本發明之一個較佳實施例中, 本發明之輻射横組係為一在一流體處理糸統中來發射輻射 之鞴射源棋組。在另一個實施例中,本發明之輻射横組係 為一輻射感測棋組,其係偵测來自另一個輻射源所發射之 輻射。 〔圖式簡述〕 本發明之實施例將藉由所附之圔式來被掲示,其中: 圈式1係為一正視、部分剖去視_,其說明一依據本 發明之一辐射源模組之一第一實施例; 圔式2係為該被揭示在圖式1之該輻射源禊組之一頂 視圖; _式3係為該被揭示在騙式1之該輻射源棋組之一端 部視圖;及 圖式4係為在圖式1中之A區間之一放大視圖。 在上述圖式中,各圖式間相同的參考標號,其係被用 來指示相同的元件。 〔實施本發明之最佳模式〕 較佳地,本發明之輻射模組是為一輻射源模組,其是 完全為自我清潔的。如在本案說明書所使用之術語'’自我 清潔"和〃清潔",其是有一較廣的定義,且其係包含以 下的二種意思或其中之一種:自該在該撗組中之輻射源總 -8 - 本紙張尺度適用中國國家橾準(CNS ) A4规格(210X297公釐) ---------^''1 裝------訂------^ (锖先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) A7 B7 經濟部中央標準局貞工消费合作社印製 五、發明説明 〔 Ί ) 1 1 I 成 上 移 去 污 物 及 抑 止 污 物 來 粘 附 至 該 在 該 模 組 中 之 輻 射. 1 1 1 源 總 成 上 0 在 大 部 分 的 例 子 中 假 如 該 振 動 產 生 櫬 構 是 在 1 1 該 整 個 流 體 處 理 期 間 來 被 操 作 的 話 (亦 就 是 連 缜 棋 式 ) f 讀 先 Μ 1 1 I 該 後 面 的 狀 況 ( 註 抑 止 污 物 來 粘 附 至 該 在 該 棋 姐 中 之 輻 背 tL 1 1 射 涯 德 成 上 ) 將 會 發 生 0 然 而 在 此 可 被 清 楚 了 解 的 是 之 注 1 1 該 輻 射 源 棋 組 是 可 以 下 述 的 方 法 來 操 作 之 在 流 處 理 期 1 項 再 1 [ 間 該 振 動產 生 機 構 是 被 周 期 性 地 操 作 ( 亦 就 是 半 連 續 撗 4 1 式 % 本 裝 ) 〇 在 此 狀 況 下 該 在 該 振 動 產 生 機 構 未 被 搡 作 時 來 頁 1 粘 附 至 該 輻 射 源 總 成 上 之 污 物 其 在 該 振 動 產 生 機 構 被 操 1 1 作 時 係 可 被 快 速 地 移 去 〇 1 1 該 振 動 產 生 機 構 是 和 在 該 模 姐 中 之 該 輻 射 源 斑 成 相 連 1 訂 1 I 接 且 其 係 提 供 — 該 輻 射 源 想 成 之 — 微 小 的 機 械 振 動 〇 理 想 地 該 振 動 產 生 機 構 之 一 表 面 係 鄺 接 該 輻 射 源 總 成 之 該 1 1 表 面 之 一 端 部 其 中 該 端 部 係 被 曝 置 在 該 流 體 之 下 ( 因 1 1 此 其 是 最 容 易 來 由 污 物 所 弄 m 而 該 振 動 產 生 機 構 之 相 1 1 對 端 部 係 鄰 接 該 輻 射 源 横 组 之 - 剛 固 表 面 〇 如 此 之 安 排 * 其 係 可 使 來 白 該 振 動 產 生 機 構 之 振 動 能 量 之 一 最 大 部 分 被 1 1 1 傳 送 至 該 輻 射 源 總 成 之 一 自 由 端 部 上 0 該 鄰 接 是 可 為 直 接 1 1 的 或 是 間 接 的 0 較 佳 地 — 個 剛 固 的 絕 緣 元 件 其 是 被 分 1 1 別 地 置 放 介 於 該 振 動 產 生 機 構 和 該 輻 射 源 棋 組 之 該 剛 固 表 1 I 面 之 間 及 介 於 該 振 動 產 生 機 構 和 該 輻 射 源 總 成 之 間 > 其 1 1 中 該 剛 固 的 絕 緣 元 件 本 身 並 不 是 為 — 振 動 產 生 機 構 0 如 1 1 此 之 安 排 將 舍 提 供 霣 氣 絕 緣 9- 介 於 該 輻 射 源 總 成 和 該 輻 射 1 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家揉準(CNS ) A4規格(210X297公釐)
五、發明説明(f) 經濟部中央標準局貝工消费合作社印製 源缌成之該剛固表面之間。在此將為熟於此技之人士所知 悉的是,振動是K —往復式的方式來產生。較佳地,相對 於該輻射源總成•該振動是被軸向地達成。如此之一振動 是可藉由使用一壓霉變能器(較佳是一壓陶磁變能器)來 達成之。壓電陶磁變器傅统地是被使用在轚纳應用上。一 個適合用在本發明之輻射源横組之壓霣陶磁變能器,其是 可由EDO公司(_它州,鹽湖城)處來獲得之·該陶磁 變能器係包括有一_磁元件符合美圃海軍第一種型式(I )或美國海軍第三種型式(I I I)之規格。在此將為習 於此之人士所知悉的是,符合美國海軍第一種型式規格之 陶磁,其是為一具有居里點大於3 1 0*C之硬質鉛结酸鹽 钛酸鹽,而符合美國海軍第三種型式規格之陶磁,其是為 一具有居里點大於2 9 0Ό之非常硬鉛睹酸鹽钛酸鹽。闢 於這些陶磁規格之詳细說明,其是可見於在1 9 84年2 月28日所發行的美國國防部DOS — STD 1 376A (S Η )中,該份文件之内容是被併入本案中Μ作為參考 用。 較佳地,該輻射源缌成係包括有一紫外線燈來作為該 輻射源。更佳地,該輻射源缌成係包括有一套筒(最佳地 是為一石英套筒)在該紫外線燈上*該套筒係界定一絕緣 間隙介於該紫外媒燈和該要被處理之流髏之間。一個較佳 的套筒係有一密封的端部适離該支撐元件,和一開放的编 部可密封地和該支撐元件相《合。當此一安排被使用時, -10- 本紙張Λ度適用中國國家揉準(CNS ) Α4規格(210X2.97公釐) ---------I裝------訂------ (讀先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標隼局貝工消費合作社印«. A7 B7 五、發明説明(1) 在此為較佳地是來使用一環形壓電爱能器(註:作為該振 動產生檐構)來被置放介於在該支撐元件之一鄰接表面和 該套简之該開放端部之間。 一般而言,該壓霣變能器(較佳地是為一壓霣變能器 ,而更佳地是為一環狀壓電變能器),其是為一可在一大 約自1千赫芝(kHz)至大約100千赫(較佳地是在 大約自1 0千赫芝至大約20千赫芝,更佳地是在自1 5 千赫芝至15千赫芝)之頻率範圔下來被操作。 本發明之輻射源模組是可被理想地使用在下述之一流 «處理糸統中:該流SS處理係包括有一流體入口、一流通 出口和一流臞處理區間被置放介於該流體入口和流«出口 之間。該流體處理系統係可為一開放系統或是一密封条統 0 在本案說明軎中所用之該術語〃密封系統",其在相 關於一流體之處理(亦就是輻射)上,其是被用來包含一 糸統具有以下之特徴:其具有一流器處理區間(亦就是在 此該流體被輻射處理之區間),在該區間中,該流體之 流動是被加壓,且在處理時,該流體之流動是大致被包含 在一密封空間中。該流體流動之加壓源並無須被特別地限 制。例如,該壓力可藉由一幫浦來產生或是藉由重力作用 來產生。如此之一密封系统之一例子是可見於該被併入本 案中之美國專利第5,41 8,370號中(註:此一糸 統是因該處理/輻射區間是被界定為一密封系統),和可 -1 1- 本紙張尺度逍用中國國家揉準(CNS ) A4規格(210X297公釐) ---------II (锖先閱讀背面之注意事項再填寫本筲) 訂 A7 B7 經濟部中央標準局貝工消費合作社印裝 五、發明説明 1 1 I 見 於 由 本 案 發 明 人 在 1 9 9 4 年 十 月 十 七 曰 所 申 講 之 美 國 1 1 1 專 利 Φ 請 案 第 0 8 / 3 2 3 8 0 8 號 ( 專 利 號 碼 為 m ) 1 I 9 該 二 專 利 案 是 被 併 入 本 案 中 作 為 參 考 用 〇 請 £ 1 1 閲 I 進 — 步 地 如 在 本 發 明 中 所 使 用 之 該 術 語 // 開 放 糸 統 讀 背 1 I // 其 在 相 關 於 —' 流 體 之 處 理 ( 輻 射 ) 上 係 要 來 包 括 一 具 之 注 1 1 有 Μ 下 特 激 之 糸 統 該 % 铳 具 有 —«. 處 理 間 在 此 該 流 1 項 1 | 體 流 動 是 被 包 含 在 __ 開 放 容 器 ( 例 如 是 渠 道 ) 中 » 和 在 再 填 1 該 開 放 容 器 中 來 被 處 理 和 照 射 9 其 中 該 開 放 容 器 是 未 完 寫 本 頁 1 全 由 該 流 體 所 填 充 0 如 此 之 一 開 放 系 统 之 範 例 是 可 見 於 該 1 1 被 併 入 本 案 中 作 為 參 考 用 之 美 國 專 利 第 4 4 8 2 8 0 1 1 9 號 s 第 4 8 7 2 9 8 0 號 N 和 第 5 0 0 6 2 4 1 訂 4 號 案 中 0 1 1 本 發 明 之 輻 射 源 模 組 是 理 想 地 來 被 使 用 在 — 密 封 的 流 1 1 體 處 理 % 統 中 此 是 因 為 以 最 少 的 停 機 時 間 和 對 多 餘 系 铳 1 1 之 最 少 須 要 來 達 成 該 密 封 流 體 處 理 糸 铳 之 澝 潔 是 具 有 很 大 Λ 的 挑 戰 性 0 1 I 在 本 發 明 之 一 個 較 佳 實 施 例 中 該 密 封 的 流 體 處 理 系 1 1 铳 係 具 有 流 體 處 理 IS 間 該 流 體 處 理 IS 間 包 括 有 — 骹 體 1 1 和 至 少 為 一 之 輻 射 源 模 組 該 輻 射 源 模 組 係 可 密 封 地 被 連 1 I 接 至 該 支 撐 元 件 上 該 支 撐 元 件 係 可 密 封 地 被 安 裝 至 該 殼 I 1 1 體 上 0 較 佳 地 ( 但 不 為 必 須 地 ) 該 輻 射 横 組 是 被 置 放 來 1 1 大 致 地 平 行 於 該 流 體 之 流 動 0 更 佳 地 > 該 流 體 入 P 、 該 流 1 1 體 出 Ρ 和 該 流 體 處 理 區 間 是 大 致 被 安 排 在 同 —— 直 線 上 〇 理 1 I - 12- 1 1 1 紙 本 準 標 家 國 國 中 用 適 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 A7 __B7_ 五、發明説明(、1 ) 想地,該殻體是大致為一長條狀的園筒*其具有一大致為 園形的斷面。在此一實施例中,該支撐元件道離該輻射源 之端部係可包括有一安装平板可密封地被連接至該殻體之 上。較佳地,該密封的流體處理糸統係包筠有一多數的輻 射源横组被安排在該殻體之周画上(較佳地,該輻射源棋 姐彼此之間是距離有一相同的距離),藉此以界定一輻射 涯撗组環狀物。該輻射源棋組環狀物之數目和在每一個環 狀物中之棋組數目,其係依據每個設備而有所不同,且其 係可由一習於此技之人士基於K下因素之考量來選定之: 該般體之横斷面面積、移動通過該殻體之流«之髓積、來 自每一個横組之輻射輪出、在每一糸統中所須要的全部輻 射量和其類似物。該密封流體處理系統之此一實施例是可 被"串聯"地使用在一習用的流體(例如是水)管路中。 依據該特別的應用,該管路對於住家裡面的應用是可有一 大至4英吋之直徑,而對於在市鎮内的應用則是可有一自 1英呎至3英呎之應用。 在另一個較佳實施例中,該密封流體處理系統係為重 力鋇送,其具有一流體處理區間,該流體處理區間係包括 有一密封的横斷面Μ限定該要被處理之流體來位在一輻射 源總成之一預定最大輻射距離之範圃中。如在本案說明軎 中所使用之該術語"重力鋇送〃,其係包括有一具有Μ下 特色之糸統:該流體之水力播程是獲自該流體在高度上之 改變。在此將為人所知悉的是,如此之重力纊送糸統係包 -1 3- 本紙張尺度逍用中國國家揉準(CNS ) Α4規格(210X297公 '裝 訂^ (請先Η讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 __._B7_ 五、發明説明(、〇 括有κ下之二種系統:首先是自然重力鋇送,再者則是在 該糸統中,該流«之高度之改變是藉由幫浦或其它的機械 機構來達成之,藉此Μ提供一重力績送。較佳地,該輻射 源總成是為長條狀,且其係有一縱向軸線大致地平行於通 過該流體處理區間之流»流動方向。在大部分的例子中, 其將造成一流《流動在該流體入口上有一第一速度,在該 流體處理區間上有一第二速度,和在該流體出口上有一第 三速度。較佳地,該第三速度是大致相同於該第一速度。 更佳地,該流《處理區間之横斷面面積是小於該流體入口 之横斷面面積,且該流體處理區間是被置放在一處理區間 中,該處理區間係包括有一第一轉變區間連接該流體入口 至該流體處理區間上,該轉變區間係減少介於該入口和該 流《處理區間間之流《之壓力損失,和作用來增加該流體 之速度。更佳地,該流體處理區間之横斷面面積是小於該 流體出口之横斷面面積,且該流體處理區間是被置放在一 處理區間中,該處理區間係包括有一第二轉變區間連接該 流體入口至該流體處理區間上,該轉變區間係減少介於該 出口和該流體處理區間間之流體之壓力損失,且是作用來 減少該流體之速度。更佳地,該流臛處理區間係包括有該 第一和第二轉變區間。 現在謫參考圈式,在此係揭示一輻射源棋组1 0,其 係包括有一支撐元件1 5、一輻射源總成20自該支撐元 件1 5上延伸和一安装平板2 5用來附接該輻射源横組1 -14- 本紙張尺度逍用中國國家標準(CNS ) Α4规格(210X297公釐) -----------^ <裝-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 A7 B7 經濟部中央標準局属工消费合作社印製 五、發明説明(Θ) 1 1 1 0 在 該 流 « 處 理 % 統 中 〇 1 1 | 該 輻 射 源 m 成 2 0 係 包 括 有 — 同 心 的 漸 縮 管 3 0 其 1 | 是 可 被 焊 接 至 該 支 撐 元 件 1 5 上 或 和 該 支 撐 元 件 1 5 來 一 請 £ 1 1 W I 級 形 成 〇 一 環 狀 物 3 5 是 被 附 接 至 該 同 心 渐 縮 管 3 0 上 » 讀 背 | 面 I 而 —* 個 安 装 套 筒 4 0 則 是 被 附 接 至 該 環 狀 物 3 5 上 0 該 安 之 注 1 1 装 套 筒 4 0 違 離 該 同 心 漸 缩 管 3 0 之 端 部 上 係 有 一 螺 紋 部 意 事 項 1 I 分 4 5 〇 内 部 套 筒 5 0 是 被 置 放 在 該 安 装 套 筒 4 0 中 » 再 填 一' { 寫 太 裝 該 内 部 套 简 5 0 係 具 有 * 螵 紋部 分 5 5 * 蹵 形 嫌 帽 6 .0 今 頁 1 係 和 該 嫌 紋 部 分 5 5 相 曜 合 〇 該 内 部 套 茼 5 0 係 包 括 有 合 1 1 逋 的 切 槽 Μ 接 納 — 成 對 的 具 m 性 0 形 環 6 5 、 7 0 〇 該 內 1 | 部 套 筒 5 0 m 離 該 同 心 漸 嫌 管 3 0 之 端 部 其 係 鄰 接 -- 具 1 訂 强 性 的 錐 狀 密 封 圓 環 7 5 〇 — 具 螺 紋 的 安 裝 螺 帽 8 0 係 和 1 I 該 安 装 套 茼 4 0 之 — 具 螺 紋 部 分 5 5 相 m 合 和 鄰 接 該 該 1 1 具 錐 狀 的 密 封 圓 瑁 7 5 0 該 具 有 螺 紋 的 安 裝 螺 帽 8 0 是 被 1 1 提 供 有 扭 力 塞 孔 8 5 該 塞 孔 8 5 係 接 納 一 合 適 的 工 具 Μ 八 用 來 施 加 扭 力 至 該 安 装 螺 帽 8 0 上 藉 此 以 使 該 安 裝 螺 帽 1 8 0 和 該 安 裝 套 筒 4 0 密 封 地 曜 合 在 一 起 〇 1 1 一 環 形 壓 電 陶 磁 變 能 器 9 0 是 被 置 放 在 該 内 部 套 筒 5 1 1 0 中 該 變 能 器 9 0 是 為 — 由 粘 结 在 一 起 .之 多 數 軍 獨 環 形 1 | 壓 霣 陶 磁 變 能 器 ( 未 被 顬 示 ) 所 組 合 而 成 之 一 夾 板 狀 結 構 1 I 〇 該 變 能 器 9 0 之 — 端 部 係 鄰 近 該 内 部 套 筒 5 0 而 該 變 1 1 能 器 9 0 之 另 — 端 部 則 是 鄰 近 一 石 英 套 筒 9 5 之 開 P 端 部 1 1 0 如 圖 示 所 揭 示 者 該 石 英 套 简 9 5 之 相 對 端 部 是 為 密 封 1 1 一 15 • 1 1 本紙張尺度逍用中國國家橾準(CNS ) A4規格(210X297公釐) A7 B7 2936^5 五、發明説明(、《V ) 的。在此將為習於此技之人士所知悉的是,其是可使用一 具有燮頭開口的石英套筒。一俚輻射源1 〇 〇是被置放在 該石英套筒9 5之中。理想地,該輻射源是為一紫外線燈 。該紫外線燈並不是被特別地限定,且其之番擇是在習於 此技之人士之理解範園之内。一成對的間隔元件1 〇 5、 1 1 0是被置放在該石英套筒95中,其係用來使該輻射 源1 00位在該石英套筒1 95之中心上,且係用來保持 該輻射源在其定位上。 —成對的電線1 1 5、1 20係自該輻射源撗姐1 〇 0上延伸而出,且其是纊送至一第一連接器1 35上。另 一成對的霄線1 25、1 30係自該變能器90上延伸而 出,且其亦是被鋇送至該第一連接器1 3 5上。該第一個 連接器1 35是被連接至一第二連接器140上。一電氣 導管1 45係自該第二連接器1 40上延伸而出,該電氣 導管1 45是被鋇送穿過該同心漸縮管30、該支撐元件 1 5和該安装平板25。該電氣導管1 45是被連接至一 為此一技藝所習用之合適電源供應器和控制系統(未被顬 示)上。 —絕緣環狀物1 50係部分地環繞該每第一連接器1 35和該第二連接器140。該絕緣環狀物1 50是由一 電氣上不會傳導的材料所製成,且其是用來使穿過該電氣 連接之燃弧發生櫬會減至最少或是完全不會發生,其中, 該電氣連接係是由該第一連接器1 35和該第二連接器1 -16- 本紙張尺度適用中國國家橾準(CNS ) A4规格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) •裝. 訂 經濟部中央標準局貝工消费合作社印製 A7 B7 五、發明説明(/) 40之哺合所形成。較佳地,該絕緣環狀物1 50是不具 有强性,且其是由硬橡膠或塑膠(例如是Der 1 i η (註:商檷名))所製成。 在該所被說明的實施例中*該安裝平板2 5是為彎曲 的,且其係包括有一多數的孔洞1 55。該輻射源棋組1 0之此一實施例較佳地是被使用在一受壓的密封糸統中( 例如是由本案發明人在1994年十月十七日所申謫之美 國專利申請案第08/323,808號(專利號碼為米 ))。在此一實施例中,該輻射源雄成20是經由一孔洞 來被插置在一殼體中,其中,該孔洞是和該安装平板2 5 具有相同的形狀但有較小的尺寸。螺拴是自該毅體上凸出 ,該螺栓之安排形式是相似於在該安裝平板25上之孔洞 之安排形式。然後,該輻射源棋組是藉由扭轉在每一螺栓 上揉帽來而固定在其之定位上,其中•其扭轉係藉由一 0 形環(或其它的密封環,未被顬示)來提供一不泄漏的密 封介於該安裝平板2 5和該殼體之間。 經濟部中央標準局貝工消费合作社印31 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 該輻射源横組是可以下述的方式來被構建之。首先, 該絕緣環狀物1 5 0是被置放在該內部套筒5 0之端部上 ,且其是藉由該蓋形螺帽6 0和該内部套简5 0之螺紋部 分55之曜合來被保持在其定位上。該第一連接器1 35 是部分地被插置在該絕緣環狀物1 5 0中,且該變能器1 9 0是被置放來和該内部套筒5 0相鄰接。該0形環7 0 是被置放在位在該内部套筒5 0中之切榷上,且該石英套 _ 1 7 - 本紙張尺度遑用中國國家揉準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 經濟部中央標準局負工消費合作社印裝 A7 B7 五、發明説明(、{?) 茼95 (包含該輻射源100)是被插置在該内部套茼5 0中,因此,該石英套筒50係和該變能器90相鄰接。 該0形環65和錐形密封環狀物75是相對於該內部套简 50來被置放在定位上,然後,該內部套筒50是被插置 在該安装套筒40之中。在完全該內部套茼50被插置在 該安裝套简40之前*該第一埋接器1 3 5和該第二連接 器1 40是被《合。然後,該安裝螺帽80是和該安装套 筒4 0之螺紋部分4 5來揉紋相《合。藉由使用一合適工 具(未被顯示),該安装嫘帽80是被一力董所扭轉,藉 此Μ達成二個目的。首先,該扭轉力量是應該充分地來壓 縮該0形環65、70及該錐狀密封環狀物75 *藉此Μ 提供一不泄漏的密封介於在該輻射源瘅成2 0外部之流級 和在該輻射源總成20内部之電線1 1 5、1 20、1 2 5、1 30之間。第二,該力量是應該充分地來確保一介 於該石英套茼9 5和該變能器9 0及該變能器9 0和該内 部套茼5 0間之一鄰近連接。 在使用上,該輻射源棋組1 0是被置放在一要被處理 之流體(例如是水)中,藉此,該輻射源100是大致完 全地被沈浸在該流體中。該電氣導管1 4 5是被連接至一 合適的電源供應器上•該«源供應器係用來驅動該輻射源 和該變能器。在操作期間,該流體之流動是由該輻射源1 00所照射。同時地,如圓式4之箭頭Β所指示者*該變 能器9 0是Μ—往復的方式來振動該石英套茼9 5。此一 -1 8 _ 本紙張尺度適用中國國家橾準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) •裝- 訂 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 __B7_ 五、發明説明(,η ) 往復作動係用來移動可能粘附至該石荚套管上之污物(例 如是礦物質、细菌等等)。進一步地*該往復移動係用來 防止由該流體中攜帶之污物來粘附至該石英套筒上。在此 為習於此一技之人士可知悉的是,該往復作用係用來使一 在該石英套筒9 5上之污物來承受一相當大的剪力,該剪 力係可移去粘附在該石英套筒9 5上之污物,或者是抑制 污物在該石英套筒9 5上之形成。 當然地,在此將為習於此技之人士所知悉的是•在不 離開本發明之範圓下,該被掲示之輻射源横組之實施例, 其是可被變化K適合用在特定的流《處理糸統上。例如, 該安裝平板25是可被省略,而該支撐元件1 5是可被延 長Μ形成一牌部具有一長度相等於或較大於該輻射源總成 2 0之長度。 此一型式之輻射源棋組,其是可被使用在一如Μ上所 提及被併入在本案中之第'809號、第'98 0號、第 .244號和第'3 7 0號專利案所揭示之流體處理糸統 中。進一步者·該密封環狀物(亦就是0形環、雎形環狀 物等等)之數目、型式和安排是可被變化但同時來維持一 不泄漏的密封。更進一步者,雖然本發明之輻射源横組較 佳地是被使用來同時地照射該流體和保持該在流體處理裝 置中之輻射源總成上不會有污物,在此儀可能來自該流骽 處理装置中移去該輻射源横組,將該輻射源棋組置放在一 流犛中(例如是一在一外部容器中之乾淨流體),及僅驅 -19- 本紙張尺度適用中國國家揉準(CNS ) Α4规格(210X2.97公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) Τ .裝. .1Τ 經濟部中央揉準局貝工消費合作社印製 A7 _;_B7__ 五、發明説明(彳) 動該振動產生櫬構(亦就是沒有流體之照射)*此一振動 係相闞於一用來清潔該棋組之輻射源總成而沒有同時來處 理或淨化該流«之方案。 雖然Μ下的說明係揭示一輻射源模組*如Μ上所討論 者,本發明之一實施例係相闉於一輻射感测器棋組。如此 之一撗组是可藉由Μ下的方法來構建之:Κ一光霣二極體 (或其類似物)來取代該輻射源100和該«線1 1 5、 1 20、1 25、1 30 ·其中,該光霣二極體是可來感 測一Κ特定波長來被發射之輻射之強度。該光《二極體( 或其類物)之選擇不是被特別地限定*且其是可為一已為 當前輻射感測器所習用的材科。進一步者*該光霣二極髖 之霄氣連接和控制是為習知的,其對於一習於此技之人士 而言是為顯而易知的。 因此,在此為相當明白的是,雖然本發明之示範實施 例是已被揭示,本發明並不懕該是應僅被限制於逭些示範 實施例中,在不離開由Κ下申請專利範園所界定之本發明 之精神和範《下,一個習於此技之人士是可能來對本發明 作變化和其它的改變。 -20- 本紙張又度逋用中國國家揉準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) ---------^ -I------,-ιτ (請先Μ讀背面之注意事項再填寫本頁)

Claims (1)

  1. ABCD 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 六、申請專利範圍 1 ·—種被使用在一流體處理系统中之輻射模组,其 係包括有: 一支撐元件,其係用來安装該横組在該流體處理系統 中; 至少為一之輻射總成,其係自該支撐元件上來延伸; 一振動產生機構*其係和該至少為一之輻射縴成相連 接。 2·如申請專利範園第1項之被使用在一流體處理系 統中之輻射棋組,其中,該輻射總成係為一輻射源總成。 3·如申請專利範醣第2項之被使用在一流«處理系 統中之輻射模組,其中,該振動產生機構係被置放介於該 支撐元件和該至少為一之糴射源總成之間。 4♦如申請專利範圍第2項之被使用在一流暖處理系 統中之輻射模組,其中,該至少為一之輻射源缌成係包括 有一紫外線燈。 5·如申請專利範圍第4項之被使用在一流體處理糸 統中之鞴射横組,其中,該輻射源總成係進一步包括有一 套筒在該紫外線燈上,該套筒係界定一絕緣間隙介於該紫 外線燈和該要被處理之流體之間。 6·如申請專利範圍第5項之被使用在一流體處理系 統中之輻射模組,其中,該套筒係有一密封的端部遠離該 支撐元件,和有一開口可密封地和該支撐元件相噃合。 7·如申請專利範園第項2之被使用在一流體處理系 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210X297公D ...................'裝................訂 (請先閱讀背面之注意事項再壤寫本頁) ABCD 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 六、申請專利範圍 統中之輻射撗组,其中,該振動產生機構係包括有至少為 一之環形壓霣變能器,該壓電爱能器係被置放介於一在該 支撐元件中之鄰接表面和該套简之開放端部之間。 8·如申謫專利範豳第2項之被使用在一流體處理系 統中之輻射模組,其中,該振動產生襪構係包括有一多數 的環狀壓電變能器,其彼此之間是被相互的粘结在一起, 且其是被置放介於一在該支撐元件中之酈接表面和該套茼 之開放端部之間。 9·如申請專利範第2項之被使用在一流體處理系 統中之輻射模組,其中,該支撐元件係包括有至少為二之 紫外線燈被連接至該支撐元件上。 10·如申請專利範圔第2項之被使用在一流體處理 系統中之輻射模组,其中*該振動產生機構係可在一自1 千赫芝至1 0 0千赫芝之頻率範圍下來被操作。 11·如申請專利範圍第2項之被使用在一流體處理 糸統中之輻射棋組,其中,該振動產生櫬構係可在一自1 0千赫芝至15千赫芝之頻率範圍下來被操作。 12·如申請専利範園第2項之被使用在一流體處理 系統中之輻射模組,其中,該支撐元件係包括有一導管機 構,一電源供應是經由該導管機構來提供至該輻射源缌成 和該振動產生機構上。 13·如申謫專利範圍第1項之被使用在一流體處理 系铳中之輻射棋組,其中,該糴射總成是為一輻射感測器 本紙張尺度逋用中國困家標準(CNS)A4规格(210X297公釐) ...................-(-裝................訂 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 雄成。 1 4 · 一種用來自一輻射棋組上清除污物之方法,其 係包括有以下之步驟: (i )將該輻射模組之至少一部分沈浸在一流體中; 及 (i i )使該輻射模组來接受在一頻率下之振動,其 中,該頻率係可充分地來大致抑制污物粘附至該輻射横组 上0 15·如申請專利範圍第14項之用來自一輻射模組 上濟除污物之方法,其中,該頻率是在自1千赫芝至1 0 0千赫芝之範匪中。 16·如申誚專利範第14項之用來自一輻射模組 上清除污物之方法,其中•該頻率是在自1 0千赫芝至2 0千赫芝之範圍中。 1 7 ·如申誚專利範圍第1 4項之用來自一輻射模組 上'濟除污物之方法,其中,該頻率是在自1 0千赫芝至1 5千赫芝之範圍中。 18·如申請專利範圍第14項之用來自一輻射模組 上清除污物之方法,其中,該頻率是間斷性地來被施加。 19·如申請專利範圍第14項之用來自一輻射模組 上清除污物之方法,其中,該頻率是連績性地來被施加。 2 0 ·如申請專利範圜第1 4項之用來自一輻射模組 上清除污物之方法,其係包括有一使流體曝置在輻射下之 -3- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4规格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝 --t 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 進一步步驟。 21 ♦如申謫專利範圍第14項之用來自一輻射模组 上淸除污物之方法,其中,該輻射是為紫外線輻射。 22 ·—種流鱷處理糸統,其係包括有: 一流體入口、一流體出口、一流體處理區間被置放在 介於該流體入口和該流«出口之間、及至少為一之輻射模 组係包括有一支撐元件,至少為一之輻射缌成係自該支撐 元件來延伸進入該流體處理區間中,及一振動產生機構係 和該至少為一之輻射源總成相埋接。 23 ·如申誚專利範圃第22項之流體處理糸統,其 中,該振動產生櫳構是被置放介於該支撐元件和該至少為 一之輻射源缌成之間。 24 ·如申請專利範園第22項之流體處理系統,其 中,該至少為一之輻射源總成係包括有一紫外線燈。 25 ·如申請專利範園第24項之流體處理糸統,其 中,該輻射源總成係進一步包括有一套筒在該紫外線燈上 ,該套筒係界定一絕緣間隙介於該紫外線燈和該要被處理 之流體之間。 26 ·如申請專利範_第25項之流體處理系統,其 中,該套筒係有一密封的端部遠離該支撐元件•和有一開 口可密封地和該支撐元件相噃合。 27 .如申謅専利範園第22項之流體處理系統,其 中,該振動產生機構係包括有至少為一之瑁形壓霣變能器 -4 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ...................{-裝................訂 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ABCD 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 六、申請專利範圍 ,該壓«變能器係被置放介於一在該支撐元件中之鄰接表 面和該套筒之開放端部之間。 28 ·如申謫専利範園第22項之流«處理糸統,其 中,該振動產生機構係包括有一多數的環狀壓《變能器, 其彼此之間是被相互的粘结在一起,且其是被置放介於一 在該支撐元件中之鄰接表面和該套茼之開放端部之間。 29 ·如申請専利範圍第22項之流體處理糸統,其 中,該振動產生機構係可在一自1千赫芝至1 00千赫芝 之頻率範圔下來被操作。 30 ·如申請専利範圔第22項之流體處理糸統,其 中,該支撐元件係包括有一導管機構,一電源供應是經由 該導管機構來提供至該輻射源總成和該振動產生機構上。 31 *如申請專利範園第22項之流體處理系統,其 中,該流體處理區間係包括有一殻體,且該至少為一之輻 射源模組係包括有一輻射源可密封地來被連接至該支撐元 件上,支撐元件係可密封地被裝設至該殼體之上。 32 ·如申請專利範圍第3 1項之流體處理糸統,其 中,該輻射源總成是被置放來大致平行於該流體之流動。 33 ·如申請專利範園第32項之流體處理系統,其 中,該流體入口、該流SI出口和該流體處理區間係有大致 相同的横斷面。 34 ·如申請専利範園第3 3項之流體處理系統*其 中,該流«入口、該流體出口和該流體處理區間係大致被 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210X 297公釐) ...................-{ 裝................訂 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 298615 ABCD 六、申請專利範圍 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 其處定射 其縱方 其該具間係變體流 其 在模 , 體限輻 ,一之 ,和一區間轉流之 , 放射 統流 Μ 大 統有間 統口 在變區二之間 法 置輻 系 一面最 系具區 系入放轉變第間口 方 被之 理有斷定 理其理 理髏置一轉和間出 體 間一 處具横預 處且處 處流被第二 一區體 流 區為 flfi其的一 體,髓 體該是該第第理流 | 理少 流,封之 流狀流 流於間-該該處該 理 處至 之送密成 之條該 之小區中,,體和 處 體及 項鋇一總 項長過 項是理間上上流間 來 流、 2 力有源 5 為通 5 積處區間 口該區 統 一間 2 重括射 3 是動 3 面體理區出和理 系: 、之 第為包輻 第成流 第面流處理體口處 理有口口6-圔係係該 圃總體 圍斷該之處流入體 處括出出_ 範统間在 範源流 範横,間體該該流 體包體體 利系區位 利射該 利之積區流至於該 流係流流 。 專理理來 專輻於 專間面變至間介於 一铳 一該 上請處處體 請之行 請區面轉口 區少介 在糸、和 線申體體流。申一平 申理斷 二入理減和。種理口口 直如流流之中如為致 如處横第體處地,失一 處入入 1 .封該理圃.少大 ·體之和流體別失損.體體體 同 5 密,處範 6 至係 7 流口 一該流分撗力 8 流流流 在 3 該間被之 3 該線 3 該出第接該係力壓 3 該一該 排,區要離 ,軸。 ,體 一連接間壓之 , 於 安中理該距 中長向 中流有係連區之el中 介 ...................一 ·裝................玎 (請先閲讀背面之注意事項再蟥寫本頁) 本紙張尺度適用中B國家標準(CNS)A4規格(210X297公釐) ABCD 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 六、申請專利範圍 組係包括有一支撐元件,至少為一之輻射總成係自該支撐 元件來延伸進入該流體處理區間中*及一振動產生機構係 和該至少為一之輻射涯缌成相連接,該方法係包括有以下 之步驟: (i )提供一流體流動至該流體入口上; (i i)自該流體入口饋送該流髏流動至該流體處理 區間上; (i i i)在該流體處理區間中來使該流體流動曝置 在輻射下;及 (i v) K —頻率來操作該振動產生機構,其中,該 頻率係足夠來清潔該至少為一之輻射緦成;及 (v)鋇送該流體流動至該流體出口上。 39 ·如申請專利範圃第3 8項之在一流體處理系铳 來處理一流體方法,其中,該振動產生機構係在一自1千 赫芝至1 0 0千赫芝之頻率範圔下來被操作。 40 ·如申請専利範圍第3 8項之在一流體處理系统 來處理一流體方法•其係包括有K下之一進一步步琢:以 一大致平行於該至少為一之輻射源之方向來饋送該流體流 動。 41 ·如申講專利範圍第4 0項之在一流體處理糸铳 來處理一流體方法,其中,通過該流體入口、該流體出口 和該流體處理區間之流體流動,其是大致為同—直線的。 42 .如申請專利範圃第4 1項之在一流體處理系統 本紙張尺度適用中困國家標準(CNS)A4規格(210X 297公釐) ...................「裝................訂..............< # (請先閲讀背面之注意事項再蜞寫本頁) ABCD 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 六、申請專利範圍 來處理一流體方法•其係包括有Μ下之一進一步步驟:選 定該流體入口、該流體出口和該流體處理區間具有大致相 同的横麟面。 43·如申請專利範圃第38項之在一流體處理系統 來處理一流體方法,其中,該輻射源係包括有至少為一之 紫外線燈。 44 ·如申請專利範圈第43項之在一流體處理系統 來處理一流體方法》其中,該至少為一之輻射源總成係進 一步包括有一套筒在該至少為一之紫外線燈之外部之一部 分上。 45 ·如申講専利範圃第3 8項之在一流«處理糸統 來處理一流體方法,其中,該流體流動在該流體入口處有 一第一速度,在該流《處理區間處有一第二速度,而在該 流體出口處有一第三速度,第二速度係大於該第一速度和 該第三速度等二者。 46 ·如申請專利範臞第4 5項之在一流體處理糸統 來處理一流體方法,其中,在該第二(i i)步驟之前, 該流體流動是被導入至一轉變區間中,該轉變區間係增加 該流體流動之速度。 47 ·如申請專利範圍第4 5項之在一流體處理糸铳 來處理一流體方法,其中,在該第五(v)步软之前,該 流饈流動是被導入至一轉赛區間中,該轉變區間係減少該 流體流動之速度。 一 8 _ 本紙張尺度適用中8國家標準(CNS)A4规格(210 X 297公釐) ....................(裝..... 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Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5504335A (en) * 1994-10-17 1996-04-02 Trojan Technologies, Inc. Fluid treatment device and method
US6015229A (en) * 1997-09-19 2000-01-18 Calgon Carbon Corporation Method and apparatus for improved mixing in fluids
RU2232722C2 (ru) * 1999-06-04 2004-07-20 Хенри КОЗЛОВСКИ Способ и устройство для обработки текучих сред ультрафиолетовым излучением и средство для передачи электрических сигналов, используемое в этом устройстве
DE60041830D1 (de) 1999-12-17 2009-04-30 Trojan Techn Inc Strahlungsquellenanordnung
CA2306546C (en) 2000-04-20 2006-06-27 Photoscience Japan Corporation Tube scraper
US20030230477A1 (en) * 2002-06-14 2003-12-18 Fink Ronald G. Environmental air sterilization system
EP1515915B1 (en) * 2002-06-19 2014-11-12 Trojan Technologies Inc. Fluid treatment system and radiation source module for use therein
US6784440B2 (en) * 2002-07-26 2004-08-31 Boc, Inc. Food sanitizing cabinet
US20040056201A1 (en) * 2002-09-19 2004-03-25 Fink Ronald G. Food surface sanitation hood
US7160566B2 (en) 2003-02-07 2007-01-09 Boc, Inc. Food surface sanitation tunnel
US6943249B2 (en) 2003-03-17 2005-09-13 Ash Stevens, Inc. Methods for isolating crystalline Form I of 5-azacytidine
US7159264B2 (en) * 2004-12-10 2007-01-09 Calgon Carbon Corporation Scraper for cleaning tubular members
CA2689447C (en) * 2005-12-19 2013-02-12 Lumen Associates, Inc. Apparatus for irradiation of fluid with electromagnetic radiation
US8473262B2 (en) 2008-08-14 2013-06-25 ARETé ASSOCIATES Self-cleaning submerged instrumentation
US7736776B1 (en) * 2006-04-04 2010-06-15 Spielman Rick B Method and system for removal of ammonia from wastewater by electrolysis
US7763177B2 (en) * 2006-10-26 2010-07-27 Atlantium Technologies Ltd. System and method for ultrasonic cleaning of ultraviolet disinfection system
US8236144B2 (en) * 2007-09-21 2012-08-07 Rf Thummim Technologies, Inc. Method and apparatus for multiple resonant structure process and reaction chamber
PT3782612T (pt) 2008-05-15 2024-01-18 Celgene Corp Formulações orais de análogos da citidina e métodos de utilização dos mesmos
US8128788B2 (en) * 2008-09-19 2012-03-06 Rf Thummim Technologies, Inc. Method and apparatus for treating a process volume with multiple electromagnetic generators
EP2417066A1 (en) * 2009-04-07 2012-02-15 Trojan Technologies Radiation source module and fluid treatment system
EP2420113A4 (en) 2009-04-14 2014-04-02 Rf Thummim Technologies Inc METHOD AND DEVICE FOR EXPLORING RESONANCES IN MOLECULES
WO2011116187A1 (en) 2010-03-17 2011-09-22 Rf Thummim Technologies, Inc. Method and apparatus for electromagnetically producing a disturbance in a medium with simultaneous resonance of acoustic waves created by the disturbance
SE536086C2 (sv) * 2010-10-20 2013-04-30 Wallenius Water Ab Metod och anordning för rening av opaka vätskor med ljus
CN102627370A (zh) * 2012-03-30 2012-08-08 宁波大学 能够持续维持高处理效率的废水降解用微波光催化装置

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR421296A (fr) * 1910-10-10 1910-12-17 Marius Paul Otto Appareil pour la stérilisation des eaux par les rayons ultra-violets
FR15618E (fr) * 1911-04-11 1912-08-16 Paul Gabriel Triquet Appareil pour la stérilisation industrielle de l'eau au moyen de lampes électriques à mercure avec tube de quartz, immergées dans l'eau
US2670439A (en) * 1950-07-05 1954-02-23 Hanovia Chemical & Mfg Co Apparatus for irradiating liquids
DE855521C (de) * 1950-12-28 1952-11-13 Siemens Ag Verfahren und Einrichtung zum Behandeln, vorzugsweise Reinigen von Abwaessern und anderen Fluessigkeiten
US3061721A (en) * 1960-01-19 1962-10-30 Brenner Al Automatic tube cleaning device
US3182191A (en) * 1963-02-14 1965-05-04 Puretest Water Purifier Co Water purifying apparatus with an automatically actuated wiper for the ultra-violet source
US3462597A (en) * 1966-07-29 1969-08-19 Ultra Dynamics Corp Ultraviolet fluid purifier having manually operable wiper means
US3456107A (en) * 1967-05-16 1969-07-15 Aquacare Intern Ltd Water sterilizing apparatus
DE2213658C3 (de) * 1972-03-21 1974-08-15 Katadyn Produkte Ag, Wallisellen (Schweiz) Wasserentkeimungsanlage
US4103167A (en) * 1976-08-16 1978-07-25 Sidney Ellner Ultraviolet liquid purification system
CA1163086A (en) * 1981-11-30 1984-03-06 Jan Maarschalkerweerd Ultraviolet fluid purifying device
DE3441535A1 (de) * 1984-11-14 1986-06-26 Erich 7632 Friesenheim Rasche Geraet zur wasserentkeimung mit ultravioletter strahlung
US4752401A (en) * 1986-02-20 1988-06-21 Safe Water Systems International, Inc. Water treatment system for swimming pools and potable water
US4728368A (en) * 1986-04-25 1988-03-01 Pedziwiatr Edward A Ultrasonic cleaning in liquid purification systems
US4899056A (en) * 1988-07-07 1990-02-06 Ultraviolet Purification Systems, Inc. Cleaning system for ultraviolet light producing lamps
US4872980A (en) * 1988-09-13 1989-10-10 Trojan Technologies, Inc. Fluid purification device
US5006244A (en) * 1988-09-13 1991-04-09 Trojan Technologies, Inc. Fluid purification device
US4922114A (en) * 1989-06-01 1990-05-01 Hilary Boehme Wiper mechanism
US5227140A (en) * 1990-04-13 1993-07-13 Peroxidation Systems, Inc. Modular self-cleaning oxidation chamber
TW317558B (zh) * 1993-03-05 1997-10-11 Trotan Technologies Inc
DE4340406C1 (de) * 1993-11-26 1995-04-20 Gruenbeck Josef Wasseraufb Reaktor zur Entkeimung von Wasser
US5504335A (en) * 1994-10-17 1996-04-02 Trojan Technologies, Inc. Fluid treatment device and method

Also Published As

Publication number Publication date
FI971560A0 (fi) 1997-04-14
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NZ293908A (en) 1999-06-29
NO971702L (no) 1997-06-05
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NO971702D0 (no) 1997-04-14
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JPH10509373A (ja) 1998-09-14
DE69514539D1 (de) 2000-02-17
EP0788463A1 (en) 1997-08-13
MX9702774A (es) 1998-04-30
FI971560A (fi) 1997-04-14
AU3647495A (en) 1996-05-06
MY132050A (en) 2007-09-28
BR9509369A (pt) 1998-07-07

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