CN105451901A - 清洁装置 - Google Patents
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 86
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 85
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims abstract description 66
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 claims description 26
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 15
- 238000013519 translation Methods 0.000 claims description 7
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 6
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 4
- 230000008676 import Effects 0.000 claims description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 5
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 5
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 125000003003 spiro group Chemical group 0.000 description 4
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- -1 pottery Substances 0.000 description 1
- 230000036316 preload Effects 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 230000000284 resting effect Effects 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
- C02F1/32—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
- C02F1/325—Irradiation devices or lamp constructions
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/12—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools
- B08B1/30—Cleaning by methods involving the use of tools by movement of cleaning members over a surface
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B9/00—Cleaning hollow articles by methods or apparatus specially adapted thereto
- B08B9/02—Cleaning pipes or tubes or systems of pipes or tubes
- B08B9/023—Cleaning the external surface
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
- C02F2201/322—Lamp arrangement
- C02F2201/3223—Single elongated lamp located on the central axis of a turbular reactor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
- C02F2201/322—Lamp arrangement
- C02F2201/3225—Lamps immersed in an open channel, containing the liquid to be treated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
- C02F2201/324—Lamp cleaning installations, e.g. brushes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2303/00—Specific treatment goals
- C02F2303/14—Maintenance of water treatment installations
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
Abstract
公开了一种用于流体处理系统中的辐射源组件的清洁装置。该清洁系统包括：清洁托架，其包括与辐射源组件的外部的至少部分接触的至少一个清洁元件；无杆缸，其包括具有纵向轴线的伸长外壳；置于伸长外壳外表面上的可滑动元件，该可滑动元件(i)连接到清洁托架，并且(ii)磁性连接到置于伸长外壳内、包括摩擦改性元件的驱动元件上，该摩擦改性元件与伸长外壳的内表面接触以限定绕纵向轴线的旋转方向的第一摩擦阻力以及沿着纵向轴线的轴向方向的第二摩擦阻力，该摩擦改性元件配置成使第一摩擦阻力大于第二摩擦阻力；以及连接到驱动元件的伸长活动元件。
Description
相关申请的交叉引用
根据35U.S.C§119(e)，本申请要求于2012年12月7日提交的临时专利申请序号61/734479的优先权，其内容通过引用合并于此。
技术领域
一方面，本发明涉及一种清洁装置。又一方面，本发明涉及一种包括该清洁系统的辐射源模块。另一方面，本发明涉及一种去除辐射源组件外表面的污垢物质的方法。在阅览本说明书的基础上，本发明的其他方面对本领域普通技术人员来说将是显而易见的。
背景技术
流体处理系统在本领域内是众所周知的。
例如，美国专利4482809、4872980和5006244[均在Maarschalkerweerd名下，接下来被称为Maarschalkerweerd#1专利]均描述了采用紫外线(UV)辐射的重力馈送式流体处理系统。
这种系统包括UV灯框架阵列，UV灯框架阵列包括若干个UV灯，每个UV灯都安装在套筒内，套筒在附接到横梁上的一对腿部之间延伸并由其支撑。受到如此支撑的套筒(包括UV灯)浸在待处理流体内，该流体随后按照需要进行辐射。流体受到的辐射量由流体与灯的接近度、灯的输出瓦数和流体经过灯的流速确定。通常来说，可采用一个或多个UV传感器来监测灯的UV输出并且通常通过液位闸门等在处理装置下游将液位控制到某种程度。
取决于正在处理的流体品质，包围UV灯的套筒阶段性地受到外部物质污染，从而抑制其将UV辐射传递至流体的能力。对于指定装置而言，这种污染的出现可以根据历史运行数据或者UV传感器的测量值确定。一旦污垢已经达到某一点，套筒必须进行清洗以去除污垢物质并优化系统性能。
如果UV灯模块用在开放通道系统(例如，诸如Maarschalkerweerd#1专利中描述并且图示的那种)，一个或多个模块可在系统继续运行时移除，移除的框架可浸在合适的清洗溶液(例如弱酸)的池内，该清洗溶液可被空气搅拌以去除污垢物质。这种操作被本领域内的许多技术人员认为是低效、费力且麻烦的。
多数情况下，一旦安装，与现有技术流体处理系统有关的、最大的保养费用之一往往是清洗辐射源周围的套筒的费用。
美国专利5418370、5539210和RE36896[均在Maarschalkerweerd名下，接下来被称为Maarschalkerweerd#2专利]均描述了一种改进的清洁系统，特别有利于用在采用UV辐射的重力馈送式流体处理系统中。总的来说，清洁系统包括清洁托架，清洁托架接合辐射源组件外部的部分，该辐射源组件包括辐射源(例如UV灯)。该清洁托架可在(i)缩回位置和(ii)伸出位置之间运动，在缩回位置辐射源组件的第一部分暴露于待处理流体流中，而在伸出位置辐射源组件的第一部分完全或者部分被清洁托架盖住。清洁托架包括与辐射源组件的第一部分接触的腔室。该腔室供给有适于从辐射源组件的第一部分去除不希望物质的清洁溶液。
Maarschalkerweerd#2专利中描述的清洁系统代表了本领域内的重大进步，尤其是在这些专利中图示的辐射源模块和流体处理系统中实施时。然而，图示清洁系统在诸如Maarschalkerweerd#1专利中图示的那种流体处理模块中的实施是有问题的。
该问题已被美国专利6342188[Pearcey等人(Pearcey)]解决。Pearcey教导使用无杆缸作为清洁系统(例如Maarshalkerweerd#2专利教导的那种系统或者其他清洁系统)的驱动机构。在图示实施例中，Pearcey教导使用液压/气动系统(例如Pearcey的图6)或者螺杆驱动(Pearcey的图9)来运动包含在无杆缸中的活塞。该活塞磁性连接到位于无杆缸外部的可滑动元件。可滑动元件连接到包含一个或多个清洁环的清洁托架。因此，一旦活塞在无杆缸内运动，可滑动元件/清洁托架相应地运动。
Pearcey教导的液压/气动系统是有问题的。在这些系统的实施过程中，主要(centrally)用在流体处理系统中的液压泵或者空气压缩机也用来驱动无杆缸。高压供给通过使用歧管和到歧管的管道传递至无杆缸。不巧地，管道、歧管及它们相关的配件易于随着时间产生泄漏，造成压降，并且在液压泵的情形下，造成来自溢出液压流体的环境影响(concern)。气动方法(使用空气压缩机)是有问题的，因为其未向无杆缸提供恒定的力。特别是，由于空气是可压缩的，如果在操作期间系统卡死导致缸体的猛烈停止和起动，压力会积聚。此外，这种液压/气动系统制造和维护成本较高。
出于这些原因，研究Pearcey教导的螺杆驱动系统。使用这种系统总的来说克服了与液压/气动系统有关的上述问题。然而，产生了不同的问题。特别是，在Pearcey教导的螺杆驱动系统实施过程中，联接螺母被用来啮合螺杆驱动。当使用联接螺母并且螺杆驱动被致动时，联接螺母将随着螺杆驱动的螺杆转动。如果用键来固定联接螺母，键需要与无杆缸一样长—考虑到无杆缸内部的实际空间限制，这不是实用解决方案。Pearcey还教导一种封闭螺杆驱动，因此其不会暴露于碎屑中，意味着其不会受到粘结和由此产生的损坏。
因此，希望有一种针对与实施非液压/气动驱动元件，例如Pearcey教导的螺杆驱动系统有关的问题的解决方案。
发明内容
本发明的目的是消除或者减轻现有技术中至少一个上述缺点。
本发明的另一个目的是提供一种新颖的清洁装置。
因此，一方面，本发明提供一种用于流体处理系统中辐射源组件的清洁装置，该清洁系统包括：
清洁托架，其包括与辐射源组件的外部的至少部分接触的至少一个清洁元件；
无杆缸，其包括具有纵向轴线的伸长外壳；
可滑动元件，其置于伸长外壳的外表面上，该可滑动元件(i)连接到清洁托架；并且(ii)磁性连接到置于伸长外壳内、包括摩擦改性元件的驱动元件，该摩擦改性元件与伸长外壳的内表面接触以限定绕纵向轴线的旋转方向的第一摩擦阻力以及沿纵向轴线的轴向方向的第二摩擦阻力，该摩擦改性元件配置成使第一摩擦阻力大于第二摩擦阻力；以及
伸长活动元件，其连接到驱动元件。
另一方面，本发明提供一种包括清洁装置的辐射源模块。
又一方面，本发明提供一种包括辐射源模块的流体处理系统。
因此，本发明人发明了一种新颖的清洁装置，其克服了与诸如Pearcey教导的螺杆驱动元件的非液压/气动驱动元件的实施有关的上述问题。该问题通过引入所谓的“摩擦改性元件”的驱动元件而得到解决，该摩擦改性元件与无杆缸的伸长外壳的内表面接触。
在优选实施方式中，本清洁装置中的摩擦改性元件可包括曲面(无杆缸伸长外壳的内部部分)、滚子元件和斜面(优选位于接下来详细描述的环形元件上)。滚子元件置于斜面和曲面之间，从而在其被驱赶到由曲面和斜面组合形成的楔形孔内时产生摩擦力。摩擦力的产生基本阻止了驱动元件绕无杆缸伸长外壳的纵向轴线的转动。更确切地，驱动元件沿无杆缸伸长外壳的纵向轴线的运动变得更加方便。
在本清洁装置的优选实施方式中，用于无杆缸伸长外壳、滚子元件和环形元件(包括斜面)的材料可选自各种材料，只要材料足够耐用。例如，这些元件可以由金属、陶瓷、塑料等等制成。不同材料可用于不同元件。
当滚子元件用于本清洁装置的优选实施方式中时，优选其具有如下长度和直径，其中长度与直径的比值在大约1.5到大约6的范围内，更优选为大约3到6的范围内，最优选为大约5。在该优选实施方式中，进一步优选的是，滚子元件的直径与无杆缸伸长外壳的内径的比值在大约10到大约15的范围内，更优选为大约11到大约13的范围内，最优选为大约12。
在优选实施方式中，摩擦改性元件包括置于容纳部(receptacle)内的滚子元件，容纳部包含在联接到驱动元件的环形元件内。在优选实施方式中，滚子元件的形状大体为圆柱形(即，其具有大体圆形的截面)。当然，其他实施方式也是可能的。例如，滚子元件具有锥形截面。可替换地，滚子元件还可以为滚珠轴承形式。进一步地，滚子元件可具有椭圆形截面。
在该优选实施方式中还可能的是，用偏压元件(例如弹簧)对滚子元件预加负载，该偏压元件将滚子元件推动就位(类似于限滑差速器或者锁定差速器)。使用这种偏压元件可允许滚子元件最初摩擦力的更多控制或者调节，并且由于变化可由弹簧进行补偿允许在加工元件中更大的公差。使用这种偏压元件可以以某种方式有效地对摩擦改性元件预加载，使得即使在清洁装置的休眠状态下(即，即使驱动元件未被致动时)也可防止旋转。偏压元件可以是盘簧、板簧、弹性体等等。
附图说明
将参考附图描述本发明的实施方式，其中相同的附图标记表示相同的部件，其中：
图1图示出本清洁装置优选实施方式的透视图(为清楚起见不带有清洁托架和连接的硬件)；
图2图示出图1所示实施方式的俯视图；
图3图示出图2所示实施方式的侧视图(不带有电机盖)；
图4是沿图3中线IV-IV的剖视图；
图5图示出图4所示实施方式的部分的侧视图；
图6图示出沿图5中线VI-VI截取的剖视图；
图7图示出取自图6的放大部分A；
图8是沿图4中线VIII-VIII截取的放大剖视图；和
图9-11图示出用于图1-8所示的实施方式中的环形元件的优选形式的各个视图。
具体实施方式
本发明涉及一种用于流体处理系统中的辐射源组件的清洁装置，该清洁装置包括：清洁托架，其包括与辐射源组件的外部的至少部分接触的至少一个清洁元件；无杆缸，其包括具有纵向轴线的伸长外壳；可滑动元件，其置于伸长外壳外表面上，该可滑动元件(i)连接到清洁托架上，并且(ii)磁性连接到置于伸长外壳内、包括摩擦改性元件的驱动元件上，该摩擦改性元件与伸长外壳的内表面接触以限定绕纵向轴线的旋转方向的第一摩擦阻力以及沿纵向轴线的轴向方向的第二摩擦阻力，摩擦改性元件配置成使第一摩擦阻力大于第二摩擦阻力；以及伸长活动元件，其连接到驱动元件。该清洁装置的优选实施方式可包括所有下列特征中的任何一个或者任意两个或更多个的组合：
-摩擦改性元件能够基本防止驱动元件绕纵向轴线的旋转；
-驱动元件相对于伸长外壳的纵向轴线同轴定向；
-摩擦改性元件包括具有容纳部分的环形元件，容纳部分能够接收滚子元件，滚子元件能够与伸长外壳的内表面接触；
-容纳部分具有截面形状，所述截面形状能够推动滚子元件靠在伸长外壳的内部防止(open)环形元件绕纵向轴线的旋转；
-环形元件包括能够接收第一滚子元件的第一容纳部和能够接收第二滚子元件的第二容纳部；
-第一容纳部具有第一截面形状，第一截面形状能够推动滚子元件靠在伸长外壳的内部防止(open)环形元件绕纵向轴线在第一方向上的旋转；
-第二容纳部具有第二截面形状，第二截面形状能够推动滚子元件靠在伸长外壳的内部防止(open)环形元件绕纵向轴线在与第一方向相反的第二方向上的旋转；
-第一截面形状和第二截面形状是不同的；
-第一截面形状和第二截面形状大体上相同；
-第一截面形状和第二截面形状大体关于垂直于伸长外壳的纵向轴线的轴线彼此镜像；
-环形元件包括两对或者更多对第一容纳部和第二容纳部；
-环形元件包括三对第一容纳部和第二容纳部；
-清洁装置进一步包括能够相对于驱动元件固定摩擦改性元件的键元件；
-清洁装置进一步包括能够相对于驱动元件固定环形元件的键元件；
-摩擦改性元件联接到驱动元件的端部；
-驱动元件包括一对摩擦改性元件；
-根据权利要求17所述的清洁装置，其中所述对摩擦改性元件联接到驱动元件的相对端部；
-活动元件包括置于无杆缸内的伸长机械驱动装置；
-机械驱动装置包括与驱动元件接合的伸长可转动元件；
-驱动元件包括联接到机械驱动装置的联接元件；
-联接元件包括伸长机械驱动装置可通过的伸长通道；
-伸长通道具有大体上与伸长外壳的纵向轴线同轴的纵向轴线；
-机械驱动装置包括与驱动元件接合的伸长可旋转螺杆；
-驱动元件在伸长外壳内可轴向滑动；
-驱动元件包括多个驱动磁体并且可滑动元件包括多个被驱动磁体；
-无杆缸可浸入待处理流体中；
-清洁托架包括多个清洁环；
-清洁环是环形的；
-多个清洁环相对于彼此平行设置；
-清洁托架包括相对于无杆缸对置的至少一对清洁环；
-清洁托架包括相对于无杆缸对置的第一组清洁环和第二组清洁环；
-第一组清洁环和第二组清洁环包含相同数目的清洁环；
-清洁托架包括相对于无杆缸成大体环形关系设置的多个清洁环；
-每个清洁环包括刮板元件，用来在可滑动元件沿无杆缸平移时刮去不希望的、来自辐射源组件外部的至少一部分物质；
-每个清洁环包括擦拭元件，用来在可滑动元件沿无杆缸平移时擦去不希望的、来自辐射源组件外部的至少一部分物质；
-每个清洁环包括密封件，用于与辐射源组件的外部的部分密封接合，该密封件在可滑动元件沿无杆缸平移时去除不希望的、来自辐射源组件外部的至少一部分物质；
-清洁环包括用于围绕辐射源组件外部的部分的腔室；和/或
-清洁环进一步包括用于将清洁溶液引入到腔室内的进口。
本发明还涉及一种包括用在流体处理系统中的辐射源模块的辐射源模块，该模块包括：具有第一支撑元件的框架；自第一支撑元件延伸的至少一个辐射源组件，所述至少一个辐射源组件包括辐射源；和上述清洁装置。该辐射源模块的优选实施方式包括所有下列特征中的任何一个或者任意两个或更多个的组合：
-辐射源模块包括用于将辐射源模块定位在流体处理系统中的装置；
-所述至少一个辐射源组件与第一支撑元件密封接合；
-框架进一步包括与第一支撑元件相对且横向间隔的第二支撑元件，所述至少一个辐射源组件置于每个第一支撑元件和第二支撑元件之间；
-框架进一步包括与第一支撑元件和第二支撑元件相互连接的第三支撑元件；
-框架进一步包括用于控制辐射源的电源；
-第一支撑元件包括中空通道，用于接收用于将电力传递至辐射源的导线；
-辐射源组件包括围绕辐射源的保护套筒；
-保护套筒包括石英套筒；
-保护套筒具有与第一支撑元件中的开口密封接合的开口端和由第二支撑元件支撑的封闭端；和/或
-开口端是密封的以防止流体进入模块。
本发明还涉及一种流体处理系统，其包括用于接收流体流的流体处理区域和如上所述的至少一个辐射源模块，其中所述至少一个辐射源模块配置成使得将一个辐射源组件置于流体处理区域内。该流体处理系统的优选实施方式可包括所有下列特征中的任何一个或者任意两个或更多个的组合：
-流体处理区域包括在用于接收流体流的开放通道内；
-流体处理区域包括在用于接收流体流的封闭通道内；
-所述至少一个辐射源组件是伸长的，并且具有横向于流体流过流体处理区域的方向设置的纵向轴线；
-所述至少一个辐射源组件是伸长的，并且具有大体上平行于流体流过流体处理区域的方向设置的纵向轴线；
-所述至少一个辐射源组件是伸长的，并且具有与流体流过流体处理区域的方向正交设置的纵向轴线；和/或
-所述至少一个辐射源组件是伸长的并且大体竖直地设置在流体处理区域内。
参考图1-4，图示的是一种清洁装置100。
正如对本领域普通技术人员来说显而易见，清洁装置100没有包括清洁托架、清洁腔室及其他硬件、在优选实施方式中使用它的辐射源模块。这些细节都是常见的，可在如上所述的Pearcey和美国专利6646269[Traubenberg等人]中找到。
因此，清洁装置100包括无杆缸105，无杆缸105具有经由联接板115连接到电机110的一端。电机110可包括盖或者护罩120。位于无杆缸105外部上的是可滑动元件125。位于无杆缸105内部的是螺杆驱动元件130。同样位于无杆缸105内部的是驱动元件135。
参考图5-8，示出的是清洁装置100的一部分，不带有无杆缸105的外部部分、电机110、护罩120和可滑动元件125。仅仅为清楚起见将这些元件从图5-8中去除。
因此，驱动元件135包括位于其相对端部的摩擦改性元件140。插入到驱动元件135上的摩擦改性元件140之间的是与可滑动元件125上的磁体相互作用的多个磁体160(未图示于图1-4)，但是其细节可在上面提及的Pearcey和Traubenberg等人的文献中找到。
参考图8，摩擦改性元件140和无杆缸105的内表面之间的相互作用是可以理解的。因此，可以看出，摩擦改性元件140包括通过键元件145相对于驱动元件135固定的环形元件143。环形元件143包括一对相对的容纳部147、149。容纳部17被配置为具有平面表面148而容纳部149被配置为具有平面表面150。设置在容纳部147里的是滚子元件144而设置在容纳部149里的是滚子元件146。正如所见，有设置在环形元件143内的三对容纳部147、149和滚子元件144、146。在所示实施方式中，环形元件143可被认为是所谓的"星形轮"。
进一步参考图8，可以看出的是联接螺母155固定到螺杆驱动装置130和驱动元件135。
图10-11图示出环形元件143的各个视图。
进一步参考图8，清洁装置100以以下方式操作。当螺杆驱动装置130沿顺时针方向旋转时，环形元件143上的任何旋转力传递到被驱赶或者楔入到平面表面140和无杆缸105的内表面之间的空间内的滚子元件146。这有效地防止了环形元件143的旋转运动并且促进了使驱动元件135沿无杆缸105的内部平移的纵向移动。
反之，当螺杆驱动装置130沿逆时针方向旋转时，传递到环形元件143的任何旋转力接着传递到陷入或者楔入到平面表面148和无杆缸105的内表面之间的空间内的滚子元件144。同样，这用来防止环形元件143的旋转以及促进驱动元件135沿无杆缸105的内表面的纵向移动。
因此，本领域普通技术人员可以理解的是，提供具有关于将其一分为二的轴线彼此镜像的截面形状的容纳部147、148允许防止环形元件143的双向旋转运动。改变容纳部147、148的确切截面形状同时保持该功能自然是可能的。
虽然已经参考示例性实施方式和示例描述了本发明，但描述不应被解读为具有限制含义。因此，通过参照说明书，示例性实施方式的各种变型以及本发明的其他实施方式对本领域普通技术人员来说是显而易见的。因此可以预期的是，所附权利要求将涵盖任何这种变型或实施方式。
所有的公开文献、专利以及专利申请通过引用整体合并于此，如同每个单独的公开文献、专利或专利申请具体地和单独地指示通过引用整体合并于此。
Claims (57)
1.一种用于流体处理系统中的辐射源组件的清洁装置，该清洁系统包括：
清洁托架，其包括与辐射源组件的外部的至少部分接触的至少一个清洁元件；
无杆缸，其包括具有纵向轴线的伸长外壳；
可滑动元件，其置于伸长外壳的外表面上，可滑动元件(i)连接到清洁托架；并且(ii)磁性连接到置于伸长外壳内的驱动元件，驱动元件包括摩擦改性元件，摩擦改性元件与伸长外壳的内表面接触以限定绕纵向轴线的旋转方向上的第一摩擦阻力以及沿纵向轴线的轴向方向上的第二摩擦阻力，摩擦改性元件能够使得第一摩擦阻力大于第二摩擦阻力；和
伸长活动元件，其连接到驱动元件。
2.根据权利要求1所述的清洁装置，其中，摩擦改性元件能够基本防止驱动元件绕纵向轴线的旋转。
3.根据权利要求1-2所述的清洁装置，其中，驱动元件相对于伸长外壳的纵向轴线同轴定向。
4.根据权利要求1-3所述的清洁装置，其中，摩擦改性元件包括具有容纳部分的环形元件，容纳部分能够接收滚子元件，滚子元件能够与伸长外壳的内表面接触。
5.根据权利要求4所述的清洁装置，其中，容纳部分具有截面形状，所述截面形状能够推动滚子元件靠在伸长外壳的内部，防止环形元件绕纵向轴线的旋转。
6.根据权利要求4-5所述的清洁装置，其中，环形元件包括能够接收第一滚子元件的第一容纳部和能够接收第二滚子元件的第二容纳部。
7.根据权利要求4所述的清洁装置，其中，第一容纳部具有第一截面形状，所述第一截面形状能够推动滚子元件靠在伸长外壳的内部防止环形元件绕纵向轴线在第一方向上的旋转。
8.根据权利要求7所述的清洁装置，其中，第二容纳部具有第二截面形状，所述第二截面形状能够推动滚子元件靠在伸长外壳的内部防止环形元件绕纵向轴线在与第一方向相反的第二方向上的旋转。
9.根据权利要求8所述的清洁装置，其中，第一截面形状与第二截面形状是不同的。
10.根据权利要求8所述的清洁装置，其中，第一截面形状与第二截面形状是大体上相同的。
11.根据权利要求10所述的清洁装置，其中，第一截面形状和第二截面形状大体关于垂直于伸长外壳的纵向轴线的轴线彼此镜像。
12.根据权利要求6-11所述的清洁装置，其中，环形元件包括两对或更多对第一容纳部和第二容纳部。
13.根据权利要求6-11所述的清洁装置，其中，环形元件包括三对第一容纳部和第二容纳部。
14.根据权利要求1-13所述的清洁装置，进一步包括能够相对于驱动元件固定摩擦改性元件的键元件。
15.根据权利要求4-13所述的清洁装置，进一步包括能够相对于驱动元件固定环形元件的键元件。
16.根据权利要求1-15所述的清洁装置，其中，摩擦改性元件联接到驱动元件的端部部分。
17.根据权利要求1-15所述的清洁装置，其中，驱动元件包括一对摩擦改性元件。
18.根据权利要求17所述的清洁装置，其中，所述对摩擦改性元件联接到驱动元件的相对的端部部分。
19.根据权利要求1-18所述的清洁装置，其中，活动元件包括设置在无杆缸内的伸长机械驱动装置。
20.根据权利要求19所述的清洁装置，其中，机械驱动装置包括与驱动元件接合的伸长可旋转元件。
21.根据权利要求19-20中任一权利要求所述的清洁装置，其中，驱动元件包括联接到机械驱动装置上的联接元件。
22.根据权利要求21所述的清洁装置，其中，联接元件包括伸长机械驱动装置通过的伸长通道。
23.根据权利要求22所述的清洁装置，其中，伸长通道具有与伸长外壳的纵向轴线大体同轴的纵向轴线。
24.根据权利要求19-23中任一权利要求所述的清洁装置，其中，机械驱动装置包括与驱动元件接合的伸长可旋转螺杆元件。
25.根据权利要求1-24中任一权利要求所述的清洁装置，其中，驱动元件能够在伸长外壳内轴向滑动。
26.根据权利要求25所述的清洁装置，其中，驱动元件包括多个驱动磁体并且可滑动元件包括多个被驱动磁体。
27.根据权利要求1-26中任一权利要求所述的清洁装置，其中，无杆缸能够浸在待处理流体中。
28.根据权利要求1-27中任一权利要求所述的清洁装置，其中，清洁托架包括多个清洁环。
29.根据权利要求28所述的清洁装置，其中，清洁环是环形的。
30.根据权利要求29所述的清洁装置，其中，多个清洁环相对于彼此平行设置。
31.根据权利要求1-30中任一权利要求所述的清洁装置，其中，清洁托架包括相对于无杆缸相对设置的至少一对清洁环。
32.根据权利要求1-31中任一权利要求所述的清洁装置，其中，清洁托架包括相对于无杆缸相对设置的第一组清洁环和第二组清洁环。
33.根据权利要求32所述的清洁装置，其中，第一组清洁环和第二组清洁环包括相同数目的清洁环。
34.根据权利要求1-31中任一权利要求所述的清洁装置，其中，清洁托架包括相对于无杆缸以大体环形关系设置的多个清洁环。
35.根据权利要求1-34中任一权利要求所述的清洁装置，其中，每个清洁环包括刮板元件，用来在可滑动元件沿无杆缸平移时刮去来自辐射源组件外部的至少部分不希望的物质。
36.根据权利要求1-34中任一权利要求所述的清洁装置，其中，每个清洁环包括擦拭元件，用来在可滑动元件沿无杆缸平移时擦去来自辐射源组件外部的至少部分不希望的物质。
37.根据权利要求1-34中任一权利要求所述的清洁装置，其中，每个清洁环包括密封装置，用于与辐射源组件的外部的部分密封接合，该密封装置在可滑动元件沿无杆缸平移时去除来自辐射源组件外部的至少部分不希望的物质。
38.根据权利要求1-37中任一权利要求所述的清洁装置，其中，清洁环包括用于围绕辐射源组件的外部的部分的腔室。
39.根据权利要求38所述的清洁装置，其中，清洁环进一步包括用于将清洁溶液引入腔室的进口。
40.一种用在流体处理系统中的辐射源模块，该模块包括：
具有第一支撑元件的框架；
自第一支撑元件延伸的至少一个辐射源组件，所述至少一个辐射源组件包括辐射源；和
根据权利要求1-22中任一权利要求所述的清洁装置，清洁托架的清洁元件与所述至少一个辐射源组件的外部的至少部分接触。
41.根据权利要求40所述的辐射源模块，进一步包括用于将辐射源模块定位在流体处理系统中的装置。
42.根据权利要求40-41中任一权利要求所述的辐射源模块，其中，所述至少一个辐射源组件与第一支撑元件密封接合。
43.根据权利要求40-42中任一权利要求所述的辐射源模块，其中，框架进一步包括与第一支撑元件相对且横向间隔的第二支撑元件，所述至少一个辐射源组件设置在每个第一支撑元件和第二支撑元件之间。
44.根据权利要求43所述的辐射源模块，框架进一步包括与第一支撑元件和第二支撑元件相互连接的第三支撑元件。
45.根据权利要求42-44中任一权利要求所述的辐射源模块，其中，框架进一步包括用于控制辐射源的电源。
46.根据权利要求40-45中任一权利要求所述的辐射源模块，其中，第一支撑元件包括中空通道，用于接收用于将电力传递至辐射源的导线。
47.根据权利要求40-46中任一权利要求所述的辐射源模块，其中，辐射源组件包括围绕辐射源的保护套筒。
48.根据权利要求47所述的辐射源模块，其中，保护套筒包括石英套筒。
49.根据权利要求47-48中任一权利要求所述的辐射源模块，其中，保护套筒具有与第一支撑元件中的开口密封接合的开口端和由第二支撑元件支撑的封闭端。
50.根据权利要求49所述的辐射源模块，其中，开口端是密封的以防止流体进入模块。
51.一种流体处理系统，其包括用于接收流体流的流体处理区域和根据权利要求40-50中任一权利要求所述的至少一个辐射源模块，其中所述至少一个辐射源模块配置成使得所述一个辐射源组件置于流体处理区域内。
52.根据权利要求51所述的流体处理系统，其中，流体处理区域包括在用于接收流体流的开放通道内。
53.根据权利要求51所述的流体处理系统，其中，流体处理区域包括在用于接收流体流的封闭通道内。
54.根据权利要求51-53中任一权利要求所述的流体处理系统，其中，所述至少一个辐射源组件是伸长的，并且具有横向于流体流过流体处理区域的方向设置的纵向轴线。
55.根据权利要求51-53中任一权利要求所述的流体处理系统，其中，所述至少一个辐射源组件是伸长的，并且具有大体上平行于流体流过流体处理区域的方向设置的纵向轴线。
56.根据权利要求51-53中任一权利要求所述的流体处理系统，其中，所述至少一个辐射源组件是伸长的，并且具有与流体流过流体处理区域的方向正交设置的纵向轴线。
57.根据权利要求51-53中任一权利要求所述的流体处理系统，其中，所述至少一个辐射源组件是伸长的并且大体竖直地设置在流体处理区域内。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US201261734479P | 2012-12-07 | 2012-12-07 | |
| US61/734,479 | 2012-12-07 | ||
| PCT/CA2013/001011 WO2014085912A1 (en) | 2012-12-07 | 2013-12-09 | Cleaning apparatus |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN105451901A true CN105451901A (zh) | 2016-03-30 |
Family
ID=50882702
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201380063920.1A Pending CN105451901A (zh) | 2012-12-07 | 2013-12-09 | 清洁装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20150329380A1 (zh) |
| EP (1) | EP2928622A4 (zh) |
| CN (1) | CN105451901A (zh) |
| CA (1) | CA2894215A1 (zh) |
| WO (1) | WO2014085912A1 (zh) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10704250B2 (en) | 2016-10-28 | 2020-07-07 | Milwaukee Electric Tool Corporation | Sewer cleaning machine |
| US11505229B2 (en) | 2018-04-13 | 2022-11-22 | Milwaukee Electric Tool Corporation | Tool support |
| CN109324379B (zh) * | 2018-11-20 | 2020-07-14 | 嘉兴市瑞鑫塑业有限公司 | 一种用于下水道光缆线的自清洁式玻璃钢穿线器 |
| CN109304337B (zh) * | 2018-11-28 | 2020-10-13 | 浙江远能新能源有限公司 | 一种太阳能真空管内壁清洗机构 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6342188B1 (en) * | 1998-11-03 | 2002-01-29 | Trojan Technologies, Inc. | Radiation source module and cleaning apparatus therefor |
| CA2688947A1 (en) * | 2001-05-30 | 2002-11-30 | Ondeo Degremont, Inc. | Cleaning system for uv disinfection module/reactor |
| JP2007021434A (ja) * | 2005-07-20 | 2007-02-01 | Chiyoda Kohan Co Ltd | 紫外線照射装置用の払拭機構 |
| JP2009011878A (ja) * | 2007-06-29 | 2009-01-22 | Sakae Sangyo Kk | 紫外線消毒装置 |
| KR20110040015A (ko) * | 2009-10-13 | 2011-04-20 | 김광성 | 자력을 이용한 자외선 살균기의 클리닝 시스템 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA1163086A (en) | 1981-11-30 | 1984-03-06 | Jan Maarschalkerweerd | Ultraviolet fluid purifying device |
| US4872980A (en) | 1988-09-13 | 1989-10-10 | Trojan Technologies, Inc. | Fluid purification device |
| US5006244A (en) | 1988-09-13 | 1991-04-09 | Trojan Technologies, Inc. | Fluid purification device |
| TW317558B (zh) | 1993-03-05 | 1997-10-11 | Trotan Technologies Inc | |
| USRE36896E (en) | 1993-03-05 | 2000-10-03 | Trojan Technologies Inc. | Fluid treatment system and process |
| US6646269B1 (en) | 1999-02-26 | 2003-11-11 | Trojan Technologies, Inc. | Radiation source module and cleaning apparatus therefor |
| US6659430B2 (en) * | 2002-02-12 | 2003-12-09 | Paccar Inc | Winch having internal clutch mechanism |
| GB0820644D0 (en) * | 2008-11-12 | 2008-12-17 | Statiflo Internat Ltd | UV Irradiation apparatus and method |
-
2013
- 2013-12-09 WO PCT/CA2013/001011 patent/WO2014085912A1/en active Application Filing
- 2013-12-09 CN CN201380063920.1A patent/CN105451901A/zh active Pending
- 2013-12-09 US US14/650,426 patent/US20150329380A1/en not_active Abandoned
- 2013-12-09 CA CA2894215A patent/CA2894215A1/en not_active Abandoned
- 2013-12-09 EP EP13860008.5A patent/EP2928622A4/en not_active Withdrawn
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6342188B1 (en) * | 1998-11-03 | 2002-01-29 | Trojan Technologies, Inc. | Radiation source module and cleaning apparatus therefor |
| CA2688947A1 (en) * | 2001-05-30 | 2002-11-30 | Ondeo Degremont, Inc. | Cleaning system for uv disinfection module/reactor |
| JP2007021434A (ja) * | 2005-07-20 | 2007-02-01 | Chiyoda Kohan Co Ltd | 紫外線照射装置用の払拭機構 |
| JP2009011878A (ja) * | 2007-06-29 | 2009-01-22 | Sakae Sangyo Kk | 紫外線消毒装置 |
| KR20110040015A (ko) * | 2009-10-13 | 2011-04-20 | 김광성 | 자력을 이용한 자외선 살균기의 클리닝 시스템 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP2928622A1 (en) | 2015-10-14 |
| CA2894215A1 (en) | 2014-06-12 |
| EP2928622A4 (en) | 2016-08-24 |
| WO2014085912A1 (en) | 2014-06-12 |
| US20150329380A1 (en) | 2015-11-19 |
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|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication | ||
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