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TECHNISCHES
GEBIET
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Gemäß einem
ihrer Aspekte bezieht sich die vorliegende Erfindung auf eine Reinigungsvorrichtung
zur Verwendung in einem Fluidbehandlungssystem. Gemäß einem
anderen ihrer Aspekte bezieht sich die vorliegende Erfindung auf
ein Fluidbehandlungssystem, welches die Reinigungsvorrichtung umfasst.
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STAND DER
TECHNIK
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Fluidbehandlungssysteme
sind im allgemeinen in der Technik bekannt.
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Zum
Beispiel beschreiben die US-Patente 4 482 809, 4 827 980 und 5 006
244 (alle in dem Namen von Maarschalkerweerd und alle auf den Rechtsnachfolger
der vorliegenden Erfindung übertragen
und im folgenden als die Maarschalkerweerd #1 Patente bezeichnet)
alle durch Schwerkraft gespeiste Fluidbehandlungssysteme, welche
ultraviolette (UV) Strahlung verwenden.
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Solche
Systeme umfassen ein Feld von UV-Lampenrahmen, welche mehrere UV-Lampen umfassen,
von denen jede innerhalb von Hülsen montiert
ist, welche sich zwischen einem Paar von Beinen erstreckt und durch
dieses getragen wird, die an ein Kreuzstück angeschlossen sind. Die
derart getragenen Hülsen
(welche die UV-Lampen beinhalten) sind in ein Fluid, das behandelt
werden soll, eingetaucht, welches dann bestrahlt wird, wenn es erforderlich
ist. In Abhängigkeit
von der Qualität
des Fluids, welches behandelt wird, werden die Hülsen, welche die UV-Lampen umschließen, regelmäßig mit fremden
Materialien verschmutzt, was ihre Fähigkeit, UV-Strahlung in das
Fluid zu übertragen,
beeinträchtigt.
Bei einer bestehenden Installation kann das Auftreten von solch
einer Verschmutzung aus den historischen Betriebsdaten oder durch
Messungen aus den UV-Sensoren bestimmt werden. Sobald die Verschmutzung
einen bestimmten Punkt erreicht hat, müssen die Hülsen gereinigt werden, um die
verschmutzenden Materialien zu entfernen und die Systemleistung
zu optimieren.
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Wenn
die UV-Lampenmodule in einem offenen, kanalartigen System verwendet
werden (zum Beispiel wie das eine, welches in den Maarschalkerweerd
#1 Patenten beschrieben und dargestellt wird), können eines oder mehrere der
Module entfernt werden, während
das System in Betrieb bleibt, und die entfernten Rahmen können in
ein Bad einer geeigneten Reinigungslösung (zum Beispiel eine schwache
Säure)
eingetaucht werden, welches durch Luft erregt werden kann, um die
verschmutzenden Materialien zu entfernen. Selbstverständlich erfordert
dies das Vorsehen von überschüssigen oder redundanten
Quellen der UV-Strahlung (in der Regel durch Einfügen von
zusätzlichen
UV-Lampenmodulen), um eine geeignete Bestrahlung des Fluids, welches
behandelt wird, sicherzustellen, während einer oder mehrere der
Rahmen zum Reinigen entfernt worden ist/sind. Diese erforderte überschüssige UV-Kapazität vergrößert die
Kapitalkosten der Installation des Behandlungssystems. Zudem muss
ein Reinigungsgefäß zum Aufnehmen
der UV-Lampenmodule ebenso vorgesehen und gewartet werden. In Abhängigkeit
der Anzahl der Module, welche gleichzeitig zum Reinigen versorgt
werden müssen,
und der Frequenz, mit welcher sie ein Reinigen erfordern, kann dies
ebenso signifikant zu den Kosten des Betreibens und des Wartens
des Behandlungssystems beitragen. Zudem erfordern diese Reinigungssysteme
relativ hohe Arbeitskosten, um die erforderliche Entfernung/den
erforderlichen erneuten Einbau der Module und die Entfernung/das
erneute Füllen
der Reinigungslösung
in den/aus dem Reinigungsgefäß auszuführen. Außerdem führt zusätzlich eine
solche Handhabung der Module zu einem vergrößerten Risiko der Schädigung oder
des Brechens von den Lampen in dem Modul.
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Die
US-Patente 5 418 370, 5 539 210 und 5 590 390 (alle in dem Namen
von Maarschalkerweerd und alle auf den Rechtsnachfolger der vorliegenden Erfindung übertragen
und im folgenden als die Maarschalkerweerd #2 Patente bezeichnet)
beschreiben alle ein verbessertes Reinigungssystem, besonders vorteilhaft
zur Verwendung in durch Schwerkraft gespeisten Fluidbehandlungssystemen,
welche UV-Strahlung verwenden. Im allgemeinen umfasst das Reinigungssystem
eine Reinigungshülse,
welche im Eingriff mit einem Bereich der Außenfläche einer Strahlungsquellenbaugruppe
steht, die eine Strahlungsquelle (zum Beispiel eine UV-Lampe) umfasst.
Die Reinigungshülse
ist bewegbar zwischen: (i) einer zurückgezogenen Position, in welcher
ein erster Bereich der Strahlungsquellenbaugruppe einer Strömung von
Fluid, das behandelt werden soll, ausgesetzt ist, und (ii) einer
ausgefahrenen Position, in welcher der erste Bereich der Strahlungsquellenbaugruppe
vollständig
oder teilweise durch die Reinigungshülse bedeckt wird. Die Reinigungshülse umfasst
eine Kammer, die in Kontakt mit dem ersten Bereich der Strahlungsquellenbaugruppe
steht. Der Kammer wird eine Reinigungslösung zugeführt, welche zum Entfernen von
unerwünschten
Materialien von dem ersten Bereich der Strahlungsquellenbaugruppe
geeignet ist.
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Das
Reinigungssystem, welches in den Maarschalkerweerd #2 Patenten beschrieben
wird, stellt einen signifikanten Fortschritt in der Technik dar, insbesondere,
wenn es in dem Strahlungsquellenmodul und dem Fluidbehandlungssystem,
welche in diesen Patenten dargestellt sind, eingebracht wird. Es gibt
jedoch immer noch Raum für
eine Verbesserung.
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Zum
Beispiel kann die Einbindung des Reinigungssystems, welches in den
Maarschalkerweerd #2 Patenten beschrieben ist, in einigen Fällen problematisch
sein, besonders in mit Druck beaufschlagten Fluidbehandlungssystemen – zum Beispiel
in einem Fluidbehandlungssystem, in welchem die Strömung von
Fluid einen Druck von wenigstens 3,45 × 104 Nm–2 (5
psi) höher
als der Druck des Reinigungsfluids in der Reinigungskammer aufweist.
Wie hier weiter unten in größerem Detail
beschrieben werden wird, kann die Verwendung einer herkömmlichen O-Ring-Dichtungsanordnung,
wie sie durch die Maarschalkerweerd #2 Patente gelehrt wird, zu
einem katastrophalen Versagen der Dichtungen führen. Während dies in der Vergangenheit
kein signifikantes Problem bei Anwendungen in der städtischen/kommunalen
Abwasserbehandlung gewesen ist (zum Beispiel wird das Fluid dann
nach der Behandlung in einen Strom, Bach, Fluss, See oder anderen
Wasserkörper
abgeleitet), fördern
strengere Umweltbestimmungen nun die Suche nach einer Lösung für das Problem.
Zudem stellen Behandlungssysteme für Reinwasser eine einzigartige
Gruppe von Herausforderungen dar, weil das Fluid, welches in dem
System behandelt wird, eine Quelle für trinkbares Wasser/Trinkwasser
ist. Wenn das Reinigungssystem, welches in den Maarschalkerweerd
#2 Patenten beschrieben wird, in ein mit Druck beaufschlagtes Behandlungssystem
für Reinwasser
implementiert würde,
würde es
eine Wahrscheinlichkeit einer Leckage der Reinigungslösung aus
der Kammer in das Fluid, welches behandelt wird, geben. Alternativ
würde es
eine Wahrscheinlichkeit einer Leckage des Fluids, welches behandelt
wird, in das Reinigungssystem geben. Es ist wünschenswert, solch eine Leckage
der Reinigungslösung
in das oder aus dem Reinigungssystem zu vermeiden.
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Somit
verbleibt, ungeachtet der Vorteile in der Technik, wie sie durch
das Reinigungssystem, das in den Maarschalkerweerd #2 Patenten gelehrt wird,
zur Verfügung
gestellt werden, ein Bedarf in der Technik für eine Reinigungsvorrichtung,
welche vorteilhaft, unter anderem, in ein Behandlungssystem für Reinwasser
implementiert werden kann.
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OFFENBARUNG
DER ERFINDUNG
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Es
ist eine Aufgabe der Erfindung, ein Reinigungssystem zur Verfügung zu
stellen, welches wenigstens einen der oben genannten Nachteile des Standes
der Technik vermeidet oder abschwächt.
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Dementsprechend
stellt die vorliegende Erfindung in einer ihrer Ausführungen
eine Reinigungsvorrichtung gemäß Anspruch
1 zur Verwendung in einem Fluidbehandlungssystem, welches eine Strahlungsquellenbaugruppe
umfasst, zur Verfügung,
wobei die Reinigungsvorrichtung umfasst:
Wenigstens eine Reinigungshülse, die
in einem gleitenden Eingriff mit der Außenseite der Strahlungsquellenbaugruppe
steht;
eine Reinigungskammer, die in der wenigstens einen Reinigungshülse in einem
Kontakt mit einem Bereich der Außenseite der Strahlungsquellenbaugruppe
angeordnet ist, und welche vorgesehen ist, um mit einer Reinigungslösung versorgt
zu werden, wobei die Reinigungskammer eine Öffnung zu einer Außenseite der
Reinigungshülse
umfasst;
ein Druckausgleichselement, welches in der Öffnung angeordnet
ist, um eine Abdichtung zwischen der Öffnung und der Außenseite
der Reinigungshülse
zur Verfügung
zu stellen, wobei das Druckausgleichselement ansprechend auf einen
Druckgradienten über diesem
bewegbar ist; und
ein Antriebsmittel, um die wenigstens eine
Reinigungshülse
entlang der Außenseite
der Strahlungsquellenbaugruppe zu verschieben.
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In
einer zweiten Ausführung
stellt die vorliegende Erfindung eine Fluidbehandlungsvorrichtung zur
Verfügung,
welche ein Gehäuse
zum Aufnehmen einer Strömung
von Fluid umfasst, wobei das Gehäuse
umfasst:
einen Fluideinlass;
einen Fluidauslass; eine
Fluidbehandlungszone, welche zwischen dem Fluideinlass und dem Fluidauslass
angeordnet ist;
eine Strahlungsquellenbaugruppe, die in der
Fluidbehandlungszone zur Behandlung der Fluidströmung angeordnet ist; und
eine
Reinigungsvorrichtung, welche in einem der Ansprüche 1 bis 9 beschrieben wird.
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KURZE BESCHREIBUNG
DER ZEICHNUNGEN
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Ausführungen
der vorliegenden Erfindung werden mit Bezug auf die begleitenden
Zeichnungen beschrieben werden, wobei sich entsprechende Ziffern
sich entsprechende Teile bezeichnen, und in welchen:
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Die 1 und 2 vergrößerte seitliche Draufsichten
im Querschnitt von herkömmlichen
Abdichtungsanordnungen für
ein Reinigungssystem, das in einem Fluidbehandlungssystem verwendet wird,
darstellen;
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die 3 und 4 seitliche,
teilweise geschnittene Draufsichten einer vorzuziehenden Ausführung einer
Fluidbehandlungsvorrichtung darstellen, welche eine vorzuziehende
Ausführung
der vorliegenden Reinigungsvorrichtung umfasst;
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die 5 eine
vergrößerte Ansicht
im Querschnitt des Bereiches A in der 4 darstellt;
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die 6 eine
Schnittansicht entlang der Linie VI – VI in der 5 darstellt;
und
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die 7 eine
Schnittansicht entlang der Linie VII – VII in der 6 darstellt.
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BESTE ART, DIE ERFINDUNG
AUSZUFÜHREN
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Bevor
die vorzuziehenden Ausführungen
der vorliegenden Erfindung beschrieben werden, wird eine kurze Diskussion
dargestellt werden, welche sich auf herkömmliche Abdichtungsanordnungen
bezieht, die in Reinigungsvorrichtungen verwendet werden.
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Mit
Bezug auf die 1 und 2 ist eine vergrößerte, geschnittene,
schematische Darstellung einer Reinigungshülse 10 dargestellt,
welche im Eingriff mit der Außenseite
einer Schutzhülse
(die typischerweise aus Quarz hergestellt ist) 15 eines
Strahlungsquellenmoduls (nicht gezeigt) steht. Die Reinigungshülse 10 steht
gleitend mit Bezug auf die Schutzhülse 15 im Eingriff – siehe
die Maarschalkerweerd #2 Patente.
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Die
Reinigungshülse 10 umfasst
eine Reinigungskammer 20, welche mit einem Reinigungsfluid zum
Entfernen verschmutzender Materialien von der Außenseite der Schutzhülse 15 gefüllt werden
kann. Die Reinigungskammer 20 ist mit Bezug auf die Außenseite
der Reinigungshülse 10 abgedichtet.
In der 1 ist die Reinigungskammer 20 mit Bezug
auf die Außenseite
der Reinigungshülse 10 durch
ein Paar von O-Ringen 25, 30 abgedichtet. In der 2 ist
die Reinigungskammer mit Bezug auf die Außenseite der Reinigungshülse 10 durch
ein Paar von U-Topfdichtungen 35, 40 abgedichtet.
Die U-Topfdichtungen 35, 40 umfassen jeweils eine
an der Schutzhülse
angreifende Lippe 36, 41.
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Wenn
die Reinigungshülse,
welche in der 1 dargestellt ist, verwendet
wird, wird die Reinigungskammer 20 mit einem geeigneten
Reinigungsfluid gefüllt,
und die Reinigungshülse
kann auf eine herkömmliche
Art und Weise betätigt
werden – siehe zum
Beispiel die Maarschalkerweerd #2 Patente. Wie oben beschrieben
worden ist, gibt es, wenn der Druck des Fluids außerhalb
der Reinigungshülse 10 den
Druck innerhalb der Reinigungskammer 20 um 3,45 × 104 Nm–2 (5 psi) oder mehr überschreitet,
ein signifikantes Risiko, dass die O-Ringe 25, 30 versagen
werden, was eine Leckage von Reinigungsfluid aus der Reinigungskammer 20 in
das Fluid, welches außerhalb
der Reinigungshülse 10 behandelt
wird, oder eine Leckage in die Reinigungskammer 20 des Fluids,
welches behandelt wird, wodurch es das Reinigungsfluid in der letzteren
verdünnt,
verursacht. Dies ist nachteilig aus den Gründen, welche oben dargestellt
worden sind.
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Diese
Probleme können
unter bestimmten Umständen
durch die Verwendung von U-Topfabdichtungen 35, 40,
die in der 2 dargestellt sind, überwunden
werden. Insbesondere, wenn die sich Reinigungshülse 10 in der 2 bei
der Behandlung eines Fluids mit einem Druck, welcher den Druck in der
Reinigungskammer 20 um 3,45 × 104 Nm–2 (5
psi) oder mehr überschreitet,
befindet, werden die Lippen 36, 41 in Richtung
der Schutzhülse 15 gedrückt, um eine
dichtere Abdichtung zu erzeugen, als sie mit der Dichtungsanordnung,
die in der 1 gezeigt ist, erzielt würde. Dies
kann das Leckageproblem vermeiden oder abschwächen, welches mit der Anordnung in
der 1 verbunden ist. Es wird jedoch ein weiteres Problem
durch die Anordnung der 2 erzeugt. Insbesondere, weil
Fluid, das behandelt wird, einen kontinuierlichen Druckgradienten über den
U-Topfdichtungen von 3,45 × 104 Nm–2 (5 psi) oder mehr
erzeugt, werden die Reibkräfte,
welche überwunden werden
müssen,
um die Reinigungshülse 10 mit
Bezug auf die Schutzhülse 15 zu
bewegen, wesentlich vergrößert, wenn
man dies mit der Anordnung, die in der 1 gezeigt
ist, vergleicht. Dies verursacht eine Anzahl von ernsten Problemen,
welche umfassen: einen frühzeitigen
Verschleiß der
U-Topfdichtungen 35, 40, die Notwendigkeit, eine
stärkere
Einrichtung zu verwenden, um die Reinigungshülse 10 zu betätigen, die
vergrößerte Wahrscheinlichkeit,
dass das Überwinden
der Reibkräfte,
welche durch die Lippen 36, 41 erzeugt werden,
einen Bruch der Schutzhülse 15 verursachen
wird und ähnliches.
Diese Probleme werden verschlimmert, wenn das in Rede stehende Strahlungsquellenmodul
eine Vielzahl von Schutzhülsen 15 und
Reinigungshülsen 10 umfasst,
wobei die letzteren gleichzeitig betätigt werden, wenn es gewünscht wird,
um die Außenseite
der Schutzhülse 15 zu
reinigen.
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Zusammenfassend
stellen die Dichtungsanordnungen gemäß dem Stand der Technik entweder einen
geringen Widerstand gegenüber
einer Leckage von Reinigungslösung
unter druckbeaufschlagten Zuständen
zur Verfügung
(1) oder stellen einen derart großen Widerstand
gegenüber
der Leckage zur Verfügung,
dass ein Hort von anderen Problemen, welche möglicherweise noch ernster sind,
erzeugt wird (2).
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Vorzuziehende
Ausführungen
der vorliegenden Erfindung werden nun mit Bezug auf die 3 bis 7 beschrieben
werden.
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Mit
Bezug auf die 3 und 4 ist eine Fluidbehandlungsvorrichtung 100 dargestellt,
welche einen Einlass 105, einen Auslass 110 und
ein Gehäuse 115 umfasst.
Ein Paar von entgegengesetzt angeordneten Flanschen 120, 125 sind
an entgegengesetzten Enden des Gehäuse 115 angeordnet.
Ein Paar von entgegengesetzt angeordneten Deckplatten 130, 135 sind
jeweils an den Flanschen 120, 125 angeschlossen,
um in dem Fall des Behandelns von Flüssigkeiten eine fluiddichte
Abdichtung zur Verfügung
zu stellen.
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Angeordnet
in dem Gehäuse 115 ist
eine Strahlungsquellenbaugruppe 140, welche ein Paar von
Strahlungsquellen umfasst, vorzugsweise Lampen 145 mit
ultravioletter Strahlung, welche innerhalb einer Schutzhülse 150 angeordnet
sind – zum
Beispiel einer Quarzhülse.
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Angeordnet
benachbart zu der Deckplatte 135 ist eine Reinigungsvorrichtung 200.
Die Reinigungsvorrichtung 200 umfasst ein Paar von Stangen 205, 210,
welche durch die Deckplatte 135 gleitend bewegbar sind.
Angeschlossen an die Enden der Stangen 205, 210 ist
eine Reinigungshülse 300,
von welcher die Details weiter unten beschrieben werden. Angeschlossen
an die anderen Enden der Stangen 205, 210 ist
eine Platte 215, welche mit einem Schlitten 219 verbunden
ist, der entlang einer Schiene 220 bewegbar ist. Die Schiene 220 ist
ein herkömmlicher
elektrischer Schraubenantrieb, welcher an einen elektrischen Motor
(nicht gezeigt) oder andere elektrische Bewegungsmittel angeschlossen
ist. Der elektrische Motor dient dazu, die Schraube (nicht gezeigt)
zu drehen, was den Schlitten 219 entlang der Schiene 220 verschiebt,
wodurch die Platte 215 bewegt wird.
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Mit
Bezug auf die 5 bis 7 wird eine detaillierte
Erläuterung
der Ausführung
der Reinigungshülse 300 zur
Verfügung
gestellt werden. So umfasst die Reinigungshülse 300 ein Hülsenelement 305,
welches die Schutzhülse 150 einer
Strahlungsquellenbaugruppe 140 umschließt und über dieser bewegbar ist (siehe
die 3 und 4). Das Hülsenelement 305 umfasst
eine Kammer 310 zum Aufnehmen eines Reinigungsfluids – in den 5 bis 7 ist
das Reinigungsfluid in ausgezogenem Schwarz dargestellt. Die Reinigungskammer 310 ist auf
eine herkömmliche
Art und Weise an die Stangen 205, 210 und schließlich die
Platte 215 (3 und 4) gekoppelt.
Die Stange 210 ist mit einer Zufuhr von Reinigungsfluid
(nicht gezeigt) verbunden, welches zu der Reinigungskammer 310 geführt werden kann.
Die Stange 205 kann verwendet werden, um das Reinigungsfluid
aus der Reinigungskammer 210 abzulassen. Das Reinigungsfluid
kann eine Essigsäure
sein oder jedes geeignete Fluid, welches die Entfernung von verschmutzenden
Materialien (zum Beispiel Mineralien, Algen und ähnliches) von der Oberfläche der
Schutzhülse 150 erleichtern
wird. Im wesentlichen wird die Reinigungskammer 310 durch ein
Paar von ringförmigen
Dichtungen 330, 350 begrenzt, welche, wenn die
Hülse 300 auf
der Quarzhülse 150 montiert
ist, eine Dichtung des im wesentlichen fluiddichten Typs ausbilden.
Die Dichtungen 330, 335 sind vorzugsweise herkömmliche
O-Ringe oder ähnliches.
Im wesentlichen benachbart angeordnet zu den Dichtungen 330, 335 sind
jeweils ein Paar von TeflonTM-Lagern 340, 345.
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Ebenso
angeordnet in dem Hülsenelement 305 ist
eine Öffnung 350.
Angeordnet in der Öffnung 350 ist
ein flexibles Element 355. Das flexible Element 355 wird
an seiner Position durch eine Kappe 360 gehalten, welche
durch Schrauben 360, 365 an der Reinigungshülse 300 montiert
ist, wobei die Kappe 360 derart ausgeführt ist, dass sie eine Öffnung 370 aufweist.
Die Kombination der Kappe 360 und des flexiblen Elementes 355 bildet
eine Kammer 375 aus, welche mit der Öffnung 370 mit der
Außenseite des
Hülsenelementes 305 in
Verbindung steht.
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Die
Auswahl des flexiblen Elementes 355 ist nicht besonders
beschränkt.
Im allgemeinen sollte dieses Element derart ausgewählt werden,
dass es eine Dichtung des Fluidtyps ausbildet, wenn die Kappe 360 an
ihre Position geschraubt wird. Das flexible Element 355 sollte
ebenso derart ausgewählt
werden, dass es ansprechend auf die Erzeugung eines Druckgradienten über diesem
bewegbar ist. Praktisch wird bevorzugt, dass ein flexibles Polymer
wie zum Beispiel EPDM (Ethylen-Propylen-Dien-Monomer-Terpolymer)
verwendet wird. Selbstverständlich können andere
Elastomere, Kunststoffe und nicht polymerische Materialien verwendet
werden, vorausgesetzt, sie sind in Abhängigkeit von der Erzeugung
des Druckgradienten, auf welchen oben Bezug genommen wurde, bewegbar.
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Im
Betrieb wird, wenn es gewünscht
wird, die Außenseite
der Schutzhülse 150 zu
reinigen, die elektrisch angetriebene Schraube (nicht gezeigt) in der
Schiene 220 betätigt,
wodurch die Platte 215 mit Bezug auf die Schiene 220 bewegt
wird. Dies führt zur
Bewegung der Reinigungshülse 300 über der Schutzhülse 150.
Solch eine Reinigung kann ausgeführt
werden, während
die Fluidbehandlungsvorrichtung 100 im Betrieb steht, oder
während
sie ausgeschaltet worden ist, zur Wartung oder aus einem anderen
Grund. Ferner ist es möglich,
die Abmaße
des Gehäuse 115 derart
auszuführen,
dass die Reinigungshülse 300 in
einer Position in dem Gehäuse 115 derart
geparkt werden kann, dass sie nicht die hydraulische Strömung von
Fluid durch die Vorrichtung stört.
Wie für
den Fachmann offensichtlich sein wird, zeigt die 3 die
Reinigungshülse 305 in
der vollständig
ausgefahrenen (das heißt
in das Gehäuse 115 hinein)
Position, wohingegen die 4 die Reinigungshülse 305 benachbart
zu einer zurückgezogenen
(geparkten) Position darstellt.
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Wenn
zuerst die Fluidbehandlungsvorrichtung 100 verwendet wird,
wird das Reinigungsfluid in der Reinigungskammer 310 typischerweise
auf einem Druck liegen, welcher abweichend gegenüber dem Druck des Fluids ist,
welches behandelt wird. Somit wird ein Druckgradient quer über dem
flexiblen Element 355 erzeugt. In Reaktion auf diesen Druckgradienten
wird sich das flexible Element 355 bewegen (typischerweise
in einer Richtung weg von dem angelegten Druck, typischerweise eine
kleine Strecke). Diese Bewegung des flexiblen Elementes 355 verursacht
eine Zunahme des Druckes in der Reinigungskammer 310 mit
dem Ergebnis, dass der Druck innerhalb der Reinigungskammer 310 anfängt, den Druck
des Fluides außerhalb
der Reinigungshülse 300 auszugleichen.
Diese Bewegung in Richtung eines Druckausgleiches quer über dem
flexiblen Element 355 vermeidet oder vermindert das Versagen der
Dichtungen 330, 335. Somit kann die dargestellte Reinigungshülse 300 derart
ausgeführt
werden, dass herkömmliche
Dichtungen 330, 335 des O-Ringtyps verwendet werden,
wobei ein Versagen von beiden Dichtungen, wie es oben mit Bezug
auf die 1 beschrieben worden ist, vermieden
oder abgeschwächt wird.
Selbstverständlich
vermeidet dies die Probleme oder schwächt diese ab, welche mit der
Dichtungsanordnung der 2, welche hier oben beschrieben worden
ist, verbunden sind.
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Während die
vorliegende Erfindung mit Bezug auf vorzuziehende und spezifisch
dargestellte Ausführungen
beschrieben worden ist, wird der Fachmann selbstverständlich verstehen,
dass verschiedene Modifikationen an diesen vorzuziehenden und dargestellten
Ausführungen
innerhalb des Schutzumfangs des angehängten Anspruchssatzes ausgeführt werden
können.
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Zum
Beispiel ist es möglich,
das Hülsenelement 305 derart
auszuführen,
dass es eine abgedichtete Reinigungskammer aufweist, welche nicht
direkt mit einer Zufuhr von Reinigungsfluid verbunden ist. In diesem
Fall würde
das Dichtungselement 305 geeignet derart modifiziert, dass
es eine Einspritzöffnung zur
Einspritzung von Reinigungsfluid in periodischen Intervallen aufweist.
Zudem kann, während
die dargestellten Ausführungen
sich auf ein geschlossenes Fluidbehandlungssystem beziehen, die
vorliegende Reinigungsvorrichtung in einem offenen Fluidbehandlungssystem
verwendet werden, wie zum Beispiel demjenigen, welches in den Maarschalkerweerd
#1 Patenten dargestellt ist, oder in einem kombinierten offenen/geschlossenen
Fluidbehandlungssystem, wie dies in den Maarschalkerweerd #2 Patenten
dargestellt ist, auf welche hier weiter oben Bezug genommen wurde.
Es ist zudem auch noch möglich,
einen bewegbaren Kolben zu verwenden, welcher sich in Richtung der
oder weg von der Reinigungskammer bewegt, in Abhängigkeit der Natur (zum Beispiel
der Richtung) des Druckgradienten. Andere Modifikationen an den
dargestellten Ausführungen
werden für
den Fachmann offensichtlich sein.