PL177744B1 - Urządzenie do czyszczenia zespołu źródła promieniowania - Google Patents
Urządzenie do czyszczenia zespołu źródła promieniowaniaInfo
- Publication number
- PL177744B1 PL177744B1 PL94325049A PL32504994A PL177744B1 PL 177744 B1 PL177744 B1 PL 177744B1 PL 94325049 A PL94325049 A PL 94325049A PL 32504994 A PL32504994 A PL 32504994A PL 177744 B1 PL177744 B1 PL 177744B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- radiation source
- cleaning
- chamber
- cleaning sleeve
- liquid
- Prior art date
Links
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims abstract description 76
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 73
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims abstract description 20
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 37
- 239000010720 hydraulic oil Substances 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 8
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 7
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 6
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 6
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 2
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- -1 e.g. Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000011178 precast concrete Substances 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/12—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
- B01J19/122—Incoherent waves
- B01J19/123—Ultraviolet light
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/12—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
- C02F1/32—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
- C02F1/325—Irradiation devices or lamp constructions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
- C02F2201/322—Lamp arrangement
- C02F2201/3227—Units with two or more lamps
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
- C02F2201/324—Lamp cleaning installations, e.g. brushes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
- C02F2201/326—Lamp control systems
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S422/00—Chemical apparatus and process disinfecting, deodorizing, preserving, or sterilizing
- Y10S422/906—Plasma or ion generation means
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Radiation-Therapy Devices (AREA)
Abstract
1. Urzadzenie do czyszczenia zespolu zródla promieniowania, zawierajacego zródlo promieniowania, w urzadzeniu do obróbki cieczy, znamienne tym, ze zawiera tuleje czyszczaca (228), stykajaca sie z czescia zewnetrznej powie- rzchni zródla (180) promieniowania w zespole (176) zródla promieniowania i zamocowana przesuwnie wzdluz swej osi podluznej pomiedzy polozeniem schowanym a polozeniem wysunie- tym; komore (244) umieszczona w tulei czyszczacej (228) i stykajaca sie z czescia zródla (180) promieniowania, przy czym komora (244) zawiera roztwór czyszczacy, uszczelke (234) umieszczona na koncu tulei czyszczacej (228) pomiedzy zewnetrzna powierzchnia zródla (180) promieniowania a tuleja czyszczaca (228) oraz uklad podwyzszania cisnienia, polaczony z tuleja czyszczaca (228). FIG 4 PL PL PL PL
Description
Przedmiotem wynalazku jest urządzenie do czyszczenia zespołu źródła promieniowania, w urządzeniu do obróblki cieczy.
Zasilane grawitacyjnie urządzenia do obróbki cieczy, w których zastosowano promieniowanie nadfioletowe (UV) są znane na przykład, z opisów patentowych Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 4 482 809, 4 872 980 i 5 006 244.
W urządzeniach tego typu znajdują się zespoły ram z lampami nadfioletowymi, po kilka lamp w każdym, przy czym poszczególne lampy są zainstalowane wewnątrz cylindrów biegnących pomiędzy dwoma ramionami nośnymi ram. Ramy te zanurza się w obrabianej cieczy, napromienianej następnie w zależności od potrzeby.
Otaczające lampy nadfioletowe cylindry ulegają okresowo zanieczyszczaniu obcymi materiałami, co pogarsza przepływ promieniowania nadfioletowego do cieczy. Zanieczyszczone cylindry trzeba ręcznie czyścić z osadzonego na nich materiału z częstotliwością określaną na podstawie doświadczeń eksploatacyjnych, albo też z pomiarów za pomocą czujników promieniowania nadfioletowego.
Jeżeli lampy nadfioletowe stosuje się w urządzeniach otwartych typu kanałowego, można wyjmować jedną lub więcej ram bez przerywania pracy całego urządzenia. Wyjęte ramy można następnie oczyszczać z osadzonego materiału zaniurzając je w ką^idi odpowiedniego kwasowego roztworu do mycia mieszanego za pomocą powuetrza. Oczywiście w takiej sytuacji należy przewidzieć odpowiednio więcej źródeł promieniowania nadfioletowego (polega to zazwyczaj
177 744 na stosowaniu dodatkowych ram z lampami) w celu zapewnienia odpowiedniego napromieniania obrabianej cieczy po wyjęciu jednej lub więcej ram do czyszczenia. Oczywiście, niezbędne dodatkowe źródła promieniowania nadfioletowego powiększająkoszty urządzenia do obrób ki.
Poza tym należy również przewidzieć, a następnie utrzymywać, odpowiedni zbiornik z roztworem do mycia, do którego można wkładać ramy z lampami nadfioletowymi. W zależności od liczby równocześnie czyszczonych ram oraz od częstottiwości niezbędnego czyszczenia, może to znacznie zwiększyć koszt montażu, utrzymania i eksploatacji urządzenia do obróbki.
Jeżeli natomiast ramy znajdująsię w urządzeniu zamkniętym, ich wyjmowanie z cieczy w celu oczyszczenia jest zazwyczaj niepraktyczne. W takiej sytuacji, cylindry należy czyścić po zatrzymaniu urządzenia, zamknąć zawory wlotowe do komory do obróbki i wylotowe z niej, a następnie napełnić całą komorę do obróbki roztworem kwasu do mycia i mieszać ciecz za pomocą powietrza usuwając materiały zanieczyszczające. Wadami mycia urządzeń zamkniętych są: konieczność zatrzymania urządzenia na czas mycia oraz duża ilość roztworu do mycia, którym trzeba napełnić komorę do obróbki. Innym problememjett zagrożenie towarzyszące stosowaniu dużych ilości roztworów kwasów do mycia oraz trudności i koszty związane z ich usuwaniem. Oczywiście, oba te problemy występują również w urządzeniach typu otwartego, chociaż w mniejszym stopniu.
Po zainstalowaniu jedne z największych kosztów utrzymania dotychczasowych urządzeń do obróbki są często kosztami mycia cylindrów otaczających źródła promieniowania.
Celem wynalazkujest uzyskanie nowoczesnego urządzenia do czyszczenia źródła promieniowania, za pomocą których można byłoby wyeliminować wymienione powyżej problemy z czyszczeniem źródła promieniowania w urządzeniu do obróbki cieczy.
Urządzenie do czyszczenia zespołu źródła promieniowania, zawierającego źródło promieniowania, w urządzeniu do obróbki cieczy, według wynalazku charakteryzuje się tym, że zawiera tuleję czyszczącą, stykającą się z częścią zewnętrznej powierzchni źródła promieniowania w zespole źródła promieniowania i zamocowaną przesuwnie wzdłuż swej osi podłużnej pomiędzy położeniem schowanym a położeniem wysuniętym; komorę umieszczoną w tulei czyszczącej i stykającą się z częścią źródła promieniowania, przy czym komora zawiera roztwór czyszczący, uszczelkę umieszczoną na końcu tulei czyszczącej pomiędzy zewnętrzną powierzchnią źródła promieniowania a tuleją czyszczącą oraz układ podwyższania ciśnienia, połączony z tuleją czyszczącą.
Korzystnie zespół źródła promieniowania zawiera kilka źródeł promieniowania, przy czym każde źródło promieniowania zawiera współpracującą z nim tuleję czyszczącą.
Korzystnie komorajest komorąpierścieniową połączona szczelnie z zewnętrzną powierzchnią źródła promieniowania.
Korzystnie pierścieniowa komora jest zamknięta.
Korzystnie urządzenie zawiera układ od doprowadzania i przyjmowania roztworu czyszczącego pod ciśnieniem, stanowiący układ napędowy, przemieszczający tuleję czyszczącą do położenia wysuniętego i zawierający uszczdnioną komorę, połączoną przewodem ze źródłem roztworu czyszczącego.
Korzystnie urządzenie zawiera układ do usuwania roztworu czyszczącego pod ciśnieniem, stanowiący układ przemieszczający tuleję czyszczącą do położenia schowanego, zawierający uszczdnioną komorę, połączoną przewodem ze źródłem płynu, zwłaszcza oleju hydraulicznego lub powietrza.
Przedmiot wynalazku uwidoczniono w przykładzie wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia przekrój boczny znanego urządzenia do obróbki cieczy bez urządzenia do czyszczenia zespołu źródła promieniowania, fig. 2 - przekrój tylnej części znanego urządzenia do obróbki wody z fig. 1, fig. 3 - rzut z boku urządzenia do obróbki cieczy z urządzeniem do czyszczenia zespołu źródła promieniowania według wynalazku, fig. 4 - moduł źródła promieniowania do urządzenia z fig. 3, fig. 5 - obszar A z fig. 4 w powiększeniu, fig. 6 - drugi przykład wykonania urządzenia do czyszczenia zespołu źródła promieniowania do urządzenia z fig. 3.
177 744
Na fig. 1 i 2 widać znane urządzenie do obróbki cieczy według opisu w patencie Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 4 482 809. W skład urządzenia wchodzą liczne moduły źródeł promieniowania 20, każde z parą nóżek ramowych 24 i z rozciągającymi się pomiędzy nimi zespołami 28 lamp nadfioletowych. Jak widać na fig. 2, moduły 20 z lampami znajdująsię w kanale 32 do obróbki i są rozmieszczone w takiej odległości od siebie, że zapewmajjąnapromienianie obrabianej cieczy co najmniej minimalnądawkąpromieniowania nadfioletowego określonąz góry.
Urządzenie to działa zadowalająco, ale, jego wadą jest stosunkowo duża pracochłonność konserwacji modułów lamp 20. Dotyczy to, zwłaszcza wysokiej czasochłonności i kosztów wymiany lamp lub mycia otaczających je cylindrów. Ponadto, warunkiem ciągłości obróbki po wyjęciu modułu lamp oraz zapewnienia napromieniania cieczy odpowiednią minimalną dawką promieniowania, jest zapewnienie odpowiedniej liczby modułów dodatkowych, co wiąże się ze wzrostem kosztów urządzenia.
W związku z tym, wynalazca usprawnił urządzenia do obróbki cieczy, wyposażając je w urządzenie do czyszczenia źródła promieniowania.
Jak widać na fig. 3, w skład urządzenia 100 do obróbki cieczy wchodzi korpus 104 montowany w poprzek otwartego przepływowego kanału 108 cieczy w taki sposób, że cały strumień cieczy płynący kanałem 108 .jest kierowany przez strefę obróbki 112. Korpus 104 może być wykonany z prefabrykowanego betonu, stali nierdzewnej lub innego materiału, nadającego się do obrabianej cieczy i odpornego na stosowany typ promieniowania.
W dolnej części korpusu 104 znajduje się sekcja centralna 116 ze skośnymi sekcjami wlotową i wylotową oznaczonymi odpowiednio 120 i 124. W podstawde 128 kanału 108, pod sekcją centralną 116, znajduje się odpowiednia uniesiona do góry sekcja centralna 132 ze skośnymi sekcjami wlotową i wylotową, oznaczonymi odpowiednio 136 i 140. Sekcja centralna 132 może być częścią korpusu 104, albo częścią podstawy 128 (jak pokazano na rysunku). Sekcje centralne 116 i 132 tworzą zwężona strefę napromieniania 144, natomiast sekcje 120 i 136 tworzą stożkowy, wylotowy obszar przejściowy.
Co najmniej na .jednej z powierzchni, napływowej lub odpływowej, korpusu 104 montuje się jeden lub więcej modułów 148 źródeł promieniowania. W zależności od obrabianej cieczy można zmieniać li czbę modułów 148, począwszy od .jednego, modułu 148, do dwóch lub więcej modułów 148, w poprzek strefy napływowej i odpływowej korpusu 104.
W korpusie 104 znajduje się czujnik 152 promieniowania, który wchodzi do strefy napromieniania 144. Po odpływowej stronie korpusu 104 znajduje się również standardowa przepustnica 150 stabilizująca poziom cieczy, z zadaniem utrzymania minimalnego poziomu cieczy w strefie obróbki 112.
Jak widać na fig. 4, każdy moduł 148 źródła promieniowania zawiera podporę 160 źródła promieniowania, poziomy człon nośny 164, skrzynkę rozdzielczą 172 oraz jeden lub więcej zespołów 176 źródeł promieniowania, znajdujących się przy dolnym skraju podpory 160. Każdy z zespołów 176 źródła promieniowania zawiera silne źródło 180 promieniowania osadzone wewnątrz cylindra 184 w dwóch pierścieniowych oprawkach 188.
Dalszy, w stosunku do podpory 160 koniec każdego cylindra 184, jest zamknięty, a cylinder 184 jest szczelnie spojony z rurąmontażową 192, która połączona jest z podporą 160. Jak widać na fig. 5 szczelność połączenia cylindra 184 z rurą montażową 192 uzyskano wkładając otwarty koniec cylindra 184 w oprawkę 196, którą szczelnie przymocowano do końca rury montażowej 192. W jiodstawie oprawki 196 znajduje się gumowa podkładka 200 zapobiegająca możliwości pęknięcia cylindra 184 wskutek bezpośredniego stykania się z oprawką 196 podczas wkładania. Na zewnętrznej powierzchni cylindra 184 znajduje się para pierścieni uszczelniających 204, 208 typu O-ring, oddzielonych od siebie pierścieniem dystansowym 206.
Po cylindrze 184 wkłada się do oprawki 196 pierścienie uszczelniające 204,208 i pierścień dystansowy 206, a następnie na zewnętrznej powierzchni cylindra 184 umieszcza się pierścieniową śrubę 212, którą dociska się do oprawki 196. Gwintna śrubie 212 wkręca się w odpowiedni gwint na wewnętrznej powierzchni oprawki 196, a śruba 212 zgniata gumowy stoperek 200 i pierścienie uszczelniające 204 i 208, co zapewnia połączeniu odpowiednią szczelność.
177 744
Przeciwległy koniec każdej rury montażowej 192 jest również gwintowany i pasuje do oprawki gwintowanej 216, która jjest z kolei przyspawana do podpory 160. Połączenia pomiędzy rurą montażową 192 a oprawką gwintowaną 216 oraz pomiędzy oprawką gwintowaną 2l 6 a podporą 160 są również szczelne, co zapobiega wnikaniu płynu do pustej przestrzeni wewnątrz rury montażowej 192 lub podpory 160.
Każde ze źródeł 180 promieniowania jjest podłączone pomiędzy parę przewodów elektrycznych 220 biegnących od skrzynki rozdzielczej 172 do źródła 180 promieniowania wewnątrz podpory 160 i rury montażowej 192.
Jak widać na fig. 4, na każdym zespole 176 źródła promieniowania i rury montażowej 192 znajduje się również zespół czyszczący 224. Każdy taki zespól czyszczący 224 składa się z cylindrycznej tulei 228, działającej jak cylinder dwustronny. Na każdym końcu cylindrycznej tulei 228 znajdują się pierścienie uszczelniające 232, 234. Pierścień uszczelniający 232, znajdujący się przy podporze 160, styka się z zewnętrzną powierzchnią rury montażowej 192, natomiast pierścień uszczelniający 234, oddalony od podpory 160, styka się z zewnętrzną powierzchnią, zespołów 176 źródeł promieniowania.
Jak to ukazano na fig. 5, na zewnętrznej powierzchni oparki 196 znajduje się rowek, w który wkłada się pierścień uszczelniający 236 typu O-ring. Pierścień ten styka się z wewnętrzną powierzchnią cylindrycznej tulei 228 i dzieli wnętrze cylindrycznej tulei 228 na dwie komory 240 i 244. Komora 240 łączy się z przewodem 248 a komora 244 z przewodem 252. Każdy z przewodów 248 i 252 biegnie od skrzynki rozdzielczej 172, wewnątrz podpory 160 i wewnątrz rury montażowej 192, do oprawki 196, gdzie łączą się, odpowiednio, z komorami 240 i 244.
Po doprowadzeniu pod ciśnieniem oleju hydraulicznego, powietrza lub innego, odpowiedniego płynu, przewodem 248 do komory 240, cylindryczna tuleja 228 przesuwa się ku podporze 160 i wytłacza ciecz z komory 244 do przewodu 252. Podobnie, po doprowadzeniu pod ciśnieniem cieczy przewodem 252 do komory 244, cylindryczna tuleja 228 przemieszcza się ku cylindrowi 184 i wytłacza ciecz z komory 240 do przewodu 248.
Przewód 252 jest połączony z instalacją z odpowiednim roztworem czyszczącym, na przykład roztworem kwasu, a przewód 248 ze zbiornikiem odpowiedniego płynu, na przykład powietrza. Zatem, w razie konieczności oczyszczenia zewnętrznej powierzchni cylindra 184, do komory 244 doprowadza się roztwór czyszczący, a z komory 240 wytłacza płyn. W rezultacie cylindryczna tuleja 228 przemieszcza się do położenia wysuniętego w kierunku od podpory 160 a podczas tego przemieszczania pierścień uszczelniający 234 zgarnia luźne kawaaki materiału z cylindra 184.
Kiedy cylindryczna tuleja 228 znajduje się w położeniu wysuniętym, znajdujący się w komorze 244 płyn czyszczący styka się z zewnętrzną, powierzchnią zespołów 176 źródła promieniowania, stanowiącą wewnętrzna ściankę komory 244. Roztwór czyszczący rozkłada chemicznie i/lub usuwa pozostałości obcych materiałów osadzonych na zespołach 176 źródła promieniowania. Po określonym czasie wtłacza się płyn do komory 240, obniża się ciśnienie roztworu czyszczącego w komorze 244, w wyniku czego cylindryczna tuleja 228 cofa się ku podporze 160. Podczas tego ruchu pierścień uszczelnlający 234 ponownie zgarnia obluzowane kawałki obcych materiałów z powierzchni zespołów 176 źródła promieniowania.
Zespół czyszczący 224 można uruchamiać w regularnych odstępach czasu, na przykład raz na dzień lub, tam gdzie jakość obrabianej cieczy zmienia się, w zależności od zmian wskazań czujnika 152 promieniowania.
Każdy z modułów- 148 źródła promieniowania można montować na korpusie 104 za pomocą poziomego członu nośnego 164 o z góry określonym kształcie przekroju poprzecznego i wchodzącego w dopasowany kształtem otwór 256 w korpusie 104. Kształt ten wybiera się w sposób ułatwiający wkładanie poziomego członu nośnego 164 w otwór 256 z równoczesnym uniemożliwieniem mu obracania się w tym otworze.
Jak widać na fig. 3 i 4, długość poziomego członu nośnego 164 wybiera się w taki sposób, że poziomy człon nośny 164 biegnie od podpory 160 na dalszą odległość niż zespół 176 źródła promieniowania. Dzięki temu podczas instalowania modułu 148 źródła promieniowania zespół 176
177 744 źródła promieniowania znajduje się w odpowiedniej odległości! od wlotowego i wylotowego obszaru przejściowego. Takie rozwiązanie minimalizuje możliwość uszkodzenia zespołu 176 źródła promieniowania w wyniku uderzenia w inne przedmioty podczas montażu modułu źródła promieniowania, co zawsze grozi wtedy gdy przez urządzenie 100 płynie ciecz. Ze względu na konieczność zapewnienia odpowiedniej długości poziomych członów'nośnych 164, otwory 256 są przestawione schodkowo w płaszczyźnie poziomej na przeciwległych powierzchniach korpusu 104.
Po całkowitym osadzeniu poziomego członu nośnego 164 w otworze 256, łączy się łączniki 268 roztworu czyszczącego i łączniki 272 cieczy w skrzynce rozdzielczej 172 z odpowiednimi łącznikami na obudowie 276. Połączenie łączników 268 i 272 z odpowiednimi łącznikami na obudowie 276 służy również do utrzymania poziomego członu nośnego 164 w otworze 256. W obudowie 276 może znajdować się również opornik regulacyjny 264, przez który płynie prąd zasilający źródła 180 promieniowania oraz pompy i zbiorniki magazynowe (nie pokazane) na płyn czyszczący i płyn pod ciśnieniem do przemieszczania zespcdów czyszczących 224.
Inny przykład wykonania zespołu czyszczącego dla modułu 148B źródła promieniowania pokazano na fig. 6. W zespole czyszczącym znajduje się pasek z pierścieniami czyszczącymi 308 oraz para cylindrów 312,314 dwustronnego działania. W każdym pierścieniu czyszczącym 308 znajduje się pierścieniowa komora 316 usytuowana przy powierzchni cylindra 184. Pierścienie czyszczące 308 przesuwa się po powierzchni cylindrów 184 za pomocą cylindrów 312,314, które poruszają się pomiędzy położeniami schowanymi i wysuniętymi.
Podobnie jak w przykładzie wykonania pokazanym na fig. 4, przewody 320 i 324 biegnąze skrzynki rozdzielczej 172 (nie pokazanej) przez podporę 160 do cylindrów 312, 314. Po doprowadzeniu przewodem 320 cieczy pod ciśnieniem do cylindra 312, tłoczysko 328 wysuwa się do położenia wysuniętego. W trakcie wysuwania się tłoczyska 328 pod działaniem cieczy doprowadzanej do komory 332 z jednej strony tłoka 326, następuje równoczesne wytłaczanie cieczy z komory 340 z drugiej strony tłoka 326, przy czym wytłoczona ciecz przepływa przez złączkę 344 do komory 348 cylindra 314 i wysuwa znajdujące się w nim tłoczysko 328, które z kolei wytłacza ciecz z komory 352 do przewodu 324.
W celu zapewnienia synchronicznego poruszania się tłoczysk 328, cylindry 312 i 314 skonstruowano w taki sposób, że objętość cieczy wytłaczanej na jednostkowy skok tłoka 326 w cylindrze 312 jest równa objętości cieczy wtłaczanej na jednostkę skoku tłoka 326 w cylindrze 314. Efekt taki uzyskuje się dobierając odpowiednie średnice każdego z dwóch cylindrów lub tłoczysk. Ponadto, pod koniec wysuwania się tłoków 326 włącza się odpowiedni jednodrogowy zawór kompensacyjny 356 z zadaniem kompensacji ewentualnych różnic całkowitej objętości cieczy, jakie mogąpojawić się pomiędzy komorami 332 i 352 oraz pomiędzy komorami 3481 340.
Podobnie, w celu schowania tłoczysk 328, do przewodu 324 doprowadza się ciecz pod ciśnieniem oraz stosuje się drugi zawór kompensacyjny 356'do kompensowania ewentualnych różnic całkowitej objętości cieczy, jakie mogą pojawić się pomiędzy komorami 332 i 352 oraz pomiędzy komorami 348 i 340 pod koniec skoku chowania się tłoczyska.
Zakłada się, że pierścieniowe komory 316 będą napełnione z góry określoną ilością cieczy nadającej się do mycia, zmienianej z odpowiednią częstottiwością, równą częstottiwości serwisu źródeł promieniowania. Alternatywnie, roztwór czyszczący można doprowadzać do pierścieniowych komór 316 przewodami biegnącymi wewnątrz wydrążonych w środku tłoczysk 328. Innym rozwiązaniem alternatywnym jest zastosowanie szczelnych komór pierścieniowych 316 na ciecz czyszczącą, którą wymienia się w razie potrzeby. Ponadto roztwór czyszczący może krążyć wewnątrz wydrążonych w środku tłoczysk 328, a następnie przez komorę 332 i pierścieniowe komory 316. Dzięki odpowiednim przegrodom (nie pokazanym) w pierścieniowych komorach 316, ciecz czyszcząca może wpływać przez, wydrążone w środku tłoczysko 328 położone najniżej, przepływać przez pierścienie czyszczące 308 i wypływać przez, wydrążone w środku tłoczysko 328, położone najwyżej.
Na fig. 4, 5 i 6 przedstawiono jedynie przykłady wykonania urządzenia do czyszczenia zespołu źródeł promieniowania, ale dla osób znających się na technice jest oczywista możli177 744 wość zastosowania innych rozwiązań konstrukcyjnych bez odchodzenia od istoty niniejszego wynalazku.
Przykładowo, istnieje możliwość zastosowania jednego cylindra dwustronnego działania współpracującego z wydrążonym w środku tłoczyskiem, które jest bardzo sztywno zainstalowane, za pośrednictwem odpowiednich tłoczysk, na wielu (np. 2 lub 4) pierścieniach czyszczących 308. Ponadto istnieje możliwość pompowania cieczy czyszczącej (np. wody) przez wydrążone w środku toczyska w kierunku i do pierścieniowych komór 316 podczas przesuwania cylindra do tyłu i z powrotem. Ewentualne wyposażenie pierścieniowych komór 316 w odpowiednie dysze rozpylające lub podobne elementy, umożllwiłoby rozpylanie strumienia cieczy po powierzchni komory napromieniania, ułatwiając tym samym czyszczenie cylindra 184 źródła promieniowania.
Innamodyfikacjąkonttrukcyjnąjett wstępne napełnianie pierścieniowych komór 316 odpowiednią cieczą czyszczącą i zmodyfikowanie ich konstrukcji w taki sposób, żeby znajdował się w nich zamknięty zespół wycierający. Takie rozwiązanie umożhwiłoby zastosowanie różnych mechanizmów do przemieszczania pierścieniowych komór 316 po powierzchni cylindra 184 źródła promieniowania do tytułu i z powrotem. Można na przykład zastosować jeden cylinder dwustronnego działania, który głównie przemieszcza pierścieniowe komory 316 w .jedną i druga stronę po cylindrze 184 źródła promieniowania. Pierścieniowe komory należy zamontować sztywno waględem mechanizmów przesuwu w celu eliminacji możliwości zakleszczania się całego zespołu, co mogłoby spowodować uszkodzenie cylindra 184.
Jak łatwo zauważyć, w przedstawionych powyżej przykładach wykonania można odwrócić względność ruchu pomiędzy źródłem promieniowania a mechanizmem czyszczącym. Zatem mechanizm czyszczący można zamontować sztywno ze strefą obróbki w urządzeniu według wynalazku lub w innym, natomiast źródło promieniowania przesuwać względem niego do przodu i do tyłu.
Rozumie się samo przez się, że przedstawiono tu pewne przykłady wykonania urządzenia według wynalazku, natomiast niniejszy wynalazek nie ogranicza się do nich i osoby znające się na technice mogą wprowadzić do nich różnorodne odmiany i rozwiązania alternatywne bez odchodzenia od istoty niniejszego wynalazku, określonej w załączonych zastrzeżeniach.
177 744
FIG. 2
177 744
FIG m 744 • 264
-148
188 180 igg
184
5^X^212^184
196
177 744
m 744
FIG.1
Departament Wydawnictw UP RP. Nakład 70 egz. Cena 4,00 zł.
Claims (6)
- Zastrzeżenia patentowe1. Urządzenie do czyszczenia zespołu źródła promieniowania, zawierającego źródło promieniowania, w urządzeniu do obróbki cieczy, znamienne tym, że zawiera tuleję czyszczącą (228), stykającą się z częścią zewnętrznej powierzchni źródła (180) promieniowania w zespole (176) źródła promieniowania i zamocowaną przesuwnie wzdłuż swej osi podłużnej pomiędzy położeniem schowanym a położeniem wysuniętym; komorę (244) umieszczonąw tulei czyszczącej (228) i stykającą się z częścią źródła (180) promieniowania, przy czym komora (244) zawiera roztwór czyszczący, uszczelkę (234) umieszczoną na końcu tulei czyszczącej (228) pomiędzy zewnętrznąpowierzchnią źródła (180) promieniowania a tuleją czyszczącą (228) oraz układ podwyższania ciśnienia, połączony z tuleją czyszczącą (228).
- 2. Urządzenie według zastrz. 1, znamienne tym, że zespół (176) źródła promieniowania zawiera kilka źródeł (180) promieniowania, przy czym każde źródło (180) promieniowania zawiera współpracującą z nim tuleję czyszczącą (228).
- 3. Urządzenie według zastrz. 1, znamienne tym, że komora (244) jest komorą pierścieniową, połączoną szczelnie z zewnętrzną powierzchnią źródła (180) promieniowania.
- 4. Urządzenie według zastrz. 3, znamienne tym, że pierścieniowa komora (244) jest zamknięta.
- 5. Urządzenie według zastrz. 1, znamienne tym, że zawiera układ do doprowadzania i przyjmowania roztworu czyszczącego pod ciśnieniem, stanowiący układ napędowy, przemieszczający tuleję czyszczącą(228) do położenia wysuniętego i zawierający korzystnie uszczelnioną komorę (244), połączoną przewodem (252) ze źródłem roztworu czyszczącego.
- 6. Urządzenie według zastrz. 1, znamienne tym, że zawiera układ do usuwania roztworu czyszczącego pod ciśnieniem, stanowiący układ przemieszczający tuleję czyszczącą (228) do położenia schowanego, zawierający korzystnie uszczelnioną komorę (240), połączoną przewodem (248) ze źródłem płynu, zwłaszcza oleju hydraulicznego lub powietrza.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US08/026,572 US5418370A (en) | 1993-03-05 | 1993-03-05 | Fluid treatment system and process |
PCT/CA1994/000125 WO1994020208A1 (en) | 1993-03-05 | 1994-03-04 | Fluid treatment system and process |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
PL177744B1 true PL177744B1 (pl) | 2000-01-31 |
Family
ID=21832576
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PL94325048A PL177739B1 (pl) | 1993-03-05 | 1994-03-04 | Moduł źródła promieniowania do urządzenia do obróbki cieczy |
PL94325049A PL177744B1 (pl) | 1993-03-05 | 1994-03-04 | Urządzenie do czyszczenia zespołu źródła promieniowania |
PL94310528A PL177782B1 (pl) | 1993-03-05 | 1994-03-04 | Układ do obróbki cieczy |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PL94325048A PL177739B1 (pl) | 1993-03-05 | 1994-03-04 | Moduł źródła promieniowania do urządzenia do obróbki cieczy |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PL94310528A PL177782B1 (pl) | 1993-03-05 | 1994-03-04 | Układ do obróbki cieczy |
Country Status (28)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US5418370A (pl) |
EP (3) | EP0811579B1 (pl) |
JP (1) | JPH08509905A (pl) |
KR (3) | KR100360320B1 (pl) |
CN (1) | CN1081947C (pl) |
AT (3) | ATE203492T1 (pl) |
AU (1) | AU6153194A (pl) |
BR (1) | BR9406347A (pl) |
CA (1) | CA2117040C (pl) |
CO (3) | CO4910176A1 (pl) |
CZ (1) | CZ226495A3 (pl) |
DE (3) | DE69427834T2 (pl) |
DK (1) | DK0687201T3 (pl) |
ES (3) | ES2115937T3 (pl) |
FI (1) | FI954134A (pl) |
HU (1) | HU215737B (pl) |
IL (1) | IL108709A (pl) |
MY (1) | MY112388A (pl) |
NO (1) | NO310139B1 (pl) |
NZ (1) | NZ262088A (pl) |
PH (1) | PH31690A (pl) |
PL (3) | PL177739B1 (pl) |
PT (1) | PT1094035E (pl) |
RO (1) | RO114754B1 (pl) |
SK (1) | SK109195A3 (pl) |
TW (2) | TW360619B (pl) |
WO (1) | WO1994020208A1 (pl) |
ZA (1) | ZA941096B (pl) |
Families Citing this family (87)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW360619B (en) * | 1993-03-05 | 1999-06-11 | Trojan Techn Inc | A cleaning apparatus for a radiation source assembly in a fluid treatment system and a method of removal of fouling materials therefrom |
USRE36896E (en) * | 1993-03-05 | 2000-10-03 | Trojan Technologies Inc. | Fluid treatment system and process |
US5539209A (en) * | 1994-10-17 | 1996-07-23 | Trojan Technologies Inc. | Method of cleaning fouling materials from a radiation module |
US5792433A (en) * | 1995-03-13 | 1998-08-11 | Photoscience Japan Corporation | Light irradiating device with easily replaceable light irradiating lamps |
US5937266A (en) * | 1996-03-08 | 1999-08-10 | Photoscience Japan Corporation | Light irradiating device employing light irradiating modules equipped with a cleaning mechanism |
USRE39522E1 (en) * | 1996-03-14 | 2007-03-20 | Photoscience Japan Corporation | Ultraviolet ray irradiation equipment having scraper rings fitted to light transmission tubes |
US5874740A (en) * | 1996-03-14 | 1999-02-23 | Photoscience Japan Corporation | Ultraviolet ray irradiation equipment having scraper rings fitted to light transmission tubes |
DE19653083B4 (de) * | 1996-12-19 | 2005-09-08 | Wedeco Ag Water Technology | Strömungsgünstige UV-Desinfektionsvorrichtung |
US6013917A (en) * | 1997-03-12 | 2000-01-11 | Photoscience Japan Corporation | UV ray irradiation apparatus having scraper rings fitted to light transmission tubes |
US6201250B1 (en) | 1997-08-22 | 2001-03-13 | Richard C. Morlock | Sensor housing for UV curing chamber |
ES2167102T3 (es) | 1997-09-18 | 2002-05-01 | Wedeco Ag | Dispositivo y procedimiento para exponer liquidos, incluyendo aguas residuales tratadas previamente a los rayos x. |
US6015229A (en) | 1997-09-19 | 2000-01-18 | Calgon Carbon Corporation | Method and apparatus for improved mixing in fluids |
FR2768718B1 (fr) * | 1997-09-24 | 1999-12-10 | Amenagement Urbain & Rural | Installation pour le traitement par irradiations u.v. d'un liquide |
AUPP158098A0 (en) | 1998-01-29 | 1998-02-26 | Arnold, Geoffery Peter | Laser alignment apparatus and method |
AU691786B3 (en) * | 1998-02-03 | 1998-05-21 | Kenneth Ray Bryer | An apparatus for treating a liquid |
US6342188B1 (en) | 1998-11-03 | 2002-01-29 | Trojan Technologies, Inc. | Radiation source module and cleaning apparatus therefor |
US6500312B2 (en) | 1998-12-30 | 2002-12-31 | Wedeco Ag | Device and method for UV-irradiation, especially for disinfecting, flowing liquids with reduced UV-transmission |
US6193938B1 (en) * | 1999-03-17 | 2001-02-27 | Wedeco Ag Water Technology | Device for treating liquids with UV-radiation |
US6217834B1 (en) * | 1999-04-19 | 2001-04-17 | Trojan Technologies Inc. | Ultraviolet radiation lamp and source module and treatment system containing same |
US6863078B1 (en) | 1999-05-28 | 2005-03-08 | Trojan Technologies, Inc. | Fluid treatment system and cleaning apparatus therefor |
CA2338879C (en) * | 1999-05-28 | 2005-08-09 | Trojan Technologies Inc. | Fluid treatment system and cleaning apparatus therefor |
CA2364613C (en) * | 1999-06-04 | 2005-03-22 | Henry Kozlowski | Apparatus for ultraviolet light treatment of fluids |
MXPA02001546A (es) * | 1999-08-13 | 2003-05-23 | Trojan Techn Inc | Sistema de tratamiento de fluidos y aparato limpiador para ello. |
US6830697B1 (en) * | 1999-09-03 | 2004-12-14 | Trojan Technologies Inc. | Fluid treatment system, radiation source assembly and radiation source module |
US6518577B1 (en) * | 1999-10-01 | 2003-02-11 | Trojan Technologies Inc. | Optical radiation sensor system with cleaning device |
US6564157B2 (en) | 1999-12-06 | 2003-05-13 | Trojan Technologies, Inc. | On-line device for predicting at least one fluid flow parameter in a process |
DE60038629D1 (de) | 1999-12-17 | 2008-05-29 | Trojan Techn Inc | Optisches strahlungsmessgerät |
AU1978601A (en) | 1999-12-17 | 2001-06-25 | Trojan Technologies Inc. | Radiation source module |
WO2001055037A1 (en) * | 2000-01-28 | 2001-08-02 | Trojan Technologies Inc. | Radiation source module |
DE10010127B4 (de) * | 2000-03-03 | 2007-12-13 | Wedeco Ag Water Technology | UV-Bestrahlungsvorrichtung für die Behandlung von Abwasser |
US6580019B1 (en) | 2000-03-09 | 2003-06-17 | Dekalb Genetics Corporation | Non-reciprocal recombination-mediated transgene deletion in transgenic plants |
US6750379B2 (en) | 2000-03-09 | 2004-06-15 | Dekalb Genetics Corporation | Homologous recombination-mediated transgene alterations in plants |
CA2306546C (en) | 2000-04-20 | 2006-06-27 | Photoscience Japan Corporation | Tube scraper |
CN1182043C (zh) * | 2000-06-06 | 2004-12-29 | 特洛伊人技术公司 | 流体混合装置 |
FR2815271B1 (fr) * | 2000-10-16 | 2003-01-17 | Bordas Sarl | Dispositif de traitement d'un fluide par rayonnement uv |
US7390406B2 (en) * | 2000-12-15 | 2008-06-24 | Trojan Technologies Inc. | Fluid treatment system and radiation sources module for use therein |
US6596542B1 (en) * | 2001-01-08 | 2003-07-22 | Christopher R. Schulz | Flow-through chemical actinometer for ultraviolet disinfection reactors |
US6940075B2 (en) * | 2001-03-15 | 2005-09-06 | Christopher R. Schulz | Ultraviolet-light-based disinfection reactor |
US6649917B2 (en) * | 2001-05-30 | 2003-11-18 | Ondeo Degremont | Cleaning system for UV disinfection module/reactor |
DE10129178A1 (de) * | 2001-06-19 | 2003-01-02 | Wedeco Ag | UV-Bestrahlungsvorrichtung für die Behandlung von Fluiden mit einer vereinfachten Bestrahlungskammer |
US6663318B2 (en) | 2001-08-03 | 2003-12-16 | Trojan Technologies, Inc. | Fluid level control system |
US6719491B2 (en) | 2001-08-03 | 2004-04-13 | Trojan Technologies Inc. | Fluid level control system |
US7419642B2 (en) * | 2002-05-07 | 2008-09-02 | Ultravation, Inc. | Fluid disinfection apparatus |
US20050069463A1 (en) * | 2002-05-07 | 2005-03-31 | Kurtz Mark E. | Fluid disinfection apparatus |
US20030230477A1 (en) * | 2002-06-14 | 2003-12-18 | Fink Ronald G. | Environmental air sterilization system |
GB2389848B (en) * | 2002-06-17 | 2006-02-08 | Hanovia Ltd | UV disinfection apparatus and method of operating UV disinfection apparatus |
WO2004000735A1 (en) * | 2002-06-19 | 2003-12-31 | Trojan Technologies Inc. | Fluid treatment system and radiation source module for use therein |
US6784440B2 (en) * | 2002-07-26 | 2004-08-31 | Boc, Inc. | Food sanitizing cabinet |
US20040056201A1 (en) * | 2002-09-19 | 2004-03-25 | Fink Ronald G. | Food surface sanitation hood |
US20040140812A1 (en) * | 2003-01-21 | 2004-07-22 | Ademir Scallante | Arrangements containing electrical assemblies and methods of cleaning such electrical assemblies |
US7160566B2 (en) * | 2003-02-07 | 2007-01-09 | Boc, Inc. | Food surface sanitation tunnel |
EP1673599A4 (en) * | 2003-09-29 | 2009-08-05 | Trojan Techn Inc | RADIATION SENSOR DEVICE AND RADIATION SOURCE MODULE CONTAINING THE DEVICE |
CN100571788C (zh) * | 2004-03-12 | 2009-12-23 | 特洛伊人技术公司 | 流体处理系统 |
US7408174B2 (en) * | 2004-03-12 | 2008-08-05 | Trojan Technologies Inc. | Fluid treatment system |
US7476312B2 (en) * | 2004-04-15 | 2009-01-13 | Trojan Technologies Inc. | Fluid treatment system |
US7759651B2 (en) * | 2004-04-19 | 2010-07-20 | Trojan Technologies | Optical radiation sensor system and method for measuring radiation transmittance of a fluid |
US8038949B2 (en) | 2004-09-02 | 2011-10-18 | Purgenix, Inc. | Ultraviolet germicidal irradiation system |
US8148604B2 (en) | 2004-10-21 | 2012-04-03 | Venganza Inc. | Methods and materials for conferring resistance to pests and pathogens of plants |
US7159264B2 (en) | 2004-12-10 | 2007-01-09 | Calgon Carbon Corporation | Scraper for cleaning tubular members |
JP2008538591A (ja) * | 2005-04-21 | 2008-10-30 | ハネウエル・インターナシヨナル・インコーポレーテツド | ルテニウム系材料およびルテニウム合金 |
US7241380B2 (en) * | 2005-06-15 | 2007-07-10 | Reiling Dennis R | Ultraviolet treatment unit and septic tank system |
US8663575B2 (en) * | 2005-08-19 | 2014-03-04 | Canadian Blood Services | Sample holder for dynamic light scattering |
CA2621301C (en) * | 2005-08-31 | 2013-04-30 | Trojan Technologies Inc. | Ultraviolet radiation lamp and source module and treatment system containing same |
EP1979006A4 (en) * | 2005-12-21 | 2011-05-25 | Trojan Techn Inc | LIQUID TREATMENT SYSTEM |
WO2008019490A1 (en) * | 2006-08-17 | 2008-02-21 | Trojan Technologies | Fluid treatment system |
US7507973B2 (en) * | 2006-11-02 | 2009-03-24 | Calgon Carbon Corporation | UV treatment reactor |
US9174858B2 (en) | 2006-11-06 | 2015-11-03 | Trojan Technologies | Fluid treatment system |
US7862728B2 (en) | 2007-09-27 | 2011-01-04 | Water Of Life, Llc. | Ultraviolet water purification system |
US8529770B2 (en) * | 2007-09-27 | 2013-09-10 | Water Of Life, Llc. | Self-contained UV-C purification system |
US8557050B1 (en) * | 2008-10-31 | 2013-10-15 | Genefluidics, Inc. | System for washing a sensor structure |
ES2466348T3 (es) * | 2008-11-26 | 2014-06-10 | Calgon Carbon Corporation | Método y aparato para utilizar en elementos de mezclado en un sistema de desinfección por UV de agua residual/agua reciclada |
EP2417066A1 (en) * | 2009-04-07 | 2012-02-15 | Trojan Technologies | Radiation source module and fluid treatment system |
AU2010268722A1 (en) * | 2009-07-02 | 2012-01-19 | Trojan Technologies | Radiation source assembly |
CN102470402A (zh) * | 2009-07-23 | 2012-05-23 | 特洁安科技有限公司 | 清洁装置、辐射源模块和流体处理系统 |
US8182613B2 (en) * | 2009-08-04 | 2012-05-22 | University Corporation For Atmospheric Research | Radiometer including a cleaning system |
DE102009039655B3 (de) * | 2009-09-02 | 2011-03-31 | ITT Mfg. Enterprises, Inc., Wilmington | UV-Desinfektionseinrichtung für Abwasser und Trinkwasser mit einer Reinigungsvorrichtung |
DE102009039654A1 (de) * | 2009-09-02 | 2011-03-03 | ITT Mfg. Enterprises, Inc., Wilmington | UV-Desinfektionseinrichtung mit berührungsloser Reinigung |
US20120318376A1 (en) | 2009-11-12 | 2012-12-20 | Trojan Technologies | Cleaning apparatus, radiation source module and fluid treatment system |
US20120043223A1 (en) * | 2010-08-18 | 2012-02-23 | David Sherzer | Water treatment method |
CN103298549B (zh) | 2010-12-16 | 2015-10-14 | 特洁安技术公司 | 辐射源模块及流体处理系统 |
US9771959B2 (en) | 2012-01-20 | 2017-09-26 | Trojan Technologies | Fluid flow modifier and fluid treatment system incorporating same |
WO2013123590A1 (en) | 2012-02-23 | 2013-08-29 | Trojan Technologies | Radiation source cleaning system and module containing same |
WO2014085912A1 (en) | 2012-12-07 | 2014-06-12 | Trojan Technologies | Cleaning apparatus |
US9321658B2 (en) | 2013-08-29 | 2016-04-26 | Crystal Is, Inc. | Systems and methods for fluid treatment with homogeneous distribution of ultraviolet light |
AU2018239360C1 (en) | 2017-03-21 | 2023-11-02 | Hayward Industries, Inc. | Systems and methods for sanitizing pool and spa water |
US11472727B2 (en) | 2017-06-09 | 2022-10-18 | Hayward Industries, Inc. | Combination ultraviolet ray and ozone water sanitizing unit |
TW202227606A (zh) | 2020-11-14 | 2022-07-16 | 巴貝多商馬克安東尼國際股份有限責任公司 | 製備精製發酵飲料的方法及製備淺色啤酒的方法 |
Family Cites Families (55)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR421296A (fr) * | 1910-10-10 | 1910-12-17 | Marius Paul Otto | Appareil pour la stérilisation des eaux par les rayons ultra-violets |
DE268313C (pl) * | 1911-04-11 | |||
US2413704A (en) * | 1944-12-04 | 1947-01-07 | Art Metal Company | Ultraviolet sterilizer |
US2670439A (en) * | 1950-07-05 | 1954-02-23 | Hanovia Chemical & Mfg Co | Apparatus for irradiating liquids |
DE855521C (de) * | 1950-12-28 | 1952-11-13 | Siemens Ag | Verfahren und Einrichtung zum Behandeln, vorzugsweise Reinigen von Abwaessern und anderen Fluessigkeiten |
US3061721A (en) * | 1960-01-19 | 1962-10-30 | Brenner Al | Automatic tube cleaning device |
US3182193A (en) * | 1962-01-03 | 1965-05-04 | Ultra Dynamics Corp | Electronically monitored liquid purification or sterilizing system |
US3182191A (en) * | 1963-02-14 | 1965-05-04 | Puretest Water Purifier Co | Water purifying apparatus with an automatically actuated wiper for the ultra-violet source |
US3140054A (en) * | 1963-04-25 | 1964-07-07 | Oharenko Vladimir | Safety inspection light |
US3462597A (en) * | 1966-07-29 | 1969-08-19 | Ultra Dynamics Corp | Ultraviolet fluid purifier having manually operable wiper means |
US3456107A (en) * | 1967-05-16 | 1969-07-15 | Aquacare Intern Ltd | Water sterilizing apparatus |
US3562520A (en) * | 1968-11-04 | 1971-02-09 | Puretest Water Purifying Co | Fail-safe water purifying apparatus |
US3637342A (en) * | 1969-05-07 | 1972-01-25 | Louis P Veloz | Sterilization of fluids by ultraviolet radiation |
US3837800A (en) * | 1971-05-06 | 1974-09-24 | Meltzer H | Method and apparatus for purifying fluids |
DE2300273C3 (de) * | 1972-01-07 | 1982-05-06 | Toray Industries, Inc., Tokyo | Vorrichtung für Abwasserreinigung |
DE2213658C3 (de) * | 1972-03-21 | 1974-08-15 | Katadyn Produkte Ag, Wallisellen (Schweiz) | Wasserentkeimungsanlage |
CA951135A (en) * | 1972-08-23 | 1974-07-16 | Wolfgang Scherrelies | Sensor-eye for ultra-violet water sterilizer |
US3948772A (en) * | 1975-04-16 | 1976-04-06 | Sidney Ellner | Split stream ultraviolet purification device |
US4103167A (en) * | 1976-08-16 | 1978-07-25 | Sidney Ellner | Ultraviolet liquid purification system |
US4255663A (en) * | 1977-03-24 | 1981-03-10 | Lewis James H | Disposable liquid sterilizer unit |
US4204956A (en) * | 1978-10-02 | 1980-05-27 | Flatow Robert E | Water purification system |
US4205956A (en) * | 1979-05-21 | 1980-06-03 | The International Nickel Company, Inc. | Nickel carbonyl analyzer |
US4367410A (en) * | 1979-07-09 | 1983-01-04 | Pure Water Systems, Inc. | Waste purification apparatus and method |
IT1123509B (it) * | 1979-07-31 | 1986-04-30 | Vighi Temistocle | Impianto per la sterilizzazione di liquidi in genere mediante radiazioni ultraviolette e relativo procedimento |
US4296328A (en) * | 1980-02-11 | 1981-10-20 | Regan Michael D | Apparatus for producing high purity water |
US4400270A (en) * | 1980-04-18 | 1983-08-23 | Adco Aerospace, Inc. | Ultraviolet apparatus for disinfection and sterilization of fluids |
US4490777A (en) * | 1981-06-25 | 1984-12-25 | Tanner Stephen E | Selective color illumination device for electronic drafting tables |
DE3126127A1 (de) * | 1981-07-02 | 1983-01-20 | Christoph Dr. 6500 Mainz Franz | Handliches, tragbares messgeraet zur messung von dirketer und indirekter ultraviolettstrahlung im rahmen des technischen und medizinischen arbeitsschutzes |
US4435744A (en) * | 1981-08-10 | 1984-03-06 | Pauluhn Electric Manufacturing Co., Inc. | Explosion-proof fluorescent light fixture |
US4471225A (en) * | 1981-11-09 | 1984-09-11 | Adco Aerospace | Ultraviolet apparatus for disinfection and sterilization of fluids |
CA1163086A (en) * | 1981-11-30 | 1984-03-06 | Jan Maarschalkerweerd | Ultraviolet fluid purifying device |
US4467206A (en) * | 1981-12-14 | 1984-08-21 | Extracorporeal Medical Specialties, Inc. | Method and apparatus for the irradiation of fluids |
NL8300115A (nl) * | 1983-01-13 | 1984-08-01 | Philips Nv | Bestralingsinrichting. |
FI841491A (fi) * | 1983-04-25 | 1984-10-26 | Christian Lumpp | Anordning foer aostadkommande och reflektering av infraroed eller ultraviolett straolning. |
US4535247A (en) * | 1983-07-11 | 1985-08-13 | Kurtz Mark E | Water sterilization system |
DE3441535A1 (de) * | 1984-11-14 | 1986-06-26 | Erich 7632 Friesenheim Rasche | Geraet zur wasserentkeimung mit ultravioletter strahlung |
US4700101A (en) * | 1985-02-07 | 1987-10-13 | Sidney Ellner | Elongated tubular lamp construction |
JPS61230203A (ja) * | 1985-03-29 | 1986-10-14 | 東芝ライテック株式会社 | ランプユニツト |
US4757205A (en) * | 1986-06-10 | 1988-07-12 | Arlat Inc. | Ultraviolet water treatment apparatus |
US4755292A (en) * | 1986-08-11 | 1988-07-05 | Merriam Theodore D | Portable ultraviolet water sterilizer |
US4767932A (en) * | 1986-09-26 | 1988-08-30 | Ultraviolet Purification System, Inc. | Ultraviolet purification device |
JPS63153469U (pl) * | 1987-03-30 | 1988-10-07 | ||
US4952376A (en) * | 1988-09-13 | 1990-08-28 | Peroxidation Systems, Inc. | Oxidation chamber |
US4897246A (en) * | 1988-09-13 | 1990-01-30 | Peroxidation Systems, Inc. | Oxidation chamber |
US4968489A (en) * | 1988-09-13 | 1990-11-06 | Peroxidation Systems, Inc. | UV lamp enclosure sleeve |
US4872980A (en) * | 1988-09-13 | 1989-10-10 | Trojan Technologies, Inc. | Fluid purification device |
US5006244A (en) * | 1988-09-13 | 1991-04-09 | Trojan Technologies, Inc. | Fluid purification device |
US4922114A (en) * | 1989-06-01 | 1990-05-01 | Hilary Boehme | Wiper mechanism |
US5227140A (en) * | 1990-04-13 | 1993-07-13 | Peroxidation Systems, Inc. | Modular self-cleaning oxidation chamber |
US5019256A (en) * | 1990-10-19 | 1991-05-28 | Fischer & Porter Company | Ultraviolet lamp rack assembly |
JPH04190887A (ja) * | 1990-11-26 | 1992-07-09 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | 紫外線殺菌装置およびその浄化方法 |
US5124131A (en) * | 1990-12-10 | 1992-06-23 | Ultraviolet Energy Generators, Inc. | Compact high-throughput ultraviolet processing chamber |
JPH0663533A (ja) * | 1992-08-10 | 1994-03-08 | Gastar Corp | 温水殺菌方法および殺菌装置 |
TW360619B (en) * | 1993-03-05 | 1999-06-11 | Trojan Techn Inc | A cleaning apparatus for a radiation source assembly in a fluid treatment system and a method of removal of fouling materials therefrom |
US5266215A (en) * | 1993-04-27 | 1993-11-30 | Rolf Engelhard | Water purification unit |
-
1993
- 1993-03-05 TW TW084110974A patent/TW360619B/zh active
- 1993-03-05 US US08/026,572 patent/US5418370A/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-03-05 TW TW082101619A patent/TW317558B/zh active
-
1994
- 1994-02-17 ZA ZA941096A patent/ZA941096B/xx unknown
- 1994-02-18 PH PH47784A patent/PH31690A/en unknown
- 1994-02-18 IL IL108709A patent/IL108709A/en not_active IP Right Cessation
- 1994-02-28 CO CO94007900A patent/CO4910176A1/es unknown
- 1994-03-03 MY MYPI94000502A patent/MY112388A/en unknown
- 1994-03-04 BR BR9406347A patent/BR9406347A/pt not_active IP Right Cessation
- 1994-03-04 AT AT97112786T patent/ATE203492T1/de active
- 1994-03-04 KR KR1020017011077A patent/KR100360320B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1994-03-04 PL PL94325048A patent/PL177739B1/pl unknown
- 1994-03-04 AT AT01100934T patent/ATE247603T1/de not_active IP Right Cessation
- 1994-03-04 JP JP6519423A patent/JPH08509905A/ja not_active Ceased
- 1994-03-04 EP EP97112786A patent/EP0811579B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-03-04 PL PL94325049A patent/PL177744B1/pl unknown
- 1994-03-04 AT AT94908240T patent/ATE162956T1/de not_active IP Right Cessation
- 1994-03-04 ES ES94908240T patent/ES2115937T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1994-03-04 HU HU9502580A patent/HU215737B/hu not_active IP Right Cessation
- 1994-03-04 KR KR10-2001-7011078A patent/KR100418308B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1994-03-04 AU AU61531/94A patent/AU6153194A/en not_active Abandoned
- 1994-03-04 PT PT01100934T patent/PT1094035E/pt unknown
- 1994-03-04 PL PL94310528A patent/PL177782B1/pl unknown
- 1994-03-04 RO RO95-01563A patent/RO114754B1/ro unknown
- 1994-03-04 EP EP94908240A patent/EP0687201B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-03-04 US US08/318,858 patent/US5590390A/en not_active Ceased
- 1994-03-04 DE DE69427834T patent/DE69427834T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-03-04 WO PCT/CA1994/000125 patent/WO1994020208A1/en not_active Application Discontinuation
- 1994-03-04 KR KR1019950703725A patent/KR100330268B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1994-03-04 ES ES97112786T patent/ES2163695T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1994-03-04 EP EP01100934A patent/EP1094035B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-03-04 CZ CZ952264A patent/CZ226495A3/cs unknown
- 1994-03-04 CA CA002117040A patent/CA2117040C/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-03-04 DE DE69408441T patent/DE69408441T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-03-04 NZ NZ262088A patent/NZ262088A/en unknown
- 1994-03-04 DK DK94908240T patent/DK0687201T3/da active
- 1994-03-04 CN CN94191814A patent/CN1081947C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1994-03-04 DE DE69433069T patent/DE69433069T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-03-04 SK SK1091-95A patent/SK109195A3/sk unknown
- 1994-03-04 ES ES01100934T patent/ES2206355T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1994-06-20 CO CO94026648A patent/CO4180400A1/es unknown
- 1994-06-20 CO CO94026651A patent/CO4180401A1/es unknown
-
1995
- 1995-05-22 US US08/445,767 patent/US5539210A/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-09-01 NO NO19953451A patent/NO310139B1/no not_active IP Right Cessation
- 1995-09-04 FI FI954134A patent/FI954134A/fi not_active IP Right Cessation
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
PL177744B1 (pl) | Urządzenie do czyszczenia zespołu źródła promieniowania | |
US6500346B1 (en) | Fluid treatment device and method for treatment of fluid | |
EP2473447B1 (en) | Uv disinfection system for waste water and drinking water including a cleaning device | |
CA2768256A1 (en) | Cleaning apparatus, radiation source module and fluid treatment system | |
US20140217306A1 (en) | Split drive assembly and guide sleeves for uv disinfection modules | |
DE29822172U1 (de) | Kabinensystem zum Behandeln von Schutzanzügen für Katastrophenfälle | |
EP1340718B1 (de) | Vorrichtung zur Entkeimung von Wasser mittels UV-Strahlen und mit Hilfe eines einen Reinigungsstöpsel enthaltenden Quartzglasrohres | |
AU782018B2 (en) | Fluid treatment system and process | |
CA2338879C (en) | Fluid treatment system and cleaning apparatus therefor | |
CN117261439B (zh) | 一种自清洁喷码机 | |
CZ30169U1 (cs) | Fotokatalytický reaktor | |
KR20170014869A (ko) | 관로형 자외선 소독기 |