CN1982292A - 异氰酸酯的提纯方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种从异氰酸酯合成中提纯产物料流的方法，该方法包括如下步骤：a)将粗异氰酸酯料流(1)分离成气态蒸气流(3)和液体子流(2)，c)以蒸气形式作为含有异氰酸酯的残余料流(4)回收液体子流(2)中存在的异氰酸酯，其中步骤c)在降膜蒸发器、升膜蒸发器、薄膜蒸发器、长管蒸发器、螺旋管蒸发器、强制循环闪蒸器或没有冷却区且具有用于不可汽化残余物(8)的排出螺杆的桨式干燥器或这些设备的组合中进行。
Description
本申请是申请日为2003年12月16的、发明名称为“异氰酸酯的提纯方法”的中国发明专利申请的分案申请。
本发明涉及一种通过将来自异氰酸酯合成的产物流提纯而制备异氰酸酯的方法。
在本文中，异氰酸酯应理解为指具有1、2或更多个异氰酸酯基团的化合物(单-、二-或多异氰酸酯)，优选二异氰酸酯。
本发明方法适合所有常规(环)脂族和芳族异氰酸酯或两种或更多种此类异氰酸酯的混合物。优选二异氰酸酯，例如单体亚甲基二(苯基异氰酸酯)(MDI)、甲苯二异氰酸酯(TDI)、R，S-1-苯基乙基异氰酸酯、1-甲基-3-苯基丙基异氰酸酯、萘二异氰酸酯(NDI)、正戊基异氰酸酯、6-甲基-2-庚烷异氰酸酯、环戊基异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯(HDI)、异佛尔酮二异氰酸酯(IPDI)、2，4-和2，6-二异氰酸酯基甲基环己烷(H6TDI)及其异构体混合物，邻-、间-或对-二甲苯二异氰酸酯(XDI)、二异氰酸酯基环己烷(t-CHDI)、二(异氰酸酯基环己基)甲烷(H12MDI)、四甲基间苯二亚甲基二异氰酸酯(m-TMXDI)、1，3-二(异氰酸酯基甲基)环己烷(H6XDI)、二异氰酸酯基环己烷(t-CHDI)、1，6-二异氰酸酯基-2，2，4，4-四甲基己烷、1，6-二异氰酸酯基-2，2，4-三甲基己烷及其混合物(TMDI)。
特别优选使用提纯TDI、单体MDI、HDI、IPDI、H6TDI、H12MDI、XDI、t-CHDI和NDI的方法。
文献描述了各种制备纯异氰酸酯的方法。
US 3,410,888描述了一种分离和提纯异氰酸酯的方法。该方法包括下列步骤：首先，使对应的二胺与光气反应并在溶剂分离过程中蒸馏分离部分如此制备的异氰酸酯；其次，将蒸馏残余物(底部产物)转移到第二蒸馏设备(容器)中，该残余物以薄膜分布于该第二蒸馏设备的内表面上并且该设备的温度和压力足以进行异氰酸酯的汽化；第三，从第二蒸馏设备中除去显著富含异氰酸酯的该蒸气。
冷凝该蒸气并得到异氰酸酯。作为可能的蒸馏设备可以提到升膜蒸发器、降膜蒸发器等。在异氰酸酯合成中选择的溶剂通常具有低于异氰酸酯的沸点，优选低至少30℃。然而，在沸点差较小的情况下，部分制备的异氰酸酯在溶剂分离中与溶剂一起分离。这之后蒸馏以残余物得到的粗异氰酸酯，所述蒸馏在薄膜蒸发器中进行。在溶剂分离中部分分离异氰酸酯的优点在于在溶剂分离中同时分离不希望的中沸点成分(沸点介于异氰酸酯和溶剂之间的可能着色的杂质或成分)。然后将该部分分离的异氰酸酯和溶剂的混合物作为原料流再循环到溶剂分离中，或将其供入单独的用来浓缩异氰酸酯的蒸发或分馏中。然后将后者作为进料再循环到溶剂分离中。
该方法的缺点在于，由于在异构体异氰酸酯如TDI或MDI的情况下在两个步骤中蒸发，因异构体的不同挥发性而得到不同组成的级分。此外，所得异氰酸酯的纯度不能满足当前的要求，因为仍含有低沸点成分。此外，产物经由高沸点残余物损失，因为该残余物必须可以流动以能够由蒸发器输送出来。
申请日为2002年9月27日的在先德国专利申请10245584.8描述了一种制备异氰酸酯的方法，其中反应排出物以悬浮液形式存在，该悬浮液含有液体形式的待制备异氰酸酯和固体形式的氨基甲酰氯，在该方法中将该悬浮液在膜式蒸发器中处理。该膜式蒸发器优选不带移动部件，例如降膜蒸发器。该处理还可以在两个或更多个串联的膜式蒸发器中在多个压力段中进行，第一膜式蒸发器在0.5-25巴的压力下操作，而第二膜式蒸发器的压力比第一膜式蒸发器的压力低0.01-1巴。
US 5,962,728描述了薄膜蒸发器与桨式干燥器和低沸点成分分离塔的组合使用。将粗异氰酸酯供入薄膜蒸发器中。在该薄膜蒸发器中，纯异氰酸酯与高沸点的聚合物焦油分离，该分离并不完全，以得到具有足够低粘度形式的焦油。将该仍含所需产物的残余物的焦油料流供入桨式干燥器，在其中将残余异氰酸酯由该焦油蒸发出来。最后通过蒸馏除去仍含有低沸点杂质的异氰酸酯蒸气中的低沸点成分。该方法的显著特征在于桨式干燥器同时具有加热区和冷却区这一事实。
该方法的缺点是离开该设备的异氰酸酯料流总是作为底部产物取出并因此暴露于高热应力，这导致NCO基团因二异氰酸酯的低聚或聚合而损失，因为该类高沸点成分没有分离。
US 3,140,305描述了将水平薄膜蒸发器用于回收芳族二异氰酸酯。该方法的缺点在于回收的TDI仍然含有低沸点杂质，这使反应排出物在聚氨酯制备中作为原料的直接使用变得复杂。此外，所需产物从高沸点残余物中损失掉。
US 4,216,063描述了在薄膜蒸发器中在210-250℃的壁温和1-50mmHg的压力下以15分钟的最小停留时间回收甲苯二异氰酸酯(TDI)。该方法的缺点在于回收的TDI仍含有低沸点杂质，这使得反应排出物在聚氨酯制备中作为原料的直接使用变得复杂。
本发明的目的是提供一种通过提纯粗异氰酸酯料流而制备纯异氰酸酯的方法，其中所需纯异氰酸酯可以以非常高的纯度和高产率得到，同时使设备的复杂性和能量需求尽可能低。
我们发现该目的由一种提纯异氰酸酯的方法实现，其中
a)在包括至少一个理论塔板的蒸馏中将含有异氰酸酯、较高沸点组分、较低沸点组分和不可汽化残余物的料流(1)分离成含有不可汽化残余物和异氰酸酯的子流(2)和含有异氰酸酯和低沸点成分的蒸气流(3)，
b)将子流(2)中的不可汽化残余物与蒸气流(3)和/或至少部分含有蒸气流(3)的料流分离，
c)从子流(2)中分离至少一个含有异氰酸酯的其他蒸气流(4)和基本含有不可汽化残余物的料流(8)，和
d)通过蒸馏将含有异氰酸酯的蒸气流(4)和来自a)的蒸气流(3)分离成三股具有不同沸程的单独料流(5，6，7)，即含有粗异氰酸酯料流(1)的显著部分的低沸点成分的最低沸点料流(5)、含有粗异氰酸酯料流(1)的显著部分的高沸点成分的最高沸点料流(7)和基本含有所需产物的中沸点料流(6)。
对本发明方法而言，获得所用粗异氰酸酯的方法并不重要，例如通过光气化胺，通过光气化胺盐酸盐或氨基甲酸盐，通过例如如EP 18 586、EP 566 925、EP 355 443或EP 568 782所述的脲方法，或通过例如如EP-A2976 723所述的母体胺与碳酸二烷基酯的反应。异氰酸酯优选通过光气化制备。
异氰酸酯通常通过使对应的伯胺或其盐酸盐与过量光气反应而制备。该方法通常在溶剂中在液相中进行或在气相中进行。该方法优选在液相中进行。
所用溶剂通常为沸点低于异氰酸酯的溶剂，例如氯苯、邻二氯苯、对二氯苯、三氯苯、氯代甲苯、氯代二甲苯类、氯乙基苯、氯代萘类、氯代联苯类、二氯甲烷、全氯乙烯、甲苯、二甲苯类、己烷、十氢化萘、间苯二甲酸二乙酯(DEIP)和例如如US 5,136,086第3栏第3-18行所述的其他羧酸酯、四氢呋喃(THF)、二甲基甲酰胺(DMF)、苯及其混合物。所制备的异氰酸酯或该方法的料流也可以用作溶剂。特别优选氯苯和二氯苯。优选可以在反应开始时将惰性溶剂加入胺中。包含胺和溶剂的混合物的胺含量为1-50质量％，优选3-40质量％。
然而，如果在气相中进行光气化，则还可以使用纯净形式的胺。
来自反应器的反应混合物(反应排出物)通常以悬浮液形式存在。该悬浮液含有液体形式的待制备异氰酸酯和固体形式的未分解氨基甲酰氯。来自反应器的悬浮液还可以含有固体形式的胺盐酸盐和/或脲(R-NH-CO-NH-R)。
反应排出物仍含有在光气化中形成的氯化氢残余物、过量光气、溶剂和杂质以及聚合物性质的不可汽化残余物。杂质和聚合物残余物在反应过程中由不完全反应或不希望的次级反应或随后反应形成。通常而言，首先以一个或多个步骤将氯化氢和光气从反应排出物中除去。然后蒸除溶剂。然后由如此生产的粗异氰酸酯通过本发明方法制备纯异氰酸酯。
另外，异氰酸酯还可以通过在气相中光气化制备。此时在惰性溶剂中从气相中骤冷含有异氰酸酯的反应排出物。此时在除去氯化氢、光气和溶剂之后由对应的粗异氰酸酯制备纯异氰酸酯的本发明方法也是合适的。甚至可以在不使用额外溶剂下进行气相光气化。本发明方法此时可以甚至在除去氯化氢和光气之后用于粗异氰酸酯料流。
在由粗异氰酸酯料流制备纯异氰酸酯的过程中通常存在经济上相关的产率损失，该损失因所需物质，即纯异氰酸酯在较高温度下具有较长停留时间而产生。热应力导致形成异氰酸酯的低聚物(异氰脲酸酯、碳化二亚胺、缩脲二酮(uretdione)等)，这降低了产率。产率损失的问题通常通过在大为降低的压力下进行提纯蒸馏而解决。通过在大为降低的压力下进行蒸馏，温度和蒸馏设备减小，这降低了聚合倾向。然而，该程序的缺点在于在蒸馏设备的气相中因压力大为降低引起的低密度导致高蒸气体积流速。高蒸气体积流速又要求塔直径大，以维持就蒸馏设备中的液体力学而言有利的气体速度。塔直径大伴随资金成本不利地高。
对于通过光气化的优选制备情况而言，在异氰酸酯制备之后基本将氯化氢、光气和溶剂与待用于本发明提纯中的料流(1)(粗异氰酸酯)分离，以使氯化氢和光气的含量在每种情况下低于1000ppm且溶剂含量低于1重量％，优选低于0.5重量％，特别优选低于0.1重量％。
粗异氰酸酯料流(1)除了作为所需产物待回收的异氰酸酯以外通常还含有100ppm至5％的沸点低于异氰酸酯的组分(低沸点成分)、100-5000ppm的沸点高于异氰酸酯的组分(高沸点成分)(但其在大气压力下的沸点比异氰酸酯的沸点高不超过60℃)以及1-8重量％的聚合物性质的不可汽化残余物，即在大气压力下汽化之前的产物热解物。
根据本发明，在步骤a)中通过在1-120毫巴，优选1-100毫巴的减压和90-170℃，优选100-160℃下在至少一个理论塔板中蒸馏将粗异氰酸酯料流(1)分离成气态蒸气流(3)和液体子流(2)。该蒸馏优选以一段汽化进行。例如可以由循环操作的储存容器和蒸发器进行蒸馏。若需要，工艺步骤(a)还可以在塔中或在带有具有分离作用的内件的隔离壁塔的一部分中进行。此时该塔或该隔离壁塔部分仅以带有蒸发器的汽提段操作而没有精馏段且没有通过冷凝蒸气所产生的回流，以满足本发明的要求b)，即将子流(2)中的不可汽化残余物与蒸气流(3)和/或至少部分含有蒸气流(3)的料流分离。
具有分离作用的合适内件是所有可以用于蒸馏塔中的常规内件。优选具有低压降的内件，如堆积填充物、规整填料或双流塔盘。特别优选规整填料。
气相可以通过操作蒸发器而产生，优选使用薄膜蒸发器、升膜蒸发器、降膜蒸发器、长管蒸发器或强制循环闪蒸器。特别优选使用强制循环闪蒸器或降膜蒸发器。
在步骤a)中形成的蒸气(3)基本包含异氰酸酯和低沸点成分。然而，显著可汽化的高沸点成分也同时被较大的蒸气流汽提。它们的含量通常低于0.5％。
液体子流(2)含有浓缩的不可汽化残余物和异氰酸酯料流(1)的所有其他组分且低沸点成分的含量通常低于1重量％，优选低于0.5重量％。
料流(2)和(3)通常以20∶1-1∶1，优选10∶1-1∶1，特别优选8∶1-4∶1的重量比分开。
然后在步骤c)中将液体子流(2)与含于其中的不可汽化残余物分离，以回收含于其中的异氰酸酯。这优选在降膜蒸发器、升膜蒸发器、薄膜蒸发器、长管蒸发器、螺旋管蒸发器、强制循环闪蒸器或桨式干燥器，例如来自List的Discotherm干燥器或这些设备的组合中进行。优选将排出物供入薄膜蒸发器、降膜蒸发器、强制循环闪蒸器或桨式干燥器，特别优选桨式干燥器，非常特别优选没有冷却区且具有用于不可汽化残余物(8)的排出螺杆的桨式干燥器。在该工艺步骤中，以蒸气形式生产出至少一种尤其是含有异氰酸酯的残余料流(4)。
步骤c)通常在80-320℃，优选100-300℃和0.1-40毫巴，优选0.5-20毫巴下进行。
剩余的残余料流(8)通常含有低于2.5重量％，优选低于1.5重量％，特别优选低于0.5重量％的所需产物且通常高度粘稠或为固体且通常焚烧或掩埋处置。
然后在步骤d)中通过精馏将蒸气流(4)或若产生的话多个蒸气流(4)，需要的话在冷凝之后以及气态形式或冷凝之后，优选冷凝之后的蒸气流(3)分离成沸点低于纯异氰酸酯的料流(5)、沸点接近纯异氰酸酯(例如在其+/-20℃，优选+/-10℃，特别优选+/-5℃范围内)的中沸点料流(6)以及沸点高于异氰酸酯的料流(7)。
含有异氰酸酯的蒸气流(4)和残余料流(3)的分离在至少一个蒸馏设备中进行，优选一个或两个蒸馏设备，特别优选一个蒸馏设备。
本发明方法的可能第一实施方案例如是在第一蒸馏设备d1)中将蒸气流(4)和残余料流(3)分离成基本含有高沸点成分的高沸点料流(7)和另一残余料流，后者在另一蒸馏设备d2)中分离成低沸点料流(5)和中沸点纯异氰酸酯料流(6)。
第一蒸馏设备 d1)的进料可以呈蒸气形式或预先冷凝之后的液体形式。该进料优选预先冷凝之后在液相中进行。
本发明方法的优选第二实施方案是将蒸馏设备d1)用于将蒸气流(4)和残余料流(3)分离成低沸点料流(5)和另一残余料流，后者在蒸馏设备d2)中分离成高沸点料流(7)和中沸点纯异氰酸酯料流(6)。第一蒸馏设备d1)的进料可以蒸气形式或预先冷凝之后的液体形式进行。该进料优选预先冷凝之后在液相中进行。
在本发明方法的第三特别优选实施方案中，残余料流(3)和含有异氰酸酯的蒸气流(4)通过蒸馏分离在具有隔离壁的蒸馏塔中进行。该进料可以蒸气形式或预先冷凝之后的液体形式进行。该蒸气流(4)的进料优选在预先冷凝之后液目中进行。纯异氰酸酯(6)在流出侧取出，该流出侧通过隔离壁与进料侧分开。低沸点料流(5)在塔顶取出。高沸点料流(7)在塔底取出。
蒸馏设备通常在1-80毫巴和100-240℃的底部温度下操作。它们各自通常具有1-50个理论塔板且具有本身已知的设计。
两股料流(4)和(3)优选通过在蒸馏设备中精馏而一起分离。分离成三股料流(5，6，7)使用至少2-50个，优选至少8-30个理论塔板进行。顶部压力通常为4-80毫巴且底部温度为110-240℃。料流(4)的进料优选在料流(3)的进料之下进行。
将料流(5)和(7)送去焚烧或掩埋处置。料流(5)优选送去焚烧。
具有分离作用的合适内件是所有可以用于蒸馏塔的常规内件。优选具有低压降的内件，如堆积填充物、规整填料或双流塔盘。特别优选规整填料。
若粗异氰酸酯料流(1)通过在沸点低于异氰酸酯的溶剂中光气化而生产，则低沸点料流(5)尤其含有痕量的该溶剂和/或含氯杂质。若制备脂族异氰酸酯，则低沸点料流优选含有作为含氯杂质的其中所需异氰酸酯的至少一个异氰酸酯基团已经被氯代替的化合物。例如，在1，6-二异氰酸酯基己烷的制备中，得到两种含氯杂质，即1-异氰酸酯基-6-氯己烷和1，6-二氯己烷。
若粗异氰酸酯料流通过光气化产生，则高沸点料流含有含氯杂质和二聚副产物(例如碳化二亚胺和缩脲二酮)。
纯异氰酸酯可以通常＞99.4重量％，优选＞99.5重量％的纯度由本发明方法得到。
溶剂和光气化副产物，例如在TDI情况下的甲基苯基异氰酸酯、在MDI情况下的苯基异氰酸酯以及在HDI情况下的6-氯己基异氰酸酯和1，6-二氯己烷，通常作为低沸点主杂质存在。它们在纯产物中的含量通常＜0.5％，优选＜0.3％。尤其产生的高沸点杂质是含氯杂质。当实施本发明时，沸点高于异氰酸酯的含氯杂质的含量通常＜500ppm，优选＜100ppm。
现在描述本发明的两个优选实施方案：
图1说明第一实施方案：为了进行工艺步骤a)，将粗异氰酸酯料流(1)供入一段蒸发中，该一段蒸发由容器(9)和蒸发器(10)组成且在循环下操作。含有不可汽化残余物的子流(2)从容器(9)取出。残余料流(3)在容器(9)的顶部以气态形式取出。
为了进行工艺步骤c)，在特别优选的实施方案中将子流(2)供入桨式干燥器(11)中以产生蒸气流(4)。由该桨式干燥器(11)向下排放基本包含不可汽化残余物的残余物料流(8)。在桨式干燥器中以气态形式取出的料流(4)尤其包含异氰酸酯。
两股料流(3)和(4)可以分别在冷凝器(12)和(13)中冷凝，并经由进料(16)和(17)供入隔离壁塔(14)中，该塔包含蒸发器(20)、冷凝器(22)和具有分离作用的内件(21)。在特别优选的实施方案中，料流(3)或其冷凝液(16)在料流(4)或其冷凝液(17)之上供入。低沸点成分料流(5)在隔离壁塔(14)的顶部(15)取出，纯异氰酸酯料流(6)在隔离壁(18)的相对于进料的那侧取出，而高沸点成分料流(7)在底部(19)取出。
在示于图2中的第二优选实施方案中，首先将粗异氰酸酯料流(1)供入隔离壁塔(14)的带有具有分离作用的内件(21)的左侧进料空间中。该隔离壁塔(14)的设计应使隔离壁(18)延伸到基座以形成两个单独的底部(19a)和(19b)。此外，隔离壁塔(14)的设计应使得冷凝液料流不能由该隔离壁塔(14)的冷凝器(22)流入粗异氰酸酯料流(1)的左侧进料空间中。
在带有具有分离作用的内件(21)的隔离壁塔(14)的进料空间中的分离过程对应于纯汽提蒸馏设置(即在左侧进料空间中的进料(1)之上不存在具有分离作用的塔盘)，其中下行液体料流仅由粗异氰酸酯料流(1)的进料组成。进料空间的底部(19b)用左侧蒸发器(10)循环操作。包含不可汽化残余物的子流(2)从底部(19b)取出。
蒸气流(3)由左侧进料空间通过气缝(25)进入该隔离壁塔的剩余空间，而没有冷凝液进入该左侧进料空间。
然后将含有不可汽化残余物的子流(2)供入工艺步骤c)。在这里首先在包含循环操作的容器(23)和蒸发器(24)的一段蒸发中生产第一股主要含有异氰酸酯的蒸气流(4a)。来自该设备的容器(23)的排出料流(26)供入桨式干燥器(11)，在该干燥器顶部得到第二股主要含有异氰酸酯的蒸气流(4b)。从桨式干燥器底部取出主要含有不可汽化残余物的料流(8)。
将两股含异氰酸酯的料流(4a)和(4b)冷凝并供入隔离壁塔(14)中。
在该实施方案中，蒸气流(3)已经含有主要部分的低沸点组分和料流(2)，而子流(4a)和(4b)基本不含低沸点成分。为了实施工艺步骤d)，将料流(3)、(4a)和(4b)送入隔离壁塔的剩余空间中，该空间未被左侧进料空间占据。此时该进料空间等同于隔离壁塔(14)左侧上的带有气缝(25)的塔盘之下的空间。特别优选以气态形式引入蒸气流(3)经由纯异氰酸酯料流(6)的取出点之上的气缝(25)进行，含有异氰酸酯的液体子流(4a)的进料在纯异氰酸酯料流(6)的取出点之下进行且含有异氰酸酯的液体料流(4b)的引入在含有异氰酸酯的液体子流(4a)的引入之下进行。
低沸点成分料流(5)在隔离壁塔的顶部(15)取出，而高沸点成分料流(7)在该塔的右侧底部(19a)取出。
对这两个优选实施方案共同的是新的特征b)，即残余料流(3)或至少部分含有残余料流(3)的料流与含于子流(2)中的不可汽化残余物分开输送。这在第二优选实施方案中借助如下事实实现：隔离壁塔(14)的隔离壁(18)延伸到基座并且在隔离壁塔(14)的料流(1)的进料点之上不存在由隔离壁塔(14)的冷凝器(22)产生且至少部分含有蒸气形式的残余料流(3)的冷凝液料流。带有气缝(25)的塔盘—经由该气缝使蒸气形式的残余料流(3)进入该隔离壁塔的隔离壁之上的区域并且该气缝将隔离壁塔的进料空间与该隔离壁塔的剩余部分分开—根据本发明在结构上的设计应使由冷凝器(22)产生的冷凝液料流不能流入隔离壁塔(14)的进料空间，例如呈收集塔盘形式。
除非另有指明，本文中所用数据ppm和百分数基于重量。
实施例：
在通过蒸馏除去HCl、光气和溶剂之后，根据示于图2的本发明方法的优选实施方案使用来自甲苯二胺(TDA)光气化的含有甲苯二异氰酸酯(TDI)的粗异氰酸酯料流来制备纯TDI料流。得到下列条件和流速：
| 料流号 | 量 | 组成 |
| 1 | 1kg/h | 95％TDI；5％残余物(不可汽化)；170ppm低沸点成分；700ppm高沸点组分 |
| 5 | 30g/h | 99.4％TDI；0.5％低沸点成分 |
| 6 | 0.92kg/h | 99.9％TDI；10ppm低沸点成分；50ppm高沸点组分 |
| 7 | 1g/h | 30％TDI；70％高沸点组分 |
| 8 | 48g/h | 98.5％残余物；1.5％TDI |
| 设备号 | 条件 |
| 14 | 顶部压力：18毫巴底部温度(左)19b：145℃底部温度(右)19a：160℃理论塔板(从顶部到底部编号的床)床1：4块理论塔板进料部分：床2：2块理论塔板 |
| 流出部分：床2：2块理论塔板床3：3块理论塔板床4：2块理论塔板床5：18块理论塔板 | |
| 23 | 压力：8毫巴温度：128℃ |
| 11 | 压力：25毫巴温度：240℃ |
Claims (13)
1.一种从异氰酸酯合成中提纯产物料流的方法，该方法包括如下步骤：
a)将粗异氰酸酯料流(1)分离成气态蒸气流(3)和液体子流(2)，和
c)以蒸气形式作为含有异氰酸酯的残余料流(4)回收液体子流(2)中存在的异氰酸酯，
其中步骤c)在降膜蒸发器、升膜蒸发器、薄膜蒸发器、长管蒸发器、螺旋管蒸发器、强制循环闪蒸器或没有冷却区且具有用于不可汽化残余物(8)的排出螺杆的桨式干燥器或这些设备的组合中进行。
2.如权利要求1所要求的方法，其中步骤c)在薄膜蒸发器、降膜蒸发器、强制循环闪蒸器或没有冷却区且具有用于不可汽化残余物(8)的排出螺杆的桨式干燥器或这些设备的组合中进行。
3.如权利要求2所要求的方法，其中步骤c)在没有冷却区且具有用于不可汽化残余物(8)的排出螺杆的桨式干燥器中进行。
4.如权利要求1所要求的方法，其中粗异氰酸酯料流(1)通过光气化胺、通过光气化胺盐酸盐、通过光气化氨基甲酸盐、通过脲方法或通过母体胺与碳酸二烷基酯的反应而获得。
5.如权利要求4所要求的方法，其中粗异氰酸酯料流(1)通过光气化胺、通过光气化胺盐酸盐或通过光气化氨基甲酸盐而获得。
6.如权利要求5所要求的方法，其中粗异氰酸酯料流(1)通过光气化胺而获得。
7.如权利要求1-6中任一项所要求的方法，其中异氰酸酯选自单体亚甲基二(苯基异氰酸酯)，甲苯二异氰酸酯，R，S-1-苯基乙基异氰酸酯，1-甲基-3-苯基丙基异氰酸酯，萘二异氰酸酯，正戊基异氰酸酯，6-甲基-2-庚烷异氰酸酯，环戊基异氰酸酯，六亚甲基二异氰酸酯，异佛尔酮二异氰酸酯，2，4-和2，6-二异氰酸酯基甲基环己烷及其异构体混合物，邻-、间-或对-二甲苯二异氰酸酯，二异氰酸酯基环己烷，二(异氰酸酯基环己基)甲烷，四甲基间苯二亚甲基二异氰酸酯，1，3-二(异氰酸酯基甲基)环己烷，1，6-二异氰酸酯基-2，2，4，4-四甲基己烷，1，6-二异氰酸酯基-2，2，4-三甲基己烷及其混合物。
8.如权利要求7所要求的方法，其中异氰酸酯选自单体亚甲基二(苯基异氰酸酯)，甲苯二异氰酸酯，萘二异氰酸酯，六亚甲基二异氰酸酯，异佛尔酮二异氰酸酯，2，4-和2，6-二异氰酸酯基甲基环己烷及其异构体混合物，邻-、间-或对-二甲苯二异氰酸酯、二(异氰酸酯基环己基)甲烷和二异氰酸酯基环己烷。
9.如权利要求1-6中任一项所要求的方法，其中步骤c)在80-320℃下进行。
10.如权利要求7所要求的方法，其中步骤c)在80-320℃下进行。
11.如权利要求1-6中任一项所要求的方法，其中步骤c)在0.1-40毫巴下进行。
12.如权利要求7所要求的方法，其中步骤c)在0.1-40毫巴下进行。
13.如权利要求9所要求的方法，其中步骤c)在0.1-40毫巴下进行。
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