PL177739B1 - Moduł źródła promieniowania do urządzenia do obróbki cieczy - Google Patents
Moduł źródła promieniowania do urządzenia do obróbki cieczyInfo
- Publication number
- PL177739B1 PL177739B1 PL94325048A PL32504894A PL177739B1 PL 177739 B1 PL177739 B1 PL 177739B1 PL 94325048 A PL94325048 A PL 94325048A PL 32504894 A PL32504894 A PL 32504894A PL 177739 B1 PL177739 B1 PL 177739B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- radiation source
- liquid
- radiation
- support member
- source module
- Prior art date
Links
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims abstract description 75
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 36
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 abstract description 11
- 239000012530 fluid Substances 0.000 abstract description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 6
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 9
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 9
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 6
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 4
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 3
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 3
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/12—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
- B01J19/122—Incoherent waves
- B01J19/123—Ultraviolet light
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/12—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
- C02F1/32—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
- C02F1/325—Irradiation devices or lamp constructions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
- C02F2201/322—Lamp arrangement
- C02F2201/3227—Units with two or more lamps
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
- C02F2201/324—Lamp cleaning installations, e.g. brushes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
- C02F2201/326—Lamp control systems
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S422/00—Chemical apparatus and process disinfecting, deodorizing, preserving, or sterilizing
- Y10S422/906—Plasma or ion generation means
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
- Radiation-Therapy Devices (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
Abstract
1 . Modul zródla promieniowania do urzadzenia do obróbki cieczy, zawierajacy czlon nosny, co najmniej jeden zespól zródla promieniowania wystajacy z czlonu nosne- go, oraz elementy mocujace do mocowania modulu zródla promieniowania w urzadze- niu do obróbki cieczy, znamienny tym, ze co najmniej jeden zespól (176, 442) zródla (180, 458) promieniowania jest na swym jednym koncu polaczony z czlonem nosnym (160, 454), zas przeciwlegly koniec tego zespolu (176, 442) zródla (180, 458) promieniowania jest swobodny, niepodparty. FIG . 4 PL PL PL PL
Description
Przedmiotem wynalazku jest moduł źródła promieniowania do urządzenia do obróbki cieczy. W szczególności, wynalazek dotyczy nowoczesnego modułu źródła promieniowania, przeznaczonego do urządzenia do obróbki cieczy, z jednym lub kilkoma zespołami źródeł promieniowania podłączonymi do członu nośnego, skonstruowanego w taki sposób, że możliwe jest wkładanie i wyjmowanie modułu z urządzenia do obróbki podczas jego pracy. Moduł tenjest skonstruowany w taki sposób, że zespół źródła promieniowania nie styka się z powierzchniami w strefie obróbki urządzenia, podczas jego wkładania lub wyjmowania.
Znany jest, na przykład z opisów patentowych Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 5019256 oraz 4482809 moduł źródła promieniowania do urządzenia do obróbki cieczy, zawierający człon nośny i co najmniej jeden zespół źródła promieniowania wystający z członu nośnego, oraz elementy mocujące do mocowania modułu źródła promieniowania w urządzeniu do obróbki cieczy.
Ogólnie, urządzenia do obróbki cieczy, znane na przykład z opisów patentowych Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 4 482 809,4 872 980 i 5 006 244, są zasilane grawitacyjnie i wykorzystująpromieniowanie nadfioletowe (UV). W urządzeniach tego typu znajdująsię zespoły ram z lampami nadfioletowymi, po kilka lamp w każdym, przy czym poszczególne lampy są zainstalowane wewnątrz cylindrów biegnących pomiędzy dwoma ramionami nośnymi ram. Ramy te zanurza się w obrabianej cieczy, napromienianej następnie w zależności od potrzeby. Natężenie promieniowania działającego na ciecz wynika z jej odległości od lamp, mocy lamp i natężenia przepływu cieczy względem lamp.
Otaczające lampy nadfioletowe cylindry ulegają okresowo zanieczyszczeniu obcymi materiałami, co pogarsza przepływ promieniowania nadfioletowego do cieczy. Zanieczyszczone cylindry trzeba wyjąć i oczyścić z osadzonego na nich materiału.
Wadą znanych urządzeń jest niewielka wydajność lamp nadfioletowych. Lampy zapewniające niezbędną moc, używane w znanych urządzeniach do obróbki, musiały mieć około 1,52 m (pięciu stóp) długości. Wskutek tego były stosunkowo kruche i trzeba je było osadzać na obu końcach, co zwiększało nakłady inwestycyjne na całe urządzenie.
Celem wynalazkujest opracowanie modułu źródła promieniowania do opisanego powyżej urządzenia, umożliwiającego jego łatwe wyjmowanie i wkładanie, a zatem łatwą wymianę źródła promieniowania.
Moduł źródła promieniowania do urządzenia do obróbki cieczy, zawierający człon nośny, co najmniej jeden zespół źródła promieniowania wystający z członu nośnego, oraz elementy mo177 739 cujące do mocowania modułu źródła promieniowania w urządzeniu do obróbki cieczy, według wynalazku charakteryzuje się tym, że co najmniej jeden zespół źródła promieniowania jest na swym jednym końcu połączony z członem nośnym, zaś przeciwległy koniec tego zespołu źródła promieniowania jest swobodny, niepodparty.
Korzystnie z członu nośnego wystaje kilka źródeł promieniowania i każde źródło promieniowania ma swobodny koniec.
Korzystnie źródło promieniowania jest umieszczone wewnątrz wydrążonego cylindra.
Przedmiot wynalazku uwidoczniono w przykładach wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia przekrój boczny znanego urządzenia do obróbki cieczy, fig. 2 - przekrój tylnej części znanego urządzenia do obróbki cieczy z fig. 1, fig. 3 - rzut z boku urządzenia do obróbki cieczy z modułem według niniejszego wynalazku, fig. 4 - moduł źródła promieniowania do urządzenia z fig. 3, fig. 5 - rzut boczny urządzenia do obróbki cieczy z zespołami źródła promieniowania wkładanymi pionowo.
Dla dalszego zobrazowania wynalazku, przed jego omówieniem, przedstawiono zwięzły opis znanych urządzeń do obróbki cieczy. Na fig. 1i 2 widać znane urządzenie do obróbki cieczy według opisu w patencie Stanów Zjednoczonych Ameryki Nr 4 482 809, zawierające liczne moduły 20 źródeł promieniowania, każde z parą nóżek ramowych 24 i z rozciągającymi się pomiędzy tymi nóżkami zespołami 28 lamp nadfioletowych. Jak widać na fig. 2, moduły 20 z lampami znajdują się w kanale 32 do obróbki i są rozmieszczone w takiej odległości od siebie, że zapewniają napromienianie obrabianej cieczy co najmniej minimalną dawką promieniowania nadfioletowego, określoną z góry.
Konserwacja takich modułów 20 lamp jest pracochłonna. Wymiana lamp lub mycie otaczającychje cylindrów jest czasochłonne i kosztowne. Ponadto, warunkiem 'ciągłości obróbki po wyjęciu modułu lamp oraz zapewnienia napromieniania cieczy odpowiednią minimalną dawką promieniowania, jest zapewnienie odpowiedniej liczby modułów dodatkowych, co wiąże się ze wzrostem kosztów urządzenia.
W związku z tym, wynalazca usprawnił moduł źródła promieniowania urządzenia do obróbki cieczy, eliminując niektóre wady.
W skład przedstawionego na fig. 3 urządzenia 100 do obróbki cieczy wchodzi korpus 104 montowany w poprzek otwartego przepływowego kanału 108 cieczy w taki sposób, że cały strumień cieczy płynący kanałem 108 jest kierowany przez strefę obróbki 112.
W dolnej części korpusu 104 znajduje się sekcja centralna 116 ze skośnymi sekcjami wlotową i wylotową, oznaczonymi odpowiednio 120 i 124. W podstawie 128 kanału 108, pod sekcją centralną 116, znajduje się odpowiednia, uniesiona do góry, sekcja centralna 132 ze skośnymi sekcjami wlotową i wylotową, odpowiednio 136 i 140. Sekcja centralna 132 może być częścią korpusu 104, albo częścią podstawy 128 (jak pokazano na rysunku).
Jak wyraźnie widać na fig. 3, sekcje centralne 116 i 132 tworzą zwężoną strefę napromieniania 144,zaś sekcje wlotowe 120 i 136tworzą stożkowy, wlotowy obszar przejściowy, asekcje wylotowe 124 i 140 stożkowy, wylotowy obszar przejściowy.
Strefa napromieniania 144 stanowi obszar o zamkniętym przekroju poprzecznym dla obrabianej cieczy. Zapewnia to stałą geometrię strumienia cieczy względem źródeł napromieniania (opisanych dalej), dzięki czemu na ciecz działa z góry określone minimalne promieniowanie ze źródeł promieniowania. Wewnętrzne ścianki strefy napromieniania 144 można zaprojektować i wykonać w taki sposób, że w zasadzie biegną wzdłuż konturów znajdujących się w nich części modułów 148 źródeł promieniowania, w wyniku czego maksymalizuje się sprawność obróbki w tych miejscach, które znajdują się najdalej od źródeł promieniowania.
Co najmniej na jednej z powierzchni, napływowej lub odpływowej, korpusu 104 montuje się jeden lub więcej modułów 148 źródeł promieniowania. W zależności od obrabianej cieczy można zmieniać liczbę modułów 148, począwszy od jednego, modułu 148, do dwóch lub więcej modułów 148, w poprzek strefy napływowej i odpływowej korpusu 104.
W korpusie 104 znajduje się czujnik promieniowania 152, który wchodzi do strefy napromieniania 144. Po odpływowej stronie korpusu 104 znajduje się również standardowa przepust4
177 739 nica 150 stabilizująca poziom cieczy, z zadaniem utrzymania minimalnego poziomu cieczy w strefie obróbki 112.
Jak widać na fig. 4, każdy moduł 148 źródeł promieniowania zawiera człon nośny 160 stanowiący podporę źródła promieniowania, podporę poziomą 164, skrzynkę rozdzielczą 172 oraz jeden lub więcej zespołów 176 źródeł promieniowania, znajdujących się przy dolnym skraju członu nośnego 160. Każdy z zespołów 176 źródeł promieniowania zawiera silne źródło 180 promieniowania, osadzone wewnątrz cylindra 184 w dwóch pierścieniowych oprawkach 188. Jak oczywiście wiadomo osobom znającym problemy techniczne, w pewnych sytuacjach zespołów źródeł promieniowania nie trzeba umieszczać wewnątrz cylindrów, a źródło 180 promieniowania można umieszczać bezpośrednio w obrabianej cieczy.
Dalszy, w stosunku do członu nośnego 160, koniec każdego cylindra 184, jest zamknięty, a cylinder 184 jest szczelnie spojony z rurą montażową 192, która połączona jest z członem nośnym 160.
Znajdujący się przy członie nośnym 160 koniec każdej rury montażowej 192 jest gwintowany i pasuje do oprawki gwintowanej 216, która jest z kolei przyspawana do członu nośnego 160. Połączenia pomiędzy rurą montażową 192 a oprawką gwintowaną 216 oraz pomiędzy oprawką gwintowaną 216 a członem nośnym 160 są również szczelne, co zapobiega wnikaniu płynu do pustej przestrzeni wewnątrz rury montażowej 192 lub członu nośnego 160.
Każde ze źródeł 180 promieniowania jest podłączone pomiędzy parę przewodów elektrycznych 220, biegnących od skrzynki rozdzielczej 172 do źródła 180 promieniowania wewnątrz członu nośnego 160 i rury montażowej 192.
Jak widać na fig. 4, na każdym zespole 176 źródła promieniowania i rury montażowej 192 znaj duje się również zespół czyszczący 224, składający się z cylindrycznej dwukomorowej tulei 228, działającej jak cylinder dwustronny. Na każdym końcu cylindrycznej tulei 228 znajdują się pierścienie uszczelniające 232, 134. Pierścień uszczelniający 232, znajdujący się przy członie nośnym 160, styka się z zewnętrzną powierzchnią rury montażowej 192, natomiast pierścień uszczelniający 134, oddalony od członu nośnego 160, styka się z zewnętrzną powierzchnią zespołów 176 źródeł promieniowania.
Przewód 252 jest połączony z instalacją z odpowiednim roztworem do mycia, na przykład roztworem kwasu, a przewód 248 ze zbiornikiem odpowiedniego płynu, na przykład powietrza. Kiedy do tulei 228 doprowadza się przewodem 252 roztwór do mycia, cylindryczna tuleja 228 przemieszcza się do położenia wysuniętego w kierunku od członu nośnego 160 i podczas tego przemieszczania pierścień uszczelniający 134 zgarnia luźne kawałki materiału z cylindra 184.
Kiedy cylindryczna tuleja 228 znajduje się w położeniu wysuniętym, płyn myjący styka się z zewnętrzną powierzchnią zespołów 176 źródeł promieniowania. Roztwór do mycia rozkłada chemicznie i/lub usuwa pozostałości obcych materiałów osadzonych na zespołach 176 źródeł promieniowania. Po określonym czasie obniża się ciśnienie roztworu myjącego, w wyniku czego cylindryczna tuleja 228 cofa się ku członowi nośnemu 160. Podczas tego ruchu pierścień uszczelniający 134 ponownie zgarnia obluzowane kawałki obcych materiałów z powierzchni zespołów 176 źródeł promieniowania.
Każdy z modułów 148 źródeł promieniowania można montować na korpusie 104 za pomocą podpory poziomej 164 o z góry określonym kształcie przekroju poprzecznego, wchodzącej w dopasowany kształtem otwór 256 w korpusie 104. Kształt ten wybiera się w sposób ułatwiający wkładanie podpory poziomej 164 w otwór 256 z równoczesnym uniemożliwieniem jej obracania się w tym otworze.
Długość podpory poziomej 164 wybiera się w taki sposób, że podpora pozioma 164 biegnie od członu nośnego 160 na dalszą odległość niż zespół 176 źródła promieniowania. Dzięki temu podczas instalowania modułu 148 źródła promieniowania, zespół 176 źródła promieniowania znajduje się w odpowiedniej odległości od wlotowego i wylotowego obszaru przejściowego.
Po całkowitym osadzeniu podpory poziomej 164 w otworze 256, łączy się łączniki 268 roztworu myjącego i łączniki 272 cieczy w skrzynce rozdzielczej 172 z odpowiednimi łącznikami na obudowie 276. Połączenie łączników 268 i 272 z odpowiednimi łącznikami na obudowie 276
177 739 służy również do utrzymania podpory poziomej 164 w otworze 256. W obudowie 276 może znajdować się również opornik regulacyjny 264, przez który płynie prąd zasilający źródła 180 promieniowania oraz pompy i zbiorniki magazynowe (nie pokazane) na płyn do mycia i płyn pod ciśnieniem do zasilania zespołów myjących 224.
Tnny przykład wykonania modułu według niniejszego wynalazku pokazano na fig. 5. W przykładzie tym, urządzenie 400 do obróbki składa się z korpusu 404 z dolną powierzchnią, której ścianka podstawy 406 ogranicza strefę obróbki 408. W strefie obróbki 408 znajduje się wlotowy obszar przejściowy 412, pierwsza strefa napromieniania 416, strefa pośrednia 420, druga strefa napromieniania 424 oraz stożkowa strefa wylotowa 426.
W korpusie 404 znajdująsię otwory 430 na pionowe człony nośne 434 modułów 438 źródeł promieniowania. Moduły 438 źródeł promieniowania są podobne do opisanych wcześniej modułów 148, ale skonstruowano je w układzie umożliwiającym pionowe wkładanie zespołów 442 źródeł promieniowania. W zespołach 442 źródeł promieniowania znąjdująsię cylindry 446, połączone z króćcami montażowymi 450. Oczywiście, jak już wspomniano wcześniej, w pewnych sytuacjach nie trzeba zespołów 442 źródeł promieniowania umieszczać w cylindrach; zamiast tego można je wkładać bezpośrednio w obrabianą ciecz.
Ponieważ króćce montażowe 450 znajdują się powyżej maksymalnego poziomu cieczy w urządzeniu 400 do obróbki, końcówek do cylindrów 446 nie trzeba szczelnie zamykać, co umożliwia zastosowanie dowolnego innego wygodnego sposobu. Oczywiście, ponieważ punkt połączenia cylindrów i króćców montażowych 450 znajduje się powyżej poziomu cieczy w urządzeniu, ciecz nie działa na wewnętrzne powierzchnie cylindrów 446.
Z kolei króćce montażowe 450 łączą się, z poziomymi członami nośnymi 454, przymocowanymi do pionowych członów nośnych 434. Źródła promieniowania 458 znąjjdtuiąsię wewnątrz cylindrów 446 i łączą się ze sobą elektrycznymi przewodami zasilającymi (nie pokazanymi), biegnącymi od łączników 462, następnie wewnątrz wydrążonych w środku poziomych członów nośnych 454 i króćców montażowych 450 do cylindrów 446. Łączniki 462 sąpołączone z odpowiednimi łącznikami na obudowie 466, w której może znajdować się odpowiednie źródło zasilania i/lub instalacje sterujące, zapewniające prawidłowe działanie źródeł promieniowania 458 i urządzeń do zasilania zespołów czyszczących, o ile je zamontowano.
W przedstawionym przykładzie wykonania, obsługa konserwacyjna modułów 438 źródeł promieniowania polega na podnoszeniu ich pionowo i wyjmowaniu z cieczy.
m 739
FIG. 2.
177 739
ΠΊ 739
Ά~
228
184 m 739
o
A
A o
177 739
FIG.1.
Departament Wydawnictw UP RP. Nakład 70 egz. Cena 2,00 zł.
Claims (3)
- Zastrzeżenia patentowe1. Moduł źródła promieniowania do urządzenia do obróbki cieczy, zawierający człon nośny, co najmniej jeden zespół źródła promieniowania wystający z członu nośnego, oraz elementy mocujące do mocowania modułu źródła promieniowania w urządzeniu do obróbki cieczy, znamienny tym, że co najmniej jeden zespół (176,442) źródła (180, 458) promieniowania jest na swym jednym końcu połączony z członem nośnym (160,454), zaś przeciwległy koniec tego zespołu (176, 442) źródła (180, 458) promieniowania jest swobodny, niepodparty.
- 2. Moduł według zastrz. 1, znamienny tym, że z członu nośnego (160,454) wystaje kilka źródeł (180,458) promieniowania i każde źródło (180,458) promieniowania ma swobodny koniec.
- 3. Moduł według zastrz. 1 albo 2, znamienny tym, że źródło (180,458) promieniowania jest umieszczone wewnątrz wydrążonego cylindra (184,446).
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US08/026,572 US5418370A (en) | 1993-03-05 | 1993-03-05 | Fluid treatment system and process |
PCT/CA1994/000125 WO1994020208A1 (en) | 1993-03-05 | 1994-03-04 | Fluid treatment system and process |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
PL177739B1 true PL177739B1 (pl) | 2000-01-31 |
Family
ID=21832576
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PL94310528A PL177782B1 (pl) | 1993-03-05 | 1994-03-04 | Układ do obróbki cieczy |
PL94325049A PL177744B1 (pl) | 1993-03-05 | 1994-03-04 | Urządzenie do czyszczenia zespołu źródła promieniowania |
PL94325048A PL177739B1 (pl) | 1993-03-05 | 1994-03-04 | Moduł źródła promieniowania do urządzenia do obróbki cieczy |
Family Applications Before (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PL94310528A PL177782B1 (pl) | 1993-03-05 | 1994-03-04 | Układ do obróbki cieczy |
PL94325049A PL177744B1 (pl) | 1993-03-05 | 1994-03-04 | Urządzenie do czyszczenia zespołu źródła promieniowania |
Country Status (28)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US5418370A (pl) |
EP (3) | EP1094035B1 (pl) |
JP (1) | JPH08509905A (pl) |
KR (3) | KR100330268B1 (pl) |
CN (1) | CN1081947C (pl) |
AT (3) | ATE247603T1 (pl) |
AU (1) | AU6153194A (pl) |
BR (1) | BR9406347A (pl) |
CA (1) | CA2117040C (pl) |
CO (3) | CO4910176A1 (pl) |
CZ (1) | CZ226495A3 (pl) |
DE (3) | DE69433069T2 (pl) |
DK (1) | DK0687201T3 (pl) |
ES (3) | ES2206355T3 (pl) |
FI (1) | FI954134A0 (pl) |
HU (1) | HU215737B (pl) |
IL (1) | IL108709A (pl) |
MY (1) | MY112388A (pl) |
NO (1) | NO310139B1 (pl) |
NZ (1) | NZ262088A (pl) |
PH (1) | PH31690A (pl) |
PL (3) | PL177782B1 (pl) |
PT (1) | PT1094035E (pl) |
RO (1) | RO114754B1 (pl) |
SK (1) | SK109195A3 (pl) |
TW (2) | TW360619B (pl) |
WO (1) | WO1994020208A1 (pl) |
ZA (1) | ZA941096B (pl) |
Families Citing this family (87)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW360619B (en) * | 1993-03-05 | 1999-06-11 | Trojan Techn Inc | A cleaning apparatus for a radiation source assembly in a fluid treatment system and a method of removal of fouling materials therefrom |
USRE36896E (en) * | 1993-03-05 | 2000-10-03 | Trojan Technologies Inc. | Fluid treatment system and process |
US5539209A (en) * | 1994-10-17 | 1996-07-23 | Trojan Technologies Inc. | Method of cleaning fouling materials from a radiation module |
US5792433A (en) * | 1995-03-13 | 1998-08-11 | Photoscience Japan Corporation | Light irradiating device with easily replaceable light irradiating lamps |
US5937266A (en) * | 1996-03-08 | 1999-08-10 | Photoscience Japan Corporation | Light irradiating device employing light irradiating modules equipped with a cleaning mechanism |
USRE39522E1 (en) * | 1996-03-14 | 2007-03-20 | Photoscience Japan Corporation | Ultraviolet ray irradiation equipment having scraper rings fitted to light transmission tubes |
US5874740A (en) * | 1996-03-14 | 1999-02-23 | Photoscience Japan Corporation | Ultraviolet ray irradiation equipment having scraper rings fitted to light transmission tubes |
DE19653083B4 (de) * | 1996-12-19 | 2005-09-08 | Wedeco Ag Water Technology | Strömungsgünstige UV-Desinfektionsvorrichtung |
US6013917A (en) * | 1997-03-12 | 2000-01-11 | Photoscience Japan Corporation | UV ray irradiation apparatus having scraper rings fitted to light transmission tubes |
AU9031798A (en) | 1997-08-22 | 1999-03-16 | Richard C. Morlock | Sensor housing for uv curing chamber |
US6576189B1 (en) | 1997-09-18 | 2003-06-10 | Wedeco Ag Water Technology | Device and method for exposing liquids, including pretreated wastewater, to x-rays |
US6015229A (en) | 1997-09-19 | 2000-01-18 | Calgon Carbon Corporation | Method and apparatus for improved mixing in fluids |
FR2768718B1 (fr) * | 1997-09-24 | 1999-12-10 | Amenagement Urbain & Rural | Installation pour le traitement par irradiations u.v. d'un liquide |
AUPP158098A0 (en) | 1998-01-29 | 1998-02-26 | Arnold, Geoffery Peter | Laser alignment apparatus and method |
AU691786B3 (en) * | 1998-02-03 | 1998-05-21 | Kenneth Ray Bryer | An apparatus for treating a liquid |
US6342188B1 (en) | 1998-11-03 | 2002-01-29 | Trojan Technologies, Inc. | Radiation source module and cleaning apparatus therefor |
ATE314316T1 (de) * | 1998-12-30 | 2006-01-15 | Wedeco Ag | Vorrichtung zur uv-bestrahlung, insbesondere zur desinfektion von strömenden flüssigkeiten mit verminderter uv-transmission |
US6193938B1 (en) * | 1999-03-17 | 2001-02-27 | Wedeco Ag Water Technology | Device for treating liquids with UV-radiation |
US6217834B1 (en) * | 1999-04-19 | 2001-04-17 | Trojan Technologies Inc. | Ultraviolet radiation lamp and source module and treatment system containing same |
WO2000073213A1 (en) * | 1999-05-28 | 2000-12-07 | Trojan Technologies Inc. | Fluid treatment system and cleaning apparatus therefor |
US6863078B1 (en) | 1999-05-28 | 2005-03-08 | Trojan Technologies, Inc. | Fluid treatment system and cleaning apparatus therefor |
CN1183043C (zh) * | 1999-06-04 | 2005-01-05 | 亨利·科兹罗维斯基 | 流体的紫外线处理装置 |
KR20020022800A (ko) * | 1999-08-13 | 2002-03-27 | 홀던 데이비드 | 유체 처리 시스템 및 그 세정 장치 |
US6830697B1 (en) * | 1999-09-03 | 2004-12-14 | Trojan Technologies Inc. | Fluid treatment system, radiation source assembly and radiation source module |
AU7500900A (en) * | 1999-10-01 | 2001-05-10 | Trojan Technologies Inc. | Optical radiation sensor system with cleaning device |
WO2001042745A1 (en) * | 1999-12-06 | 2001-06-14 | Trojan Technologies Inc. | An on-line device for predicting at least one fluid flow parameter in a process |
US6512234B1 (en) | 1999-12-17 | 2003-01-28 | Trojan Technologies, Inc. | Optical radiation sensor device |
JP2003516812A (ja) | 1999-12-17 | 2003-05-20 | トロジャン・テクノロジーズ・インコーポレイテッド | 放射源モジュール |
CA2398472C (en) * | 2000-01-28 | 2008-04-15 | Trojan Technologies Inc. | Radiation source module |
DE10010127B4 (de) * | 2000-03-03 | 2007-12-13 | Wedeco Ag Water Technology | UV-Bestrahlungsvorrichtung für die Behandlung von Abwasser |
US6580019B1 (en) | 2000-03-09 | 2003-06-17 | Dekalb Genetics Corporation | Non-reciprocal recombination-mediated transgene deletion in transgenic plants |
US6750379B2 (en) * | 2000-03-09 | 2004-06-15 | Dekalb Genetics Corporation | Homologous recombination-mediated transgene alterations in plants |
CA2306546C (en) | 2000-04-20 | 2006-06-27 | Photoscience Japan Corporation | Tube scraper |
US7166850B2 (en) | 2000-06-06 | 2007-01-23 | Trojan Technologies Inc. | Fluid mixing device |
FR2815271B1 (fr) * | 2000-10-16 | 2003-01-17 | Bordas Sarl | Dispositif de traitement d'un fluide par rayonnement uv |
EP1351890A2 (en) * | 2000-12-15 | 2003-10-15 | Trojan Technologies Inc. | Fluid treatment system and radiation source module for use therein |
US6596542B1 (en) * | 2001-01-08 | 2003-07-22 | Christopher R. Schulz | Flow-through chemical actinometer for ultraviolet disinfection reactors |
US6940075B2 (en) * | 2001-03-15 | 2005-09-06 | Christopher R. Schulz | Ultraviolet-light-based disinfection reactor |
US6649917B2 (en) * | 2001-05-30 | 2003-11-18 | Ondeo Degremont | Cleaning system for UV disinfection module/reactor |
DE10129178A1 (de) * | 2001-06-19 | 2003-01-02 | Wedeco Ag | UV-Bestrahlungsvorrichtung für die Behandlung von Fluiden mit einer vereinfachten Bestrahlungskammer |
US6663318B2 (en) | 2001-08-03 | 2003-12-16 | Trojan Technologies, Inc. | Fluid level control system |
US6719491B2 (en) | 2001-08-03 | 2004-04-13 | Trojan Technologies Inc. | Fluid level control system |
US20050069463A1 (en) * | 2002-05-07 | 2005-03-31 | Kurtz Mark E. | Fluid disinfection apparatus |
US7419642B2 (en) * | 2002-05-07 | 2008-09-02 | Ultravation, Inc. | Fluid disinfection apparatus |
US20030230477A1 (en) * | 2002-06-14 | 2003-12-18 | Fink Ronald G. | Environmental air sterilization system |
GB2389848B (en) * | 2002-06-17 | 2006-02-08 | Hanovia Ltd | UV disinfection apparatus and method of operating UV disinfection apparatus |
EP1515915B1 (en) * | 2002-06-19 | 2014-11-12 | Trojan Technologies Inc. | Fluid treatment system and radiation source module for use therein |
US6784440B2 (en) * | 2002-07-26 | 2004-08-31 | Boc, Inc. | Food sanitizing cabinet |
US20040056201A1 (en) * | 2002-09-19 | 2004-03-25 | Fink Ronald G. | Food surface sanitation hood |
US20040140812A1 (en) * | 2003-01-21 | 2004-07-22 | Ademir Scallante | Arrangements containing electrical assemblies and methods of cleaning such electrical assemblies |
US7160566B2 (en) * | 2003-02-07 | 2007-01-09 | Boc, Inc. | Food surface sanitation tunnel |
CA2540589A1 (en) * | 2003-09-29 | 2005-04-07 | Trojan Technologies Inc. | Radiation sensor device and radiation source module containing same |
CN100571788C (zh) * | 2004-03-12 | 2009-12-23 | 特洛伊人技术公司 | 流体处理系统 |
EP1737501A4 (en) * | 2004-03-12 | 2009-09-02 | Trojan Techn Inc | FLUID TREATMENT SYSTEM |
CN102557313A (zh) * | 2004-04-15 | 2012-07-11 | 特洛伊人技术公司 | 水处理设备以及在流体处理系统中使用的处理筒 |
AU2005233666A1 (en) * | 2004-04-19 | 2005-10-27 | Trojan Technologies Inc. | Optical radiation sensor system and method for measuring radiation transmittance of a fluid |
US8038949B2 (en) * | 2004-09-02 | 2011-10-18 | Purgenix, Inc. | Ultraviolet germicidal irradiation system |
WO2006047495A2 (en) | 2004-10-21 | 2006-05-04 | Venganza Inc | Methods and materials for conferring resistance to pests and pathogens of plants |
US7159264B2 (en) * | 2004-12-10 | 2007-01-09 | Calgon Carbon Corporation | Scraper for cleaning tubular members |
CN101208444A (zh) * | 2005-04-21 | 2008-06-25 | 霍尼韦尔国际公司 | 钌基材料和钌合金 |
US7241380B2 (en) * | 2005-06-15 | 2007-07-10 | Reiling Dennis R | Ultraviolet treatment unit and septic tank system |
US8663575B2 (en) * | 2005-08-19 | 2014-03-04 | Canadian Blood Services | Sample holder for dynamic light scattering |
CA2621301C (en) * | 2005-08-31 | 2013-04-30 | Trojan Technologies Inc. | Ultraviolet radiation lamp and source module and treatment system containing same |
US7985956B2 (en) * | 2005-12-21 | 2011-07-26 | Trojan Technologies Inc. | Fluid treatment system |
CN101528611B (zh) * | 2006-08-17 | 2013-06-19 | 特洛伊科技有限公司 | 液体处理系统 |
US7507973B2 (en) * | 2006-11-02 | 2009-03-24 | Calgon Carbon Corporation | UV treatment reactor |
WO2008055344A1 (en) | 2006-11-06 | 2008-05-15 | Trojan Technologies | Fluid treatment system |
US7862728B2 (en) | 2007-09-27 | 2011-01-04 | Water Of Life, Llc. | Ultraviolet water purification system |
US8529770B2 (en) * | 2007-09-27 | 2013-09-10 | Water Of Life, Llc. | Self-contained UV-C purification system |
US8557050B1 (en) * | 2008-10-31 | 2013-10-15 | Genefluidics, Inc. | System for washing a sensor structure |
EP2365873B1 (en) * | 2008-11-26 | 2014-03-12 | Calgon Carbon Corporation | Method and apparatus for use of mixing elements in wastewater/ recycle water uv disinfection system |
CN102369164B (zh) * | 2009-04-07 | 2013-07-31 | 特洁安科技有限公司 | 辐射源模块和流体处理系统 |
CA2764918C (en) * | 2009-07-02 | 2019-03-26 | Trojan Technologies | Radiation source assembly |
CA2768256A1 (en) * | 2009-07-23 | 2011-02-10 | Trojan Technologies | Cleaning apparatus, radiation source module and fluid treatment system |
US8182613B2 (en) * | 2009-08-04 | 2012-05-22 | University Corporation For Atmospheric Research | Radiometer including a cleaning system |
DE102009039655B3 (de) | 2009-09-02 | 2011-03-31 | ITT Mfg. Enterprises, Inc., Wilmington | UV-Desinfektionseinrichtung für Abwasser und Trinkwasser mit einer Reinigungsvorrichtung |
DE102009039654A1 (de) * | 2009-09-02 | 2011-03-03 | ITT Mfg. Enterprises, Inc., Wilmington | UV-Desinfektionseinrichtung mit berührungsloser Reinigung |
CA2777808C (en) | 2009-11-12 | 2015-01-13 | Trojan Technologies | Cleaning apparatus, radiation source module and fluid treatment system |
US20120043223A1 (en) * | 2010-08-18 | 2012-02-23 | David Sherzer | Water treatment method |
AU2011342261A1 (en) | 2010-12-16 | 2013-07-25 | Trojan Technologies | Radiation source module and fluid treatment system |
EP2805064B1 (en) | 2012-01-20 | 2018-09-12 | Trojan Technologies | Fluid flow modifier and fluid treatment system incorporating same |
CN104245160A (zh) | 2012-02-23 | 2014-12-24 | 特洁安技术公司 | 辐射源清洁系统和包括辐射源清洁系统的模块 |
EP2928622A4 (en) | 2012-12-07 | 2016-08-24 | Trojan Techn Inc | CLEANING APPARATUS |
US9321658B2 (en) | 2013-08-29 | 2016-04-26 | Crystal Is, Inc. | Systems and methods for fluid treatment with homogeneous distribution of ultraviolet light |
EP3602024A4 (en) | 2017-03-21 | 2020-11-18 | Hayward Industries, Inc. | SYSTEMS AND PROCEDURES FOR HYGIENIZATION OF SWIMMING POOL AND SPA WATER |
US11472727B2 (en) | 2017-06-09 | 2022-10-18 | Hayward Industries, Inc. | Combination ultraviolet ray and ozone water sanitizing unit |
AU2021379292A1 (en) | 2020-11-14 | 2023-06-08 | Mark Anthony International Srl | Methods for sterilizing fermented beverages |
Family Cites Families (55)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR421296A (fr) * | 1910-10-10 | 1910-12-17 | Marius Paul Otto | Appareil pour la stérilisation des eaux par les rayons ultra-violets |
FR16443E (fr) * | 1911-04-11 | 1913-01-31 | Paul Gabriel Triquet | Appareil pour la stérilisation industrielle de l'eau au moyen de lampes électriques à mercure avec tube de quartz, immergées dans l'eau |
US2413704A (en) * | 1944-12-04 | 1947-01-07 | Art Metal Company | Ultraviolet sterilizer |
US2670439A (en) * | 1950-07-05 | 1954-02-23 | Hanovia Chemical & Mfg Co | Apparatus for irradiating liquids |
DE855521C (de) * | 1950-12-28 | 1952-11-13 | Siemens Ag | Verfahren und Einrichtung zum Behandeln, vorzugsweise Reinigen von Abwaessern und anderen Fluessigkeiten |
US3061721A (en) * | 1960-01-19 | 1962-10-30 | Brenner Al | Automatic tube cleaning device |
US3182193A (en) * | 1962-01-03 | 1965-05-04 | Ultra Dynamics Corp | Electronically monitored liquid purification or sterilizing system |
US3182191A (en) * | 1963-02-14 | 1965-05-04 | Puretest Water Purifier Co | Water purifying apparatus with an automatically actuated wiper for the ultra-violet source |
US3140054A (en) * | 1963-04-25 | 1964-07-07 | Oharenko Vladimir | Safety inspection light |
US3462597A (en) * | 1966-07-29 | 1969-08-19 | Ultra Dynamics Corp | Ultraviolet fluid purifier having manually operable wiper means |
US3456107A (en) * | 1967-05-16 | 1969-07-15 | Aquacare Intern Ltd | Water sterilizing apparatus |
US3562520A (en) * | 1968-11-04 | 1971-02-09 | Puretest Water Purifying Co | Fail-safe water purifying apparatus |
US3637342A (en) * | 1969-05-07 | 1972-01-25 | Louis P Veloz | Sterilization of fluids by ultraviolet radiation |
US3837800A (en) * | 1971-05-06 | 1974-09-24 | Meltzer H | Method and apparatus for purifying fluids |
DE2300273C3 (de) * | 1972-01-07 | 1982-05-06 | Toray Industries, Inc., Tokyo | Vorrichtung für Abwasserreinigung |
DE2213658C3 (de) * | 1972-03-21 | 1974-08-15 | Katadyn Produkte Ag, Wallisellen (Schweiz) | Wasserentkeimungsanlage |
CA951135A (en) * | 1972-08-23 | 1974-07-16 | Wolfgang Scherrelies | Sensor-eye for ultra-violet water sterilizer |
US3948772A (en) * | 1975-04-16 | 1976-04-06 | Sidney Ellner | Split stream ultraviolet purification device |
US4103167A (en) * | 1976-08-16 | 1978-07-25 | Sidney Ellner | Ultraviolet liquid purification system |
US4255663A (en) * | 1977-03-24 | 1981-03-10 | Lewis James H | Disposable liquid sterilizer unit |
US4204956A (en) * | 1978-10-02 | 1980-05-27 | Flatow Robert E | Water purification system |
US4205956A (en) * | 1979-05-21 | 1980-06-03 | The International Nickel Company, Inc. | Nickel carbonyl analyzer |
US4367410A (en) * | 1979-07-09 | 1983-01-04 | Pure Water Systems, Inc. | Waste purification apparatus and method |
IT1123509B (it) * | 1979-07-31 | 1986-04-30 | Vighi Temistocle | Impianto per la sterilizzazione di liquidi in genere mediante radiazioni ultraviolette e relativo procedimento |
US4296328A (en) * | 1980-02-11 | 1981-10-20 | Regan Michael D | Apparatus for producing high purity water |
US4400270A (en) * | 1980-04-18 | 1983-08-23 | Adco Aerospace, Inc. | Ultraviolet apparatus for disinfection and sterilization of fluids |
US4490777A (en) * | 1981-06-25 | 1984-12-25 | Tanner Stephen E | Selective color illumination device for electronic drafting tables |
DE3126127A1 (de) * | 1981-07-02 | 1983-01-20 | Christoph Dr. 6500 Mainz Franz | Handliches, tragbares messgeraet zur messung von dirketer und indirekter ultraviolettstrahlung im rahmen des technischen und medizinischen arbeitsschutzes |
US4435744A (en) * | 1981-08-10 | 1984-03-06 | Pauluhn Electric Manufacturing Co., Inc. | Explosion-proof fluorescent light fixture |
US4471225A (en) * | 1981-11-09 | 1984-09-11 | Adco Aerospace | Ultraviolet apparatus for disinfection and sterilization of fluids |
CA1163086A (en) * | 1981-11-30 | 1984-03-06 | Jan Maarschalkerweerd | Ultraviolet fluid purifying device |
US4467206A (en) * | 1981-12-14 | 1984-08-21 | Extracorporeal Medical Specialties, Inc. | Method and apparatus for the irradiation of fluids |
NL8300115A (nl) * | 1983-01-13 | 1984-08-01 | Philips Nv | Bestralingsinrichting. |
FI841491A (fi) * | 1983-04-25 | 1984-10-26 | Christian Lumpp | Anordning foer aostadkommande och reflektering av infraroed eller ultraviolett straolning. |
US4535247A (en) * | 1983-07-11 | 1985-08-13 | Kurtz Mark E | Water sterilization system |
DE3441535A1 (de) * | 1984-11-14 | 1986-06-26 | Erich 7632 Friesenheim Rasche | Geraet zur wasserentkeimung mit ultravioletter strahlung |
US4700101A (en) * | 1985-02-07 | 1987-10-13 | Sidney Ellner | Elongated tubular lamp construction |
JPS61230203A (ja) * | 1985-03-29 | 1986-10-14 | 東芝ライテック株式会社 | ランプユニツト |
US4757205A (en) * | 1986-06-10 | 1988-07-12 | Arlat Inc. | Ultraviolet water treatment apparatus |
US4755292A (en) * | 1986-08-11 | 1988-07-05 | Merriam Theodore D | Portable ultraviolet water sterilizer |
US4767932A (en) * | 1986-09-26 | 1988-08-30 | Ultraviolet Purification System, Inc. | Ultraviolet purification device |
JPS63153469U (pl) * | 1987-03-30 | 1988-10-07 | ||
US4968489A (en) * | 1988-09-13 | 1990-11-06 | Peroxidation Systems, Inc. | UV lamp enclosure sleeve |
US4897246A (en) * | 1988-09-13 | 1990-01-30 | Peroxidation Systems, Inc. | Oxidation chamber |
US4872980A (en) * | 1988-09-13 | 1989-10-10 | Trojan Technologies, Inc. | Fluid purification device |
US4952376A (en) * | 1988-09-13 | 1990-08-28 | Peroxidation Systems, Inc. | Oxidation chamber |
US5006244A (en) * | 1988-09-13 | 1991-04-09 | Trojan Technologies, Inc. | Fluid purification device |
US4922114A (en) * | 1989-06-01 | 1990-05-01 | Hilary Boehme | Wiper mechanism |
US5227140A (en) * | 1990-04-13 | 1993-07-13 | Peroxidation Systems, Inc. | Modular self-cleaning oxidation chamber |
US5019256A (en) * | 1990-10-19 | 1991-05-28 | Fischer & Porter Company | Ultraviolet lamp rack assembly |
JPH04190887A (ja) * | 1990-11-26 | 1992-07-09 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | 紫外線殺菌装置およびその浄化方法 |
US5124131A (en) * | 1990-12-10 | 1992-06-23 | Ultraviolet Energy Generators, Inc. | Compact high-throughput ultraviolet processing chamber |
JPH0663533A (ja) * | 1992-08-10 | 1994-03-08 | Gastar Corp | 温水殺菌方法および殺菌装置 |
TW360619B (en) * | 1993-03-05 | 1999-06-11 | Trojan Techn Inc | A cleaning apparatus for a radiation source assembly in a fluid treatment system and a method of removal of fouling materials therefrom |
US5266215A (en) * | 1993-04-27 | 1993-11-30 | Rolf Engelhard | Water purification unit |
-
1993
- 1993-03-05 TW TW084110974A patent/TW360619B/zh active
- 1993-03-05 US US08/026,572 patent/US5418370A/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-03-05 TW TW082101619A patent/TW317558B/zh active
-
1994
- 1994-02-17 ZA ZA941096A patent/ZA941096B/xx unknown
- 1994-02-18 PH PH47784A patent/PH31690A/en unknown
- 1994-02-18 IL IL108709A patent/IL108709A/en not_active IP Right Cessation
- 1994-02-28 CO CO94007900A patent/CO4910176A1/es unknown
- 1994-03-03 MY MYPI94000502A patent/MY112388A/en unknown
- 1994-03-04 CZ CZ952264A patent/CZ226495A3/cs unknown
- 1994-03-04 ES ES01100934T patent/ES2206355T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1994-03-04 DK DK94908240T patent/DK0687201T3/da active
- 1994-03-04 PL PL94310528A patent/PL177782B1/pl unknown
- 1994-03-04 KR KR1019950703725A patent/KR100330268B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1994-03-04 CA CA002117040A patent/CA2117040C/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-03-04 RO RO95-01563A patent/RO114754B1/ro unknown
- 1994-03-04 AT AT01100934T patent/ATE247603T1/de not_active IP Right Cessation
- 1994-03-04 EP EP01100934A patent/EP1094035B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-03-04 AT AT97112786T patent/ATE203492T1/de active
- 1994-03-04 PT PT01100934T patent/PT1094035E/pt unknown
- 1994-03-04 HU HU9502580A patent/HU215737B/hu not_active IP Right Cessation
- 1994-03-04 EP EP94908240A patent/EP0687201B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-03-04 BR BR9406347A patent/BR9406347A/pt not_active IP Right Cessation
- 1994-03-04 AU AU61531/94A patent/AU6153194A/en not_active Abandoned
- 1994-03-04 KR KR1020017011077A patent/KR100360320B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1994-03-04 DE DE69433069T patent/DE69433069T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-03-04 US US08/318,858 patent/US5590390A/en not_active Ceased
- 1994-03-04 ES ES97112786T patent/ES2163695T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1994-03-04 CN CN94191814A patent/CN1081947C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1994-03-04 KR KR10-2001-7011078A patent/KR100418308B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1994-03-04 JP JP6519423A patent/JPH08509905A/ja not_active Ceased
- 1994-03-04 AT AT94908240T patent/ATE162956T1/de not_active IP Right Cessation
- 1994-03-04 DE DE69427834T patent/DE69427834T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-03-04 NZ NZ262088A patent/NZ262088A/en unknown
- 1994-03-04 ES ES94908240T patent/ES2115937T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1994-03-04 PL PL94325049A patent/PL177744B1/pl unknown
- 1994-03-04 EP EP97112786A patent/EP0811579B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-03-04 WO PCT/CA1994/000125 patent/WO1994020208A1/en not_active Application Discontinuation
- 1994-03-04 SK SK1091-95A patent/SK109195A3/sk unknown
- 1994-03-04 PL PL94325048A patent/PL177739B1/pl unknown
- 1994-03-04 DE DE69408441T patent/DE69408441T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-06-20 CO CO94026651A patent/CO4180401A1/es unknown
- 1994-06-20 CO CO94026648A patent/CO4180400A1/es unknown
-
1995
- 1995-05-22 US US08/445,767 patent/US5539210A/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-09-01 NO NO19953451A patent/NO310139B1/no not_active IP Right Cessation
- 1995-09-04 FI FI954134A patent/FI954134A0/fi not_active IP Right Cessation
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
PL177739B1 (pl) | Moduł źródła promieniowania do urządzenia do obróbki cieczy | |
USRE36896E (en) | Fluid treatment system and process | |
EP0080780B1 (en) | An ultraviolet fluid purifying device | |
US3456107A (en) | Water sterilizing apparatus | |
US5019256A (en) | Ultraviolet lamp rack assembly | |
US5124131A (en) | Compact high-throughput ultraviolet processing chamber | |
US6500346B1 (en) | Fluid treatment device and method for treatment of fluid | |
US6642527B2 (en) | UV radiation device for treating fluids with a simplified radiation chamber | |
US7390406B2 (en) | Fluid treatment system and radiation sources module for use therein | |
KR200425659Y1 (ko) | 하수를 소독하는 모듈장치 | |
US5792433A (en) | Light irradiating device with easily replaceable light irradiating lamps | |
CA2768256A1 (en) | Cleaning apparatus, radiation source module and fluid treatment system | |
JP3038364B2 (ja) | 液体浄化装置及び方法 | |
KR200172701Y1 (ko) | 디퓨저 부착 자외선 살균 장치 | |
AU9610098A (en) | Fluid treatment system and process | |
AU782018B2 (en) | Fluid treatment system and process |