PL177739B1 - Moduł źródła promieniowania do urządzenia do obróbki cieczy - Google Patents

Moduł źródła promieniowania do urządzenia do obróbki cieczy

Info

Publication number
PL177739B1
PL177739B1 PL94325048A PL32504894A PL177739B1 PL 177739 B1 PL177739 B1 PL 177739B1 PL 94325048 A PL94325048 A PL 94325048A PL 32504894 A PL32504894 A PL 32504894A PL 177739 B1 PL177739 B1 PL 177739B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
radiation source
liquid
radiation
support member
source module
Prior art date
Application number
PL94325048A
Other languages
English (en)
Inventor
Jan M. Maarschalkerweerd
Original Assignee
Trojan Techn Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=21832576&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=PL177739(B1) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Trojan Techn Inc filed Critical Trojan Techn Inc
Publication of PL177739B1 publication Critical patent/PL177739B1/pl

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/08Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J19/12Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
    • B01J19/122Incoherent waves
    • B01J19/123Ultraviolet light
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/08Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J19/12Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/30Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
    • C02F1/32Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
    • C02F1/325Irradiation devices or lamp constructions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/32Details relating to UV-irradiation devices
    • C02F2201/322Lamp arrangement
    • C02F2201/3227Units with two or more lamps
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/32Details relating to UV-irradiation devices
    • C02F2201/324Lamp cleaning installations, e.g. brushes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/32Details relating to UV-irradiation devices
    • C02F2201/326Lamp control systems
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S422/00Chemical apparatus and process disinfecting, deodorizing, preserving, or sterilizing
    • Y10S422/906Plasma or ion generation means

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Physical Water Treatments (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
  • Radiation-Therapy Devices (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
  • Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)

Abstract

1 . Modul zródla promieniowania do urzadzenia do obróbki cieczy, zawierajacy czlon nosny, co najmniej jeden zespól zródla promieniowania wystajacy z czlonu nosne- go, oraz elementy mocujace do mocowania modulu zródla promieniowania w urzadze- niu do obróbki cieczy, znamienny tym, ze co najmniej jeden zespól (176, 442) zródla (180, 458) promieniowania jest na swym jednym koncu polaczony z czlonem nosnym (160, 454), zas przeciwlegly koniec tego zespolu (176, 442) zródla (180, 458) promieniowania jest swobodny, niepodparty. FIG . 4 PL PL PL PL

Description

Przedmiotem wynalazku jest moduł źródła promieniowania do urządzenia do obróbki cieczy. W szczególności, wynalazek dotyczy nowoczesnego modułu źródła promieniowania, przeznaczonego do urządzenia do obróbki cieczy, z jednym lub kilkoma zespołami źródeł promieniowania podłączonymi do członu nośnego, skonstruowanego w taki sposób, że możliwe jest wkładanie i wyjmowanie modułu z urządzenia do obróbki podczas jego pracy. Moduł tenjest skonstruowany w taki sposób, że zespół źródła promieniowania nie styka się z powierzchniami w strefie obróbki urządzenia, podczas jego wkładania lub wyjmowania.
Znany jest, na przykład z opisów patentowych Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 5019256 oraz 4482809 moduł źródła promieniowania do urządzenia do obróbki cieczy, zawierający człon nośny i co najmniej jeden zespół źródła promieniowania wystający z członu nośnego, oraz elementy mocujące do mocowania modułu źródła promieniowania w urządzeniu do obróbki cieczy.
Ogólnie, urządzenia do obróbki cieczy, znane na przykład z opisów patentowych Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 4 482 809,4 872 980 i 5 006 244, są zasilane grawitacyjnie i wykorzystująpromieniowanie nadfioletowe (UV). W urządzeniach tego typu znajdująsię zespoły ram z lampami nadfioletowymi, po kilka lamp w każdym, przy czym poszczególne lampy są zainstalowane wewnątrz cylindrów biegnących pomiędzy dwoma ramionami nośnymi ram. Ramy te zanurza się w obrabianej cieczy, napromienianej następnie w zależności od potrzeby. Natężenie promieniowania działającego na ciecz wynika z jej odległości od lamp, mocy lamp i natężenia przepływu cieczy względem lamp.
Otaczające lampy nadfioletowe cylindry ulegają okresowo zanieczyszczeniu obcymi materiałami, co pogarsza przepływ promieniowania nadfioletowego do cieczy. Zanieczyszczone cylindry trzeba wyjąć i oczyścić z osadzonego na nich materiału.
Wadą znanych urządzeń jest niewielka wydajność lamp nadfioletowych. Lampy zapewniające niezbędną moc, używane w znanych urządzeniach do obróbki, musiały mieć około 1,52 m (pięciu stóp) długości. Wskutek tego były stosunkowo kruche i trzeba je było osadzać na obu końcach, co zwiększało nakłady inwestycyjne na całe urządzenie.
Celem wynalazkujest opracowanie modułu źródła promieniowania do opisanego powyżej urządzenia, umożliwiającego jego łatwe wyjmowanie i wkładanie, a zatem łatwą wymianę źródła promieniowania.
Moduł źródła promieniowania do urządzenia do obróbki cieczy, zawierający człon nośny, co najmniej jeden zespół źródła promieniowania wystający z członu nośnego, oraz elementy mo177 739 cujące do mocowania modułu źródła promieniowania w urządzeniu do obróbki cieczy, według wynalazku charakteryzuje się tym, że co najmniej jeden zespół źródła promieniowania jest na swym jednym końcu połączony z członem nośnym, zaś przeciwległy koniec tego zespołu źródła promieniowania jest swobodny, niepodparty.
Korzystnie z członu nośnego wystaje kilka źródeł promieniowania i każde źródło promieniowania ma swobodny koniec.
Korzystnie źródło promieniowania jest umieszczone wewnątrz wydrążonego cylindra.
Przedmiot wynalazku uwidoczniono w przykładach wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia przekrój boczny znanego urządzenia do obróbki cieczy, fig. 2 - przekrój tylnej części znanego urządzenia do obróbki cieczy z fig. 1, fig. 3 - rzut z boku urządzenia do obróbki cieczy z modułem według niniejszego wynalazku, fig. 4 - moduł źródła promieniowania do urządzenia z fig. 3, fig. 5 - rzut boczny urządzenia do obróbki cieczy z zespołami źródła promieniowania wkładanymi pionowo.
Dla dalszego zobrazowania wynalazku, przed jego omówieniem, przedstawiono zwięzły opis znanych urządzeń do obróbki cieczy. Na fig. 1i 2 widać znane urządzenie do obróbki cieczy według opisu w patencie Stanów Zjednoczonych Ameryki Nr 4 482 809, zawierające liczne moduły 20 źródeł promieniowania, każde z parą nóżek ramowych 24 i z rozciągającymi się pomiędzy tymi nóżkami zespołami 28 lamp nadfioletowych. Jak widać na fig. 2, moduły 20 z lampami znajdują się w kanale 32 do obróbki i są rozmieszczone w takiej odległości od siebie, że zapewniają napromienianie obrabianej cieczy co najmniej minimalną dawką promieniowania nadfioletowego, określoną z góry.
Konserwacja takich modułów 20 lamp jest pracochłonna. Wymiana lamp lub mycie otaczającychje cylindrów jest czasochłonne i kosztowne. Ponadto, warunkiem 'ciągłości obróbki po wyjęciu modułu lamp oraz zapewnienia napromieniania cieczy odpowiednią minimalną dawką promieniowania, jest zapewnienie odpowiedniej liczby modułów dodatkowych, co wiąże się ze wzrostem kosztów urządzenia.
W związku z tym, wynalazca usprawnił moduł źródła promieniowania urządzenia do obróbki cieczy, eliminując niektóre wady.
W skład przedstawionego na fig. 3 urządzenia 100 do obróbki cieczy wchodzi korpus 104 montowany w poprzek otwartego przepływowego kanału 108 cieczy w taki sposób, że cały strumień cieczy płynący kanałem 108 jest kierowany przez strefę obróbki 112.
W dolnej części korpusu 104 znajduje się sekcja centralna 116 ze skośnymi sekcjami wlotową i wylotową, oznaczonymi odpowiednio 120 i 124. W podstawie 128 kanału 108, pod sekcją centralną 116, znajduje się odpowiednia, uniesiona do góry, sekcja centralna 132 ze skośnymi sekcjami wlotową i wylotową, odpowiednio 136 i 140. Sekcja centralna 132 może być częścią korpusu 104, albo częścią podstawy 128 (jak pokazano na rysunku).
Jak wyraźnie widać na fig. 3, sekcje centralne 116 i 132 tworzą zwężoną strefę napromieniania 144,zaś sekcje wlotowe 120 i 136tworzą stożkowy, wlotowy obszar przejściowy, asekcje wylotowe 124 i 140 stożkowy, wylotowy obszar przejściowy.
Strefa napromieniania 144 stanowi obszar o zamkniętym przekroju poprzecznym dla obrabianej cieczy. Zapewnia to stałą geometrię strumienia cieczy względem źródeł napromieniania (opisanych dalej), dzięki czemu na ciecz działa z góry określone minimalne promieniowanie ze źródeł promieniowania. Wewnętrzne ścianki strefy napromieniania 144 można zaprojektować i wykonać w taki sposób, że w zasadzie biegną wzdłuż konturów znajdujących się w nich części modułów 148 źródeł promieniowania, w wyniku czego maksymalizuje się sprawność obróbki w tych miejscach, które znajdują się najdalej od źródeł promieniowania.
Co najmniej na jednej z powierzchni, napływowej lub odpływowej, korpusu 104 montuje się jeden lub więcej modułów 148 źródeł promieniowania. W zależności od obrabianej cieczy można zmieniać liczbę modułów 148, począwszy od jednego, modułu 148, do dwóch lub więcej modułów 148, w poprzek strefy napływowej i odpływowej korpusu 104.
W korpusie 104 znajduje się czujnik promieniowania 152, który wchodzi do strefy napromieniania 144. Po odpływowej stronie korpusu 104 znajduje się również standardowa przepust4
177 739 nica 150 stabilizująca poziom cieczy, z zadaniem utrzymania minimalnego poziomu cieczy w strefie obróbki 112.
Jak widać na fig. 4, każdy moduł 148 źródeł promieniowania zawiera człon nośny 160 stanowiący podporę źródła promieniowania, podporę poziomą 164, skrzynkę rozdzielczą 172 oraz jeden lub więcej zespołów 176 źródeł promieniowania, znajdujących się przy dolnym skraju członu nośnego 160. Każdy z zespołów 176 źródeł promieniowania zawiera silne źródło 180 promieniowania, osadzone wewnątrz cylindra 184 w dwóch pierścieniowych oprawkach 188. Jak oczywiście wiadomo osobom znającym problemy techniczne, w pewnych sytuacjach zespołów źródeł promieniowania nie trzeba umieszczać wewnątrz cylindrów, a źródło 180 promieniowania można umieszczać bezpośrednio w obrabianej cieczy.
Dalszy, w stosunku do członu nośnego 160, koniec każdego cylindra 184, jest zamknięty, a cylinder 184 jest szczelnie spojony z rurą montażową 192, która połączona jest z członem nośnym 160.
Znajdujący się przy członie nośnym 160 koniec każdej rury montażowej 192 jest gwintowany i pasuje do oprawki gwintowanej 216, która jest z kolei przyspawana do członu nośnego 160. Połączenia pomiędzy rurą montażową 192 a oprawką gwintowaną 216 oraz pomiędzy oprawką gwintowaną 216 a członem nośnym 160 są również szczelne, co zapobiega wnikaniu płynu do pustej przestrzeni wewnątrz rury montażowej 192 lub członu nośnego 160.
Każde ze źródeł 180 promieniowania jest podłączone pomiędzy parę przewodów elektrycznych 220, biegnących od skrzynki rozdzielczej 172 do źródła 180 promieniowania wewnątrz członu nośnego 160 i rury montażowej 192.
Jak widać na fig. 4, na każdym zespole 176 źródła promieniowania i rury montażowej 192 znaj duje się również zespół czyszczący 224, składający się z cylindrycznej dwukomorowej tulei 228, działającej jak cylinder dwustronny. Na każdym końcu cylindrycznej tulei 228 znajdują się pierścienie uszczelniające 232, 134. Pierścień uszczelniający 232, znajdujący się przy członie nośnym 160, styka się z zewnętrzną powierzchnią rury montażowej 192, natomiast pierścień uszczelniający 134, oddalony od członu nośnego 160, styka się z zewnętrzną powierzchnią zespołów 176 źródeł promieniowania.
Przewód 252 jest połączony z instalacją z odpowiednim roztworem do mycia, na przykład roztworem kwasu, a przewód 248 ze zbiornikiem odpowiedniego płynu, na przykład powietrza. Kiedy do tulei 228 doprowadza się przewodem 252 roztwór do mycia, cylindryczna tuleja 228 przemieszcza się do położenia wysuniętego w kierunku od członu nośnego 160 i podczas tego przemieszczania pierścień uszczelniający 134 zgarnia luźne kawałki materiału z cylindra 184.
Kiedy cylindryczna tuleja 228 znajduje się w położeniu wysuniętym, płyn myjący styka się z zewnętrzną powierzchnią zespołów 176 źródeł promieniowania. Roztwór do mycia rozkłada chemicznie i/lub usuwa pozostałości obcych materiałów osadzonych na zespołach 176 źródeł promieniowania. Po określonym czasie obniża się ciśnienie roztworu myjącego, w wyniku czego cylindryczna tuleja 228 cofa się ku członowi nośnemu 160. Podczas tego ruchu pierścień uszczelniający 134 ponownie zgarnia obluzowane kawałki obcych materiałów z powierzchni zespołów 176 źródeł promieniowania.
Każdy z modułów 148 źródeł promieniowania można montować na korpusie 104 za pomocą podpory poziomej 164 o z góry określonym kształcie przekroju poprzecznego, wchodzącej w dopasowany kształtem otwór 256 w korpusie 104. Kształt ten wybiera się w sposób ułatwiający wkładanie podpory poziomej 164 w otwór 256 z równoczesnym uniemożliwieniem jej obracania się w tym otworze.
Długość podpory poziomej 164 wybiera się w taki sposób, że podpora pozioma 164 biegnie od członu nośnego 160 na dalszą odległość niż zespół 176 źródła promieniowania. Dzięki temu podczas instalowania modułu 148 źródła promieniowania, zespół 176 źródła promieniowania znajduje się w odpowiedniej odległości od wlotowego i wylotowego obszaru przejściowego.
Po całkowitym osadzeniu podpory poziomej 164 w otworze 256, łączy się łączniki 268 roztworu myjącego i łączniki 272 cieczy w skrzynce rozdzielczej 172 z odpowiednimi łącznikami na obudowie 276. Połączenie łączników 268 i 272 z odpowiednimi łącznikami na obudowie 276
177 739 służy również do utrzymania podpory poziomej 164 w otworze 256. W obudowie 276 może znajdować się również opornik regulacyjny 264, przez który płynie prąd zasilający źródła 180 promieniowania oraz pompy i zbiorniki magazynowe (nie pokazane) na płyn do mycia i płyn pod ciśnieniem do zasilania zespołów myjących 224.
Tnny przykład wykonania modułu według niniejszego wynalazku pokazano na fig. 5. W przykładzie tym, urządzenie 400 do obróbki składa się z korpusu 404 z dolną powierzchnią, której ścianka podstawy 406 ogranicza strefę obróbki 408. W strefie obróbki 408 znajduje się wlotowy obszar przejściowy 412, pierwsza strefa napromieniania 416, strefa pośrednia 420, druga strefa napromieniania 424 oraz stożkowa strefa wylotowa 426.
W korpusie 404 znajdująsię otwory 430 na pionowe człony nośne 434 modułów 438 źródeł promieniowania. Moduły 438 źródeł promieniowania są podobne do opisanych wcześniej modułów 148, ale skonstruowano je w układzie umożliwiającym pionowe wkładanie zespołów 442 źródeł promieniowania. W zespołach 442 źródeł promieniowania znąjdująsię cylindry 446, połączone z króćcami montażowymi 450. Oczywiście, jak już wspomniano wcześniej, w pewnych sytuacjach nie trzeba zespołów 442 źródeł promieniowania umieszczać w cylindrach; zamiast tego można je wkładać bezpośrednio w obrabianą ciecz.
Ponieważ króćce montażowe 450 znajdują się powyżej maksymalnego poziomu cieczy w urządzeniu 400 do obróbki, końcówek do cylindrów 446 nie trzeba szczelnie zamykać, co umożliwia zastosowanie dowolnego innego wygodnego sposobu. Oczywiście, ponieważ punkt połączenia cylindrów i króćców montażowych 450 znajduje się powyżej poziomu cieczy w urządzeniu, ciecz nie działa na wewnętrzne powierzchnie cylindrów 446.
Z kolei króćce montażowe 450 łączą się, z poziomymi członami nośnymi 454, przymocowanymi do pionowych członów nośnych 434. Źródła promieniowania 458 znąjjdtuiąsię wewnątrz cylindrów 446 i łączą się ze sobą elektrycznymi przewodami zasilającymi (nie pokazanymi), biegnącymi od łączników 462, następnie wewnątrz wydrążonych w środku poziomych członów nośnych 454 i króćców montażowych 450 do cylindrów 446. Łączniki 462 sąpołączone z odpowiednimi łącznikami na obudowie 466, w której może znajdować się odpowiednie źródło zasilania i/lub instalacje sterujące, zapewniające prawidłowe działanie źródeł promieniowania 458 i urządzeń do zasilania zespołów czyszczących, o ile je zamontowano.
W przedstawionym przykładzie wykonania, obsługa konserwacyjna modułów 438 źródeł promieniowania polega na podnoszeniu ich pionowo i wyjmowaniu z cieczy.
m 739
FIG. 2.
177 739
ΠΊ 739
Ά~
228
184 m 739
o
A
A o
177 739
FIG.1.
Departament Wydawnictw UP RP. Nakład 70 egz. Cena 2,00 zł.

Claims (3)

  1. Zastrzeżenia patentowe
    1. Moduł źródła promieniowania do urządzenia do obróbki cieczy, zawierający człon nośny, co najmniej jeden zespół źródła promieniowania wystający z członu nośnego, oraz elementy mocujące do mocowania modułu źródła promieniowania w urządzeniu do obróbki cieczy, znamienny tym, że co najmniej jeden zespół (176,442) źródła (180, 458) promieniowania jest na swym jednym końcu połączony z członem nośnym (160,454), zaś przeciwległy koniec tego zespołu (176, 442) źródła (180, 458) promieniowania jest swobodny, niepodparty.
  2. 2. Moduł według zastrz. 1, znamienny tym, że z członu nośnego (160,454) wystaje kilka źródeł (180,458) promieniowania i każde źródło (180,458) promieniowania ma swobodny koniec.
  3. 3. Moduł według zastrz. 1 albo 2, znamienny tym, że źródło (180,458) promieniowania jest umieszczone wewnątrz wydrążonego cylindra (184,446).
PL94325048A 1993-03-05 1994-03-04 Moduł źródła promieniowania do urządzenia do obróbki cieczy PL177739B1 (pl)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US08/026,572 US5418370A (en) 1993-03-05 1993-03-05 Fluid treatment system and process
PCT/CA1994/000125 WO1994020208A1 (en) 1993-03-05 1994-03-04 Fluid treatment system and process

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL177739B1 true PL177739B1 (pl) 2000-01-31

Family

ID=21832576

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL94310528A PL177782B1 (pl) 1993-03-05 1994-03-04 Układ do obróbki cieczy
PL94325049A PL177744B1 (pl) 1993-03-05 1994-03-04 Urządzenie do czyszczenia zespołu źródła promieniowania
PL94325048A PL177739B1 (pl) 1993-03-05 1994-03-04 Moduł źródła promieniowania do urządzenia do obróbki cieczy

Family Applications Before (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL94310528A PL177782B1 (pl) 1993-03-05 1994-03-04 Układ do obróbki cieczy
PL94325049A PL177744B1 (pl) 1993-03-05 1994-03-04 Urządzenie do czyszczenia zespołu źródła promieniowania

Country Status (28)

Country Link
US (3) US5418370A (pl)
EP (3) EP1094035B1 (pl)
JP (1) JPH08509905A (pl)
KR (3) KR100330268B1 (pl)
CN (1) CN1081947C (pl)
AT (3) ATE247603T1 (pl)
AU (1) AU6153194A (pl)
BR (1) BR9406347A (pl)
CA (1) CA2117040C (pl)
CO (3) CO4910176A1 (pl)
CZ (1) CZ226495A3 (pl)
DE (3) DE69433069T2 (pl)
DK (1) DK0687201T3 (pl)
ES (3) ES2206355T3 (pl)
FI (1) FI954134A0 (pl)
HU (1) HU215737B (pl)
IL (1) IL108709A (pl)
MY (1) MY112388A (pl)
NO (1) NO310139B1 (pl)
NZ (1) NZ262088A (pl)
PH (1) PH31690A (pl)
PL (3) PL177782B1 (pl)
PT (1) PT1094035E (pl)
RO (1) RO114754B1 (pl)
SK (1) SK109195A3 (pl)
TW (2) TW360619B (pl)
WO (1) WO1994020208A1 (pl)
ZA (1) ZA941096B (pl)

Families Citing this family (87)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW360619B (en) * 1993-03-05 1999-06-11 Trojan Techn Inc A cleaning apparatus for a radiation source assembly in a fluid treatment system and a method of removal of fouling materials therefrom
USRE36896E (en) * 1993-03-05 2000-10-03 Trojan Technologies Inc. Fluid treatment system and process
US5539209A (en) * 1994-10-17 1996-07-23 Trojan Technologies Inc. Method of cleaning fouling materials from a radiation module
US5792433A (en) * 1995-03-13 1998-08-11 Photoscience Japan Corporation Light irradiating device with easily replaceable light irradiating lamps
US5937266A (en) * 1996-03-08 1999-08-10 Photoscience Japan Corporation Light irradiating device employing light irradiating modules equipped with a cleaning mechanism
USRE39522E1 (en) * 1996-03-14 2007-03-20 Photoscience Japan Corporation Ultraviolet ray irradiation equipment having scraper rings fitted to light transmission tubes
US5874740A (en) * 1996-03-14 1999-02-23 Photoscience Japan Corporation Ultraviolet ray irradiation equipment having scraper rings fitted to light transmission tubes
DE19653083B4 (de) * 1996-12-19 2005-09-08 Wedeco Ag Water Technology Strömungsgünstige UV-Desinfektionsvorrichtung
US6013917A (en) * 1997-03-12 2000-01-11 Photoscience Japan Corporation UV ray irradiation apparatus having scraper rings fitted to light transmission tubes
AU9031798A (en) 1997-08-22 1999-03-16 Richard C. Morlock Sensor housing for uv curing chamber
US6576189B1 (en) 1997-09-18 2003-06-10 Wedeco Ag Water Technology Device and method for exposing liquids, including pretreated wastewater, to x-rays
US6015229A (en) 1997-09-19 2000-01-18 Calgon Carbon Corporation Method and apparatus for improved mixing in fluids
FR2768718B1 (fr) * 1997-09-24 1999-12-10 Amenagement Urbain & Rural Installation pour le traitement par irradiations u.v. d'un liquide
AUPP158098A0 (en) 1998-01-29 1998-02-26 Arnold, Geoffery Peter Laser alignment apparatus and method
AU691786B3 (en) * 1998-02-03 1998-05-21 Kenneth Ray Bryer An apparatus for treating a liquid
US6342188B1 (en) 1998-11-03 2002-01-29 Trojan Technologies, Inc. Radiation source module and cleaning apparatus therefor
ATE314316T1 (de) * 1998-12-30 2006-01-15 Wedeco Ag Vorrichtung zur uv-bestrahlung, insbesondere zur desinfektion von strömenden flüssigkeiten mit verminderter uv-transmission
US6193938B1 (en) * 1999-03-17 2001-02-27 Wedeco Ag Water Technology Device for treating liquids with UV-radiation
US6217834B1 (en) * 1999-04-19 2001-04-17 Trojan Technologies Inc. Ultraviolet radiation lamp and source module and treatment system containing same
WO2000073213A1 (en) * 1999-05-28 2000-12-07 Trojan Technologies Inc. Fluid treatment system and cleaning apparatus therefor
US6863078B1 (en) 1999-05-28 2005-03-08 Trojan Technologies, Inc. Fluid treatment system and cleaning apparatus therefor
CN1183043C (zh) * 1999-06-04 2005-01-05 亨利·科兹罗维斯基 流体的紫外线处理装置
KR20020022800A (ko) * 1999-08-13 2002-03-27 홀던 데이비드 유체 처리 시스템 및 그 세정 장치
US6830697B1 (en) * 1999-09-03 2004-12-14 Trojan Technologies Inc. Fluid treatment system, radiation source assembly and radiation source module
AU7500900A (en) * 1999-10-01 2001-05-10 Trojan Technologies Inc. Optical radiation sensor system with cleaning device
WO2001042745A1 (en) * 1999-12-06 2001-06-14 Trojan Technologies Inc. An on-line device for predicting at least one fluid flow parameter in a process
US6512234B1 (en) 1999-12-17 2003-01-28 Trojan Technologies, Inc. Optical radiation sensor device
JP2003516812A (ja) 1999-12-17 2003-05-20 トロジャン・テクノロジーズ・インコーポレイテッド 放射源モジュール
CA2398472C (en) * 2000-01-28 2008-04-15 Trojan Technologies Inc. Radiation source module
DE10010127B4 (de) * 2000-03-03 2007-12-13 Wedeco Ag Water Technology UV-Bestrahlungsvorrichtung für die Behandlung von Abwasser
US6580019B1 (en) 2000-03-09 2003-06-17 Dekalb Genetics Corporation Non-reciprocal recombination-mediated transgene deletion in transgenic plants
US6750379B2 (en) * 2000-03-09 2004-06-15 Dekalb Genetics Corporation Homologous recombination-mediated transgene alterations in plants
CA2306546C (en) 2000-04-20 2006-06-27 Photoscience Japan Corporation Tube scraper
US7166850B2 (en) 2000-06-06 2007-01-23 Trojan Technologies Inc. Fluid mixing device
FR2815271B1 (fr) * 2000-10-16 2003-01-17 Bordas Sarl Dispositif de traitement d'un fluide par rayonnement uv
EP1351890A2 (en) * 2000-12-15 2003-10-15 Trojan Technologies Inc. Fluid treatment system and radiation source module for use therein
US6596542B1 (en) * 2001-01-08 2003-07-22 Christopher R. Schulz Flow-through chemical actinometer for ultraviolet disinfection reactors
US6940075B2 (en) * 2001-03-15 2005-09-06 Christopher R. Schulz Ultraviolet-light-based disinfection reactor
US6649917B2 (en) * 2001-05-30 2003-11-18 Ondeo Degremont Cleaning system for UV disinfection module/reactor
DE10129178A1 (de) * 2001-06-19 2003-01-02 Wedeco Ag UV-Bestrahlungsvorrichtung für die Behandlung von Fluiden mit einer vereinfachten Bestrahlungskammer
US6663318B2 (en) 2001-08-03 2003-12-16 Trojan Technologies, Inc. Fluid level control system
US6719491B2 (en) 2001-08-03 2004-04-13 Trojan Technologies Inc. Fluid level control system
US20050069463A1 (en) * 2002-05-07 2005-03-31 Kurtz Mark E. Fluid disinfection apparatus
US7419642B2 (en) * 2002-05-07 2008-09-02 Ultravation, Inc. Fluid disinfection apparatus
US20030230477A1 (en) * 2002-06-14 2003-12-18 Fink Ronald G. Environmental air sterilization system
GB2389848B (en) * 2002-06-17 2006-02-08 Hanovia Ltd UV disinfection apparatus and method of operating UV disinfection apparatus
EP1515915B1 (en) * 2002-06-19 2014-11-12 Trojan Technologies Inc. Fluid treatment system and radiation source module for use therein
US6784440B2 (en) * 2002-07-26 2004-08-31 Boc, Inc. Food sanitizing cabinet
US20040056201A1 (en) * 2002-09-19 2004-03-25 Fink Ronald G. Food surface sanitation hood
US20040140812A1 (en) * 2003-01-21 2004-07-22 Ademir Scallante Arrangements containing electrical assemblies and methods of cleaning such electrical assemblies
US7160566B2 (en) * 2003-02-07 2007-01-09 Boc, Inc. Food surface sanitation tunnel
CA2540589A1 (en) * 2003-09-29 2005-04-07 Trojan Technologies Inc. Radiation sensor device and radiation source module containing same
CN100571788C (zh) * 2004-03-12 2009-12-23 特洛伊人技术公司 流体处理系统
EP1737501A4 (en) * 2004-03-12 2009-09-02 Trojan Techn Inc FLUID TREATMENT SYSTEM
CN102557313A (zh) * 2004-04-15 2012-07-11 特洛伊人技术公司 水处理设备以及在流体处理系统中使用的处理筒
AU2005233666A1 (en) * 2004-04-19 2005-10-27 Trojan Technologies Inc. Optical radiation sensor system and method for measuring radiation transmittance of a fluid
US8038949B2 (en) * 2004-09-02 2011-10-18 Purgenix, Inc. Ultraviolet germicidal irradiation system
WO2006047495A2 (en) 2004-10-21 2006-05-04 Venganza Inc Methods and materials for conferring resistance to pests and pathogens of plants
US7159264B2 (en) * 2004-12-10 2007-01-09 Calgon Carbon Corporation Scraper for cleaning tubular members
CN101208444A (zh) * 2005-04-21 2008-06-25 霍尼韦尔国际公司 钌基材料和钌合金
US7241380B2 (en) * 2005-06-15 2007-07-10 Reiling Dennis R Ultraviolet treatment unit and septic tank system
US8663575B2 (en) * 2005-08-19 2014-03-04 Canadian Blood Services Sample holder for dynamic light scattering
CA2621301C (en) * 2005-08-31 2013-04-30 Trojan Technologies Inc. Ultraviolet radiation lamp and source module and treatment system containing same
US7985956B2 (en) * 2005-12-21 2011-07-26 Trojan Technologies Inc. Fluid treatment system
CN101528611B (zh) * 2006-08-17 2013-06-19 特洛伊科技有限公司 液体处理系统
US7507973B2 (en) * 2006-11-02 2009-03-24 Calgon Carbon Corporation UV treatment reactor
WO2008055344A1 (en) 2006-11-06 2008-05-15 Trojan Technologies Fluid treatment system
US7862728B2 (en) 2007-09-27 2011-01-04 Water Of Life, Llc. Ultraviolet water purification system
US8529770B2 (en) * 2007-09-27 2013-09-10 Water Of Life, Llc. Self-contained UV-C purification system
US8557050B1 (en) * 2008-10-31 2013-10-15 Genefluidics, Inc. System for washing a sensor structure
EP2365873B1 (en) * 2008-11-26 2014-03-12 Calgon Carbon Corporation Method and apparatus for use of mixing elements in wastewater/ recycle water uv disinfection system
CN102369164B (zh) * 2009-04-07 2013-07-31 特洁安科技有限公司 辐射源模块和流体处理系统
CA2764918C (en) * 2009-07-02 2019-03-26 Trojan Technologies Radiation source assembly
CA2768256A1 (en) * 2009-07-23 2011-02-10 Trojan Technologies Cleaning apparatus, radiation source module and fluid treatment system
US8182613B2 (en) * 2009-08-04 2012-05-22 University Corporation For Atmospheric Research Radiometer including a cleaning system
DE102009039655B3 (de) 2009-09-02 2011-03-31 ITT Mfg. Enterprises, Inc., Wilmington UV-Desinfektionseinrichtung für Abwasser und Trinkwasser mit einer Reinigungsvorrichtung
DE102009039654A1 (de) * 2009-09-02 2011-03-03 ITT Mfg. Enterprises, Inc., Wilmington UV-Desinfektionseinrichtung mit berührungsloser Reinigung
CA2777808C (en) 2009-11-12 2015-01-13 Trojan Technologies Cleaning apparatus, radiation source module and fluid treatment system
US20120043223A1 (en) * 2010-08-18 2012-02-23 David Sherzer Water treatment method
AU2011342261A1 (en) 2010-12-16 2013-07-25 Trojan Technologies Radiation source module and fluid treatment system
EP2805064B1 (en) 2012-01-20 2018-09-12 Trojan Technologies Fluid flow modifier and fluid treatment system incorporating same
CN104245160A (zh) 2012-02-23 2014-12-24 特洁安技术公司 辐射源清洁系统和包括辐射源清洁系统的模块
EP2928622A4 (en) 2012-12-07 2016-08-24 Trojan Techn Inc CLEANING APPARATUS
US9321658B2 (en) 2013-08-29 2016-04-26 Crystal Is, Inc. Systems and methods for fluid treatment with homogeneous distribution of ultraviolet light
EP3602024A4 (en) 2017-03-21 2020-11-18 Hayward Industries, Inc. SYSTEMS AND PROCEDURES FOR HYGIENIZATION OF SWIMMING POOL AND SPA WATER
US11472727B2 (en) 2017-06-09 2022-10-18 Hayward Industries, Inc. Combination ultraviolet ray and ozone water sanitizing unit
AU2021379292A1 (en) 2020-11-14 2023-06-08 Mark Anthony International Srl Methods for sterilizing fermented beverages

Family Cites Families (55)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR421296A (fr) * 1910-10-10 1910-12-17 Marius Paul Otto Appareil pour la stérilisation des eaux par les rayons ultra-violets
FR16443E (fr) * 1911-04-11 1913-01-31 Paul Gabriel Triquet Appareil pour la stérilisation industrielle de l'eau au moyen de lampes électriques à mercure avec tube de quartz, immergées dans l'eau
US2413704A (en) * 1944-12-04 1947-01-07 Art Metal Company Ultraviolet sterilizer
US2670439A (en) * 1950-07-05 1954-02-23 Hanovia Chemical & Mfg Co Apparatus for irradiating liquids
DE855521C (de) * 1950-12-28 1952-11-13 Siemens Ag Verfahren und Einrichtung zum Behandeln, vorzugsweise Reinigen von Abwaessern und anderen Fluessigkeiten
US3061721A (en) * 1960-01-19 1962-10-30 Brenner Al Automatic tube cleaning device
US3182193A (en) * 1962-01-03 1965-05-04 Ultra Dynamics Corp Electronically monitored liquid purification or sterilizing system
US3182191A (en) * 1963-02-14 1965-05-04 Puretest Water Purifier Co Water purifying apparatus with an automatically actuated wiper for the ultra-violet source
US3140054A (en) * 1963-04-25 1964-07-07 Oharenko Vladimir Safety inspection light
US3462597A (en) * 1966-07-29 1969-08-19 Ultra Dynamics Corp Ultraviolet fluid purifier having manually operable wiper means
US3456107A (en) * 1967-05-16 1969-07-15 Aquacare Intern Ltd Water sterilizing apparatus
US3562520A (en) * 1968-11-04 1971-02-09 Puretest Water Purifying Co Fail-safe water purifying apparatus
US3637342A (en) * 1969-05-07 1972-01-25 Louis P Veloz Sterilization of fluids by ultraviolet radiation
US3837800A (en) * 1971-05-06 1974-09-24 Meltzer H Method and apparatus for purifying fluids
DE2300273C3 (de) * 1972-01-07 1982-05-06 Toray Industries, Inc., Tokyo Vorrichtung für Abwasserreinigung
DE2213658C3 (de) * 1972-03-21 1974-08-15 Katadyn Produkte Ag, Wallisellen (Schweiz) Wasserentkeimungsanlage
CA951135A (en) * 1972-08-23 1974-07-16 Wolfgang Scherrelies Sensor-eye for ultra-violet water sterilizer
US3948772A (en) * 1975-04-16 1976-04-06 Sidney Ellner Split stream ultraviolet purification device
US4103167A (en) * 1976-08-16 1978-07-25 Sidney Ellner Ultraviolet liquid purification system
US4255663A (en) * 1977-03-24 1981-03-10 Lewis James H Disposable liquid sterilizer unit
US4204956A (en) * 1978-10-02 1980-05-27 Flatow Robert E Water purification system
US4205956A (en) * 1979-05-21 1980-06-03 The International Nickel Company, Inc. Nickel carbonyl analyzer
US4367410A (en) * 1979-07-09 1983-01-04 Pure Water Systems, Inc. Waste purification apparatus and method
IT1123509B (it) * 1979-07-31 1986-04-30 Vighi Temistocle Impianto per la sterilizzazione di liquidi in genere mediante radiazioni ultraviolette e relativo procedimento
US4296328A (en) * 1980-02-11 1981-10-20 Regan Michael D Apparatus for producing high purity water
US4400270A (en) * 1980-04-18 1983-08-23 Adco Aerospace, Inc. Ultraviolet apparatus for disinfection and sterilization of fluids
US4490777A (en) * 1981-06-25 1984-12-25 Tanner Stephen E Selective color illumination device for electronic drafting tables
DE3126127A1 (de) * 1981-07-02 1983-01-20 Christoph Dr. 6500 Mainz Franz Handliches, tragbares messgeraet zur messung von dirketer und indirekter ultraviolettstrahlung im rahmen des technischen und medizinischen arbeitsschutzes
US4435744A (en) * 1981-08-10 1984-03-06 Pauluhn Electric Manufacturing Co., Inc. Explosion-proof fluorescent light fixture
US4471225A (en) * 1981-11-09 1984-09-11 Adco Aerospace Ultraviolet apparatus for disinfection and sterilization of fluids
CA1163086A (en) * 1981-11-30 1984-03-06 Jan Maarschalkerweerd Ultraviolet fluid purifying device
US4467206A (en) * 1981-12-14 1984-08-21 Extracorporeal Medical Specialties, Inc. Method and apparatus for the irradiation of fluids
NL8300115A (nl) * 1983-01-13 1984-08-01 Philips Nv Bestralingsinrichting.
FI841491A (fi) * 1983-04-25 1984-10-26 Christian Lumpp Anordning foer aostadkommande och reflektering av infraroed eller ultraviolett straolning.
US4535247A (en) * 1983-07-11 1985-08-13 Kurtz Mark E Water sterilization system
DE3441535A1 (de) * 1984-11-14 1986-06-26 Erich 7632 Friesenheim Rasche Geraet zur wasserentkeimung mit ultravioletter strahlung
US4700101A (en) * 1985-02-07 1987-10-13 Sidney Ellner Elongated tubular lamp construction
JPS61230203A (ja) * 1985-03-29 1986-10-14 東芝ライテック株式会社 ランプユニツト
US4757205A (en) * 1986-06-10 1988-07-12 Arlat Inc. Ultraviolet water treatment apparatus
US4755292A (en) * 1986-08-11 1988-07-05 Merriam Theodore D Portable ultraviolet water sterilizer
US4767932A (en) * 1986-09-26 1988-08-30 Ultraviolet Purification System, Inc. Ultraviolet purification device
JPS63153469U (pl) * 1987-03-30 1988-10-07
US4968489A (en) * 1988-09-13 1990-11-06 Peroxidation Systems, Inc. UV lamp enclosure sleeve
US4897246A (en) * 1988-09-13 1990-01-30 Peroxidation Systems, Inc. Oxidation chamber
US4872980A (en) * 1988-09-13 1989-10-10 Trojan Technologies, Inc. Fluid purification device
US4952376A (en) * 1988-09-13 1990-08-28 Peroxidation Systems, Inc. Oxidation chamber
US5006244A (en) * 1988-09-13 1991-04-09 Trojan Technologies, Inc. Fluid purification device
US4922114A (en) * 1989-06-01 1990-05-01 Hilary Boehme Wiper mechanism
US5227140A (en) * 1990-04-13 1993-07-13 Peroxidation Systems, Inc. Modular self-cleaning oxidation chamber
US5019256A (en) * 1990-10-19 1991-05-28 Fischer & Porter Company Ultraviolet lamp rack assembly
JPH04190887A (ja) * 1990-11-26 1992-07-09 Mitsubishi Petrochem Co Ltd 紫外線殺菌装置およびその浄化方法
US5124131A (en) * 1990-12-10 1992-06-23 Ultraviolet Energy Generators, Inc. Compact high-throughput ultraviolet processing chamber
JPH0663533A (ja) * 1992-08-10 1994-03-08 Gastar Corp 温水殺菌方法および殺菌装置
TW360619B (en) * 1993-03-05 1999-06-11 Trojan Techn Inc A cleaning apparatus for a radiation source assembly in a fluid treatment system and a method of removal of fouling materials therefrom
US5266215A (en) * 1993-04-27 1993-11-30 Rolf Engelhard Water purification unit

Also Published As

Publication number Publication date
NZ262088A (en) 1997-12-19
ZA941096B (en) 1994-09-16
CO4910176A1 (es) 2000-04-24
KR100330268B1 (ko) 2002-08-08
WO1994020208A1 (en) 1994-09-15
NO953451L (no) 1995-09-01
ATE247603T1 (de) 2003-09-15
SK109195A3 (en) 1996-04-03
EP0687201A1 (en) 1995-12-20
EP1094035A3 (en) 2001-10-31
US5590390A (en) 1996-12-31
PL177782B1 (pl) 2000-01-31
PT1094035E (pt) 2003-12-31
EP0811579A2 (en) 1997-12-10
DE69433069D1 (de) 2003-09-25
MY112388A (en) 2001-06-30
PH31690A (en) 1999-01-18
EP0811579B1 (en) 2001-07-25
CZ226495A3 (en) 1996-04-17
TW360619B (en) 1999-06-11
DE69408441D1 (de) 1998-03-12
FI954134A (fi) 1995-09-04
EP1094035B1 (en) 2003-08-20
ES2163695T3 (es) 2002-02-01
CN1121320A (zh) 1996-04-24
TW317558B (pl) 1997-10-11
ES2206355T3 (es) 2004-05-16
HUT76196A (en) 1997-07-28
AU6153194A (en) 1994-09-26
DE69427834T2 (de) 2002-04-04
HU215737B (hu) 1999-02-01
CA2117040C (en) 1999-02-23
ES2115937T3 (es) 1998-07-01
JPH08509905A (ja) 1996-10-22
CO4180400A1 (es) 1995-06-07
RO114754B1 (ro) 1999-07-30
NO310139B1 (no) 2001-05-28
IL108709A0 (en) 1994-05-30
HU9502580D0 (en) 1995-10-30
DK0687201T3 (da) 1998-09-23
DE69433069T2 (de) 2004-06-17
CO4180401A1 (es) 1995-06-07
FI954134A0 (fi) 1995-09-04
CA2117040A1 (en) 1994-09-06
KR100360320B1 (ko) 2002-11-11
EP0811579A3 (en) 1998-01-14
BR9406347A (pt) 1996-02-13
EP1094035A2 (en) 2001-04-25
ATE162956T1 (de) 1998-02-15
US5539210A (en) 1996-07-23
PL177744B1 (pl) 2000-01-31
CN1081947C (zh) 2002-04-03
NO953451D0 (no) 1995-09-01
IL108709A (en) 1998-01-04
DE69427834D1 (de) 2001-08-30
EP0687201B1 (en) 1998-02-04
US5418370A (en) 1995-05-23
KR100418308B1 (ko) 2004-02-14
DE69408441T2 (de) 1998-09-17
PL310528A1 (en) 1995-12-27
ATE203492T1 (de) 2001-08-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
PL177739B1 (pl) Moduł źródła promieniowania do urządzenia do obróbki cieczy
USRE36896E (en) Fluid treatment system and process
EP0080780B1 (en) An ultraviolet fluid purifying device
US3456107A (en) Water sterilizing apparatus
US5019256A (en) Ultraviolet lamp rack assembly
US5124131A (en) Compact high-throughput ultraviolet processing chamber
US6500346B1 (en) Fluid treatment device and method for treatment of fluid
US6642527B2 (en) UV radiation device for treating fluids with a simplified radiation chamber
US7390406B2 (en) Fluid treatment system and radiation sources module for use therein
KR200425659Y1 (ko) 하수를 소독하는 모듈장치
US5792433A (en) Light irradiating device with easily replaceable light irradiating lamps
CA2768256A1 (en) Cleaning apparatus, radiation source module and fluid treatment system
JP3038364B2 (ja) 液体浄化装置及び方法
KR200172701Y1 (ko) 디퓨저 부착 자외선 살균 장치
AU9610098A (en) Fluid treatment system and process
AU782018B2 (en) Fluid treatment system and process