KR100860143B1 - 기판 위치 맞춤 장치 및 기판 수용 유닛 - Google Patents

기판 위치 맞춤 장치 및 기판 수용 유닛 Download PDF

Info

Publication number
KR100860143B1
KR100860143B1 KR1020060085136A KR20060085136A KR100860143B1 KR 100860143 B1 KR100860143 B1 KR 100860143B1 KR 1020060085136 A KR1020060085136 A KR 1020060085136A KR 20060085136 A KR20060085136 A KR 20060085136A KR 100860143 B1 KR100860143 B1 KR 100860143B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
pressurizer
board
pair
piston
Prior art date
Application number
KR1020060085136A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20070026274A (ko
Inventor
요시유키 하다치
Original Assignee
도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 filed Critical 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Publication of KR20070026274A publication Critical patent/KR20070026274A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100860143B1 publication Critical patent/KR100860143B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67155Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
    • H01L21/67201Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the construction of the load-lock chamber
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

본 발명은 로드록실 등의 기판을 수용하는 용기내에 있어서, 기판 주위의 스페이스를 극히 작게 해서 기판의 위치 맞춤을 실행할 수 있는 기판 위치 맞춤 장치를 제공하는 것에 관한 것이다. 기판 위치 맞춤 장치는, 기판(S)의 반송 방향에 직교하는 한쌍의 단면(S1)을 가압하는 한쌍의 제 1 포지셔너(7)와, 기판(S)의 반송 방향에 따른 한쌍의 단면(S2)을 가압하는 한쌍의 제 2 포지셔너(8)를 구비하고, 제 1 및 제 2 포지셔너(7, 8)는 각각 실린더 기구(71, 81) 및 실린더 기구(71, 81)의 피스톤(74, 84)의 진출에 의해 단면(S1, S2)을 가압하는 가압자(70, 80)를 갖고, 제 1 포지셔너(7)는, 피스톤(74)의 진출에 의해, 가압자(70)를 기판(S)의 반송 경로외로 퇴피시키는 퇴피 위치와 기판(S)을 가압 가능한 가압 가능 위치와의 사이에서 이동시키고, 또한 가압 가능 위치에서 가압 방향으로 이동시키는 구동력 변환 기구부(72)를 더 구비하고 있다.

Description

기판 위치 맞춤 장치 및 기판 수용 유닛{SUBSTRATE ALIGNMENT APPARATUS AND SUBSTRATE RECEIVING UNIT}
도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 기판 위치 맞춤 장치가 로드록 챔버에 적용된 플라즈마 처리 장치를 개략적으로 도시하는 사시도,
도 2는 플라즈마 처리 장치의 내부를 개략적으로 도시하는 수평 단면도,
도 3은 제어부의 개략 구성을 도시하는 블록도,
도 4는 로드록 챔버의 일부를 절결해서 도시하는 사시도,
도 5는 구동력 변환 기구부를 도시하는 분해 사시도,
도 6은 구동력 변환 기구부의 작동의 제 1 단계를 설명하기 위한 사시도,
도 7은 구동력 변환 기구부의 작동의 제 2 단계를 설명하기 위한 사시도,
도 8은 구동력 변환 기구부의 작동의 제 3 단계를 설명하기 위한 사시도,
도 9는 구동력 변환 기구부의 일부를 절결해서 도시하는 평면도,
도 10은 기판 위치 맞춤 장치의 작동의 제 1 단계를 설명하기 위한 도면,
도 11은 기판 위치 맞춤 장치의 작동의 제 2 단계를 설명하기 위한 도면,
도 12는 기판 위치 맞춤 장치의 작동의 제 3 단계를 설명하기 위한 도면,
도 13은 기판 위치 맞춤 장치를 구성하는 제 1 및 제 2 포지셔너의 배치 위 치의 변경예를 도시한 도면.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
7 : 제 1 포지셔너(제 1 가압 기구)
8 : 제 2 포지셔너(제 2 가압 기구)
30 : 로드록 챔버(용기) 31 : 기판 수용부
32 : 버퍼(기판 탑재부) 33, 34 : 개구
35 : 구형상 회전자 70, 80 : 가압자
71, 81 : 실린더 기구(구동 기구) 72 : 구동력 변환 기구부
74, 84 : 피스톤 75 : 가이드 부재
76 : 주동(主動) 슬라이드 부재 77 : 종동 슬라이드 부재
78, 79 : 링크 부재 S : 기판
S1 : 제 1 단면 S2 : 제 2 단면
본 발명은, 평면 표시 장치(FPD)용의 유리 기판 등의 기판을 처리할 때에, 이 기판을 위치 맞춤하는 기판 위치 맞춤 장치, 및 이 기판 위치 맞춤 장치를 구비한 기판 수용 유닛에 관한 것이다.
FPD의 제조 과정에 있어서, 유리 기판에 대하여 진공 상태에서 에칭이나 애 싱, 성막 등의 처리를 실행하는 진공 처리 장치로서, 상기 처리를 실행하기 위한 복수의 진공 처리실이 배치되어 있는, 소위 멀티챔버 타입의 진공 처리 장치가 이용되고 있다.
이러한 진공 처리 장치에 있어서는, 진공 처리실내의 기판의 로드/언로드를 실행하는 때마다 진공 처리실내를 상압으로 돌릴 필요가 없도록, 게이트 밸브에 의해 개폐가 자유로운 개구를 거쳐서, 진공 처리실에 예비진공실인 로드록실이 접속되어 있다. 상기 처리전의 기판은, 반송 픽 등의 반송 기구에 의해, 진공 처리실로의 반송전에 일단 로드록실에 반송되고, 로드록실내가 진공 처리실과 동일한 진공 상태가 된 후에 진공 처리실로 반송된다. 이 때문에, 로드록실에서는, 반송 기구에 의한 기판의 진공 처리실내의 처리 위치에의 반송이 정확하게 행하여지도록, 기판을 소정의 위치에 위치 맞춤한다고 하는 것이 행하여지고 있다.
이러한 기판의 위치 맞춤에 이용되는 위치 맞춤 장치로서는, 로드록실내의 버퍼상에 지지된 기판의 대향하는 모서리부(角部)를 각각 가압 가능한 한쌍의 포지셔너를 구비한 것이 제안되어 있다(예를 들면 특허문헌 1 참조). 이 기술에 있어서는, 각 포지셔너는, 한쌍의 롤러와 이들의 롤러를 지지하는 지지체를 구비하고, 기판의 대각선 방향으로 이동해서, 기판의 모서리부를 한쌍의 롤러로 협지한 상태에서 기판을 가압하는 것에 의해, 기판의 위치 맞춤을 실행한다. 또한, 각 포지셔너는 기판의 반송의 방해가 되지 않도록 하방으로 퇴피 가능하다.
[특허문헌 1] 일본 특허 공개 제 2000-306980 호 공보
그런데, 최근 LCD 기판은 대형화 경향이 있고, 1변이 2m인 거대한 것이 출현 하는 것에 이르고 있고, 기판의 거대화에 맞춰서 종래의 그대로 로드록실 등의 챔버를 대형화시키면, 장치 자체가 현저하게 거대화해 버리기 때문에, 챔버내의 기판 주위의 스페이스를 작게 억제해서, 챔버를 극히 소형화하는 것이 지향되고 있다. 그러나, 상기 특허문헌 1의 기술에서는, 포지셔너는 한쌍의 롤러가 지지체에 지지되어 구성되어 있기 때문에, 그것 자체가 비교적 큰 것으로 되지 않으면 안되고, 더구나 그것이 대각선 방향 및 상하 방향으로 이동하기 때문에, 그 만큼의 스페이스가 필요해서, 로드록실의 소형화에 한계가 있다.
본 발명은 이러한 사정을 감안하여 이뤄진 것이며, 로드록실 등의 기판을 수용하는 용기내에 있어서, 기판 주위의 스페이스를 극히 작게 해서 기판의 위치 맞춤을 실행하는 것이 가능한 기판 위치 맞춤 장치, 및 이 기판 위치 맞춤 장치를 구비한 기판 수용 유닛을 제공하는 것을 목적으로 하고 있다.
상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명은, 용기의 측벽에 설치된 개구로부터 수평 방향으로 반송되고, 상기 용기내에서 기판 탑재부에 탑재된 직사각형 형상의 기판을 상기 기판 탑재부상에서 위치 맞춤하는 기판 위치 맞춤 장치에 있어서, 기판의 반송 방향에 직교하는 한쌍의 제 1 단면을 가압하는 한쌍의 제 1 가압 기구와, 기판의 반송 방향에 따른 한쌍의 제 2 단면을 가압하는 한쌍의 제 2 가압 기구를 구비하고, 상기 제 1 가압 기구 및 제 2 가압 기구는 각각 구동 기구 및 상기 구동 기구의 구동에 의해 상기 제 1 단면 및 제 2 단면을 가압하는 가압자를 구비 하고, 상기 한쌍의 제 1 가압 기구중 적어도 한쪽은, 상기 구동 기구의 구동에 의해, 상기 가압자를 기판의 반송 경로외로 퇴피시키는 퇴피 위치와 기판을 가압 가능한 가압 가능 위치와의 사이에서 이동시키고, 또한 상기 가압 가능 위치에서 가압 방향으로 이동시키는 구동력 변환 기구부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 위치 맞춤 장치를 제공한다.
본 발명의 기판 위치 맞춤 장치에 있어서, 상기 구동 기구는 상기 용기 외부에 설치되는 것이 바람직하다. 또한, 상기 구동력 변환 기구부는 기판의 반송 경로의 상방 또는 하방에 설치되고, 상기 구동 기구의 구동에 의해, 상기 가압자를, 기판의 반송 경로의 상방 또는 하방으로 상기 반송 경로와 평행한 상태에서 퇴피시키는 퇴피 위치와 기판을 가압 가능한 가압 가능 위치와의 사이에서 이동시키고, 또한 상기 가압 가능 위치에서 가압 방향으로 이동시키는 것이 바람직하다. 또한, 상기 한쌍의 제 1 가압 기구중 적어도 한쪽은, 상기 구동 기구를, 수평으로, 또한 기판의 반송 방향과 직교하는 방향으로 구동하는 것이 바람직하다. 이 경우에, 상기 한쌍의 제 1 가압 기구중 적어도 한쪽은, 상기 구동 기구를, 수평으로, 또한 기판의 반송 방향과 직교하는 방향으로 진퇴하는 피스톤을 갖는 실린더 기구이며, 상기 구동력 변환 기구부는, 상기 실린더 기구의 상기 피스톤이 소정 스트로크 진출하면, 상기 퇴피 위치의 상기 가압자를 상기 가압 가능 위치로 이동시키고, 상기 실린더 기구의 상기 피스톤이 더욱 소정 스트로크 진출하면, 상기 가압 가능 위치의 상기 가압자를 가압 방향으로 이동시켜서 상기 제 1 단면이 가압되도록 하고, 그 상태에서 상기 실린더 기구의 상기 피스톤이 소정 스트로크 퇴피하면, 상기 제 1 단면을 가압 상태의 상기 가압자를 상기 가압 가능 위치로 이동시키고, 상기 실린더 기구의 상기 피스톤이 더욱 소정 스트로크 퇴피하면, 상기 가압 가능 위치의 상기 가압자를 상기 퇴피 위치로 이동시키는 것이 바람직하다. 또한, 이 경우에, 상기 구동력 변환 기구부는, 상기 용기내에 고정된 가이드 부재와, 상기 실린더 기구의 상기 피스톤의 진퇴와 동시에, 상기 가이드 부재에 따라 상기 피스톤의 진퇴 방향으로 슬라이드 이동하는 주동 슬라이드 부재와, 상기 주동 슬라이드 부재의 소정 스트로크의 슬라이드 이동에 따라, 상기 가이드 부재에 따라서, 수평으로, 또한 주동 슬라이드 부재의 이동 방향과 직교하는 방향으로 슬라이드 이동하는 종동 슬라이드 부재와, 일 단부가 상기 종동 슬라이드 부재에 회동 가능하게 설치되는 동시에, 타 단부에 상기 가압자가 회동 가능하게 설치되고, 상기 주동 슬라이드 부재의 소정 스트로크의 슬라이드 이동에 따라, 상기 일 단부를 중심으로 해서 넘어짐 및 기립하도록 회동하는 링크 부재를 구비하며, 상기 링크 부재가 넘어짐 및 기립하도록 회동하는 것에 의해, 상기 가압자를 상기 퇴피 위치와 상기 가압 가능 위치와의 사이에서 이동시키고, 상기 종동 슬라이드 부재가 슬라이드 이동함으로써, 상기 가압자를, 상기 가압 가능 위치를 시점 및 종점으로 해서 가압 방향 및 가압 방향과 반대 방향으로 이동시키는 것이 바람직하다.
이상의 본 발명에 관한 기판 위치 맞춤 장치에 있어서, 상기 제 1 가압 기구 및 제 2 가압 기구는 각각 상기 가압자가 상기 제 1 단면 및 제 2 단면을 가압했을 때의 충격을 완화하는 완충 수단을 더 구비하는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명은, 측벽에 개구가 설치되고, 상기 개구로부터 수평 방향으로 반송된 직사각형 형상의 기판을 수용하는 기판 수용부를 갖는 용기와, 상기 기판 수용부에 설치되고, 상기 기판 수용부에 수용된 기판을 탑재하는 기판 탑재부와, 상기 기판 탑재부에 탑재된 기판을 상기 기판 탑재부상에서 위치 맞춤하는 기판 위치 맞춤 장치를 구비한 기판 수용 유닛에 있어서, 상기 기판 위치 맞춤 장치는, 기판의 반송 방향에 직교하는 한쌍의 제 1 단면을 가압하는 한쌍의 제 1 가압 기구와, 기판의 반송 방향에 따른 한쌍의 제 2 단면을 가압하는 한쌍의 제 2 가압 기구를 구비하고, 상기 제 1 가압 기구 및 제 2 가압 기구는 각각 구동 기구, 및 상기 구동 기구의 구동에 의해 상기 제 1 단면 및 제 2 단면을 가압하는 가압자를 구비하고, 상기 한쌍의 제 1 가압 기구중 적어도 한쪽은, 상기 구동 기구의 구동에 의해, 상기 가압자를, 기판의 반송 경로외로 퇴피시키는 퇴피 위치와 기판을 가압 가능한 가압 가능 위치와의 사이에서 이동시키고, 또한 상기 가압 가능 위치에서 가압 방향으로 이동시키는 구동력 변환 기구부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 수용 유닛을 제공한다.
본 발명의 기판 수용 유닛에 있어서, 상기 기판 탑재부는 반송된 기판의 이면에 접촉하는 회전 가능한 구형상 회전자를 갖는 것이 바람직하다. 또한, 상기 용기는 상기 기판 수용부를 상하에 2단 이상 갖고 있는 것이 바람직하다. 또한, 상기 용기는 상기 개구가 서로 대향하는 측벽에 각각 개폐 가능하게 설치되고, 각각의 상기 개구를 거쳐서, 진공 상태에서 기판에 소정의 처리를 실시하는 진공 처리 챔버내와 대기측에 내부가 연통 가능하며, 대기측과의 기판의 주고 받음 시에는 내부가 대기압 근방에 유지되는 동시에, 상기 진공 처리 챔버와의 기판의 주고 받 음 시에는 내부가 진공 상태로 유지되는 로드록 챔버인 것이 바람직하다.
본 발명에 의하면, 각 한쌍의 제 1 및 제 2 가압 기구에 의해 기판의 각 단면을 가압하기 위해서, 기판의 위치 맞춤을 정확하게 실행할 수 있는 동시에, 제 1 및 제 2 가압 기구를, 각각 별개인 구동 기구의 구동에 의해, 가압자가 기판의 단면을 가압하도록 구성하고, 또한 기판의 반송 경로에 맞고, 기판의 반송 방향에 직교하는 제 1 단면을 가압하는 적어도 한쪽의 제 1 가압 기구에 대해서, 가압자를, 기판의 반송 경로외로 퇴피시키는 퇴피 위치와 기판을 가압 가능한 가압 가능 위치와의 사이에서 이동시키고, 또한 가압 가능 위치에서 가압 방향으로 이동시키는 구동력 변환 기구부를 설치하고, 가압자가 기판의 반송 경로로부터 회피 이동하도록 하였으므로, 용기내에 있어서의 위치 맞춤을 위한 부재의 설치 스페이스 및 기판의 반송 경로로부터 회피 이동하기 위한 스페이스를 현저하게 작게 할 수 있다. 따라서, 용기내의 기판 주위의 스페이스를 극히 작게 할 수 있고, 용기를 극히 소형화하는 것이 가능해진다.
특히, 본 발명을, 멀티챔버 타입의 진공 처리 장치에 이용되는 로드록 챔버에 적용할 경우에는, 로드록 챔버를 극히 소형화하는 것이 가능해지고, 기판의 대형화에 따라 진공 처리 장치 자체가 현저하게 거대화되어 버리는 것을 회피할 수 있다.
이하, 첨부 도면을 참조하면서, 본 발명의 바람직한 형태에 대해서 설명한 다. 여기에서는, 본 발명의 기판 위치 맞춤 장치를 FPD용 유리 기판(이하, 간단히 "기판"이라고 한다)(S)에 대하여 플라즈마 처리를 실행하기 위한 멀티챔버 타입의 플라즈마 처리 장치를 구성하는 로드록 장치에 이용된 예에 대해서 설명한다. 여기에서, FPD로서는 액정 모니터(LCD), 발광 다이오드(LED) 디스플레이, 전기 루미네센스(Electro Luminescence : EL) 디스플레이, 형광 표시관(Vacuum Fluorescent Display : VFD), 플라즈마 디스플레이 패널(PDP) 등이 예시된다.
도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 기판 위치 맞춤 장치가 로드록 챔버에 적용된 플라즈마 처리 장치를 개략적으로 도시하는 사시도이며, 도 2는 그 내부를 개략적으로 도시하는 수평 단면도이다.
이 플라즈마 처리 장치(1)는 그 중앙부에 반송실(20)과 로드록 챔버(30)가 연설되어 있다. 반송실(20)의 주위에는 3개의 프로세스 챔버(10a, 10b, 10c)가 배설되어 있다.
반송실(20)과 각 프로세스 챔버(10a, 10b, 10c)와의 사이, 반송실(20)과 로드록 챔버(30)와의 사이, 및 로드록 챔버(30)와 외측의 대기 분위기를 연통하는 개구에는, 이들 사이를 기밀하게 밀봉하고, 또한 개폐 가능하게 구성된 게이트 밸브(22)가 각각 삽입되어 있다(반송실(20)과 각 프로세스 챔버(10a, 10b, 10c)와의 사이, 반송실(20)과 로드록 챔버(30)와의 사이의 것만 도시함).
로드록 챔버(30)의 외측에는 2개의 카세트 인덱서(41)가 설치되어 있고, 그 위에 각각 기판(S)을 수용하는 카세트(40)가 탑재되어 있다. 이들 카세트(40)의 한쪽에는, 예를 들면 미처리 기판을 수용하고, 다른쪽에는 처리완료 기판을 수용할 수 있다.
이들 2개의 카세트(40)의 사이에는 지지대(44)위에 반송 기구(43)가 설치되어 있고, 이 반송 기구(43)는 상하 2단에 설치된 픽(45, 45)과, 이들 픽(45, 45)을 개별적으로 진퇴 가능하게, 또한 통합해서 회전 및 승강 가능하게 지지하는 베이스(47)를 구비하고 있다.
상기 프로세스 챔버(10a, 10b, 10c)는 그 내부 공간이 소정의 감압 분위기에 유지되는 것이 가능해서, 그 내부에서 플라즈마 처리, 예를 들면 에칭 처리나 애싱 처리가 행하여진다. 이렇게 3개의 프로세스 챔버를 갖고 있기 때문에, 예를 들면 그 중에 2개의 프로세스 챔버를 에칭 처리실로서 구성하고, 나머지 1개의 프로세스 챔버를 애싱 처리실로서 구성하거나, 3개의 프로세스 챔버 모두를 동일한 처리를 실행하는 에칭 처리실이나 애싱 처리실로서 구성할 수 있다. 또한, 프로세스 챔버의 수는 3개로 한정되지 않고, 4개 이상이여도 좋다.
반송실(20)은 진공 처리실과 마찬가지로 소정의 감압 분위기로 유지하는 것이 가능하고, 그 내부에는 도 2에 도시하는 바와 같이 반송 장치(50)가 배설되어 있다. 그리고, 이 반송 장치(50)에 의해, 로드록 챔버(30) 및 3개의 프로세스 챔버(10a, 10b, 10c)의 사이에서 기판(S)이 반송된다. 반송 기구(50)는 상하 2단에 설치된 픽(51, 51)(도 2에서는 상단만 도시함)과, 이들의 픽(51, 51)을 개별적으로 진퇴 가능하게, 또한 통합해서 회전 및 승강 가능하게 지지하는 베이스(52)를 구비하고 있다.
로드록 챔버(30)는, 각 프로세스 챔버(10) 및 반송실(20)과 마찬가지로, 소 정의 감압 분위기에 유지되는 것이 가능하다. 또한, 로드록 챔버(30)는, 대기 분위기에 있는 카세트(40)와 감압 분위기의 프로세스 챔버(10a, 10b, 10c)와의 사이에서 기판(S)의 주고 받음을 실행하기 위한 것이고, 대기 분위기와 감압 분위기를 반복하는 관계상, 극히 그 내부 용적이 작게 구성되어 있다.
로드록 챔버(30)에는 기판 수용부(31)가 상하 2단에 설치되어 있고(도 2에서는 상단만 도시함), 각 기판 수용부(31)에는 기판(S)을 탑재해서 지지하는 복수의 버퍼(기판 탑재부)(32)가 설치된다. 이들 버퍼(32) 사이에는, 기판(S)을 반송했을 때의 픽(45, 51)의 도피 홈(32a)이 형성되어 있다. 또한, 각 기판 수용부(31)에 대응하도록 로드록 챔버(30)에는 직사각형 형상의 기판(S)의 서로 대향하는 모서리부 부근에 있어서 위치 맞춤을 실행하는 제 1 및 제 2 포지셔너(제 1 및 제 2 가압 기구)(7, 8)가 설치되어 있다. 로드록 챔버(30) 및 제 1 및 제 2 포지셔너(7, 8)에 대해서는 후에 상세하게 설명한다.
플라즈마 처리 장치(1)의 각 구성부는 제어부(60)에 접속되어서 제어되는 구성으로 되어 있다(도 1에서는 도시하지 않음). 제어부(60)의 개요를 도 3에 도시한다. 제어부(60)는 CPU를 구비한 프로세스 콘트롤러(61)를 구비하고, 이 프로세스 콘트롤러(61)에는 공정 관리자가 플라즈마 처리 장치(1)를 관리하기 위한 명령의 입력 조작 등을 실행하는 키보드나, 플라즈마 처리 장치(1)의 가동 상황을 가시화해서 표시하는 디스플레이 등으로 이루어지는 유저인터페이스(62)가 접속되어 있다.
또한, 제어부(60)는, 플라즈마 처리 장치(1)에서 실행되는 각종 처리를 프로 세스 콘트롤러(61)의 제어하에서 실현하기 위한 제어 프로그램(소프트웨어)이나 처리 조건 데이터 등이 기억된 레시피가 저장된 기억부(63)를 구비하고 있고, 이 기억부(63)는 프로세스 콘트롤러(61)에 접속되어 있다.
그리고, 필요에 따라서, 유저인터페이스(62)로부터의 지시 등에서 임의의 레시피를 기억부(63)로부터 호출해서 프로세스 콘트롤러(61)에 실행시키는 것에 의해, 프로세스 콘트롤러(61)의 제어하에서 플라즈마 처리 장치(1)에서의 원하는 처리가 행하여진다.
상기 제어 프로그램이나 처리 조건 데이터 등의 레시피는 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체, 예를 들면 CD-ROM, 하드 디스크, 플렉시블 디스크, 플래시 메모리 등에 저장된 상태의 것을 이용하거나, 또는 다른 장치로부터, 예를 들면 전용 회선을 거쳐서 수시로 전송시켜서 온라인에서 이용하거나 하는 것도 가능하다.
다음에, 본 실시 형태에 따른 기판 위치 맞춤 장치, 및 기판 위치 맞춤 장치를 구비한 로드록 챔버(30)에 대해서 상세하게 설명한다.
도 4는 로드록 챔버(30)의 일부를 절결해서 도시하는 사시도이다.
로드록 챔버(30)의 각 기판 수용부(31)는 기판(S)의 반송 방향(Y 방향)에 대향하는 측벽에 각각, 게이트 밸브(22)에 의해 반송실(20)과 연통 가능한 개구(33), 및 외측의 대기 분위기와 연통하는 개구(34)를 구비하고, 적어도 개구(34)의 폐쇄시에는 내부가 소정의 감압 분위기, 예를 들면 진공 상태까지 감압 가능하다. 각 기판 수용부(31)에서는, 반송 기구(43 또는 50)에 의해 수평 또는 대략 수평으로 반송된 기판(S)이, 개구(34 또는 33)를 거쳐서 각 기판 수용부(31)내에 수용되어, 복수의 버퍼(32)상에 걸쳐서 탑재되도록 구성되어 있다.
복수의 버퍼(32)중, 예컨대 기판의 반송 방향과 직교하는 수평 방향(X 방향)의 중앙부에 설치된 버퍼(32)의 상단부에는, 반송된 기판(S)의 이면에 접촉하는 회전 가능한 구형상 회전자(35)가 소정의 간격을 갖고서 복수 설치되고, 예를 들면 X 방향 외측의 버퍼(32)의 상단부에는 반송된 기판(S)의 모서리부의 이면에 접촉하는 지지 핀(36)이 Y 방향 양 단부에 설치된다. 이에 의해, 복수의 버퍼(32)상에 탑재된 기판은 구형상 회전자(35)의 회전에 의해 버퍼(32)상을 이동 할 수 있는 동시에, 지지 핀(36)과의 마찰에 의해 버퍼(32)상에서 정지하는 것도 가능하다.
제 1 포지셔너(7)는, 기판 수용부(31)내에 수용된 기판(S)의 Y 방향에 직교 또는 대략 직교하는 단면(S1)을 가압하기 위한 것이고, 단면(S1)을 가압하는 가압자(70)와, 가압자(70)를 이동시키기 위한 실린더 기구(구동 기구)(71)와, 가압자(70)와 실린더 기구(71)의 사이에 개재되어, 실린더 기구(71)의 구동력을 방향 변환해서 가압자(70)에 전달하는 구동력 변환 기구부(72)를 구비하고 있다. 제 2 포지셔너(8)는, 기판 수용부(31)내에 수용된 기판(S)의 X 방향에 직교 또는 대략 직교하는 단면(S2)을 억제하기 위한 것이고, 단면(S2)을 가압하는 가압자(80)와, 가압자(80)를 이동시키기 위한 실린더 기구(구동 기구)(81)를 구비하고 있다. 제 1 포지셔너(7) 및 제 2 포지셔너(8)는, 기판 수용부(31)의 대향하는 2개의 모서리부 근방에 각각 설치되어 있고, 또한 상하의 기판 수용부(31, 31) 사이에 있어서 상이한 모서리부 근방에 설치되어 있다. 제 1 및 제 2 포지셔너(7, 8)는 기판 위치 맞춤 장치를 구성하고, 로드록 챔버(30), 로드록 챔버(30)내의 기판 수용부(31) 에 설치된 버퍼(32), 및 기판 위치 맞춤 장치는 기판 수용 유닛을 구성한다.
실린더 기구(71)는 로드록 챔버(30)의 기판 수용부(31) 외부에 설치되고, 보다 구체적으로는, 버퍼(32)상에 탑재된 기판(S)과 대략 동일한 높이가 되도록, 로드록 챔버(30) 또는 기판 수용부(31)의 X 방향과 직교하는 측벽으로부터 로드록 챔버(30) 외부로 돌출해서 설치된, X 방향으로 연장되는 실린더 본체(73)와, 이 실린더 본체(73)에 진퇴 가능하게 설치된 피스톤(74)을 갖는 전동 실린더에 의해 구성되어 있고(도 5 내지 도 8 및 도 10 내지 도 12 참조), 스텝핑 모터에 의해 전기에너지를 역학 에너지로 변환하고, 실린더 본체(73)에 대하여 피스톤(74)을 소정량 진퇴시키는 것이다.
도 5 내지 도 9에 도시하는 바와 같이(도 5는 구동력 변환 기구부(72)를 도시하는 분해 사시도이며, 도 6은 구동력 변환 기구부(72)의 작동의 제 1 단계를 설명하기 위한 사시도이며, 도 7은 구동력 변환 기구부(72)의 작동의 제 2 단계를 설명하기 위한 사시도이며, 도 8은 구동력 변환 기구부(72)의 작동의 제 3 단계를 설명하기 위한 사시도이며, 도 9는 구동력 변환 기구부(72)의 일부를 절결해서 도시하는 평면도임), 구동력 변환 기구부(72)는 기판 수용부(31)내의 저면에 고정된 판형상의 가이드 부재(75)와, X 방향으로 슬라이드 이동 가능하게 가이드 부재(75)에 장착된 주동 슬라이드 부재(76)와, Y 방향으로 슬라이드 이동 가능하게 가이드 부재(75)에 장착된 종동 슬라이드 부재(77)와, 일 단부가 종동 슬라이드 부재(77)에 Y 방향을 축으로서 회동 가능하게 설치되고, 타 단부에 가압자(70)가 회동 가능하게 설치된 한쌍의 링크 부재(78, 79)를 구비하고 있다.
주동 슬라이드 부재(76)는 X 방향으로 연장되는 형상을 갖고, Y 방향에 간격을 갖고서 한쌍의 슬라이드부(760)가 X 방향 중간부에 설치된다. 슬라이드부(760)의 저면에는 각각 X 방향으로 연장되는 슬라이드 홈(761)이 형성되어 있고(한쪽만 도시함), 슬라이드 홈(761)이 가이드 부재(75)에 형성된 X 방향으로 연장되는 X 방향 가이드부(751)에 슬라이드 가능하게 끼워맞춰지는 것에 의해, 주동 슬라이드 부재(76)는 X 방향으로 슬라이드 이동 가능하게 가이드 부재(75)에 장착된다. 슬라이드부(760)는, X 방향 가이드부(751)에 따라 슬라이드하기 용이하도록, 적어도 슬라이드 홈(761) 부분이 저마찰 재료로 형성되어 있다. X 방향 가이드부(751)의 양 단부에는 각각 슬라이드부(760)의 슬라이드를 규제하는 스토퍼부(753)가 설치된다.
주동 슬라이드 부재(76)의 X 방향 일 단부에는 계합 오목부(765)가 형성되고, 이 계합 오목부(765)가 피스톤(74)의 선단부에 형성된 계합 홈(740)과 X 방향으로 계합함으로써, 주동 슬라이드 부재(76)가 실린더 기구(71)의 피스톤(74)에 접속되어 있고, 이에 의해, 주동 슬라이드 부재(76)는 피스톤(74)의 진퇴 동작에 따라 X 방향으로 슬라이드 이동한다.
종동 슬라이드 부재(77)는 X 방향으로 연장되는 형상을 갖고, X 방향에 간격을 갖고서 한쌍의 슬라이드부(770)가 설치되어 있다. 슬라이드부(770)의 저면에는 각각 Y 방향으로 연장되는 슬라이드 홈(771)이 형성되어 있고, 슬라이드 홈(771)이 가이드 부재(75)의 X 방향 가이드부(751)보다도 기판 수용부(31)의 Y 방향 중앙 근처에 형성된, Y 방향으로 연장되는 Y 방향 가이드부(752)에 슬라이드 가능하게 끼워맞춰진 것에 의해, 종동 슬라이드 부재(77)는 주동 슬라이드 부재(76)보다도 기 판 수용부(31)의 Y 방향 중앙 근처에 설치되고, Y 방향으로 슬라이드 이동 가능하게 가이드 부재(75)에 장착되어 있다. 슬라이드부(770)는, Y 방향 가이드부(752)에 따라 슬라이드하기 용이하도록, 적어도 슬라이드 홈(771) 부분이 저마찰 재료로 형성되어 있다. Y 방향 가이드부(752)의 양 단부에는 각각 슬라이드부(770)의 슬라이드를 규제하는 스토퍼부(753)가 설치된다.
주동 슬라이드 부재(76)는, 기판 수용부(31)의 Y 방향 중앙 근처의 슬라이드부(760)에, X 방향 및 Y 방향과 대략 45도의 각도를 이루도록 기판 수용부(31)의 외측을 향해서 연장되는 가압 블레이드부(762)가 일체적으로 설치되어 있고, 종동 슬라이드 부재(77)는, 상면에 예를 들면 높이 방향으로 연장되는 원주형상의 피가압자(772)가 설치되어 있다. 그리고, 피스톤(74)의 소정 스트로크의 진출에 의해 주동 슬라이드 부재(76)가 X 방향 중앙 근처를 향해서 슬라이드 이동했을 때에, 가압 블레이드부(762)가 피가압자(772)에 접촉해서 피가압자(772)를 가압하는 것에 의해, 종동 슬라이드 부재(77)가 Y 방향 중앙 근처를 향해서 슬라이드 이동하도록 구성되어 있다(특히 도 7 및 도 8 참조).
종동 슬라이드 부재(77)와 가이드 부재(75)의 X 방향 양 단부에는 각각 인장 코일 스프링(754)이 접속되어 있고, 종동 슬라이드 부재(77)는 인장 코일 스프링(754)에 의해 기판 수용부(31)의 Y 방향 외측을 향해서 힘을 가압되어 있다. 이에 의해, 기판 수용부(31)의 Y 방향 중앙 근처를 향해서 슬라이드 이동한 종동 슬라이드 부재(77)는, 피스톤(74)의 소정 스트로크의 진퇴에 의해 주동 슬라이드 부재(76)가 기판 수용부(31)의 X 방향 외측을 향해서 슬라이드 이동했을 때에, 기판 수용부(31)의 Y 방향 외측을 향해서 슬라이드 이동하도록 구성되어 있다.
한쌍의 링크 부재(78, 79)는, 일 단부의 회동축이 X 방향에 병렬하도록, 종동 슬라이드 부재(77)의 피가압자(772)보다도 기판 수용부(31)의 X 방향 중앙 근처에 설치되어 있고, 한쪽이 다른쪽을 향해서 V자 형상으로 굴곡해서 평행사변형상을 이루고 있다. 링크 부재(78)에는, 기판 수용부(31)의 Y 방향 외측을 향해서 연장되는 원주 또는 원통형의 캠부(780)가 설치되어 있고, 캠부(780)는 주동 슬라이드 부재(76)의 X 방향 타 단부에 형성된 캠 구멍(763)에 삽입되어 있다. 캠 구멍(763)은 Y 방향 단면이 상하로 연장되는 형상을 갖고 있고, 한쌍의 링크 부재(78, 79)는 주동 슬라이드 부재(76)가 슬라이드 이동했을 때에, 캠부(780)가 캠 구멍(763)에 따라 상하로 변위함으로써, 회동해서 기립 및 링크 부재(78)를 하측으로 넘어지게 하도록 구성되어 있다(특히 도 6 및 도 7 참조). 또한, 캠 구멍(763)은 Y 방향 단면이 상단부로부터 기판 수용부(31)의 X 방향 외측을 향해서 연장되는 형상을 갖고 있고, 주동 슬라이드 부재(76) 및 종동 슬라이드 부재(77)가 각각 X 방향 및 Y 방향으로 슬라이드 이동했을 때에, 캠부(780)가 캠 구멍(763)에 삽입된 채, 기립한 한쌍의 링크 부재(78, 79)도 종동 슬라이드 부재(77)와 함께 Y 방향으로 이동할 수 있도록 구성되어 있다(특히 도 7 및 도 8 참조). 이에 의해, 한쌍의 링크 부재(78, 79)를 기립한 상태에서 확실하게 지지할 수 있다.
캠부(780)는 복수의 볼 베어링(781)에 의해 회전 가능하고(도 9 참조), 이에 의해 캠 구멍(763)내를 부드럽게 상대 변위할 수 있다. 또한, 캠부를 링크 부재(78) 대신에 링크 부재(79)에 설치해도 좋고, 또는 캠부를 주동 슬라이드 부 재(76)에 설치하고, 캠 구멍을 링크 부재(78 또는 79)에 설치해도 좋다. 캠부(780) 및 캠 구멍(763)은 캠 기구를 구성하고, 한쌍의 링크 부재(78, 79)는 주동 슬라이드 부재(76)가 슬라이드 이동했을 때에, 캠 기구에 의해 회동해서 기립 및 넘어지도록 구성되어 있다.
링크 부재(79)와 종동 슬라이드 부재(77)에는 인장 코일 스프링(755)이 접속되어 있고, 한쌍의 링크 부재(78, 79)는 인장 코일 스프링(755)에 의해 기립하도록 가압되어 있다. 이에 의해, 넘어진 한쌍의 링크 부재(78, 79)는, 피스톤(74)의 소정 스트로크의 진출에 의해 주동 슬라이드 부재(76)가 기판 수용부(31)의 X 방향 중앙 근처를 향해서 슬라이드 이동했을 때에, 인장 코일 스프링(755)에 의해 기립이 어시스트된다. 또한, 인장 코일 스프링(755) 대신에 압축 코일 스프링을 이용하고, 압축 코일 스프링에 의해 기립한 한쌍의 링크 부재(78, 79)의 넘어짐을 어시스트하도록 구성해도 좋다.
가압자(70)는 기판(S)의 단면(S1)에 접촉해서 단면(S1)을 가압하는 가압 본체(700)와, 링크 부재(78, 79)의 타 단부가 각각 회동 가능하게 장착된 회동 플레이트(701)와, 가압 본체(700) 및 회동 플레이트(701)를 연결하는, Y 방향으로 연장되는 연결부(702)를 갖고 있다. 가압자(70)는 한쌍의 링크 부재(78, 79)의 기립시에, 버퍼(32)상에 탑재된 기판(S)과 대략 동일한 높이에 위치하고(가압 가능 위치), 한쌍의 링크 부재(78, 79)의 넘어짐시에, 기판(S)과 평행한 상태를 유지한 채, 버퍼(32)상에 탑재된 기판(S)보다도 하방에 위치(퇴피 위치)하도록 구성되어 있다.
가압 본체(700)는, 접촉한 기판(S)의 단면(S1)에 긁힘이나 파손을 생기게 하 지 않고, 또한 기판(S)과의 접촉에 의한 미립자의 발생 등이 일어나기 어려운 재질로 형성되어 있다. 예를 들면, 일정한 탄성을 갖는 합성 수지 등의 재질의 것을 사용할 수 있고, 적합하게는 폴리테트라 플루오르에틸렌 등의 불소계 수지를 이용할 수 있다. 또한, 가압 본체(700)는 위치 맞춤의 정밀도를 높이는 관점으로부터, 수평 방향에 있어서 기판(S)의 단면(S1)에 점접촉할 수 있도록, 가압면이 원호형상으로 형성되어 있다. 또한, 가압 본체(700)는 높이 방향을 축으로 하는 예컨대 원주형상의 회전체로서도 좋다.
연결부(702)는 외통 부재(703)내에 내통 부재(704)가 삽입되어서 빠짐이 방지되고, 외통 부재(703) 및 내통 부재(704)내에는 압축 코일 스프링(705)이 배치되어 구성되어 있다. 즉, 연결부(702)는, 신축 가능한 동시에, 압축 코일 스프링(705)에 의해 신장 방향으로 가압되어 있고, 가압 본체(700)가 기판(S)의 단면(S1)을 가압했을 때의 충격을 완화하는 완충 수단으로서 기능한다.
또한, 구동력 변환 기구부(72)는, 예컨대 가이드 부재(75)를 기판 수용부(31)의 상면에 고정하고, 상하 반대로 설치되어도 좋다. 이 경우에, 가압자(70)는, 한쌍의 링크 부재(78, 79)의 기립시에, 버퍼(32)상에 탑재된 기판(S)과 대략 동일한 높이에 위치하고(가압 가능 위치), 한쌍의 링크 부재(78, 79)의 넘어짐시에, 기판(S)과 평행한 상태를 유지한 채, 버퍼(32)상에 탑재된 기판(S)보다도 상방에 위치(퇴피 위치)하도록 구성된다.
제 2 포지셔너(8)는, 도 10 내지 도 12에 도시하는 바와 같이, 실린더 기구(81)가 로드록 챔버(30)의 기판 수용부(31) 외부에 설치된, 보다 구체적으로는 버퍼(32)의 하단부와 대략 동일한 높이가 되도록, 로드록 챔버(30) 또는 기판 수용부(31)의 X 방향과 직교하는 측벽으로부터 로드록 챔버(30) 외부로 돌출해서 설치된, X 방향으로 연장되는 실린더 본체(83)와, 이 실린더 본체(83)에 진퇴 가능하게 설치된 피스톤(84)을 갖는 전동 실린더 기구에 의해 구성되어 있고, 가압자(80)가 피스톤(84)의 선단부에 설치된다.
또한, 한쌍의 실린더 기구(71)중 하나 및 한쌍의 실린더 기구(81)중 하나는 각각 전동 실린더 대신에 에어 실린더 등의 다른 실린더로서도 좋다. 또한, 가압자(70, 80)를 이동시키는 구동 기구로서는, 실린더 기구(71, 81)의 이외에, X 방향으로 진퇴 구동하는 동시에, 임의의 X 방향 위치에서 정지하는 것이 가능한 것이면, 그 작동 원리나 종류를 막론하고, 예컨대 전자석 모터, 솔레노이드, 압전 소자 등으로 하는 것도 가능하다.
가압자(80)는, 가압자(70)의 가압 본체(700)와 마찬가지로, 접촉한 기판(S)의 단면(S2)에 긁힘이나 파손을 생기게 하지 않고, 또한 기판(S)과의 접촉에 의한 미립자의 발생 등이 일어나기 어려운 재질로 형성되어 있고, 수평 방향에 있어서 기판(S)의 단면(S2)에 점접촉할 수 있도록, 가압면이 원호 형상으로 형성되어 있다. 또한, 가압자(80)는 높이 방향을 축이라고 하는, 예컨대 원주 형상의 회전체로서도 좋다. 또한, 가압자(80)가 기판(S)의 단면(S2)을 가압한 때의 충격을 완화할 수 있도록, 가압자(80)와 피스톤(84)을 연결부(702)와 같은 완충 수단을 거쳐서 연결하는 것이 바람직하다.
이러한 구성에 의해, 제 2 포지셔너(8)는, 실린더 기구(81)의 피스톤(84)이 진출함으로써, 가압자(80)를 기판 수용부(31)의 X 방향 중앙 근처로 이동시키고, 실린더 기구(81)의 피스톤(84)이 퇴피함으로써, 가압자(80)를 기판 수용부(31)의 X 방향 외측으로 이동시킨다.
다음에, 기판 위치 맞춤 장치에 의한 기판의 위치 맞춤 방법에 대해서 도 10 내지 도 12를 참조하면서 설명을 실행한다. 도 10은 기판 위치 맞춤 장치의 작동의 제 1 단계를 설명하기 위한 도면이며, 도 11은 기판 위치 맞춤 장치의 작동의 제 2 단계를 설명하기 위한 도면이며, 도 12는 기판 위치 맞춤 장치의 작동의 제 3 단계를 설명하기 위한 도면이다.
우선, 제 1 및 제 2 포지셔너(7, 8)에 설치된 실린더 기구(71, 81)의 피스톤(74, 84)을 완전히 퇴피시킨 상태에서, 기판(S)을 기판 수용부(31)내에 반송해서 버퍼(32)상에 탑재하면, 실린더 기구(71, 81)의 피스톤(74, 84)을 각각 진출시킨다(도 10 참조).
실린더 기구(71)의 피스톤(74)을 소정 스트로크 진출시키면, 주동 슬라이드 부재(76)가 기판 수용부(31)의 X 방향 중앙 근처를 향해서 슬라이드 이동한다. 이 때에, 캠 구멍(763)내에 따라 캠부(780)가 상승하고, 인장 코일 스프링(755)도 작용하고, 한쌍의 링크 부재(78, 79)가 기립하도록 회동하는 것에 의해, 퇴피 위치의 가압자(70)가 가압 가능 위치까지 상승한다(도 11 참조).
실린더 기구(71)의 피스톤(74)을 더욱 소정 스트로크 진출시키면, 주동 슬라이드 부재(76)가 더욱 기판 수용부(31)의 X 방향 중앙 근처를 향해서 슬라이드 이동한다. 이 때에, 가압 블레이드부(762)가 피가압자(772)에 접촉해서 피가압 자(772)를 가압하고, 인장 코일 스프링(754)의 가압에 반해서, 종동 슬라이드 부재(77)가 기판 수용부(31)의 Y 방향 중앙 근처를 향해서 슬라이드 이동함으로써, 가압 가능 위치의 가압자(70)가 기판 수용부(31)의 Y 방향 중앙 근처를 향해서 이동하고, 기판(S)의 단면(S1)에 접촉해서 단면(S1)을 가압한다(도 12 참조).
한편, 실린더 기구(81)의 피스톤(84)을 소정 스트로크 진출시키면, 가압자(80)가 기판 수용부(31)의 X 방향 중앙 근처를 향해서 이동하고, 기판(S)의 단면(S2)에 접촉해서 단면(S2)을 가압한다.
이렇게 해서, 제 1 및 제 2 포지셔너(7, 8)에 의해, 기판(S)의 각 단면(S1、 S2)을 가압하는 것에 의해, 기판(S)이 버퍼(32)상에서 소정의 위치에 위치 맞춤된다. 또한, 한쌍의 실린더 기구(71, 81)의 진출 구동은 동시에 행해도 좋고, 한쌍의 실린더 기구(71, 81)중 한쪽의 실린더 기구(71, 81)를 진출 구동시킨 후에, 다른쪽의 실린더 기구(71, 81)를 진출 구동시켜도 좋다.
기판(S)의 위치 맞춤이 종료하면, 실린더 기구(71, 81)의 피스톤(74, 84)을 각각 퇴피시킨다. 피스톤(74)을 소정 스트로크 퇴피시키면, 주동 슬라이드 부재(76)가 기판 수용부(31)의 X 방향 외측을 향해서 슬라이드 이동한다. 이 때에, 인장 코일 스프링(754)에 가압된 종동 슬라이드 부재(77)가 기판 수용부(31)의 Y 방향 외측을 향해서 슬라이드 이동함으로써, 기판(S)의 단면(S1)에 접촉한 가압자(70)가 기판 수용부(31)의 Y 방향 외측을 향해서 이동하고, 단면(S1)과 이격해서 가압 가능 위치까지 이동한다.
피스톤(74)을 더욱 소정 스트로크, 예컨대 완전히 퇴피시키면, 주동 슬라이 드 부재(76)가 더욱 기판 수용부(31)의 X 방향 외측을 향해서 슬라이드 이동한다. 이 때에, 캠 구멍(763)내에 따라 캠부(780)가 하강하고, 인장 코일 스프링(755)의 가압에 반해서, 한쌍의 링크 부재(78, 79)가 넘어지도록 회동하는 것에 의해, 가압 가능 위치의 가압자(70)가 퇴피 위치까지 하강한다.
한편, 실린더 기구(81)의 피스톤(84)을 소정 스트로크, 예컨대 완전히 퇴피시키면, 가압자(80)가 기판 수용부(31)의 X 방향 외측을 향해서 이동해서 기판(S)의 단면(S2)과 이격된다.
이렇게 해서, 가압자(70, 80)를 기판(S)의 반송 경로상에서 퇴피시키면, 기판(S)이 프로세스 챔버(10a, 10b, 10c)중 어느 하나에 반송되는 것으로 된다. 제 1 및 제 2 포지셔너(7, 8)에 의해 위치 맞춤된 기판(S)은 프로세스 챔버(10a, 10b, 10c)내에서 정규의 처리 위치에 반송되기 때문에, 처리 불균일 등이 생기지 않는 고정밀한 프로세스가 실현 가능하게 된다.
본 실시 형태에서는, 제 1 및 제 2 포지셔너(7, 8)를 각각 개별적으로 설치한 실린더 기구(71, 81)의 피스톤(74, 84)의 진출에 의해, 가압자(70, 80)가 기판(S)의 제 1 및 제 2 단면(S1, S2)을 가압하도록 구성하고, 기판(S)의 반송 경로에 접촉하는 제 1 단면(S1)을 가압하는 제 1 포지셔너(7)에 대해서, 가압자(70)를 퇴피 위치와 가압 가능 위치와의 사이에서 이동시키고, 또한 가압 가능 위치에서 가압 방향으로 이동시키는 구동력 변환 기구부(72)를 설치하고, 가압자(70)가 기판(S)의 반송 경로로부터 회피 이동하도록 했기 때문에, 기판 수용부(31)에 있어서의 위치 맞춤을 위한 부재의 설치 스페이스 및 기판(S)의 반송 경로로부터 회피 이 동하기 위한 스페이스를 현저하게 작게 하는 것이 가능하다. 따라서, 기판 수용부(31)의 기판(S) 주위의 스페이스를 극히 작게 할 수 있고, 로드록 챔버(30)를 극히 소형화하는 것이 가능해진다.
또한, 본 실시 형태에서는, 가압자(70, 80)를 이동시키기 위한 실린더 기구(71, 81)가 로드록 챔버(30)의 기판 수용부(31) 외부에 설치되기 때문에, 기판 수용부(31)에 있어서의 위치 맞춤을 위한 부재의 설치 스페이스를 보다 작게 할 수 있다.
또한, 본 실시 형태에서는, 제 1 포지셔너(7)에 있어서, 구동력 변환 기구부(72)가 실린더 기구(71)의 피스톤(74)에 의한 X 방향의 구동력을 Y 방향 및 높이 방향의 구동력으로 변환하고, 가압자(70)를 퇴피 위치와 가압 가능 위치와의 사이에서 이동시키고, 또한 가압 가능 위치를 시점 및 종점으로 해서 가압 방향 및 가압 방향과 반대 방향으로 이동시키기 때문에, 제 1 및 제 2 포지셔너(7, 8)를 구성하는 실린더 기구(71, 81)를 로드록 챔버(30)의 동일한 측벽에 설치할 수 있고, 이에 의해 로드록 챔버(30)의 상측 및 하측의 스페이스를 유효하게 이용하는 가능하다. 또한, 구동력 변환 기구부(72)가, 피스톤(74)의 1 스트로크의 진출 및 퇴피에 의해, 가압자(70)를 퇴피 위치와 가압 가능 위치와의 사이에서 이동시키고, 또한 가압 가능 위치를 시점 및 종점으로 해서 가압 방향 및 가압 방향과 반대 방향으로 이동시키기 때문에, 기판(S)의 위치 맞춤 조작이 용이하게 된다.
또한, 제 1 및 제 2 포지셔너(7, 8)의 기판 수용부(31)에의 배치 위치는 서로 대향하는 모서리부 부근에 한정되지 않는다. 도 13에 도시하는 바와 같이(도 13은 기판 위치 맞춤 장치를 구성하는 제 1 및 제 2 포지셔너의 배치 위치의 변경 예를 도시한 도면), 제 1 포지셔너(7)를 기판 수용부(31)의 Y 방향에 인접하는 모서리부 부근에 서로 Y 방향에 대향하도록 한쌍 배치하는 동시에, 제 2 포지셔너(8)를 기판 수용부(31)의 각 모서리부 부근에 서로 X 방향에 대향하도록 2쌍 배치해도 좋다. 이 경우에는, 예컨대 한쪽의 제 1 포지셔너(7)의 실린더 기구(71)를 전동 실린더 대신에 에어 실린더에 의해 구성하는 동시에, 한쌍의 제 1 포지셔너(7)가 설치된 측의 Y 방향에 인접하는 제 2 포지셔너(8)의 실린더 기구(81(81a, 81b))를 전동 실린더 대신에 에어 실린더에 의해 구성 할 수 있다. 이에 의해, 전동 실린더의 개수를 감소시킬 수 있으므로, 장치의 저비용화를 도모할 수 있다. 기판(S)을 위치 맞춤할 때는, 예컨대 에어 실린더로 구성한 실린더 기구(71, 81)의 피스톤(74, 84)을 진출시킨 후에, 전동 실린더로 구성한 실린더 기구(71, 81)의 피스톤(74, 84)을 진출시킨다.
본 발명은 상기 실시 형태에 한정되는 것은 아니고, 각종의 변형이 가능하다. 기판을 수용하는 용기는 로드록 챔버(30)에 한정되지 않고, 프로세스 챔버(10a, 10b, 10c)나 반송실(20) 등이여도 좋고, 기판은 FPD용의 유리 기판에 한정되지 않고, 반도체 웨이퍼 등의 다른 기판이여도 좋다. 또한, 기판 수용부를 용기에 3단 이상 설치해도 좋다.
본 발명에 의하면, 각 한쌍의 제 1 및 제 2 가압 기구에 의해 기판의 각 단 면을 가압하기 위해서, 기판의 위치 맞춤을 정확하게 실행할 수 있는 동시에, 제 1 및 제 2 가압 기구를, 각각 별개인 구동 기구의 구동에 의해, 가압자가 기판의 단면을 가압하도록 구성하고, 또한 기판의 반송 경로에 맞고, 기판의 반송 방향에 직교하는 제 1 단면을 가압하는 적어도 한쪽의 제 1 가압 기구에 대해서, 가압자를, 기판의 반송 경로외로 퇴피시키는 퇴피 위치와 기판을 가압 가능한 가압 가능 위치와의 사이에서 이동시키고, 또한 가압 가능 위치에서 가압 방향으로 이동시키는 구동력 변환 기구부를 설치하고, 가압자가 기판의 반송 경로로부터 회피 이동하도록 하였으므로, 용기내에 있어서의 위치 맞춤을 위한 부재의 설치 스페이스 및 기판의 반송 경로로부터 회피 이동하기 위한 스페이스를 현저하게 작게 할 수 있다. 따라서, 용기내의 기판 주위의 스페이스를 극히 작게 할 수 있고, 용기를 극히 소형화하는 것이 가능해진다.

Claims (18)

  1. 용기의 측벽에 마련된 개구로부터 수평 방향으로 반송되고, 상기 용기내에서 기판 탑재부에 탑재된 직사각형 형상의 기판을 상기 기판 탑재부상에서 위치 맞춤하는 기판 위치 맞춤 장치에 있어서,
    기판의 반송 방향에 직교하는 한쌍의 제 1 단면을 가압하는 한쌍의 제 1 가압 기구와,
    기판의 반송 방향에 따른 한쌍의 제 2 단면을 가압하는 한쌍의 제 2 가압 기구를 구비하고,
    상기 제 1 가압 기구 및 제 2 가압 기구는 각각 구동 기구 및 상기 구동 기구의 구동에 의해 상기 제 1 단면 및 제 2 단면을 가압하는 가압자를 구비하고,
    상기 한쌍의 제 1 가압 기구중 적어도 한쪽은, 상기 구동 기구의 구동에 의해, 상기 가압자를 기판의 반송 경로 밖으로 퇴피시키는 퇴피 위치와 기판을 가압 가능한 가압 가능 위치와의 사이에서 이동시키고, 또한 상기 가압 가능 위치에서 가압 방향으로 이동시키는 구동력 변환 기구부를 더 구비하며,
    상기 구동력 변환 기구부는,
    상기 용기내에 고정된 가이드 부재와,
    상기 구동 기구에 부착되어 슬라이드 이동하는 주동 슬라이드 부재와,
    상기 주동 슬라이드 부재의 소정 스트로크의 슬라이드 이동에 따라, 상기 가이드 부재에 따라서, 수평으로, 또한 주동 슬라이드 부재의 이동 방향과 직교하는 방향으로 슬라이드 이동하는 종동 슬라이드 부재와,
    일 단부가 상기 종동 슬라이드 부재에 회동 가능하게 마련되는 동시에, 타 단부에 상기 가압자가 회동 가능하게 마련되고, 상기 주동 슬라이드 부재의 소정 스트로크의 슬라이드 이동에 따라, 상기 일 단부를 중심으로 해서 넘어짐 및 기립하도록 회동하는 링크 부재를 구비하며,
    상기 링크 부재가 넘어짐 및 기립하도록 회동하는 것에 의해, 상기 가압자를 상기 퇴피 위치와 상기 가압 가능 위치와의 사이에서 이동시키고, 상기 종동 슬라이드 부재가 슬라이드 이동함으로써, 상기 가압자를, 상기 가압 가능 위치를 시점 및 종점으로 해서 가압 방향 및 가압 방향과 반대 방향으로 이동시키는 것을 특징으로 하는
    기판 위치 맞춤 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 구동 기구는 상기 용기 외부에 마련되는 것을 특징으로 하는
    기판 위치 맞춤 장치.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 구동력 변환 기구부는 기판의 반송 경로의 상방 또는 하방에 마련되고, 상기 구동 기구의 구동에 의해, 상기 가압자를, 기판의 반송 경로의 상방 또는 하방으로 상기 반송 경로와 평행한 상태에서 퇴피시키는 퇴피 위치와 기판을 가압 가능한 가압 가능 위치와의 사이에서 이동시키고, 또한 상기 가압 가능 위치에서 가압 방향으로 이동시키는 것을 특징으로 하는
    기판 위치 맞춤 장치.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 한쌍의 제 1 가압 기구중 적어도 한쪽은, 상기 구동 기구를, 수평으로, 또한 기판의 반송 방향과 직교하는 방향으로 구동하는 것을 특징으로 하는
    기판 위치 맞춤 장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 한쌍의 제 1 가압 기구중 적어도 한쪽은, 상기 구동 기구를, 수평으로, 또한 기판의 반송 방향과 직교하는 방향으로 진퇴하는 피스톤을 갖는 실린더 기구이며,
    상기 구동력 변환 기구부는, 상기 실린더 기구의 상기 피스톤이 소정 스트로크 진출하면, 상기 퇴피 위치의 상기 가압자를 상기 가압 가능 위치로 이동시키고, 상기 실린더 기구의 상기 피스톤이 더욱 소정 스트로크 진출하면, 상기 가압 가능 위치의 상기 가압자를 가압 방향으로 이동시켜서 상기 제 1 단면이 가압되도록 하고, 그 상태에서 상기 실린더 기구의 상기 피스톤이 소정 스트로크 퇴피하면, 상기 제 1 단면을 가압 상태의 상기 가압자를 상기 가압 가능 위치로 이동시키고, 상기 실린더 기구의 상기 피스톤이 더욱 소정 스트로크 퇴피하면, 상기 가압 가능 위치의 상기 가압자를 상기 퇴피 위치로 이동시키는 것을 특징으로 하는
    기판 위치 맞춤 장치.
  6. 삭제
  7. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 제 1 가압 기구 및 제 2 가압 기구는 각각 상기 가압자가 상기 제 1 단면 및 제 2 단면을 가압했을 때의 충격을 완화하는 완충 수단을 더 구비하는 것을 특징으로 하는
    기판 위치 맞춤 장치.
  8. 삭제
  9. 삭제
  10. 삭제
  11. 삭제
  12. 삭제
  13. 측벽에 개구가 마련되고, 상기 개구로부터 수평 방향으로 반송된 직사각형 형상의 기판을 수용하는 기판 수용부를 상하로 2단 이상 구비한 용기와, 상기 각 기판 수용부에 마련되고, 상기 기판 수용부에 수용된 기판을 탑재하는 기판 탑재부와, 상기 기판 탑재부에 탑재된 기판을 상기 기판 탑재부상에서 위치 맞춤하는 기판 위치 맞춤 장치를 구비한 기판 수용 유닛에 있어서,
    상기 기판 위치 맞춤 장치는,
    기판의 반송 방향에 직교하는 한쌍의 제 1 단면을 가압하는 한쌍의 제 1 가압 기구와,
    기판의 반송 방향에 따른 한쌍의 제 2 단면을 가압하는 한쌍의 제 2 가압 기구를 구비하고,
    상기 제 1 가압 기구 및 제 2 가압 기구는 각각 상기 각 기판 수용부의 상기 개구가 마련된 측벽과 직교하는 측벽에 배치된 구동 기구, 및 상기 구동 기구의 구동에 의해 상기 제 1 단면 및 제 2 단면을 가압하는 가압자를 구비하고,
    상기 한쌍의 제 1 가압 기구중 적어도 한쪽은, 상기 구동 기구의 구동에 의해, 상기 가압자를, 기판의 반송 경로 밖으로 퇴피시키는 퇴피 위치와 기판을 가압 가능한 가압 가능 위치 사이에서 이동시키고, 또한 상기 가압 가능 위치에서 가압 방향으로 이동시키는 구동력 변환 기구부를 더 구비하며,
    상기 한쌍의 제 1 가압 기구중 적어도 한쪽은, 상기 구동 기구를, 수평으로, 또한 기판의 반송 방향과 직교하는 방향으로 구동하며,
    상기 한쌍의 제 1 가압 기구중 적어도 한쪽은, 상기 구동 기구를, 수평으로, 또한 기판의 반송 방향과 직교하는 방향으로 진퇴하는 피스톤을 갖는 실린더 기구이며,
    상기 구동력 변환 기구부는, 상기 실린더 기구의 상기 피스톤이 소정 스트로크 진출하면, 상기 퇴피 위치의 상기 가압자를 상기 가압 가능 위치로 이동시키고, 상기 실린더 기구의 상기 피스톤이 더욱 소정 스트로크 진출하면, 상기 가압 가능 위치의 상기 가압자를 가압 방향으로 이동시켜서 상기 제 1 단면이 가압되도록 하고, 그 상태에서 상기 실린더 기구의 상기 피스톤이 소정 스트로크 퇴피하면, 상기 제 1 단면을 가압 상태의 상기 가압자를 상기 가압 가능 위치로 이동시키고, 상기 실린더 기구의 상기 피스톤이 더욱 소정 스트로크 퇴피하면, 상기 가압 가능 위치의 상기 가압자를 상기 퇴피 위치로 이동시키며,
    상기 구동력 변환 기구부는,
    상기 기판 수용부에 고정된 가이드 부재와,
    상기 실린더 기구의 상기 피스톤의 진퇴와 동시에, 상기 가이드 부재에 따라 상기 피스톤의 진퇴 방향으로 슬라이드 이동하는 주동 슬라이드 부재와,
    상기 주동 슬라이드 부재의 소정 스트로크의 슬라이드 이동에 따라, 상기 가이드 부재를 따라서, 수평으로, 또한 주동 슬라이드 부재의 이동 방향과 직교하는 방향으로 슬라이드 이동하는 종동 슬라이드 부재와,
    일 단부가 상기 종동 슬라이드 부재에 회동 가능하게 마련되는 동시에, 타 단부에 상기 가압자가 회동 가능하게 설치되고, 상기 주동 슬라이드 부재의 소정 스트로크의 슬라이드 이동에 따라, 상기 일 단부를 중심으로 해서 넘어짐 및 기립하도록 회동하는 링크 부재를 구비하며,
    상기 링크 부재가 넘어짐 및 기립하도록 회동하는 것에 의해, 상기 가압자를 상기 퇴피 위치와 상기 가압 가능 위치와의 사이에서 이동시키고, 상기 종동 슬라이드 부재가 슬라이드 이동함으로써, 상기 가압자를, 상기 가압 가능 위치를 시점 및 종점으로 해서 가압 방향 및 가압 방향과 반대 방향으로 이동시키는 것을 특징으로 하는
    기판 수용 유닛.
  14. 삭제
  15. 삭제
  16. 삭제
  17. 삭제
  18. 측벽에 개구가 마련되고, 상기 개구로부터 수평 방향으로 반송된 직사각형 형상의 기판을 수용하는 기판 수용부를 상하로 2단 이상 구비한 용기와, 상기 각 기판 수용부에 마련되고, 상기 기판 수용부에 수용된 기판을 탑재하는 기판 탑재부와, 상기 기판 탑재부에 탑재된 기판을 상기 기판 탑재부상에서 위치 맞춤하는 기판 위치 맞춤 장치를 구비한 기판 수용 유닛에 있어서,
    상기 기판 위치 맞춤 장치는,
    기판의 반송 방향에 직교하는 한쌍의 제 1 단면을 가압하는 한쌍의 제 1 가압 기구와,
    기판의 반송 방향에 따른 한쌍의 제 2 단면을 가압하는 한쌍의 제 2 가압 기구를 구비하고,
    상기 제 1 가압 기구 및 제 2 가압 기구는 각각 상기 각 기판 수용부의 상기 개구가 마련된 측벽과 직교하는 측벽에 배치된 구동 기구, 및 상기 구동 기구의 구동에 의해 상기 제 1 단면 및 제 2 단면을 가압하는 가압자를 구비하고,
    상기 한쌍의 제 1 가압 기구중 적어도 한쪽은, 상기 구동 기구의 구동에 의해, 상기 가압자를, 기판의 반송 경로 밖으로 퇴피시키는 퇴피 위치와 기판을 가압 가능한 가압 가능 위치 사이에서 이동시키고, 또한 상기 가압 가능 위치에서 가압 방향으로 이동시키는 구동력 변환 기구부를 더 구비하며,
    상기 구동 기구는 상기 기판 탑재부의 대향하는 2개의 모서리부에 대응한 상기 각 기판 수용부의 측벽에 각각 설치되며, 또한 상하의 상기 각 기판 수용부 사이에 있어서 다른 모서리부 근방에 설치되며,
    상기 한쌍의 제 1 가압 기구중 적어도 한쪽은, 상기 구동 기구를, 수평으로, 또한 기판의 반송 방향과 직교하는 방향으로 구동하며,
    상기 한쌍의 제 1 가압 기구중 적어도 한쪽은, 상기 구동 기구를, 수평으로, 또한 기판의 반송 방향과 직교하는 방향으로 진퇴하는 피스톤을 갖는 실린더 기구이며,
    상기 구동력 변환 기구부는, 상기 실린더 기구의 상기 피스톤이 소정 스트로크 진출하면, 상기 퇴피 위치의 상기 가압자를 상기 가압 가능 위치로 이동시키고, 상기 실린더 기구의 상기 피스톤이 더욱 소정 스트로크 진출하면, 상기 가압 가능 위치의 상기 가압자를 가압 방향으로 이동시켜서 상기 제 1 단면이 가압되도록 하고, 그 상태에서 상기 실린더 기구의 상기 피스톤이 소정 스트로크 퇴피하면, 상기 제 1 단면을 가압 상태의 상기 가압자를 상기 가압 가능 위치로 이동시키고, 상기 실린더 기구의 상기 피스톤이 더욱 소정 스트로크 퇴피하면, 상기 가압 가능 위치의 상기 가압자를 상기 퇴피 위치로 이동시키며,
    상기 구동력 변환 기구부는,
    상기 기판 수용부에 고정된 가이드 부재와,
    상기 실린더 기구의 상기 피스톤의 진퇴와 동시에, 상기 가이드 부재에 따라 상기 피스톤의 진퇴 방향으로 슬라이드 이동하는 주동 슬라이드 부재와,
    상기 주동 슬라이드 부재의 소정 스트로크의 슬라이드 이동에 따라, 상기 가이드 부재를 따라서, 수평으로, 또한 주동 슬라이드 부재의 이동 방향과 직교하는 방향으로 슬라이드 이동하는 종동 슬라이드 부재와,
    일 단부가 상기 종동 슬라이드 부재에 회동 가능하게 마련되는 동시에, 타 단부에 상기 가압자가 회동 가능하게 마련되고, 상기 주동 슬라이드 부재의 소정 스트로크의 슬라이드 이동에 따라, 상기 일 단부를 중심으로 해서 넘어짐 및 기립하도록 회동하는 링크 부재를 구비하며,
    상기 링크 부재가 넘어짐 및 기립하도록 회동하는 것에 의해, 상기 가압자를 상기 퇴피 위치와 상기 가압 가능 위치와의 사이에서 이동시키고, 상기 종동 슬라이드 부재가 슬라이드 이동함으로써, 상기 가압자를, 상기 가압 가능 위치를 시점 및 종점으로 해서 가압 방향 및 가압 방향과 반대 방향으로 이동시키는 것을 특징으로 하는
    기판 수용 유닛.
KR1020060085136A 2005-09-05 2006-09-05 기판 위치 맞춤 장치 및 기판 수용 유닛 KR100860143B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005257165A JP4642610B2 (ja) 2005-09-05 2005-09-05 基板位置合わせ装置および基板収容ユニット
JPJP-P-2005-00257165 2005-09-05

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020080042242A Division KR100952524B1 (ko) 2005-09-05 2008-05-07 기판 수용 유닛

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20070026274A KR20070026274A (ko) 2007-03-08
KR100860143B1 true KR100860143B1 (ko) 2008-09-24

Family

ID=37859001

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020060085136A KR100860143B1 (ko) 2005-09-05 2006-09-05 기판 위치 맞춤 장치 및 기판 수용 유닛
KR1020080042242A KR100952524B1 (ko) 2005-09-05 2008-05-07 기판 수용 유닛

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020080042242A KR100952524B1 (ko) 2005-09-05 2008-05-07 기판 수용 유닛

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP4642610B2 (ko)
KR (2) KR100860143B1 (ko)
CN (1) CN100446215C (ko)
TW (1) TWI421969B (ko)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5501688B2 (ja) * 2009-07-30 2014-05-28 東京エレクトロン株式会社 基板位置合わせ機構、それを用いた真空予備室および基板処理システム
JP5582895B2 (ja) * 2010-07-09 2014-09-03 キヤノンアネルバ株式会社 基板ホルダーストッカ装置及び基板処理装置並びに該基板ホルダーストッカ装置を用いた基板ホルダー移動方法
TW201514502A (zh) * 2013-10-03 2015-04-16 Chips Best Technology Co Ltd 晶片檢測座
TW201514516A (zh) * 2013-10-03 2015-04-16 Chips Best Technology Co Ltd 晶片自動檢測系統
US9929029B2 (en) * 2015-10-15 2018-03-27 Applied Materials, Inc. Substrate carrier system
CN106773157B (zh) * 2016-12-06 2018-08-31 友达光电(昆山)有限公司 位置校正装置及位置校正方法
JP2019102721A (ja) * 2017-12-06 2019-06-24 エスペック株式会社 基板用位置決め装置
KR102186594B1 (ko) * 2020-04-08 2020-12-03 백철호 인쇄회로기판의 자동정렬장치

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05243366A (ja) * 1991-09-10 1993-09-21 Tokyo Electron Yamanashi Kk 真空処理装置
KR100273810B1 (ko) * 1994-02-15 2000-12-15 기리야마겐지 기판 위치검출 및 안내장치
KR20040034611A (ko) * 2001-10-17 2004-04-28 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 기판 지지대

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0751229Y2 (ja) * 1990-09-29 1995-11-22 大日本スクリーン製造株式会社 基板の位置整合装置
JP3426222B2 (ja) * 1991-09-10 2003-07-14 東京エレクトロン株式会社 ロードロック室内の位置合わせ機構及び処理装置及び位置合わせ方法
JP3335983B2 (ja) * 1993-02-26 2002-10-21 東京エレクトロン株式会社 Lcd用ガラス基板の位置合わせ機構及び真空処理装置
JPH08288368A (ja) * 1995-04-14 1996-11-01 Tokyo Electron Ltd 基板の整列装置および方法
JPH0927536A (ja) * 1995-07-10 1997-01-28 Nissin Electric Co Ltd ロ−ドロック室内に基板位置合わせ機構を有するイオン注入装置
JP4030654B2 (ja) * 1998-06-02 2008-01-09 大日本スクリーン製造株式会社 基板搬送装置
JP4841035B2 (ja) * 2000-11-27 2011-12-21 東京エレクトロン株式会社 真空処理装置
JP2003086659A (ja) * 2001-09-11 2003-03-20 Hirata Corp 基板の移載装置
JP2003282684A (ja) * 2002-03-22 2003-10-03 Olympus Optical Co Ltd ガラス基板保持具
KR101018909B1 (ko) * 2002-10-25 2011-03-02 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 기판 얼라이먼트장치, 기판처리장치 및 기판반송장치
KR100582695B1 (ko) * 2002-11-21 2006-05-23 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키 기판의 위치 결정 방법 및 이 방법을 이용한 검사 장치
JP4479881B2 (ja) * 2003-09-19 2010-06-09 株式会社日立ハイテクノロジーズ 基板スピン処理装置及び基板スピン処理方法
JP2005116878A (ja) * 2003-10-09 2005-04-28 Toshiba Corp 基板支持方法および基板支持装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05243366A (ja) * 1991-09-10 1993-09-21 Tokyo Electron Yamanashi Kk 真空処理装置
KR100273810B1 (ko) * 1994-02-15 2000-12-15 기리야마겐지 기판 위치검출 및 안내장치
KR20040034611A (ko) * 2001-10-17 2004-04-28 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 기판 지지대

Also Published As

Publication number Publication date
KR20070026274A (ko) 2007-03-08
KR100952524B1 (ko) 2010-04-12
JP4642610B2 (ja) 2011-03-02
TWI421969B (zh) 2014-01-01
TW200721361A (en) 2007-06-01
KR20080059118A (ko) 2008-06-26
JP2007073646A (ja) 2007-03-22
CN100446215C (zh) 2008-12-24
CN1929109A (zh) 2007-03-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100860143B1 (ko) 기판 위치 맞춤 장치 및 기판 수용 유닛
KR100832926B1 (ko) 승강 기구 및 반송 장치
EP2282331B1 (en) Substrate position alignment mechanism
KR101161296B1 (ko) 프로세스 모듈, 기판 처리 장치 및, 기판 반송 방법
KR100809125B1 (ko) 처리 장치, 위치설정 방법 및 컴퓨터 기억 매체
KR20080053917A (ko) 기판교체장치
CN101329995B (zh) 基板处理装置以及基板搬送装置
KR102358070B1 (ko) 도포 장치, 및 도포 방법
TWI555681B (zh) A position shift preventing device, a substrate holder including the same, a substrate handling device, and a substrate handling method
KR100856588B1 (ko) 기판 반송 장치 및 기판 지지체
JP2005012185A (ja) 基板搬送装置および基板搬送方法ならびに真空処理装置
WO2019176238A1 (ja) 半導体ウエハーの試験ユニット
WO2013128710A1 (ja) 塗布装置、基板保持装置および基板保持方法
JP2011249657A (ja) 試料吸着保持装置および試料吸着判定方法
KR20220091380A (ko) 기판의 전달 방법 및 기판 전달 시스템
KR101020364B1 (ko) 게이트 밸브 및 그것을 이용한 기판 처리 장치
KR101688842B1 (ko) 기판 처리 장치
KR20210077598A (ko) 감압 건조 장치 및 감압 건조 방법
JP2012074498A (ja) 基板処理装置及び基板搬送方法並びにその方法を実施するためのプログラムを記憶する記憶媒体
KR101453222B1 (ko) 기판 처리 시스템
KR102688735B1 (ko) 기판 로딩장치
CN117612980B (zh) 晶圆键合装置
KR101631142B1 (ko) 더미 글라스 제거장치
JP2515325Y2 (ja) 基板の搬出・搬入装置
JP2024137735A (ja) 実装ツールおよび実装装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
A107 Divisional application of patent
AMND Amendment
J201 Request for trial against refusal decision
B701 Decision to grant
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120821

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130822

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140825

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150819

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160818

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170822

Year of fee payment: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180903

Year of fee payment: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190903

Year of fee payment: 12