PL177744B1

PL177744B1 - Urządzenie do czyszczenia zespołu źródła promieniowania

Info

Publication number: PL177744B1
Application number: PL94325049A
Authority: PL
Inventors: Jan M. Maarschalkerweerd
Original assignee: Trojan Techn Inc
Priority date: 1993-03-05
Filing date: 1994-03-04
Publication date: 2000-01-31
Also published as: CA2117040C; NO310139B1; EP0687201B1; EP0811579B1; BR9406347A; CO4180400A1; AU6153194A; SK109195A3; TW360619B; EP1094035A2; HU9502580D0; EP0687201A1; DE69427834T2; WO1994020208A1; ES2163695T3; JPH08509905A; CO4910176A1; DE69408441T2; ATE162956T1; CO4180401A1

Abstract

1. Urzadzenie do czyszczenia zespolu zródla promieniowania, zawierajacego zródlo promieniowania, w urzadzeniu do obróbki cieczy, znamienne tym, ze zawiera tuleje czyszczaca (228), stykajaca sie z czescia zewnetrznej powie- rzchni zródla (180) promieniowania w zespole (176) zródla promieniowania i zamocowana przesuwnie wzdluz swej osi podluznej pomiedzy polozeniem schowanym a polozeniem wysunie- tym; komore (244) umieszczona w tulei czyszczacej (228) i stykajaca sie z czescia zródla (180) promieniowania, przy czym komora (244) zawiera roztwór czyszczacy, uszczelke (234) umieszczona na koncu tulei czyszczacej (228) pomiedzy zewnetrzna powierzchnia zródla (180) promieniowania a tuleja czyszczaca (228) oraz uklad podwyzszania cisnienia, polaczony z tuleja czyszczaca (228). FIG 4 PL PL PL PL

Description

Przedmiotem wynalazku jest urządzenie do czyszczenia zespołu źródła promieniowania, w urządzeniu do obróblki cieczy.

Zasilane grawitacyjnie urządzenia do obróbki cieczy, w których zastosowano promieniowanie nadfioletowe (UV) są znane na przykład, z opisów patentowych Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 4 482 809, 4 872 980 i 5 006 244.

W urządzeniach tego typu znajdują się zespoły ram z lampami nadfioletowymi, po kilka lamp w każdym, przy czym poszczególne lampy są zainstalowane wewnątrz cylindrów biegnących pomiędzy dwoma ramionami nośnymi ram. Ramy te zanurza się w obrabianej cieczy, napromienianej następnie w zależności od potrzeby.

Otaczające lampy nadfioletowe cylindry ulegają okresowo zanieczyszczaniu obcymi materiałami, co pogarsza przepływ promieniowania nadfioletowego do cieczy. Zanieczyszczone cylindry trzeba ręcznie czyścić z osadzonego na nich materiału z częstotliwością określaną na podstawie doświadczeń eksploatacyjnych, albo też z pomiarów za pomocą czujników promieniowania nadfioletowego.

Jeżeli lampy nadfioletowe stosuje się w urządzeniach otwartych typu kanałowego, można wyjmować jedną lub więcej ram bez przerywania pracy całego urządzenia. Wyjęte ramy można następnie oczyszczać z osadzonego materiału zaniurzając je w ką^idi odpowiedniego kwasowego roztworu do mycia mieszanego za pomocą powuetrza. Oczywiście w takiej sytuacji należy przewidzieć odpowiednio więcej źródeł promieniowania nadfioletowego (polega to zazwyczaj

177 744 na stosowaniu dodatkowych ram z lampami) w celu zapewnienia odpowiedniego napromieniania obrabianej cieczy po wyjęciu jednej lub więcej ram do czyszczenia. Oczywiście, niezbędne dodatkowe źródła promieniowania nadfioletowego powiększająkoszty urządzenia do obrób ki.

Poza tym należy również przewidzieć, a następnie utrzymywać, odpowiedni zbiornik z roztworem do mycia, do którego można wkładać ramy z lampami nadfioletowymi. W zależności od liczby równocześnie czyszczonych ram oraz od częstottiwości niezbędnego czyszczenia, może to znacznie zwiększyć koszt montażu, utrzymania i eksploatacji urządzenia do obróbki.

Jeżeli natomiast ramy znajdująsię w urządzeniu zamkniętym, ich wyjmowanie z cieczy w celu oczyszczenia jest zazwyczaj niepraktyczne. W takiej sytuacji, cylindry należy czyścić po zatrzymaniu urządzenia, zamknąć zawory wlotowe do komory do obróbki i wylotowe z niej, a następnie napełnić całą komorę do obróbki roztworem kwasu do mycia i mieszać ciecz za pomocą powietrza usuwając materiały zanieczyszczające. Wadami mycia urządzeń zamkniętych są: konieczność zatrzymania urządzenia na czas mycia oraz duża ilość roztworu do mycia, którym trzeba napełnić komorę do obróbki. Innym problememjett zagrożenie towarzyszące stosowaniu dużych ilości roztworów kwasów do mycia oraz trudności i koszty związane z ich usuwaniem. Oczywiście, oba te problemy występują również w urządzeniach typu otwartego, chociaż w mniejszym stopniu.

Po zainstalowaniu jedne z największych kosztów utrzymania dotychczasowych urządzeń do obróbki są często kosztami mycia cylindrów otaczających źródła promieniowania.

Celem wynalazkujest uzyskanie nowoczesnego urządzenia do czyszczenia źródła promieniowania, za pomocą których można byłoby wyeliminować wymienione powyżej problemy z czyszczeniem źródła promieniowania w urządzeniu do obróbki cieczy.

Urządzenie do czyszczenia zespołu źródła promieniowania, zawierającego źródło promieniowania, w urządzeniu do obróbki cieczy, według wynalazku charakteryzuje się tym, że zawiera tuleję czyszczącą, stykającą się z częścią zewnętrznej powierzchni źródła promieniowania w zespole źródła promieniowania i zamocowaną przesuwnie wzdłuż swej osi podłużnej pomiędzy położeniem schowanym a położeniem wysuniętym; komorę umieszczoną w tulei czyszczącej i stykającą się z częścią źródła promieniowania, przy czym komora zawiera roztwór czyszczący, uszczelkę umieszczoną na końcu tulei czyszczącej pomiędzy zewnętrzną powierzchnią źródła promieniowania a tuleją czyszczącą oraz układ podwyższania ciśnienia, połączony z tuleją czyszczącą.

Korzystnie zespół źródła promieniowania zawiera kilka źródeł promieniowania, przy czym każde źródło promieniowania zawiera współpracującą z nim tuleję czyszczącą.

Korzystnie komorajest komorąpierścieniową połączona szczelnie z zewnętrzną powierzchnią źródła promieniowania.

Korzystnie pierścieniowa komora jest zamknięta.

Korzystnie urządzenie zawiera układ od doprowadzania i przyjmowania roztworu czyszczącego pod ciśnieniem, stanowiący układ napędowy, przemieszczający tuleję czyszczącą do położenia wysuniętego i zawierający uszczdnioną komorę, połączoną przewodem ze źródłem roztworu czyszczącego.

Korzystnie urządzenie zawiera układ do usuwania roztworu czyszczącego pod ciśnieniem, stanowiący układ przemieszczający tuleję czyszczącą do położenia schowanego, zawierający uszczdnioną komorę, połączoną przewodem ze źródłem płynu, zwłaszcza oleju hydraulicznego lub powietrza.

Przedmiot wynalazku uwidoczniono w przykładzie wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia przekrój boczny znanego urządzenia do obróbki cieczy bez urządzenia do czyszczenia zespołu źródła promieniowania, fig. 2 - przekrój tylnej części znanego urządzenia do obróbki wody z fig. 1, fig. 3 - rzut z boku urządzenia do obróbki cieczy z urządzeniem do czyszczenia zespołu źródła promieniowania według wynalazku, fig. 4 - moduł źródła promieniowania do urządzenia z fig. 3, fig. 5 - obszar A z fig. 4 w powiększeniu, fig. 6 - drugi przykład wykonania urządzenia do czyszczenia zespołu źródła promieniowania do urządzenia z fig. 3.

177 744

Na fig. 1 i 2 widać znane urządzenie do obróbki cieczy według opisu w patencie Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 4 482 809. W skład urządzenia wchodzą liczne moduły źródeł promieniowania 20, każde z parą nóżek ramowych 24 i z rozciągającymi się pomiędzy nimi zespołami 28 lamp nadfioletowych. Jak widać na fig. 2, moduły 20 z lampami znajdująsię w kanale 32 do obróbki i są rozmieszczone w takiej odległości od siebie, że zapewmajjąnapromienianie obrabianej cieczy co najmniej minimalnądawkąpromieniowania nadfioletowego określonąz góry.

Urządzenie to działa zadowalająco, ale, jego wadą jest stosunkowo duża pracochłonność konserwacji modułów lamp 20. Dotyczy to, zwłaszcza wysokiej czasochłonności i kosztów wymiany lamp lub mycia otaczających je cylindrów. Ponadto, warunkiem ciągłości obróbki po wyjęciu modułu lamp oraz zapewnienia napromieniania cieczy odpowiednią minimalną dawką promieniowania, jest zapewnienie odpowiedniej liczby modułów dodatkowych, co wiąże się ze wzrostem kosztów urządzenia.

W związku z tym, wynalazca usprawnił urządzenia do obróbki cieczy, wyposażając je w urządzenie do czyszczenia źródła promieniowania.

Jak widać na fig. 3, w skład urządzenia 100 do obróbki cieczy wchodzi korpus 104 montowany w poprzek otwartego przepływowego kanału 108 cieczy w taki sposób, że cały strumień cieczy płynący kanałem 108 .jest kierowany przez strefę obróbki 112. Korpus 104 może być wykonany z prefabrykowanego betonu, stali nierdzewnej lub innego materiału, nadającego się do obrabianej cieczy i odpornego na stosowany typ promieniowania.

W dolnej części korpusu 104 znajduje się sekcja centralna 116 ze skośnymi sekcjami wlotową i wylotową oznaczonymi odpowiednio 120 i 124. W podstawde 128 kanału 108, pod sekcją centralną 116, znajduje się odpowiednia uniesiona do góry sekcja centralna 132 ze skośnymi sekcjami wlotową i wylotową, oznaczonymi odpowiednio 136 i 140. Sekcja centralna 132 może być częścią korpusu 104, albo częścią podstawy 128 (jak pokazano na rysunku). Sekcje centralne 116 i 132 tworzą zwężona strefę napromieniania 144, natomiast sekcje 120 i 136 tworzą stożkowy, wylotowy obszar przejściowy.

Co najmniej na .jednej z powierzchni, napływowej lub odpływowej, korpusu 104 montuje się jeden lub więcej modułów 148 źródeł promieniowania. W zależności od obrabianej cieczy można zmieniać li czbę modułów 148, począwszy od .jednego, modułu 148, do dwóch lub więcej modułów 148, w poprzek strefy napływowej i odpływowej korpusu 104.

W korpusie 104 znajduje się czujnik 152 promieniowania, który wchodzi do strefy napromieniania 144. Po odpływowej stronie korpusu 104 znajduje się również standardowa przepustnica 150 stabilizująca poziom cieczy, z zadaniem utrzymania minimalnego poziomu cieczy w strefie obróbki 112.

Jak widać na fig. 4, każdy moduł 148 źródła promieniowania zawiera podporę 160 źródła promieniowania, poziomy człon nośny 164, skrzynkę rozdzielczą 172 oraz jeden lub więcej zespołów 176 źródeł promieniowania, znajdujących się przy dolnym skraju podpory 160. Każdy z zespołów 176 źródła promieniowania zawiera silne źródło 180 promieniowania osadzone wewnątrz cylindra 184 w dwóch pierścieniowych oprawkach 188.

Dalszy, w stosunku do podpory 160 koniec każdego cylindra 184, jest zamknięty, a cylinder 184 jest szczelnie spojony z rurąmontażową 192, która połączona jest z podporą 160. Jak widać na fig. 5 szczelność połączenia cylindra 184 z rurą montażową 192 uzyskano wkładając otwarty koniec cylindra 184 w oprawkę 196, którą szczelnie przymocowano do końca rury montażowej 192. W jiodstawie oprawki 196 znajduje się gumowa podkładka 200 zapobiegająca możliwości pęknięcia cylindra 184 wskutek bezpośredniego stykania się z oprawką 196 podczas wkładania. Na zewnętrznej powierzchni cylindra 184 znajduje się para pierścieni uszczelniających 204, 208 typu O-ring, oddzielonych od siebie pierścieniem dystansowym 206.

Po cylindrze 184 wkłada się do oprawki 196 pierścienie uszczelniające 204,208 i pierścień dystansowy 206, a następnie na zewnętrznej powierzchni cylindra 184 umieszcza się pierścieniową śrubę 212, którą dociska się do oprawki 196. Gwintna śrubie 212 wkręca się w odpowiedni gwint na wewnętrznej powierzchni oprawki 196, a śruba 212 zgniata gumowy stoperek 200 i pierścienie uszczelniające 204 i 208, co zapewnia połączeniu odpowiednią szczelność.

177 744

Przeciwległy koniec każdej rury montażowej 192 jest również gwintowany i pasuje do oprawki gwintowanej 216, która jjest z kolei przyspawana do podpory 160. Połączenia pomiędzy rurą montażową 192 a oprawką gwintowaną 216 oraz pomiędzy oprawką gwintowaną 2l 6 a podporą 160 są również szczelne, co zapobiega wnikaniu płynu do pustej przestrzeni wewnątrz rury montażowej 192 lub podpory 160.

Każde ze źródeł 180 promieniowania jjest podłączone pomiędzy parę przewodów elektrycznych 220 biegnących od skrzynki rozdzielczej 172 do źródła 180 promieniowania wewnątrz podpory 160 i rury montażowej 192.

Jak widać na fig. 4, na każdym zespole 176 źródła promieniowania i rury montażowej 192 znajduje się również zespół czyszczący 224. Każdy taki zespól czyszczący 224 składa się z cylindrycznej tulei 228, działającej jak cylinder dwustronny. Na każdym końcu cylindrycznej tulei 228 znajdują się pierścienie uszczelniające 232, 234. Pierścień uszczelniający 232, znajdujący się przy podporze 160, styka się z zewnętrzną powierzchnią rury montażowej 192, natomiast pierścień uszczelniający 234, oddalony od podpory 160, styka się z zewnętrzną powierzchnią, zespołów 176 źródeł promieniowania.

Jak to ukazano na fig. 5, na zewnętrznej powierzchni oparki 196 znajduje się rowek, w który wkłada się pierścień uszczelniający 236 typu O-ring. Pierścień ten styka się z wewnętrzną powierzchnią cylindrycznej tulei 228 i dzieli wnętrze cylindrycznej tulei 228 na dwie komory 240 i 244. Komora 240 łączy się z przewodem 248 a komora 244 z przewodem 252. Każdy z przewodów 248 i 252 biegnie od skrzynki rozdzielczej 172, wewnątrz podpory 160 i wewnątrz rury montażowej 192, do oprawki 196, gdzie łączą się, odpowiednio, z komorami 240 i 244.

Po doprowadzeniu pod ciśnieniem oleju hydraulicznego, powietrza lub innego, odpowiedniego płynu, przewodem 248 do komory 240, cylindryczna tuleja 228 przesuwa się ku podporze 160 i wytłacza ciecz z komory 244 do przewodu 252. Podobnie, po doprowadzeniu pod ciśnieniem cieczy przewodem 252 do komory 244, cylindryczna tuleja 228 przemieszcza się ku cylindrowi 184 i wytłacza ciecz z komory 240 do przewodu 248.

Przewód 252 jest połączony z instalacją z odpowiednim roztworem czyszczącym, na przykład roztworem kwasu, a przewód 248 ze zbiornikiem odpowiedniego płynu, na przykład powietrza. Zatem, w razie konieczności oczyszczenia zewnętrznej powierzchni cylindra 184, do komory 244 doprowadza się roztwór czyszczący, a z komory 240 wytłacza płyn. W rezultacie cylindryczna tuleja 228 przemieszcza się do położenia wysuniętego w kierunku od podpory 160 a podczas tego przemieszczania pierścień uszczelniający 234 zgarnia luźne kawaaki materiału z cylindra 184.

Kiedy cylindryczna tuleja 228 znajduje się w położeniu wysuniętym, znajdujący się w komorze 244 płyn czyszczący styka się z zewnętrzną, powierzchnią zespołów 176 źródła promieniowania, stanowiącą wewnętrzna ściankę komory 244. Roztwór czyszczący rozkłada chemicznie i/lub usuwa pozostałości obcych materiałów osadzonych na zespołach 176 źródła promieniowania. Po określonym czasie wtłacza się płyn do komory 240, obniża się ciśnienie roztworu czyszczącego w komorze 244, w wyniku czego cylindryczna tuleja 228 cofa się ku podporze 160. Podczas tego ruchu pierścień uszczelnlający 234 ponownie zgarnia obluzowane kawałki obcych materiałów z powierzchni zespołów 176 źródła promieniowania.

Zespół czyszczący 224 można uruchamiać w regularnych odstępach czasu, na przykład raz na dzień lub, tam gdzie jakość obrabianej cieczy zmienia się, w zależności od zmian wskazań czujnika 152 promieniowania.

Każdy z modułów- 148 źródła promieniowania można montować na korpusie 104 za pomocą poziomego członu nośnego 164 o z góry określonym kształcie przekroju poprzecznego i wchodzącego w dopasowany kształtem otwór 256 w korpusie 104. Kształt ten wybiera się w sposób ułatwiający wkładanie poziomego członu nośnego 164 w otwór 256 z równoczesnym uniemożliwieniem mu obracania się w tym otworze.

Jak widać na fig. 3 i 4, długość poziomego członu nośnego 164 wybiera się w taki sposób, że poziomy człon nośny 164 biegnie od podpory 160 na dalszą odległość niż zespół 176 źródła promieniowania. Dzięki temu podczas instalowania modułu 148 źródła promieniowania zespół 176

177 744 źródła promieniowania znajduje się w odpowiedniej odległości! od wlotowego i wylotowego obszaru przejściowego. Takie rozwiązanie minimalizuje możliwość uszkodzenia zespołu 176 źródła promieniowania w wyniku uderzenia w inne przedmioty podczas montażu modułu źródła promieniowania, co zawsze grozi wtedy gdy przez urządzenie 100 płynie ciecz. Ze względu na konieczność zapewnienia odpowiedniej długości poziomych członów'nośnych 164, otwory 256 są przestawione schodkowo w płaszczyźnie poziomej na przeciwległych powierzchniach korpusu 104.

Po całkowitym osadzeniu poziomego członu nośnego 164 w otworze 256, łączy się łączniki 268 roztworu czyszczącego i łączniki 272 cieczy w skrzynce rozdzielczej 172 z odpowiednimi łącznikami na obudowie 276. Połączenie łączników 268 i 272 z odpowiednimi łącznikami na obudowie 276 służy również do utrzymania poziomego członu nośnego 164 w otworze 256. W obudowie 276 może znajdować się również opornik regulacyjny 264, przez który płynie prąd zasilający źródła 180 promieniowania oraz pompy i zbiorniki magazynowe (nie pokazane) na płyn czyszczący i płyn pod ciśnieniem do przemieszczania zespcdów czyszczących 224.

Inny przykład wykonania zespołu czyszczącego dla modułu 148B źródła promieniowania pokazano na fig. 6. W zespole czyszczącym znajduje się pasek z pierścieniami czyszczącymi 308 oraz para cylindrów 312,314 dwustronnego działania. W każdym pierścieniu czyszczącym 308 znajduje się pierścieniowa komora 316 usytuowana przy powierzchni cylindra 184. Pierścienie czyszczące 308 przesuwa się po powierzchni cylindrów 184 za pomocą cylindrów 312,314, które poruszają się pomiędzy położeniami schowanymi i wysuniętymi.

Podobnie jak w przykładzie wykonania pokazanym na fig. 4, przewody 320 i 324 biegnąze skrzynki rozdzielczej 172 (nie pokazanej) przez podporę 160 do cylindrów 312, 314. Po doprowadzeniu przewodem 320 cieczy pod ciśnieniem do cylindra 312, tłoczysko 328 wysuwa się do położenia wysuniętego. W trakcie wysuwania się tłoczyska 328 pod działaniem cieczy doprowadzanej do komory 332 z jednej strony tłoka 326, następuje równoczesne wytłaczanie cieczy z komory 340 z drugiej strony tłoka 326, przy czym wytłoczona ciecz przepływa przez złączkę 344 do komory 348 cylindra 314 i wysuwa znajdujące się w nim tłoczysko 328, które z kolei wytłacza ciecz z komory 352 do przewodu 324.

W celu zapewnienia synchronicznego poruszania się tłoczysk 328, cylindry 312 i 314 skonstruowano w taki sposób, że objętość cieczy wytłaczanej na jednostkowy skok tłoka 326 w cylindrze 312 jest równa objętości cieczy wtłaczanej na jednostkę skoku tłoka 326 w cylindrze 314. Efekt taki uzyskuje się dobierając odpowiednie średnice każdego z dwóch cylindrów lub tłoczysk. Ponadto, pod koniec wysuwania się tłoków 326 włącza się odpowiedni jednodrogowy zawór kompensacyjny 356 z zadaniem kompensacji ewentualnych różnic całkowitej objętości cieczy, jakie mogąpojawić się pomiędzy komorami 332 i 352 oraz pomiędzy komorami 3481 340.

Podobnie, w celu schowania tłoczysk 328, do przewodu 324 doprowadza się ciecz pod ciśnieniem oraz stosuje się drugi zawór kompensacyjny 356'do kompensowania ewentualnych różnic całkowitej objętości cieczy, jakie mogą pojawić się pomiędzy komorami 332 i 352 oraz pomiędzy komorami 348 i 340 pod koniec skoku chowania się tłoczyska.

Zakłada się, że pierścieniowe komory 316 będą napełnione z góry określoną ilością cieczy nadającej się do mycia, zmienianej z odpowiednią częstottiwością, równą częstottiwości serwisu źródeł promieniowania. Alternatywnie, roztwór czyszczący można doprowadzać do pierścieniowych komór 316 przewodami biegnącymi wewnątrz wydrążonych w środku tłoczysk 328. Innym rozwiązaniem alternatywnym jest zastosowanie szczelnych komór pierścieniowych 316 na ciecz czyszczącą, którą wymienia się w razie potrzeby. Ponadto roztwór czyszczący może krążyć wewnątrz wydrążonych w środku tłoczysk 328, a następnie przez komorę 332 i pierścieniowe komory 316. Dzięki odpowiednim przegrodom (nie pokazanym) w pierścieniowych komorach 316, ciecz czyszcząca może wpływać przez, wydrążone w środku tłoczysko 328 położone najniżej, przepływać przez pierścienie czyszczące 308 i wypływać przez, wydrążone w środku tłoczysko 328, położone najwyżej.

Na fig. 4, 5 i 6 przedstawiono jedynie przykłady wykonania urządzenia do czyszczenia zespołu źródeł promieniowania, ale dla osób znających się na technice jest oczywista możli177 744 wość zastosowania innych rozwiązań konstrukcyjnych bez odchodzenia od istoty niniejszego wynalazku.

Przykładowo, istnieje możliwość zastosowania jednego cylindra dwustronnego działania współpracującego z wydrążonym w środku tłoczyskiem, które jest bardzo sztywno zainstalowane, za pośrednictwem odpowiednich tłoczysk, na wielu (np. 2 lub 4) pierścieniach czyszczących 308. Ponadto istnieje możliwość pompowania cieczy czyszczącej (np. wody) przez wydrążone w środku toczyska w kierunku i do pierścieniowych komór 316 podczas przesuwania cylindra do tyłu i z powrotem. Ewentualne wyposażenie pierścieniowych komór 316 w odpowiednie dysze rozpylające lub podobne elementy, umożllwiłoby rozpylanie strumienia cieczy po powierzchni komory napromieniania, ułatwiając tym samym czyszczenie cylindra 184 źródła promieniowania.

Innamodyfikacjąkonttrukcyjnąjett wstępne napełnianie pierścieniowych komór 316 odpowiednią cieczą czyszczącą i zmodyfikowanie ich konstrukcji w taki sposób, żeby znajdował się w nich zamknięty zespół wycierający. Takie rozwiązanie umożhwiłoby zastosowanie różnych mechanizmów do przemieszczania pierścieniowych komór 316 po powierzchni cylindra 184 źródła promieniowania do tytułu i z powrotem. Można na przykład zastosować jeden cylinder dwustronnego działania, który głównie przemieszcza pierścieniowe komory 316 w .jedną i druga stronę po cylindrze 184 źródła promieniowania. Pierścieniowe komory należy zamontować sztywno waględem mechanizmów przesuwu w celu eliminacji możliwości zakleszczania się całego zespołu, co mogłoby spowodować uszkodzenie cylindra 184.

Jak łatwo zauważyć, w przedstawionych powyżej przykładach wykonania można odwrócić względność ruchu pomiędzy źródłem promieniowania a mechanizmem czyszczącym. Zatem mechanizm czyszczący można zamontować sztywno ze strefą obróbki w urządzeniu według wynalazku lub w innym, natomiast źródło promieniowania przesuwać względem niego do przodu i do tyłu.

Rozumie się samo przez się, że przedstawiono tu pewne przykłady wykonania urządzenia według wynalazku, natomiast niniejszy wynalazek nie ogranicza się do nich i osoby znające się na technice mogą wprowadzić do nich różnorodne odmiany i rozwiązania alternatywne bez odchodzenia od istoty niniejszego wynalazku, określonej w załączonych zastrzeżeniach.

177 744

FIG. 2

177 744

FIG m 744 • 264

-148

188 180 igg

184

5^X^212^184

196

177 744

m 744

FIG.1

Departament Wydawnictw UP RP. Nakład 70 egz. Cena 4,00 zł.

Claims

Zastrzeżenia patentowe

1. Urządzenie do czyszczenia zespołu źródła promieniowania, zawierającego źródło promieniowania, w urządzeniu do obróbki cieczy, znamienne tym, że zawiera tuleję czyszczącą (228), stykającą się z częścią zewnętrznej powierzchni źródła (180) promieniowania w zespole (176) źródła promieniowania i zamocowaną przesuwnie wzdłuż swej osi podłużnej pomiędzy położeniem schowanym a położeniem wysuniętym; komorę (244) umieszczonąw tulei czyszczącej (228) i stykającą się z częścią źródła (180) promieniowania, przy czym komora (244) zawiera roztwór czyszczący, uszczelkę (234) umieszczoną na końcu tulei czyszczącej (228) pomiędzy zewnętrznąpowierzchnią źródła (180) promieniowania a tuleją czyszczącą (228) oraz układ podwyższania ciśnienia, połączony z tuleją czyszczącą (228).
2. Urządzenie według zastrz. 1, znamienne tym, że zespół (176) źródła promieniowania zawiera kilka źródeł (180) promieniowania, przy czym każde źródło (180) promieniowania zawiera współpracującą z nim tuleję czyszczącą (228).
3. Urządzenie według zastrz. 1, znamienne tym, że komora (244) jest komorą pierścieniową, połączoną szczelnie z zewnętrzną powierzchnią źródła (180) promieniowania.
4. Urządzenie według zastrz. 3, znamienne tym, że pierścieniowa komora (244) jest zamknięta.
5. Urządzenie według zastrz. 1, znamienne tym, że zawiera układ do doprowadzania i przyjmowania roztworu czyszczącego pod ciśnieniem, stanowiący układ napędowy, przemieszczający tuleję czyszczącą(228) do położenia wysuniętego i zawierający korzystnie uszczelnioną komorę (244), połączoną przewodem (252) ze źródłem roztworu czyszczącego.
6. Urządzenie według zastrz. 1, znamienne tym, że zawiera układ do usuwania roztworu czyszczącego pod ciśnieniem, stanowiący układ przemieszczający tuleję czyszczącą (228) do położenia schowanego, zawierający korzystnie uszczelnioną komorę (240), połączoną przewodem (248) ze źródłem płynu, zwłaszcza oleju hydraulicznego lub powietrza.