CN201773271U - 显影装置和包括该显影装置的图像形成设备 - Google Patents

Abstract

一种显影装置和包括该显影装置的图像形成设备。该显影装置包括：壳体，包含调色剂并在其侧面具有开口；显影辊，将通过所述开口供应的调色剂供应到感光鼓；调节器，与所述显影辊的外周接触，以调节被供应到感光鼓的调色剂的量。所述壳体还包括：下框架，具有两个侧部和下端部，分别沿着纵向形成开口的两个边缘和下边缘；上框架，焊接并结合到下框架，并包括形成所述开口的上边缘的引导端部和沿着纵向在引导端部的两个端部从引导端部凹入的凹入部分。下框架的两个侧部包括第一表面，所述第一表面与凹入部分接触以当上框架被焊接并结合到下框架上时防止上框架被推向显影辊。

Description

显影装置和包括该显影装置的图像形成设备

本申请要求于2009年7月16日提交到韩国知识产权局的第10-2009-0064946号韩国专利申请的优先权，该申请的公开内容通过引用被全部结合于此。

技术领域

本实用新型的总体构思涉及一种显影装置和包括该显影装置的图像形成设备。

背景技术

通过将被调制成与图像信息对应的光照射到感光体上以在感光体的表面上形成静电潜像，将调色剂供应到静电潜像以将静电潜像显影成可视的调色剂图像，然后将该调色剂图像转印并定影到记录介质上，从而电子照相图像形成设备将图像打印到记录介质上。电子照相图像形成设备包括含有调色剂的显影装置。

感光体和调色剂可以被设置成墨盒(被称为“显影装置”)的形式。当含在显影装置中的调色剂完全消耗时，从电子照相图像形成设备上拆下显影装置，然后将新的显影装置安装到电子照相图像形成设备中。

实用新型内容

显影装置可包括调色剂保留单元和显影单元。调色剂保留单元和显影单元通过隔离膜被彼此隔开直到他们被安装到电子照相图像形成设备中。在被安装到电子照相图像形成设备之前，调色剂保留单元和显影单元通过移除隔离膜而彼此连接。当移除隔离膜时，除非显影装置被适当地装配，否则调色剂会从显影装置泄露出来。

本实用新型的总体构思在于提供一种防止显影装置中的调色剂泄漏到外部的显影装置和一种包括该显影装置的图像形成设备。

本实用新型的总体构思的其他方面和效用部分将在以下的描述中进行阐述，一部分从描述中将是清楚的，或者可以通过实施本实用新型的总体构思而了解。

本实用新型的总体构思上述和/或其他方面和效用可通过提供一种显影装置实现，该显影装置包括：壳体，包含调色剂并在其侧面具有开口；显影辊，将通过所述开口供应的调色剂供应到感光鼓；调节器，与所述显影辊的外周接触以调节被供应到感光鼓的调色剂的量，所述壳体包括：下框架，具有侧部和下端部，分别沿着纵向形成开口的两个边缘和下边缘；上框架，焊接并结合到下框架，并包括形成所述开口的上边缘的引导端部和沿着纵向在引导端部的两个端部从引导端部凹入的凹入部分，其中，下框架的两个侧部包括第一表面，所述第一表面与凹入部分接触以当上框架被焊接并结合到下框架上时防止上框架被推向显影辊。

调节器可包括：支撑部分，结合到所述壳体；刀片部分，从所述支撑部分向下延伸并具有在纵向与所述显影辊的外周接触的端部。

所述显影装置还可包括第一上密封构件，所述第一上密封构件沿着纵向设置在引导端部处，并与所述刀片部分的内表面接触，以防止调色剂通过所述开口的上边缘泄露。所述显影装置还可包括：第一侧密封构件，设置在下框架的两个侧部的面对显影辊的表面，并与显影辊的外周和刀片部分的内表面接触，以防止调色剂通过所述开口的两个侧边缘泄露；下密封构件，位于下框架的下端部，并与显影辊的外周接触以防止调色剂通过所述开口的下边缘泄露。

第一上密封构件可利用双面胶带附着到引导端部，在下框架的两个侧部的面对显影辊的表面上可设置第一侧密封构件，第一侧密封构件与显影辊的外周和刀片部分的内表面接触，以防止调色剂通过所述开口的两个侧边缘泄露；在所述刀片部分的内表面沿着纵向设置第二上密封构件，所述第二上密封构件与第一侧密封构件重叠。

所述第一上密封构件可以是泡沫弹性构件，所述泡沫弹性构件以液态涂覆到引导端部并在其上发泡。所述泡沫弹性构件可包括：第一密封部分，位于引导端部处；第二密封部分，沿纵向填充在下框架的两个侧部的每个侧部和引导端部的两个端部中的每个端部之间的间隙，其中，泡沫弹性构件基本上具有“H”形状。所述上框架可包括阻挡肋，所述阻挡肋位于下框架的两个侧部的每个侧部和引导端部的两个端部的每个端部之间，并阻挡呈液体状态涂覆以形成第二密封部分的泡沫弹性构件挤入引导端部内。所述两个侧部的每个侧部与阻挡肋之间的间隔可以是0.7mm到1.5mm。

在刀片部分的两个端部中的每个端部处沿纵向可设置第二侧密封构件，所述第二侧密封构件与设置在下框架的两个侧部的表面上第的一上密封构件和所述第一侧密封构件重叠，以防止调色剂在第一上密封构件和所述侧密封构件之间泄露。

所述引导端部可具有“L”形状，以支撑所述上密封构件不被调节器向下推。

焊接接头和焊缝根部围绕除了所述开口之外的调色剂容纳空间，所述焊接接头和焊缝根部可分别设置在上框架和下框架上，并且所述焊接接头和焊缝根部的至少一部分可沿着竖直方向倾斜。

根据本实用新型的总体构思的另一方面，提供了一种电子照相图像形成设备，该电子照相图像形成设备包括：显影装置；光扫描单元，将根据图像信号而调制的光扫描到感光鼓上；转印单元，将形成在感光鼓上的调色剂图像转印到记录介质上；定影单元，通过施加热和压力将调色剂图像定影到记录介质上。

根据本实用新型的总体构思，通过第一表面和凹入部分限制了上框架的装配位置，从而上框架在超声波焊接过程中不会被推向显影辊。因此，可防止由于上框架相对于下框架的装配偏差而导致的调色剂的泄露和有缺陷的焊接。此外，可防止调色剂在开口周围的泄露。

附图说明

通过下面结合附图对本实用新型的总体构思的示例性实施例进行的详细描述，本实用新型总体构思的上述和/其它特点和效用将会变得更加清楚，其中：

图1是示出根据本实用新型的总体构思的实施例的显影装置的构造的示意性视图；

图2是示出图1中的显影装置的透视图；

图3是示出根据本实用新型的总体构思的实施例的下框架、分隔构件和上框架之间的结合关系的分解透视图；

图4是示出根据本实用新型的总体构思的实施例的焊接接头和焊缝根部的截面图；

图5是示出根据本实用新型的总体构思的实施例的被焊接并且彼此结合的焊接接头和焊缝根部的截面图；

图6A至图6D是示出根据本实用新型的总体构思的实施例的倾斜的焊接接头和焊缝根部的截面图；

图7是示出根据本实用新型的总体构思的实施例的壳体、调节器、显影辊和密封构件之间的结合关系的局部分解透视图；

图8是示出根据本实用新型的总体构思的实施例的采用可附着的密封构件作为上密封构件的透视图；

图9是示出根据本实用新型的总体构思的实施例的采用泡沫密封构件作为上密封构件的透视图；

图10是示出根据本实用新型的总体构思的实施例的利用上密封构件密封开口的上边缘的局部图截面图；

图11是示出根据本实用新型的总体构思的实施例的利用侧密封构件密封开口的侧边缘的局部截面图；

图12是示出根据本实用新型的总体构思的实施例的图像形成设备的构造的示意图。

具体实施方式

现在，将参照附图更加全面地描述根据本实用新型总体构思的图像形成设备和显影装置，其中，本实用新型总体构思的示例性实施例在附图中被示出。

现在，将详细描述本实用新型的总体构思的实施例，其示例在附图中被示出，其中，相同的标号始终表示相同的元件。以下，将参照附图描述实施例，以解释本实用新型的总体构思。

图1是示出根据本实用新型的总体构思的实施例的显影装置100的构造的示意性视图。图2是示出图1中的显影装置100的透视图。参照图1和图2，显影装置100包括含有调色剂的壳体101。开口10设置在壳体101中。调色剂通过开口10被供应到显影辊3。

本实用新型总体构思的显影装置100还包括感光鼓1和充电辊2。感光鼓1包括表现感光性能并围绕着圆柱形金属管的外周形成的感光层。充电辊2是使感光鼓1的表面充电到均匀电势的充电器的示例。充电偏置电压被施加到充电辊2。可以使用电晕充电器(未显示)来替代充电辊2。显影辊3将通过开口10供应的调色剂供应到形成在感光鼓1的表面上的静电潜像，以使静电潜像显影。

在本实施例中，采用了显影辊3和感光鼓1彼此接触从而形成显影间隙D的接触显影技术。在这种情况下，显影辊3可包括围绕导电金属芯(未显示)的外周形成的弹性层(未显示)。当显影偏置电压被施加到显影辊3时，调色剂经显影间隙D被转印到感光鼓1的表面上的静电潜像并附着于此。也可以采用非接触方法，其中，显影辊3的表面和感光鼓1的表面彼此隔开几百微米的间隔。在该方法中，显影辊3和感光鼓1之间的电势差以及调色剂的电荷或极性会使得调色剂从显影辊3附着到感光鼓1。

显影装置100还可包括使通过开口10供应的调色剂附着到显影辊3的供应辊4。供应偏置电压可被施加到供应辊4以使调色剂附着到显影辊3。清洁辊5去除附着到充电辊2上的杂质和调色剂。调节器6调节附着到显影辊3的表面并供应到显影间隙D的调色剂的量。清洁构件7在充电前从感光鼓1的表面去除残留的调色剂和杂质。由清洁构件7从感光鼓1的表面去除的残留的调色剂和杂质被容纳并堆积在废调色剂保留单元30中。

壳体101可包括用于将调色剂供应到显影辊3的搅拌器8。搅拌器8可搅拌被包含在壳体101中的调色剂以使调色剂摩擦地充电到预定的电势。虽然图1仅示出了一个搅拌器，但是本实用新型的总体构思的范围不限于此。考虑到壳体101的体积或者形状，适当数量的搅拌器可被安装在壳体101中的适当位置，以将调色剂有效地供应到显影辊3。

参照图1和图2，壳体101包括下框架60和上框架80。下框架60包括沿着开口10的纵向形成开口10的下侧和两侧的下端部660和侧部。上框架80包括形成开口10的上边缘的引导端部810。

显影装置100还可包括形成废调色剂保留单元30的保留框架70。下框架60和保留框架70通过侧框架95彼此连接。盖子90覆盖彼此连接的下框架60和保留框架70的上部，盖子90的一部分位于引导端部810之上。被如上构造的显影装置100是包括显影辊3和感光鼓1的一体的显影装置。盖子90包括允许从稍后描述的图12的光扫描单元200发射的光穿过其的窗口9a。

作为提供的示例，感光鼓1、充电辊2、清洁辊5和清洁构件7被结合到其上的保留框架70可以以感光鼓盒的形式单独安装到图像形成设备中。

图3是示出下框架60、分隔构件40和上框架80之间结合关系的分解透视图。参照图3，显影装置100还可包括具有多个调色剂供应窗口41的分隔构件40。阻挡调色剂供应窗口41的隔离膜50被附着到分隔构件40。调色剂被包含在由分隔构件40、上框架80和下框架60形成的空间中。如图2所示被暴露于显影装置100的侧部的隔离膜50的端部可被拉出以在将显影装置100安装到图像形成设备中之前从分隔构件40分离或者去除隔离膜50。当完全去除了隔离膜50时，开口10被打开。也就是说，开口10被设置成作为调色剂通过调色剂供应窗口41的通道。分隔构件40可以是形成有多部分以限定对应的窗口41的板。

在去除隔离膜50之前，隔离膜50被附着到分隔构件40上，具有附着到其上的隔离膜50的分隔构件40被结合到下框架60。分隔构件40可通过超声波焊接工艺被结合到下框架60上。排出缝64被设置在下框架60的侧壁61上。隔离膜50的端部通过排出缝64暴露到外部环境。

上框架80可通过焊接方法例如超声波焊接方法结合到下框架60。当设置了分隔构件40时，上框架80的引导端部810的下表面可被焊接并结合到分隔构件40的上表面42。

在图3中，围绕除了开口10占据的区域之外的区域的第一适配表面65设置在下框架60。焊缝根部66从第一适配表面(accommodation surface)65凹进。分别对应于的第一适配表面65和焊缝根部66的第二适配表面81和焊接接头(welding thread)82设置在上框架80上。可分别形成焊接接头82和焊缝根部66以将第一适配表面65连接到第二适配表面81。

第一适配表面65和焊缝根部66可设置在下框架60的两个侧壁61和后壁63上。第二适配表面81和焊接接头82可设置在上框架80的两个侧表面和后表面上，以分别对应于第一适配表面65和焊缝根部66。

如图4所示，上框架80放置在下框架60上，以将第二适配表面81的焊接接头82插入到第一适配表面65的焊缝根部或者焊接凹槽66中，然后，在利用焊接夹具(未显示)挤压上框架80的同时施加超声波能量。超声波能量在焊缝根部66的底表面和侧表面中的焊接接头82与焊缝根部66接触的部分产生振动。由于振动使得焊接接头82被焊接，然后在所述根部内固化并展开，从而被附着到焊缝根部66并将第一适配表面65连接到第二适配表面81，如图5所示。从而，上框架80被焊接并结合到下框架60。

参照图4，当上框架80被焊接并结合到下框架60上时，焊接接头82需要准确地插入到焊缝根部66中。否则，超声波能量不会适当地传递到焊接接头82和焊缝根部66，从而导致产生有缺陷的焊接。当发生这种情况时，在焊接接头82和焊缝根部66之间会产生间隙，这会使调色剂通过该间隙泄露。

如图3所示，侧壁61和62沿着前后Y方向横向延伸，后壁63沿着左右X方向纵向地延伸。如上所述，下框架60的两个侧壁61和62以及后壁63包括具有焊缝根部66的第一适配表面65，所述焊缝根部66和第一适配表面65对应于上框架80的焊接接头82和第二适配表面81。

与左右位置偏差(即，图3的X方向偏差)相比，上框架80的前后位置偏差(即，图3的Y方向的偏差)对调色剂的密封有更大的影响。这是因为沿X方向的焊接接头82和焊缝根部66很少会设计并制造成沿着竖直方向Z倾斜，但是沿着Y方向延伸的焊接接头82和焊缝根部66的部分可通过沿着竖直方向Z倾斜来制造。也就是说，由于为了容纳各种部件，下框架60的侧部和上框架80的侧部的形状会制造得非常复杂，所以设置在侧壁61和62上的焊缝根部66的至少一部分可沿着竖直方向Z倾斜。此外，对应于焊缝根部66的上框架80的焊接接头82可形成为沿着竖直方向Z倾斜。

图6A至图6D示出了具有复杂形状的下框架60的侧部和上框架80的侧部的示例性实施例。图6A和图6C示出了不同构造，其中，第一适配表面65和第二适配表面81具有将下框架60连接到上框架80的不规则的形状。如所示出的，焊接接头82和焊缝根部66被设置成沿着竖直方向Z倾斜。图6C还可包括焊接接头和焊缝根部的水平部分。当参照图6A和图6B向页面里看时，倾斜的焊接接头和焊缝根部沿着下框架60的侧壁61的侧部并沿着上框架80的侧部在Y方向延伸。

当上框架80在Y方向产生装配位置偏差时，如图6B和图6D所示，在焊接接头82和焊缝根部66之间会产生间隙G。会在倾斜的焊接接头82和焊缝根部66的X方向(进出页面)的整个长度上产生间隙G。在这种状态下，当提供超声波能量的焊接夹具沿竖直方向Z挤压上框架80时，由于焊接接头82和焊缝根部66彼此不接触，所以焊接接头82没有被焊接或者没有被完全焊接，从而产生有缺陷的焊接。

因此，需要限制上框架80在Y方向的装配位置的位移。参照图3至图7，沿着与显影辊3相反的方向从上框架80的引导端部810凹入的凹入部分820设置在引导端部810的两个端部。侧部610从下框架60的侧壁61向里突出。与凹入部分820接触的第一表面611设置在侧部610上。第一表面611向上突出至少高于图3的第一适配表面65。上框架80的凹入部分820与第一表面611接触并与第一表面611接界。虽然图7中没有显示，但是第一表面611还可以设置在侧壁62的侧部610处。因此，上框架80在Y方向的装配位置受到第一表面611和凹入部分820的限制，从而上框架80在超声波焊接过程期间不会被推向显影辊3。因此，可防止由于上框架80在Y方向的装配偏差而产生的有缺陷的焊接和调色剂的泄露。

如图7和图8所示，第一侧密封构件630附着到侧部610的靠近显影辊3的表面，即，与第一表面611相对的第二表面612。第一侧密封构件630可由海绵或者毡制成。第一侧密封构件630可利用双面胶带附着到侧部610的第二表面612上。

第一上密封构件被装配到上框架80的引导端部810。第一上密封构件可以是由海绵制成的并且利用双面胶带附着到引导端部810上的可附着的密封构件830。可附着密封构件830被附着到引导端部810上，从而其两个端部可与两个侧密封构件630接触或重叠，以防止第一侧密封构件630和可附着密封构件830之间间隙的产生。

泡沫型密封构件可替代可附着密封构件830被用作第一上密封构件。参照图9，泡沫弹性构件840可被涂覆到上框架80的引导端部810上。呈液体的泡沫弹性构件840只要被涂覆就立刻发泡，然后固化并形成弹性体。泡沫弹性构件840可以是例如聚氨酯(urethane)。参照图7，侧部610的靠近引导端部810的第三表面613和引导端部810的两个端部彼此分离，从而泡沫液体可容易地挤入其间并在其中发泡。因此，泡沫弹性构件840包括沿着引导端部810形成的第一密封部分841以及在侧部610的第三表面613与引导端部810的两端部之间竖直延伸的第二密封部分842，从而在侧壁61和62之间具有长的“H”形状。参照图7，阻挡肋850设置在引导端部810的两端部。阻挡肋850阻挡泡沫液体经引导端部810的两个端部挤入到显影装置内部。为了允许泡沫液体挤入阻挡肋850和侧部610的第三表面613之间，阻挡肋850和侧部610的第三表面613之间的间隔可以被设置为例如0.7mm至1.5mm。因此，通过采用泡沫弹性构件840作为第一上密封构件，可以在显影装置100的制造过程中使用自动泡沫液体供应设备，从而密封工艺可以被自动化。

接下来，调节器6被结合到下框架60。调节器6可包括结合到下框架60上的支撑部分691和从支撑部分691向下延伸并具有沿着纵向与显影辊3的外周接触的端部696的刀片部分692。支撑部分691还包括位置确定孔693和固定孔694。下框架60包括插入到位置确定孔693中的位置确定凸台或者隆起67和连接到固定孔694并结合例如螺钉(未显示)的结合构件的结合孔68。

调节器6被结合到下框架60，显影辊3被结合到下框架60。刀片部分692的端部696与显影辊3的外周接触。例如，第一上密封构件、可附着密封构件830或者泡沫弹性构件840与刀片部分692的内表面695接触。因此，如图10所示，可以防止调色剂通过引导端部810(即，通过开口10的上边缘)泄露。

参照图7和图10，上框架80的引导端部810可具有“L”形状。在第一上密封构件830或者840被安装到引导端部810上时，调节器6被装配到下框架60。当刀片部分692与第一上密封构件830或者840接触时，第一上密封构件830或者840可被向下推动从而偏离附着位置或者与引导端部810分开。但是，具有“L”形状的引导端部810支撑第一上密封构件830或者840，以防止第一上密封构件由于调节器6的干扰而偏离附着位置或者与引导端部810分开。当泡沫液体被涂覆到引导端部810上以形成泡沫弹性构件840时，具有“L”形状的引导端部810防止泡沫液体向下流和污染显影装置100的内部。

此外，当调节器6被装配时，装配力会使得第一上密封构件产生压缩，这使引导端部810变得与调节器6的内表面695齐平(flush with)或者第一上密封构件的小部分楔入到引导端部810和调节器6的内表面695之间。这种构造也防止调色剂的泄露。

如图11所示，在第一侧密封构件630的一个表面可与显影辊3的外周和刀片部分692的内表面695时，第一侧密封构件630的另一个表面可与下框架60接触。因此，当安装显影装置100或者利用显影装置100操作图像形成设备时，可阻止调色剂通过开口10的侧边缘泄露。

如图7所示，第二侧密封构件640还可沿其纵向设置在刀片部分692的两个端部。第二侧密封构件640可由例如海绵或者毡制成，并且附着到刀片部分692的内表面695。第二侧密封构件640与第一侧密封构件630接触，以改善第一侧密封构件630的密封效果。此外，第二侧密封构件640与第一侧密封构件630以及第一上密封构件830或者840的两个端部重叠，从而可以改善第一侧密封构件630和第一上密封构件830或者840的两个端部相遇的图8中的区域C的密封效果。因此，当将显影装置100通过安装在图像形成设备中而使用时，调色剂被搅拌器8强制转移向显影辊3。调色剂转移压力可集中在第一侧密封构件630和第一上密封构件830或者840的两个端部相遇的部分C。因此，第二侧密封构件640可阻挡当第一侧密封构件630和第一上密封构件830或者840的两个端部彼此分离时由于调色剂转移压力而发生的调色剂的泄露。

如图7所示，第二上密封构件650还被设置在刀片部分692上。沿着纵向延伸的第二上密封构件650可以由例如海绵或者毡制成，并且利用双面胶带附着到刀片部分692的内表面695上。第二上密封构件650的两个端部可与第二侧密封构件640重叠。第二上密封构件650可与第一上密封构件接触以改善密封效果。当表现的弹性比泡沫弹性构件840的弹性低的可附着密封构件830被用作第一上密封构件时，第二上密封构件650可改善密封效果。同样，当使用泡沫弹性构件840时，可使用第二上密封构件650，以改善密封效果。

参照图1，下密封构件670被设置在下框架60的下端部分660。下密封构件670可以是表现出弹性的薄膜构件。下密封构件670沿其纵向与显影辊3的外周接触。这样，在去除了隔离膜50之后，当安装显影装置100或者利用显影装置100对图像形成设备进行操作的期间，可防止调色剂通过开口10的下边缘泄露。

图12是示出图1至图11中示出的图像形成设备的构造的示意性视图。参照图12，显影装置100通过门701安装在图像形成设备的主体700。在具有分隔构件40的显影装置100中，在将显影装置100安装到主体700中之前去除隔离膜50。

光扫描单元200将根据图像信息而调制的光扫描到被充电到均匀电势的感光鼓1上。例如，可以用激光扫描单元(LSU)作为光扫描单元200，所述激光扫描单元(LSU)通过利用多面镜使从激光二极管发射的光沿着主扫描方向偏转将所述光扫描到感光鼓1。

作为转印单元的示例的转印辊300被定位成面对感光鼓1的表面并形成转印间隙。转印偏置电压被施加到转印辊300以将在感光鼓1的表面上显影的调色剂图像转印到记录介质P上。可以使用电晕转印单元来替代转印辊300。

通过转印辊300转印到记录介质P的表面的调色剂图像由于静电吸引保持附着到记录介质P的表面。定影单元400施加热和压力以将调色剂图像定影到记录介质P，从而在记录介质P上形成永久的打印图像。

现在将简单描述通过如上所构造的图像形成设备的图象形成过程。当充电偏置电压被施加到充电辊2时，感光鼓1被充电到均匀的电势。光扫描单元200将根据图像信息而调制的光通过显影装置100的窗口9a扫描到感光鼓1，从而在感光鼓1的表面上形成静电潜像。搅拌器将调色剂转印到供应辊4。供应辊4使调色剂附着到显影辊3的表面。调节器6在显影辊3的表面上形成具有均匀厚度的调色剂层。显影偏置电压被施加到显影辊3。当显影辊3旋转时被转印到显影间隙D的调色剂由于显影偏置电压附着到形成在感光鼓1的表面上的静电潜像。因此，在感光鼓1的表面上形成可视的调色剂图像。由拾取辊502从记录介质托盘501拾取的记录介质P被传送辊503转移到转印辊300和感光鼓1之间的转印间隙。当转印偏置电压被施加到转印辊300上时，在感光鼓1上形成的调色剂图像通过静电吸引被转印到记录介质P上。被转印到记录介质P上的调色剂图像受到通过从定影单元400施加的热和压力而被定影到记录介质P，从而完成打印。记录介质P通过排放辊504向外排放。残留到感光鼓1的表面而没有被转印到记录介质P上的调色剂通过清洁构件7被去除并被保留在废调色剂保留单元30中。

虽然参照本实用新型的总体构思的示例性实施例具体示出并描述了本实用新型的总体构思，但是本领域技术人员应该理解，在不脱离由权利要求限定的本实用新型的总体构思的精神和范围的情况下，可以在其中进行各种形式和细节的改变。

虽然已经示出并描述了本实用新型的总体构思的几个实施例，但是本领域技术人员应该理解，可以在不脱离本实用新型的总体构思的原理和精神的情况下，可以对这些实施例进行改变，本实用新型的范围由权利要求及其等同物限定。

Claims (14)

1.一种显影装置，该显影装置包括：壳体，包含调色剂并在其侧面具有开口；显影辊，将通过所述开口供应的调色剂供应到感光鼓；调节器，与所述显影辊的外周接触以调节供应到感光鼓的调色剂的量，其特征在于，所述壳体包括：

下框架，具有侧部和下端部，分别沿着纵向形成开口的两个边缘和下边缘；

上框架，被焊接并结合到下框架，并包括形成所述开口的上边缘的引导端部和沿着纵向在引导端部的两个端部从引导端部凹入的凹入部分，

其中，下框架的两个侧部均包括第一表面，所述第一表面与凹入部分接触以当上框架被焊接并结合到下框架上时防止上框架被推向显影辊。

2.如权利要求1所述的显影装置，其特征在于，所述调节器包括：

支撑部分，结合到所述壳体；

刀片部分，从所述支撑部分向下延伸并具有沿纵向与所述显影辊的外周接触的端部。

3.如权利要求2所述的显影装置，其特征在于，还包括第一上密封构件，所述第一上密封构件沿着纵向设置在引导端部，并与所述刀片部分的内表面接触以防止调色剂通过所述开口的上边缘泄露。

4.如权利要求3所述的显影装置，其特征在于，第一上密封构件利用双面胶带附着到引导端部，在下框架的两个侧部的面对显影辊的表面上设置第一侧密封构件，第一侧密封构件与显影辊的外周和刀片部分的内表面接触，以防止调色剂通过所述开口的两个侧边缘泄露；在所述刀片部分的内表面沿着纵向设置第二上密封构件，所述第二上密封构件与第一侧密封构件重叠。

5.如权利要求3所述的显影装置，其特征在于，所述第一上密封构件是泡沫弹性构件，所述泡沫弹性构件以液态涂覆到引导端部上并在引导端部上发泡。

6.如权利要求5所述的显影装置，其特征在于，所述泡沫弹性构件包括：

第一密封部分，位于引导端部；

第二密封部分，沿纵向填充在下框架的两个侧部中的每个侧部和引导端部的两个端部中的每个端部之间的间隙，

其中，泡沫弹性构件基本上具有“H”形状。

7.如权利要求6所述的显影装置，其特征在于，所述上框架包括阻挡肋，所述阻挡肋位于下框架的两个侧部中的每个侧部和引导端部的两个端部中的每个端部之间，并阻挡呈液体状态涂覆以形成第二密封部分的泡沫弹性构件挤入引导端部内。

8.如权利要求7所述的显影装置，其特征在于，所述两个侧部中的每个侧部与阻挡肋之间的间隔是0.7mm到1.5mm。

9.如权利要求3所述的显影装置，其特征在于，还包括：

第一侧密封构件，设置在下框架的两个侧部的面对显影辊的表面上，并且与显影辊的外周和刀片部分的内表面接触以防止调色剂通过所述开口的两个侧边缘泄露；

下密封构件，位于下框架的下端部，并与显影辊的外周接触，以防止调色剂通过所述开口的下边缘泄露。

10.如权利要求9的显影装置，其特征在于，在刀片部分的两个端部中的每个端部沿纵向设置第二侧密封构件，所述第二侧密封构件与设置在下框架的两个侧部的表面上第的一上密封构件和所述第一侧密封构件重叠，以防止调色剂在第一上密封构件和所述侧密封构件之间泄露。

11.如权利要求3所述的显影装置，其特征在于，所述引导端部具有“L”形状，以支撑第一上密封构件不被调节器向下推。

12.如权利要求1至11中的任一项所述的显影装置，还包括焊接接头和焊缝根部，所述焊接接头和焊缝根部围绕除了所述开口之外的调色剂容纳空间，所述焊接接头和焊缝根部分别设置在上框架和下框架处，并且所述焊接接头和焊缝根部的至少一部分沿着竖直方向倾斜。

13.一种电子照相图像形成设备，其特征在于，包括：

如权利要求1至11中的任一项所述的显影装置；

光扫描单元，将根据图像信号而调制的光扫描到感光鼓上；

转印单元，将形成在感光鼓上的调色剂图像转印到记录介质上；

定影单元，通过施加热和压力将调色剂图像定影到记录介质上。

14.如权利要求13所述的电子照相图像形成设备，其特征在于，还包括焊接接头和焊缝根部，所述焊接接头和焊缝根部围绕除了所述开口之外的调色剂容纳空间，所述焊接接头和焊缝根部分别设置在上框架和下框架处，并且所述焊接接头和焊缝根部的至少一部分沿着竖直方向倾斜。

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