CN1929109A - 基板定位装置和基板收纳单元 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种在负载锁定室等收纳基板的容器内,极大地缩小基板周边的空间,进行基板定位的基板定位装置。基板定位装置具备按压与基板(S)的搬送方向垂直的一对端面(S1)的一对第一定位器(7);和按压沿基板(S)的搬送方向的一对端面(S2)的一对第二定位器(8),第一和第二定位器(7、8)分别具备汽缸机构(71、81)和通过汽缸机构(71、81)的活塞(74、84)的前进,按压端面(S1、S2)的按压件(70、80),第一定位器(7)还具备驱动力转换机构(72),所述驱动力转换机构(72)通过活塞(74)的前进,驱动按压件(70)在退避到基板(S)的搬送路径外的退避位置和能按压基板(S)的可按压位置之间移动,且在所述可按压位置沿按压方向移动。
Description
技术领域
本发明涉及处理平板显示器(FPD)用的玻璃基板等的基板时,对该基板进行定位的基板定位装置、和具备该基板定位装置的基板收纳单元。
背景技术
在FPD的制造过程中,作为在真空状态下对玻璃基板进行刻蚀或灰化、成膜等处理的真空处理装置,使用具备用于进行上述处理的多个真空处理室的所谓的多腔室型的真空处理装置。
在这样的真空处理装置中,为了进行真空处理室内的基板的装载/卸载时不需要每次都使真空处理室返回常压,而利用闸阀通过开闭自如的开口,使作为预备真空室的负载锁定室连接在真空处理室上。通过搬送拾取器等的搬送机构将上述处理前的基板搬送至真空处理室之前搬送至负载锁定室,在负载锁定室与真空处理室达到同样的真空状态后,再搬入真空处理室。因此,在负载锁定室中,将基板定位在规定的位置上,以便由搬送机构将基板准确地搬送到真空处理室内的处理位置上。
作为这样的基板定位中使用的定位装置,提出了备有能分别按压被支撑在负载锁定室内的缓冲器上的基板的相对的角部的一对定位器(例如参照专利文献1)。在该技术中,各定位器有一对辊和支撑这些辊的支撑体,沿基板的对角线方向移动,在用一对辊夹持基板的角部的状态下,通过按压基板,进行基板的定位。此外,各定位器能退至下方不妨碍基板的搬送。
[专利文献1]日本特开2000-306980号公报
可是,近年来,LCD基板有大型化的倾向,以至于出现一边为2m的巨大的基板,如果适应基板的巨大化而使现有的负载锁定室等腔室大型化,则装置本身明显巨大化,因此腔室内的基板周边的空间被抑制得很小,使腔室趋向极小化。但是,在上述专利文献1的技术中,由于一对辊被支撑在支撑体上构成定位器,所以其本身不得不成为较大的装置,但是,为了其沿对角线方向和上下方向的移动,必需部分空间,因此,负载锁定室的小型化有极限。
发明内容
本发明就是鉴于这样的情况而完成的,目的在于提供一种在负载锁定室等收纳基板的容器内,极大地缩小基板周边的空间,能进行基板定位的基板定位装置、和具备该基板定位装置的基板收纳单元。
为了解决上述课题,本发明提供一种基板定位装置,将从设置在容器的侧壁上的开口沿水平方向搬送、在上述容器内载置在基板载置部上的矩形基板定位在上述基板载置部上,其特征在于:具备:按压与基板的搬送方向垂直的一对第一端面的一对第一按压机构;和按压沿着基板的搬送方向的一对第二端面的一对第二按压机构,上述第一按压机构和第二按压机构分别具有驱动机构、和通过上述驱动机构的驱动按压上述第一端面和第二端面的按压件,上述一对第一按压机构中的至少一个还具有驱动力转换机构部,上述驱动力转换机构部通过上述驱动机构的驱动,使上述按压件在退避到基板的搬送路径以外的退避位置和可按压基板的可按压位置之间移动,且在上述可按压位置在按压方向移动。
在本发明的基板定位装置中,上述驱动机构优选设置在上述容器外。此外,上述驱动力转换机构部优选设置在基板的搬送路径的上方或下方,通过上述驱动机构的驱动,使上述按压件以与上述搬送路径平行的状态退避到基板的搬送路径的上方或下方的退避位置和在可按压基板的可按压位置之间移动,而且在上述可按压位置在按压方向移动。此外,上述一对第一按压机构中的至少一者的上述驱动机构优选沿水平且与基板的搬送方向垂直的方向驱动。在此情况下,上述一对第一按压机构中的至少一者的上述驱动机构,是具有在水平且与基板的搬送方向垂直的方向进退的活塞的汽缸机构,上述驱动力转换机构部优选这样工作:如果上述汽缸机构的上述活塞前进规定冲程,则上述退避位置的上述按压件被移动至上述可按压位置;如果上述汽缸机构的上述活塞再前进规定冲程,则使上述可按压位置的上述按压件沿按压方向移动,按压上述第一端面;如果在该状态下上述汽缸机构的上述活塞退避规定冲程,则使对上述第一端面进行按压状态下的上述按压件移动至上述可按压位置;如果上述汽缸机构的上述活塞再退避规定冲程,则使上述可按压位置的上述按压件移动至上述退避位置。再者,在此情况下,上述驱动力转换机构部具有:固定在上述容器内的导向部件;与上述汽缸机构的上述活塞的进退同时,沿上述导向部件在上述活塞的进退方向滑移的主动滑动部件;伴随上述主动滑动部件的规定冲程的滑移,沿上述导向部件,在水平且与主动滑动部件的移动方向垂直的方向滑移的从动滑动部件;和一端部设置为能够在上述从动滑动部件上旋转,同时上述按压件设置为能够在另一个端部上旋转,伴随上述主动滑动部件的规定冲程的滑移,以上述一端部为中心,以倒伏和立起的方式旋转的链部件,优选通过上述链部件以倒伏和立起的方式旋转,使上述按压件在上述退避位置和上述可按压位置之间移动,通过上述从动滑动部件滑移,将上述可按压位置作为起点和终点,使上述按压件沿按压方向及与按压方向相反的方向移动。
在以上本发明的基板定位装置中,优选上述第一按压机构和第二按压机构分别具有缓和上述按压件按压上述第一端面和第二端面时的冲击的缓冲组件。
此外,本发明提供一种基板收纳单元,具备:在侧壁上设有开口,具有收纳从上述开口在水平方向搬送的矩形形状的基板的基板收纳部的容器;设置在上述基板收纳部中,载置被收纳在上述基板收纳部中的基板的基板载置部;和在上述基板载置部上对载置在上述基板载置部上的基板进行定位的基板定位装置,其特征在于:
上述基板定位装置具备按压与基板的搬送方向垂直的一对第一端面的一对第一按压机构;和按压沿着基板的搬送方向的一对第二端面的一对第二按压机构,上述第一按压机构和第二按压机构分别具有驱动机构;和通过上述驱动机构的驱动,按压上述第一端面及第二端面的按压件,上述一对第一按压机构中的至少一者还具有通过上述驱动机构的驱动,使上述按压件在退避到基板的搬送路径以外的退避位置和能按压基板的可按压位置之间移动,且在上述可按压位置在按压方向移动的驱动力转换机构部。
在本发明的基板收纳单元中,上述基板载置部优选具有与被搬送的基板的背面接触的能旋转的球状滚子。此外,上述容器优选在上下具有两段以上的上述基板收纳部。此外,上述容器是负载锁定室,该负载锁定室优选在互相相对的侧壁上分别设有能开闭的上述开口,通过各个上述开口,内部能与在真空状态下对基板进行规定的处理的真空处理室腔内和大气侧连通,与大气侧进行基板交接时,内部保持在大气压附近,同时与上述真空处理腔室进行基板的交接时,内部保持在真空状态。
采用本发明,则由于利用各一对第一和第二按压机构按压基板的各端面,所以能准确地进行基板的定位,同时由于使用各自的驱动机构分别驱动第一和第二按压机构,使按压件按压基板的端面,此外,在基板的搬送路径中,按压与基板的搬送方向垂直的第一端面的至少一个的第一按压机构设置有使按压件在退避到基板的搬送路径以外的退避位置和可能按压基板的可按压位置之间移动,且在可按压位置在按压方向移动的驱动力转换机构部,使按压件从基板的搬送路径进行回避移动,所以能显著地缩小容器内的定位用的部件的设置空间和从基板的搬送路径进行回避移动用的空间。因此,能使容器内的基板周边的空间极大变小,使容器小型化。
特别是在将本发明应用于多腔室型的真空处理装置中用的负载锁定室的情况下,能使负载锁定室小型化,能避免真空处理装置本身伴随基板的大型化而显著巨大化。
附图说明
图1是概略地表示本发明的一实施方式的基板定位装置被应用于负载锁定室的等离子体处理装置的立体图。
图2是概略地表示等离子体处理装置的内部的水平截面图。
图3是表示控制部的概略结构的框图。
图4是表示将负载锁定室的一部分切掉后的立体图。
图5是表示驱动力转换机构部的分解立体图。
图6是用于说明驱动力转换机构部的工作的第一阶段的立体图。
图7是用于说明驱动力转换机构部的工作的第二阶段的立体图。
图8是用于说明驱动力转换机构部的工作的第三阶段的立体图。
图9是表示将驱动力转换机构部的一部分被切掉后的平面图。
图10是用于说明基板定位装置的工作的第一阶段的图。
图11是用于说明基板定位装置的工作的第二阶段的图。
图12是用于说明基板定位装置的工作的第三阶段的图。
图13是表示构成基板定位装置的第一和第二定位器的配置位置的变形例的图。
符号说明
7第一定位器(第一按压机构);8第二定位器(第二按压机构);30负载锁定室(容器);31基板收纳部;32缓冲室(基板载置部);33、34开口;35球状滚子;70、80按压件;71、81气缸机构(驱动机构);72驱动力转换机构部;74、84拾取器;75导向部件;76主动滑动部件;77从动滑动部件;78、79密封部件;S基板;S1第一端面;S2第二端面
具体实施方式
以下,参照附图说明本发明的优选方式。这里,说明将本发明的基板定位装置用于构成对FPD用玻璃基板(以下只记作“基板”)S进行等离子体处理用的多腔室型的等离子体处理装置的负载锁定装置中的例子。这里,作为FPD,能举例示出:液晶显示器(LCD)、发光二极管(LED)显示器、电致发光(Electro Luminescence;EL)显示器、荧光显示管(Vacuum Fluorescent Display;VFD)、等离子体显示面板(PDP)等。
图1是概略地表示本发明的一实施方式的基板定位装置被应用于负载锁定室的等离子体处理装置的立体图,图2是概略地表示其内部的水平截面图。
该等离子体处理装置1在其中央部连续设置有搬送室20和负载锁定室30。三个处理室10a、10b、10c配置在搬送室20的周围。
在搬送室20和各处理室10a、10b、10c之间、搬送室20和负载锁定室30之间、以及连通负载锁定室30和外侧的大气气氛的开口中,分别插设有将它们之间气密性密封,且构成为能开闭的闸阀22(图中只示出了搬送室20和各处理室10a、10b、10c之间、搬送室20和负载锁定室30之间的闸阀)。
在负载锁定室30的外侧,设有两个盒式载入器(cassette indexer)41,收纳基板S的盒40分别载置在其上。例如将未处理的基板收纳在这些盒40中的一个中,将处理过的基板收纳在另一个中。
在这两个盒40之间,在支撑台44上设置有搬送机构43,该搬送机构43具备有设置在上下两段上的拾取器45、45;以及支撑这些拾取器45、45,使其能分别进退、且能统一地旋转和升降的底座47。
上述处理室10a、10b、10c的内部空间能保持规定的减压气氛,在其内部能进行等离子体处理,例如蚀刻或灰化处理。这样由于具有三个处理室,所以例如将其中的两个处理室作为蚀刻处理室,将剩下的一个处理室作为灰化处理室,或者也可以将三个处理室全部作为进行同一处理的蚀刻处理室或灰化处理室。此外,处理室的个数不限于三个,也可以是四个以上。
搬送室20能与真空处理室同样地保持规定的减压气氛,其中如图2所示,配置有搬送装置50。由该搬送装置50在负载锁定室30和三个处理室10a、10b、10c之间搬送基板S。搬送机构50具备设置成上下两段的拾取器51、51(图2中只示出了上段);和支撑这些拾取器51、51,使其能分别进退、且统一旋转和升降的底座52。
负载锁定室30能与各处理室10及搬送室20同样,保持在规定的减压气氛。此外,负载锁定室30是在大气气氛下的盒40和在减压气氛下的处理室10a、10b、10c之间进行基板S的交接用的腔室,在反复为大气气氛和减压气氛的关系上,尽量缩小其容积。
负载锁定室30的基板收纳部31设置成上下两段(图2中只示出上段),在各基板收纳部31中设有载置并支撑基板S的多个缓冲器(基板载置部)32。在这些缓冲器32之间,形成搬送基板S时的拾取器45、51的退出槽32a。此外,与各基板收纳部31相对应,在负载锁定室30中,设置有在矩形的基板S的互相相对的角部附近进行定位的第一和第二定位器(第一和第二按压机构)7、8。后面将详细说明负载锁定室30、以及第一和第二定位器7、8。
等离子体处理装置1的各构成部分连接在控制部60上被控制(图1中未示出)。控制部60的概要示于图3。控制部60备有具有CPU的过程控制器61,在该过程控制器61上连接有程序管理者为了管理等离子体处理装置1而进行指令的输入操作等的键盘、和由可视化地显示等离子体处理装置1的工作状况的显示器等构成的用户界面62。
此外,控制部60有存储部63,用于存储记录有通过过程控制器61的控制,实现等离子体处理装置1中进行的各种处理用的控制程序(软件)和处理条件数据等的方法,该存储部63连接在过程控制器61上。
而且,根据需要,利用来自用户界面62的指示等,从存储部63调出任意的方法,在过程控制器61中执行,在过程控制器61的控制下,进行等离子体处理装置1中的所希望的处理。
上述控制程序或处理条件数据等的方法,能利用存储在计算机能读取的存储介质,例如CD-ROM、硬盘、软盘、快速存储器等中的状态的物质,或者,也能从其他装置,例如通过专用线路随时传输,在线利用。
其次,详细说明本实施方式的基板定位装置、和具备基板定位装置的负载锁定室30。
图4是切掉负载锁定室30的一部分示出的立体图。
负载锁定室30的各基板收纳部31,有分别在基板S的搬送方向(Y方向)相对的侧壁上,通过闸阀22能与搬送室20连通的开口33;以及与外侧的大气气氛连通的开口34,至少开口34关闭时,内部能减压到规定的减压气氛,例如减压到真空状态。在各基板收纳部31中,利用搬送机构43或50,呈水平或大致水平搬送的基板S通过开口34或33,被收纳在各基板收纳部31内,横跨多个缓冲器32上而被载置。
多个缓冲器32中,例如在与基板的搬送方向垂直的水平方向(X方向)的中央部上设置的缓冲器32的上端部上,以规定的间隔设有多个与被搬送的基板S的背面接触的能旋转的球状滚子35,例如在X方向外侧的缓冲器32的上端部上,与被搬送的基板S的角部的背面接触的支撑销36设置在Y方向的两端部上。由此,载置在多个缓冲器32上的基板,能通过球状滚子35的旋转,在缓冲器32上移动,同时利用与支撑销36的摩擦,在缓冲器32上静止。
第一定位器7用于按压与被收纳在基板收纳部31内的基板S的Y方向垂直或大致垂直的端面S1的,具备:按压端面S1的按压件70;使按压件70移动用的汽缸机构(驱动机构)71;和介于按压件70和汽缸机构71之间,使汽缸机构71的驱动力变换方向后传递给按压件70的驱动力转换机构部72。第二定位器8用于按压与被收纳在基板收纳部31内的基板S的X方向垂直或大致垂直的端面S2的,具备:按压端面S2的按压件80;和使按压件80移动用的汽缸机构(驱动机构)81。第一定位器7和第二定位器8分别设置在基板收纳部31的相对的两个角部附近,而且,在上下基板收纳部31、31之间,设置在不同的角部附近。第一和第二定位器7、8构成基板定位装置,负载锁定室30、设置在负载锁定室30内的基板收纳部31中的缓冲器32、和基板定位装置构成基板收纳单元。
汽缸机构71由电动汽缸构成,该电动汽缸有设置在负载锁定室30的基板收纳部31外的、更具体地说,与载置在缓冲器32上的基板S的高度大致相同、从与负载锁定室30或与基板收纳部31的X方向垂直的侧壁向负载锁定室30外面突出设置的、沿X方向延伸的汽缸本体73;和能在该汽缸本体73中进退设置的活塞74(参照图5~8、10~12),由步进电动机将电能变换成机械能,使活塞74相对于汽缸本体73进退规定量。
如图5~9所示,(图5是表示驱动力转换机构部72的分解立体图,图6是用于说明驱动力转换机构部72的工作的第一阶段的立体图,图7是用于说明驱动力转换机构部72的工作的第二阶段的立体图,图8是用于说明驱动力转换机构部72的工作的第三阶段的立体图,图9是表示将驱动力转换机构部72的一部分切掉后的平面图),驱动力转换机构部72具备:固定在基板收纳部31内的底面上的板状的导向部件75;能沿X方向滑移地安装在导向部件75上的主动滑动部件76;能沿Y方向滑移地安装在导向部件75上的从动滑动部件77;以及一端部以Y方向为轴能旋转地设置在从动滑动部件77上,按压件70能旋转地设置在另一端部上的一对链部件78、79。
主动滑动部件76具有沿X方向延伸的形状,沿Y方向有间隔的将一对滑动部760设置在X方向中间部上。在滑动部760的底面上分别形成沿X方向延伸的滑槽761(图中只示出了一个),滑槽761能滑动地嵌入在导向部件75上形成的沿X方向延伸的X方向导向部751中,从而主动滑动部件76被安装在能沿X方向滑移的导向部件75上。滑动部760的至少滑槽761部分用摩擦系数低的材料形成,以便容易沿X方向导向部751滑动。在X方向导向部751的两端部上,分别设有限制滑动部760的滑动的阻挡部753。
在主动滑动部件76的X方向一端部上形成连接凹部765,通过该连接凹部765与在活塞74的前端部上形成的配合槽740在X方向的连接,主动滑动部件76与汽缸机构71的活塞74连接,由此,主动滑动部件76伴随活塞74的进退动作在X方向滑移。
从动滑动部件77具有沿X方向延伸的形状,沿X方向有间隔的设有一对滑动部770。在滑动部770的底面上分别形成沿Y方向延伸的滑槽771。滑槽771能滑动地嵌入在比导向部件75的X方向导向部751更靠近基板收纳部31的Y方向中央形成的、沿Y方向延伸的Y方向导向部752中,从而从动滑动部件77能设置在比主动滑动部件76更靠近基板收纳部31的Y方向中央,能沿Y方向滑移地安装在导向部件75上。滑动部770的至少滑槽771部分用摩擦系数低的材料形成,以便容易沿Y方向导向部752滑动。在Y方向导向部752的两端部上,分别设有限制滑动部770的滑动的阻挡部753。
主动滑动部件76与沿X方向及Y方向大致呈45度角朝向基板收纳部31的外侧延伸的按压叶片部762呈一体地设置在基板收纳部31的靠近Y方向中央的滑动部760上,例如沿高度方向延伸的圆柱状的被按压部772设置在从动滑动部件77的上面。而且,通过活塞74的规定冲程的前进,主动滑动部件76向X方向中央附近滑移时,按压叶片部762接触被按压部772,按压被按压部772,从而从动滑动部件77向Y方向中央附近滑移(特别参照图7、8)。
拉伸螺旋弹簧754分别连接在从动滑动部件77和导向部件75的X方向两端部上,从动滑动部件77利用拉伸螺旋弹簧754,趋向基板收纳部31的Y方向外侧。由此,向基板收纳部31的Y方向中央附近滑移的从动滑动部件77,在主动滑动部件76通过活塞74的规定冲程的退避而向基板收纳部31的X方向外侧滑移时,朝向基板收纳部31的Y方向外侧滑移。
一对链部件78、79构成为:其一端部的转动轴在X方向并列,设置为比从动滑动部件77的被按压部772更靠近基板收纳部31的X方向中央,一者朝向另一者弯曲成V形,构成平行四边形。在链部件78上设有朝向基板收纳部31的Y方向外侧延伸的圆柱状或圆筒状的凸轮部780,凸轮部780被插入在主动滑动部件76的X方向另一端部上形成的凸轮孔763中。凸轮孔763在Y方向的截面呈上下延伸的形状,一对链部件78、79构成为:当主动滑动部件76滑移时,凸轮部780沿凸轮孔763上下位移,从而进行转动而立起并使链部件78向下侧倒伏(特别参照图6、7)。此外,凸轮孔763沿Y方向的截面,呈从上端部向基板收纳部31的X方向外侧延伸的形状,主动滑动部件76和从动滑动部件77分别沿X方向及Y方向滑移时,凸轮部780被插入凸轮孔763中,立起的一对链部件78、79也与从动滑动部件77一起,沿Y方向移动(特别参照图7、8)。由此,能在一对链部件78、79立起的状态下可靠地进行支撑。
凸轮部780能利用多个球轴承781进行转动(参照图9),由此,能在凸轮孔763内平滑地相对位移。此外,也可以将凸轮部设置在链部件79上,来代替设置在链部件78上,或者,也可以将凸轮部设置在主动滑动部件76上,将凸轮孔设在链部件78或79上,凸轮部780和凸轮孔763构成凸轮机构,一对链部件78、79在主动滑动部件76滑移时,利用凸轮机构进行转动,立起或倒伏。
拉伸螺旋弹簧755连接在链部件79和从动滑动部件77上,一对链部件78、79受拉伸螺旋弹簧755的拉力作用而立起。由此,倒伏的一对链部件78、79,在通过活塞74前进规定冲程,主动滑动部件76向基板收纳部31的X方向中央附近滑移时,由拉伸螺旋弹簧755辅助立起。此外,也可以用压缩螺旋弹簧代替拉伸螺旋弹簧755,构成为通过压缩螺旋弹簧辅助进行立起的一对链部件78、79的倒伏。
按压件70具有:与基板S的端面S1接触,按压端面S1的按压本体700;链部件78、79的另一端能分别转动地被安装的转动板701;和连结按压本体700与转动板701的沿Y方向延伸的连结部702。按压件70构成为:一对链部件78、79立起时,位于与载置在缓冲器32上的基板S大致相等的高度(可按压位置),一对链部件78、79倒伏合时,保持与基板S平行的状态,位于载置在缓冲器32上的基板S的下方(退避位置)。
按压本体700由不会使接触的基板S的端面S1损伤或破损、而且难以由于与基板S接触而产生微粒子等的材料形成。例如,能使用有一定的弹性的合成树脂等材料,优选能使用聚四氟乙烯等氟系列树脂。此外,从提高定位精度的观点看,按压本体700的按压面呈圆弧状,以便能在水平方向,与基板S的端面S1点接触。此外,按压本体700也可以做成以高度方向为轴的例如圆柱状的旋转体。
连结部702构成为:内筒部件704插入外筒部件703中后不能拔出,压缩螺旋弹簧705配置在外筒部件703和内筒部件704中。即,连结部702能伸缩,同时由于压缩螺旋弹簧705的作用而在伸展方向受力,具有作为缓和按压本体700按压基板S的端面S1时的冲击的缓冲组件的功能。
此外,驱动力转换机构部72,例如导向部件75固定在基板收纳部31的上面,也可以上下相反设置。在此情况下,当一对链部件78、79立起时,按压件70位于与载置在缓冲器32上的基板S大致相等的高度(可按压位置),当一对链部件78、79倒伏时,按压件70仍保持与基板S平行的状态,位于载置在缓冲器32上的基板S的上方(退避位置)。
第二定位器8由电动汽缸机构构成,如图10~12所示,汽缸机构81具有设置在负载锁定室30的基板收纳部31的外的,更具体地说,与缓冲器32的下端部呈大致相同的高度、从负载锁定室30或基板收纳部31的与X方向垂直的侧壁向负载锁定室30外面突出设置的沿X方向延伸的汽缸本体83;和能在该汽缸本体83中进退的活塞84,按压件80设置在活塞84的前端部。
此外,一对汽缸机构71中的一者、和一对汽缸机构81中的一者也可以做成气动汽缸等其他汽缸代替电动汽缸。此外,作为使按压件70、80移动的驱动机构,除了汽缸机构71、81以外,如果是能沿X方向进退驱动,同时能在X方向上的任意的位置停止的机构,那么不管其工作原理和种类如何,都可以例如也可以使用电磁铁电动机、螺线管、压电元件等。
按压件80与按压件70的按压本体700相同,由不会使接触的基板S的端面S2损伤或破损、而且难以由于与基板S接触产生的微粒子等的材料形成,按压面呈圆弧状,以便在水平方向上能以点接触方式接触基板S的端面S2。此外,按压件80也可以是以高度方向为轴的例如圆柱状的旋转体。此外,为了能缓和按压件80按压基板S的端面S2时的冲击,优选通过连结部702这样的缓冲单元,连结按压件80和活塞84。
根据这样的结构,第二定位器8通过汽缸机构81的活塞84的前进,使按压件80向基板收纳部31的X方向中央附近移动,通过使汽缸机构81的活塞84退避,使按压件80移动至基板收纳部31的X方向外侧。
其次,参照图10~12说明利用基板定位装置进行的基板的定位方法。图10是用于说明基板定位装置的工作的第一阶段的图,图11是用于说明基板定位装置的工作的第二阶段的图,图12是用于说明基板定位装置的工作的第三阶段的图。
首先,在使设置在第一和第二定位器7、8上的汽缸机构71、81的活塞74、84完全退避的状态下,将基板S搬送到基板收纳部31内,载置在缓冲器32上后,使汽缸机构71、81的活塞74、84分别前进(参照图10)。
如果使汽缸机构71的活塞74进行规定冲程的前进,则主动滑动部件76向基板收纳部31的X方向中央附近滑移。这时,凸轮部780沿凸轮孔763内上升,拉伸螺旋弹簧755也起作用,通过一对链部件78、79以立起的方式转动,退避位置的按压件70上升到可按压位置(参照图11)。
如果使汽缸机构71的活塞74再进行规定冲程的前进,则主动滑动部件76再向基板收纳部31的X方向中央附近滑移。这时,按压叶片部762与被按压部772接触,按压被按压部772,通过与拉伸螺旋弹簧754的弹力相反地、使从动滑动部件77向基板收纳部31的Y方向中央附近滑移,可按压位置的按压件70向基板收纳部31的Y方向中央附近移动,与基板S的端面S1接触,按压端面S1(参照图12)。
另一方面,如果使汽缸机构81的活塞84进行规定冲程的前进,则按压件80向基板收纳部31的X方向中央附近移动,与基板S的端面S2接触,按压端面S2。
这样,通过利用第一和第二定位器7、8,按压基板S的各端面S1、S2,基板S被定位在缓冲器32上规定的位置。此外,也可以同时进行一对汽缸机构71、81的前进驱动,还可以使一对汽缸机构71、81中的一个汽缸机构71、81进行前进驱动后,使另一个汽缸机构71、81进行前进驱动。
如果基板S的定位结束,则使汽缸机构71、81的活塞74、84分别退避。如果使活塞74进行规定冲程的退避,则主动滑动部件76向基板收纳部31的X方向外侧滑移。这时,受到拉伸螺旋弹簧754的弹力的从动滑动部件77,通过向基板收纳部31的Y方向外侧滑移,使与基板S的端面S1接触的按压件70向基板收纳部31的Y方向外侧移动,离开端面S1,移动至可按压位置。
如果使活塞74再完成规定冲程,例如完全退避,则主动滑动部件76再向基板收纳部31的X方向外侧滑移。这时,凸轮部780沿凸轮孔763内下降,通过与拉伸螺旋弹簧755的弹力相反地、使一对链部件78、79以倒伏的方式转动,可按压位置的按压件70下降到退避位置。
另一方面,如果使汽缸机构81的活塞84再完成规定冲程,例如完全退避,则按压件80向基板收纳部31的X方向外侧移动,离开基板S的端面S2。
这样,如果使按压件70、80从基板S的搬送路径上退避,则基板S被搬送到处理室10a、10b、10c中的某一个室中。由第一和第二定位器7、8进行定位后的基板S,在处理室10a、10b、10c内被搬送到正规的处理位置,所以能实现不致产生处理不均匀等的高精度的处理。
在本实施方式中,由于通过分别设置的汽缸机构71、81的活塞74、84的前进,分别利用第一和第二定位器7、8,使按压件70、80按压基板S的第一及第二端面S1、S2,位于基板S的搬送路径上的按压第一端面S1的第一定位器7,设有使按压件70在退避位置和可按压位置之间移动,而且,在可按压位置在按压方向移动的驱动力转换机构部72,使按压件70从基板S的搬送路径回避移动,所以能显著地缩小基板收纳部31中的定位用的部件的设置空间及从基板S的搬送路径回避移动用的空间。因此,能极大地缩小基板收纳部31的基板S周围的空间,能使负载锁定室30极小化。
此外,在本实施方式中,由于使按压件70、80移动用的汽缸机构71、81设置在负载锁定室30的基板收纳部31外面,所以能进一步缩小基板收纳部31中的定位用的部件的设置空间。
此外,在本实施方式中,由于在第一定位器7中,驱动力转换机构部72将汽缸机构71的活塞74产生的X方向的驱动力变换成Y方向及高度方向的驱动力,使按压件70在退避位置和可按压位置之间移动,而且,将可按压位置作为起点及终点,在按压方向及与按压方向相反的方向移动,所以能将构成第一和第二定位器7、8的汽缸机构71、81设置在负载锁定室30的同一侧壁上,由此,能有效地利用负载锁定室30的上侧及下侧的空间。此外,由于驱动力转换机构部72通过活塞74的一个冲程的前进及退避,使按压件70在退避位置和可按压位置之间移动,而且,将可按压位置作为起点及终点,在按压方向及与按压方向相反的方向移动,所以基板S的定位操作容易。
此外,第一和第二定位器7、8在基板收纳部31中的配置位置,不限于互相相对的角部附近。如图13所示(图13是表示构成基板定位装置的第一和第二定位器的配置位置的变形例的图),也可以将第一定位器7配置在与基板收纳部31的Y方向相邻的角部附近,沿Y方向互相相对地配置一对,同时将第二定位器8配置在基板收纳部31的各角部附近,沿X方向互相相对地配置两对。在此情况下,例如,能用气动汽缸代替电动汽缸,构成第一定位器7的汽缸机构71,同时能用气动汽缸代替电动汽缸,构成设置有一对第一定位器7的一侧的与Y方向相邻的第二定位器8的汽缸机构81(81a、81b)。由此,能减少电动汽缸的个数,所以能实现装置的低成本化。对基板S进行定位时,例如,使由气动汽缸构成的汽缸机构71、81的活塞74、84前进后,使由电动汽缸构成的汽缸机构71、81的活塞74、84前进。
本发明不限定于上述实施方式,能进行各种变形。收纳基板的容器不限于负载锁定室30,也可以是处理室10a、10b、10c或搬送室20等,基板不限于FPD用的玻璃基板,也可以是半导体晶片等其他基板。此外,也可以在容器中设三段以上基板收纳部。
Claims (17)
1.一种基板定位装置,将从设置在容器的侧壁上的开口沿水平方向搬送、在所述容器内载置在基板载置部上的矩形形状的基板定位在所述基板载置部上,其特征在于:
具备:按压与基板的搬送方向垂直的一对第一端面的一对第一按压机构;和
按压沿着基板的搬送方向的一对第二端面的一对第二按压机构,
所述第一按压机构及第二按压机构分别具备驱动机构、和通过所述驱动机构的驱动,按压所述第一端面及第二端面的按压件,
所述一对第一按压机构中的至少一个,还具有驱动力转换机构部,所述驱动力转换机构部通过所述驱动机构的驱动,使所述按压件在退避到基板的搬送路径外的退避位置和能按压基板的可按压位置之间移动,且在所述可按压位置沿按压方向移动。
2.如权利要求1所述的基板定位装置,其特征在于:所述驱动机构设置在所述容器外。
3.如权利要求1或2所述的基板定位装置,其特征在于:所述驱动力转换机构部设置在基板的搬送路径的上方或下方,通过所述驱动机构的驱动,使所述按压件以与所述搬送路径平行的状态,在退避到基板的搬送路径的上方或下方的退避位置和能按压基板的可按压位置之间移动,且在所述可按压位置沿按压方向移动。
4.如权利要求1~3中任一项所述的基板定位装置,其特征在于:所述一对第一按压机构中的至少一个,是所述驱动机构,沿水平且与基板的搬送方向垂直的方向驱动。
5.如权利要求4所述的基板定位装置,其特征在于:所述一对第一按压机构中的至少一个的所述驱动机构,是具有沿水平且与基板的搬送方向垂直的方向进退的活塞的汽缸机构,
所述驱动力转换机构部如下工作:所述汽缸机构的所述活塞前进规定冲程,则位于所述退避位置的所述按压件被移动至所述可按压位置;所述汽缸机构的所述活塞再前进规定冲程,则使位于所述可按压位置的所述按压件沿按压方向移动,按压所述第一端面;在该状态下所述汽缸机构的所述活塞退避规定冲程,则在对所述第一端面进行按压状态下的所述按压件被移动至所述可按压位置;所述汽缸机构的所述活塞再退避规定冲程,则位于所述可按压位置的所述按压件被移动至所述退避位置。
6.如权利要求5所述的基板定位装置,其特征在于:
所述驱动力转换机构部具有:
固定在所述容器内的导向部件;
与所述汽缸机构的所述活塞的进退同时,沿所述导向部件在所述活塞的进退方向滑移的主动滑动部件;
伴随所述主动滑动部件的规定冲程的滑移,沿所述导向部件在水平且与主动滑动部件的移动方向垂直的方向滑移的从动滑动部件;和
一端部能转动地设置在所述从动滑动部件上,同时所述按压件能转动地设置在另一端部上,伴随所述主动滑动部件的规定冲程的滑移,以所述一端部为中心,以倒伏和立起的方式转动的链部件,
通过所述链部件以倒伏和立起的方式转动,使所述按压件在所述退避位置和所述可按压位置之间移动,通过所述从动滑动部件的滑移,将所述可按压位置作为起点及终点,使所述按压件在按压方向及与按压方向相反的方向移动。
7.如权利要求1~6中任一项所述的基板定位装置,其特征在于:所述第一按压机构和第二按压机构还分别具备缓和所述按压件按压所述第一端面和第二端面时的冲击的缓冲组件。
8.一种基板收纳单元,其特征在于:
具备:
在侧壁上设置有开口,具有收纳从所述开口在水平方向搬送的矩形形状的基板的基板收纳部的容器;
设置在所述基板收纳部中,载置被收纳在所述基板收纳部中的基板的基板载置部;和
在所述基板载置部上对载置在所述基板载置部上的基板进行定位的基板定位装置,
所述基板定位装置具备:
按压与基板的搬送方向垂直的一对第一端面的一对第一按压机构;和
按压沿着基板的搬送方向的一对第二端面的一对第二按压机构,
所述第一按压机构和第二按压机构分别有驱动机构、和通过所述驱动机构的驱动按压所述第一端面和第二端面的按压件,
所述一对第一按压机构中的至少一个还具有驱动力转换机构部,所述驱动力转换机构部通过所述驱动机构的驱动,使所述按压件在退避到基板的搬送路径外的退避位置和能按压基板的可按压位置之间移动,且在所述可按压位置在按压方向移动。
9.如权利要求8所述的基板收纳单元,其特征在于:所述驱动机构设置在所述容器的所述基板收纳部外。
10.如权利要求8或9所述的基板收纳单元,其特征在于:所述驱动力转换机构部设置在基板的搬送路径的上方或下方,通过所述驱动机构的驱动,使所述按压件以与所述搬送路径平行的状态,在退避到基板的搬送路径的上方或下方的退避位置和能按压基板的可按压位置之间移动,且在所述可按压位置在按压方向移动。
11.如权利要求8~10中任一项所述的基板收纳单元,其特征在于:所述一对第一按压机构中的至少一个,是所述驱动机构,沿水平且与基板的搬送方向垂直的方向驱动。
12.如权利要求11所述的基板收纳单元,其特征在于:所述一对第一按压机构中的至少一个的所述驱动机构,是具有沿水平且与基板的搬送方向垂直的方向进退的活塞的汽缸机构,
所述驱动力转换机构部如下工作:所述汽缸机构的所述活塞前进规定冲程,则位于所述退避位置的所述按压件被移动至所述可按压位置;所述汽缸机构的所述活塞再前进规定冲程,则使位于所述可按压位置的所述按压件在按压方向移动,按压所述第一端面;在该状态下所述汽缸机构的所述活塞退避规定冲程,则在对所述第一端面进行按压状态下的所述按压件被移动至所述可按压位置;所述汽缸机构的所述活塞再退避规定冲程,则位于所述可按压位置的所述按压件被移动至所述退避位置。
13.如权利要求12所述的基板收纳单元,其特征在于:
所述驱动力转换机构部具备:
在所述基板收纳部固定的导向部件;
与所述汽缸机构的所述活塞的进退同时,沿所述导向部件在所述活塞的进退方向滑移的主动滑动部件;
伴随所述主动滑动部件的规定冲程的滑移,沿所述导向部件在水平且与主动滑动部件的移动方向垂直的方向滑移的从动滑动部件;和
一端部能转动地设置在所述从动滑动部件上,同时所述按压件能转动地设置在另一端部上,伴随所述主动滑动部件的规定冲程的滑移,以所述一端部为中心,以倒伏和立起的方式转动的链部件,
通过所述链部件以倒伏和立起的方式进行转动,使所述按压件在所述退避位置和所述可按压位置之间移动,通过所述从动滑动部件的滑移,将所述可按压位置作为起点及终点,使所述按压件沿按压方向及与按压方向相反的方向移动。
14.如权利要求8~13中任一项所述的基板收纳单元,其特征在于:所述第一按压机构和第二按压机构还分别具备缓和所述按压件按压所述第一端面和第二端面时的冲击的缓冲组件。
15.如权利要求8~14中任一项所述的基板收纳单元,其特征在于:所述基板载置部具有与被搬送的基板的背面接触的能旋转的球状滚子。
16.如权利要求8~15中任一项所述的基板收纳单元,其特征在于:所述容器在上下具有两段以上的所述基板收纳部。
17.如权利要求8~16中任一项所述的基板收纳单元,其特征在于:所述容器是负载锁定室,该负载锁定室在互相相对的侧壁上分别可开闭地设置有所述开口,通过各个所述开口,内部能与在真空状态下对基板进行规定的处理的真空处理室内和大气侧连通,与大气侧进行基板交接时,内部保持在大气压附近,与所述真空处理室进行基板交接时,内部保持在真空状态。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102373436A (zh) * | 2010-07-09 | 2012-03-14 | 佳能安内华股份有限公司 | 基板保持件收纳装置、基板处理设备及基板保持件移动法 |
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TWI497080B (zh) * | 2013-10-03 | 2015-08-21 | ||
CN106773157A (zh) * | 2016-12-06 | 2017-05-31 | 友达光电(昆山)有限公司 | 位置校正装置及位置校正方法 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5501688B2 (ja) * | 2009-07-30 | 2014-05-28 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板位置合わせ機構、それを用いた真空予備室および基板処理システム |
US9929029B2 (en) * | 2015-10-15 | 2018-03-27 | Applied Materials, Inc. | Substrate carrier system |
JP2019102721A (ja) * | 2017-12-06 | 2019-06-24 | エスペック株式会社 | 基板用位置決め装置 |
KR102186594B1 (ko) * | 2020-04-08 | 2020-12-03 | 백철호 | 인쇄회로기판의 자동정렬장치 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3260427B2 (ja) * | 1991-09-10 | 2002-02-25 | 東京エレクトロン株式会社 | 真空処理装置及び真空処理装置における基板搬送方法 |
JPH0751229Y2 (ja) * | 1990-09-29 | 1995-11-22 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板の位置整合装置 |
JP3426222B2 (ja) * | 1991-09-10 | 2003-07-14 | 東京エレクトロン株式会社 | ロードロック室内の位置合わせ機構及び処理装置及び位置合わせ方法 |
JP3468430B2 (ja) * | 1994-02-15 | 2003-11-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 位置検出案内装置、位置検出案内方法及び真空処理装置 |
JP3335983B2 (ja) * | 1993-02-26 | 2002-10-21 | 東京エレクトロン株式会社 | Lcd用ガラス基板の位置合わせ機構及び真空処理装置 |
JPH08288368A (ja) * | 1995-04-14 | 1996-11-01 | Tokyo Electron Ltd | 基板の整列装置および方法 |
JPH0927536A (ja) * | 1995-07-10 | 1997-01-28 | Nissin Electric Co Ltd | ロ−ドロック室内に基板位置合わせ機構を有するイオン注入装置 |
JP4030654B2 (ja) * | 1998-06-02 | 2008-01-09 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板搬送装置 |
JP4841035B2 (ja) * | 2000-11-27 | 2011-12-21 | 東京エレクトロン株式会社 | 真空処理装置 |
JP2003086659A (ja) * | 2001-09-11 | 2003-03-20 | Hirata Corp | 基板の移載装置 |
US20030072639A1 (en) * | 2001-10-17 | 2003-04-17 | Applied Materials, Inc. | Substrate support |
JP2003282684A (ja) * | 2002-03-22 | 2003-10-03 | Olympus Optical Co Ltd | ガラス基板保持具 |
KR101018909B1 (ko) * | 2002-10-25 | 2011-03-02 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 얼라이먼트장치, 기판처리장치 및 기판반송장치 |
KR100582695B1 (ko) * | 2002-11-21 | 2006-05-23 | 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키 | 기판의 위치 결정 방법 및 이 방법을 이용한 검사 장치 |
JP4479881B2 (ja) * | 2003-09-19 | 2010-06-09 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 基板スピン処理装置及び基板スピン処理方法 |
JP2005116878A (ja) * | 2003-10-09 | 2005-04-28 | Toshiba Corp | 基板支持方法および基板支持装置 |
-
2005
- 2005-09-05 JP JP2005257165A patent/JP4642610B2/ja active Active
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2008
- 2008-05-07 KR KR1020080042242A patent/KR100952524B1/ko active IP Right Grant
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102373436A (zh) * | 2010-07-09 | 2012-03-14 | 佳能安内华股份有限公司 | 基板保持件收纳装置、基板处理设备及基板保持件移动法 |
CN102373436B (zh) * | 2010-07-09 | 2014-03-12 | 佳能安内华股份有限公司 | 基板保持件收纳装置、基板处理设备及基板保持件移动法 |
TWI497091B (zh) * | 2013-10-03 | 2015-08-21 | ||
TWI497080B (zh) * | 2013-10-03 | 2015-08-21 | ||
CN106773157A (zh) * | 2016-12-06 | 2017-05-31 | 友达光电(昆山)有限公司 | 位置校正装置及位置校正方法 |
CN106773157B (zh) * | 2016-12-06 | 2018-08-31 | 友达光电(昆山)有限公司 | 位置校正装置及位置校正方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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