JP2007073646A - 基板位置合わせ装置および基板収容ユニット - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板位置合わせ装置は、基板Sの搬送方向に直交する一対の端面S1を押圧する一対の第1のポジショナー7と、基板Sの搬送方向に沿った一対の端面S2を押圧する一対の第2のポジショナー8とを具備し、第1および第2のポジショナー7、8はそれぞれ、シリンダ機構71、81、およびシリンダ機構71、81のピストン74、84の進出により端面S1、S2を押圧する押圧子70、80を有し、第1のポジショナー7は、ピストン74の進出により、押圧子70を、基板Sの搬送経路外に退避させる退避位置と基板Sを押圧可能な押圧可能位置との間で移動させ、かつ、押圧可能位置で押圧方向に移動させる駆動力変換機構部72をさらに有する。
【選択図】 図12
Description
8…第2のポジショナー(第2の押圧機構)
30…ロードロックチャンバ(容器)
31…基板収容部
32…バッファ(基板載置部)
33,34…開口
35…球状コロ
70,80…押圧子
71,81…シリンダ機構(駆動機構)
72…駆動力変換機構部
74,84…ピストン
75…ガイド部材
76…主動スライド部材
77…従動スライド部材
78,79…リンク部材
S…基板
S1…第1の端面
S2…第2の端面
Claims (17)
- 容器の側壁に設けられた開口から水平方向に搬送され、前記容器内で基板載置部に載置される矩形状の基板を前記基板載置部上で位置合わせする基板位置合わせ装置であって、
基板の搬送方向に直交する一対の第1の端面を押圧する一対の第1の押圧機構と、
基板の搬送方向に沿った一対の第2の端面を押圧する一対の第2の押圧機構と
を具備し、
前記第1の押圧機構および第2の押圧機構はそれぞれ、駆動機構、および前記駆動機構の駆動により前記第1の端面および第2の端面を押圧する押圧子を有し、
前記一対の第1の押圧機構のうちの少なくとも一方は、前記駆動機構の駆動により、前記押圧子を、基板の搬送経路外に退避させる退避位置と基板を押圧可能な押圧可能位置との間で移動させ、かつ、前記押圧可能位置で押圧方向に移動させる駆動力変換機構部をさらに有することを特徴とする基板位置合わせ装置。 - 前記駆動機構は前記容器外に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の基板位置合わせ装置。
- 前記駆動力変換機構部は、基板の搬送経路の上方または下方に設けられ、前記駆動機構の駆動により、前記押圧子を、基板の搬送経路の上方または下方に前記搬送経路と平行な状態で退避させる退避位置と基板を押圧可能な押圧可能位置との間で移動させ、かつ、前記押圧可能位置で押圧方向に移動させることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の基板位置合わせ装置。
- 前記一対の第1の押圧機構のうちの少なくとも一方は、前記駆動機構が、水平に、かつ基板の搬送方向と直交する方向に駆動することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の基板位置合わせ装置。
- 前記一対の第1の押圧機構のうちの少なくとも一方は、前記駆動機構が、水平に、かつ基板の搬送方向と直交する方向に進退するピストンを有するシリンダ機構であり、
前記駆動力変換機構部は、前記シリンダ機構の前記ピストンが所定ストローク進出すると、前記退避位置の前記押圧子を前記押圧可能位置に移動させ、前記シリンダ機構の前記ピストンがさらに所定ストローク進出すると、前記押圧可能位置の前記押圧子を押圧方向に移動させて前記第1の端面が押圧されるようにし、その状態で前記シリンダ機構の前記ピストンが所定ストローク退避すると、前記第1の端面を押圧状態の前記押圧子を前記押圧可能位置に移動させ、前記シリンダ機構の前記ピストンがさらに所定ストローク退避すると、前記押圧可能位置の前記押圧子を前記退避位置に移動させることを特徴とする請求項4に記載の基板位置合わせ装置。 - 前記駆動力変換機構部は、
前記容器内に固定されたガイド部材と、
前記シリンダ機構の前記ピストンの進退とともに、前記ガイド部材に沿って前記ピストンの進退方向にスライド移動する主動スライド部材と、
前記主動スライド部材の所定ストロークのスライド移動に伴い、前記ガイド部材に沿って、水平に、かつ主動スライド部材の移動方向と直交する方向にスライド移動する従動スライド部材と、
一端部が前記従動スライド部材に回動可能に設けられるとともに、他端部に前記押圧子が回動可能に設けられ、前記主動スライド部材の所定ストロークのスライド移動に伴い、前記一端部を中心として倒伏および起立するように回動するリンク部材と
を有し、
前記リンク部材が倒伏および起立するように回動することにより、前記押圧子を前記退避位置と前記押圧可能位置との間で移動させ、前記従動スライド部材がスライド移動することにより、前記押圧子を、前記押圧可能位置を始点および終点として押圧方向および押圧方向と反対方向に移動させることを特徴とする請求項5に記載の基板位置合わせ装置。 - 前記第1の押圧機構および第2の押圧機構はそれぞれ、前記押圧子が前記第1の端面および第2の端面を押圧した際の衝撃を緩和する緩衝手段をさらに有することを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に基板位置合わせ装置。
- 側壁に開口が設けられ、前記開口から水平方向に搬送された矩形状の基板を収容する基板収容部を有する容器と、
前記基板収容部に設けられ、前記基板収容部に収容された基板を載置する基板載置部と、
前記基板載置部に載置された基板を前記基板載置部上で位置合わせする基板位置合わせ装置と
を具備した基板収容ユニットであって、
前記基板位置合わせ装置は、
基板の搬送方向に直交する一対の第1の端面を押圧する一対の第1の押圧機構と、
基板の搬送方向に沿った一対の第2の端面を押圧する一対の第2の押圧機構と
を備え、
前記第1の押圧機構および第2の押圧機構はそれぞれ、駆動機構、および前記駆動機構の駆動により前記第1の端面および第2の端面を押圧する押圧子を有し、
前記一対の第1の押圧機構のうちの少なくとも一方は、前記駆動機構の駆動により、前記押圧子を、基板の搬送経路外に退避させる退避位置と基板を押圧可能な押圧可能位置との間で移動させ、かつ、前記押圧可能位置で押圧方向に移動させる駆動力変換機構部をさらに有することを特徴とする基板収容ユニット。 - 前記駆動機構は前記容器の前記基板収容部外に設けられていることを特徴とする請求項8に記載の基板収容ユニット。
- 前記駆動力変換機構部は、基板の搬送経路の上方または下方に設けられ、前記駆動機構の駆動により、前記押圧子を、基板の搬送経路の上方または下方に前記搬送経路と平行な状態で退避させる退避位置と基板を押圧可能な押圧可能位置との間で移動させ、かつ、前記押圧可能位置で押圧方向に移動させることを特徴とする請求項8または請求項9に記載の基板収容ユニット。
- 前記一対の第1の押圧機構のうちの少なくとも一方は、前記駆動機構が、水平に、かつ基板の搬送方向と直交する方向に駆動することを特徴とする請求項8から請求項10のいずれか1項に記載の基板収容ユニット。
- 前記一対の第1の押圧機構のうちの少なくとも一方は、前記駆動機構が、水平に、かつ基板の搬送方向と直交する方向に進退するピストンを有するシリンダ機構であり、
前記駆動力変換機構部は、前記シリンダ機構の前記ピストンが所定ストローク進出すると、前記退避位置の前記押圧子を前記押圧可能位置に移動させ、前記シリンダ機構の前記ピストンがさらに所定ストローク進出すると、前記押圧可能位置の前記押圧子を押圧方向に移動させて前記第1の端面が押圧されるようにし、その状態で前記シリンダ機構の前記ピストンが所定ストローク退避すると、前記第1の端面を押圧状態の前記押圧子を前記押圧可能位置に移動させ、前記シリンダ機構の前記ピストンがさらに所定ストローク退避すると、前記押圧可能位置の前記押圧子を前記退避位置に移動させることを特徴とする請求項11に記載の基板収容ユニット。 - 前記駆動力変換機構部は、
前記基板収容部に固定されたガイド部材と、
前記シリンダ機構の前記ピストンの進退とともに、前記ガイド部材に沿って前記ピストンの進退方向にスライド移動する主動スライド部材と、
前記主動スライド部材の所定ストロークのスライド移動に伴い、前記ガイド部材に沿って、水平に、かつ主動スライド部材の移動方向と直交する方向にスライド移動する従動スライド部材と、
一端部が前記従動スライド部材に回動可能に設けられるとともに、他端部に前記押圧子が回動可能に設けられ、前記主動スライド部材の所定ストロークのスライド移動に伴い、前記一端部を中心として倒伏および起立するように回動するリンク部材と
を有し、
前記リンク部材が倒伏および起立するように回動することにより、前記押圧子を前記退避位置と前記押圧可能位置との間で移動させ、前記従動スライド部材がスライド移動することにより、前記押圧子を、前記押圧可能位置を始点および終点として押圧方向および押圧方向と反対方向に移動させることを特徴とする請求項12に記載の基板収容ユニット。 - 前記第1の押圧機構および第2の押圧機構はそれぞれ、前記押圧子が前記第1の端面および第2の端面を押圧した際の衝撃を緩和する緩衝手段をさらに有することを特徴とする請求項8から請求項13のいずれか1項に記載の基板収容ユニット。
- 前記基板載置部は、搬送された基板の裏面に当接する回転可能な球状コロを有することを特徴とする請求項8から請求項14のいずれか1項に記載の基板収容ユニット。
- 前記容器は、前記基板収容部を上下に2段以上有していることを特徴とする請求項8から請求項15のいずれか1項に記載の基板収容ユニット。
- 前記容器は、前記開口が互いに対向する側壁にそれぞれ開閉可能に設けられ、それぞれの前記開口を介して、真空状態で基板に所定の処理を施す真空処理チャンバ内と大気側とに内部が連通可能であり、大気側との基板の受け渡しの際には内部が大気圧近傍に保持されるとともに、前記真空処理チャンバとの基板の受け渡しの際には内部が真空状態に保持されるロードロックチャンバであることを特徴とする請求項8から請求項16のいずれか1項に記載の基板収容ユニット。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011035021A (ja) * | 2009-07-30 | 2011-02-17 | Tokyo Electron Ltd | 基板位置合わせ機構、それを用いた真空予備室および基板処理システム |
JP2018536986A (ja) * | 2015-10-15 | 2018-12-13 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 基板キャリアシステム |
JP2019102721A (ja) * | 2017-12-06 | 2019-06-24 | エスペック株式会社 | 基板用位置決め装置 |
KR102186594B1 (ko) * | 2020-04-08 | 2020-12-03 | 백철호 | 인쇄회로기판의 자동정렬장치 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5582895B2 (ja) * | 2010-07-09 | 2014-09-03 | キヤノンアネルバ株式会社 | 基板ホルダーストッカ装置及び基板処理装置並びに該基板ホルダーストッカ装置を用いた基板ホルダー移動方法 |
TW201514516A (zh) * | 2013-10-03 | 2015-04-16 | Chips Best Technology Co Ltd | 晶片自動檢測系統 |
TW201514502A (zh) * | 2013-10-03 | 2015-04-16 | Chips Best Technology Co Ltd | 晶片檢測座 |
CN106773157B (zh) * | 2016-12-06 | 2018-08-31 | 友达光电(昆山)有限公司 | 位置校正装置及位置校正方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0460636U (ja) * | 1990-09-29 | 1992-05-25 | ||
JPH0927536A (ja) * | 1995-07-10 | 1997-01-28 | Nissin Electric Co Ltd | ロ−ドロック室内に基板位置合わせ機構を有するイオン注入装置 |
JP2000306980A (ja) * | 1993-02-26 | 2000-11-02 | Tokyo Electron Ltd | Lcd用ガラス基板の位置合わせ機構及び真空処理装置 |
JP2001291758A (ja) * | 2000-11-27 | 2001-10-19 | Tokyo Electron Ltd | 真空処理装置 |
JP2002057205A (ja) * | 1991-09-10 | 2002-02-22 | Tokyo Electron Ltd | ロードロック室内の位置合わせ機構及び処理装置及び位置合わせ方法及び搬送方法 |
JP2005116878A (ja) * | 2003-10-09 | 2005-04-28 | Toshiba Corp | 基板支持方法および基板支持装置 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3260427B2 (ja) * | 1991-09-10 | 2002-02-25 | 東京エレクトロン株式会社 | 真空処理装置及び真空処理装置における基板搬送方法 |
JP3468430B2 (ja) * | 1994-02-15 | 2003-11-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 位置検出案内装置、位置検出案内方法及び真空処理装置 |
JPH08288368A (ja) * | 1995-04-14 | 1996-11-01 | Tokyo Electron Ltd | 基板の整列装置および方法 |
JP4030654B2 (ja) * | 1998-06-02 | 2008-01-09 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板搬送装置 |
JP2003086659A (ja) * | 2001-09-11 | 2003-03-20 | Hirata Corp | 基板の移載装置 |
US20030072639A1 (en) * | 2001-10-17 | 2003-04-17 | Applied Materials, Inc. | Substrate support |
JP2003282684A (ja) * | 2002-03-22 | 2003-10-03 | Olympus Optical Co Ltd | ガラス基板保持具 |
KR101018909B1 (ko) * | 2002-10-25 | 2011-03-02 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 얼라이먼트장치, 기판처리장치 및 기판반송장치 |
KR100582695B1 (ko) * | 2002-11-21 | 2006-05-23 | 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키 | 기판의 위치 결정 방법 및 이 방법을 이용한 검사 장치 |
JP4479881B2 (ja) * | 2003-09-19 | 2010-06-09 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 基板スピン処理装置及び基板スピン処理方法 |
-
2005
- 2005-09-05 JP JP2005257165A patent/JP4642610B2/ja active Active
-
2006
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2008
- 2008-05-07 KR KR1020080042242A patent/KR100952524B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0460636U (ja) * | 1990-09-29 | 1992-05-25 | ||
JP2002057205A (ja) * | 1991-09-10 | 2002-02-22 | Tokyo Electron Ltd | ロードロック室内の位置合わせ機構及び処理装置及び位置合わせ方法及び搬送方法 |
JP2000306980A (ja) * | 1993-02-26 | 2000-11-02 | Tokyo Electron Ltd | Lcd用ガラス基板の位置合わせ機構及び真空処理装置 |
JPH0927536A (ja) * | 1995-07-10 | 1997-01-28 | Nissin Electric Co Ltd | ロ−ドロック室内に基板位置合わせ機構を有するイオン注入装置 |
JP2001291758A (ja) * | 2000-11-27 | 2001-10-19 | Tokyo Electron Ltd | 真空処理装置 |
JP2005116878A (ja) * | 2003-10-09 | 2005-04-28 | Toshiba Corp | 基板支持方法および基板支持装置 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011035021A (ja) * | 2009-07-30 | 2011-02-17 | Tokyo Electron Ltd | 基板位置合わせ機構、それを用いた真空予備室および基板処理システム |
JP2018536986A (ja) * | 2015-10-15 | 2018-12-13 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 基板キャリアシステム |
JP2019102721A (ja) * | 2017-12-06 | 2019-06-24 | エスペック株式会社 | 基板用位置決め装置 |
KR102186594B1 (ko) * | 2020-04-08 | 2020-12-03 | 백철호 | 인쇄회로기판의 자동정렬장치 |
Also Published As
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