JP2002057205A - ロードロック室内の位置合わせ機構及び処理装置及び位置合わせ方法及び搬送方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 被処理基板を確実に真空処理室内の所定位置
に配置することができ、搬送中の破損を防止することが
できるとともに、良好な処理を確実に行うことのできる
ロードロック室内の位置合わせ機構及び処理装置及び位
置合わせ方法及び搬送方法を提供する。 【解決手段】 ロードロック室２内には、ＬＣＤ基板８
を搬送するための搬送アーム９が設けられており、この
搬送アーム９のホームポジションには、ＬＣＤ基板８の
対角部に位置する如く、位置合わせ部１１ａ、１１ｂが
設けられている。位置合わせ部１１ａ、１１ｂは、搬送
アーム９上のＬＣＤ基板８を下方から押し上げて保持部
上に乗せ、この後、水平方向に移動し、ローラによって
ＬＣＤ基板８を押圧するようにして、ＬＣＤ基板８を位
置決めし、この後、下降して再度搬送アーム９上にＬＣ
Ｄ基板８を載置し、ＬＣＤ基板８を搬送アーム９上の所
定位置に位置決めするよう構成されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ロードロック室内
の位置合わせ機構及び処理装置及び位置合わせ方法及び
搬送方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来から、被処理基板、例えば液晶表示
器（ＬＣＤ）用のガラス基板等に、真空雰囲気下で各種
処理、例えばエッチング処理、アッシング処理等を施す
真空処理装置が用いられている。

【０００３】このような真空処理装置では、被処理基板
を真空処理室内にロード・アンロードする度に、真空処
理室内を常圧雰囲気に戻す必要がないように、予備真空
室いわゆるロードロック室を備えたものが多い。このよ
うな真空処理装置では、ロードロック室内に基板搬送機
構が設けられており、搬送アーム等でオートローダー等
に設けられた被処理基板を保持して、一旦ロードロック
室内に搬入し、このロードロック室内を真空排気した
後、ロードロック室から真空処理室内の所定位置に被処
理基板をロードするよう構成されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の真空処理装置では、基板搬送機構が高速で被処
理基板を搬送した場合、被処理基板を位置ずれを起こす
ことなく搬送を繰り返すことには困難がある。このた
め、基板搬送機構が被処理基板を受け取る際に被処理基
板が位置ずれを起こしたり、搬送中に振動等によって基
板搬送機構上に載置された被処理基板が位置ずれを起こ
すことがあり、また、被処理基板がそれを収容するキャ
リア内の遊び内で位置ずれを起こすことがあり、被処理
基板が真空処理室内の所定位置に配置されず良好な処理
が行われなかったり、被処理基板が真空処理室の出入り
口部分にぶつかって破損する危険性がある等の問題があ
った。

【０００５】本発明は、かかる従来の事情に対処してな
されたもので、被処理基板を確実に真空処理室内の所定
位置に配置することができ、搬送中の破損を防止するこ
とができるとともに、良好な処理を確実に行うことので
きるロードロック室内の位置合わせ機構及び処理装置及
び位置合わせ方法及び搬送方法を提供しようとするもの
である。

【０００６】

【課題を解決するための手段】すなわち、請求項１の発
明は、基板をロード・アンロードするロードロック室内
に設けられた回転軸の回りに回転可能で、前記基板を前
記回転軸の上方に移動可能な、前記基板を搬送するため
の基板搬送部と、前記基板を保持する保持部と前記基板
を押圧する押圧部とを有する複数の位置合わせ部であっ
て、前記ロードロック室内の前記回転軸を挟む位置に設
けられた位置合わせ部と、前記位置合わせ部を上下動可
能とする昇降手段と、 前記押圧部を水平方向に移動さ
せて前記保持部に載置された前記基板の対角部を押圧す
るための水平移動手段と、を有することを特徴とする。

【０００７】請求項２の発明は、請求項１記載のロード
ロック室内の位置合わせ機構において、前記押圧部が、
２つのローラにより前記基板の対角部を押圧するよう構
成されたことを特徴とする。

【０００８】請求項３の発明は、請求項２記載のロード
ロック室内の位置合わせ機構において、前記２つのロー
ラは、大径のローラと、小径のローラとで構成されるこ
とを特徴とする。

【０００９】請求項４の発明は、請求項１乃至３いずれ
か１項記載のロードロック室内の位置合わせ機構におい
て、前記昇降手段による上下方向の駆動力を、前記水平
移動手段における水平方向の駆動力に変換するリンク機
構を具備したことを特徴とする。

【００１０】請求項５の発明は、基板に所定の処理を施
す真空処理室と、前記真空処理室内に前記基板をロード
・アンロードするためのロードロック室と、前記ロード
ロック室内に設けられた回転軸の回りに回転可能で、基
板を前記回転軸の上方に移動可能な、基板を搬送するた
めの基板搬送部と、基板を保持する保持部と基板を押圧
する押圧部とを有する複数の位置合わせ部であって、前
記ロードロック室内の前記回転軸を挟む位置に設けられ
た位置合わせ部と、前記位置合わせ部を上下動可能とす
る昇降手段と、前記押圧部を水平方向に移動させて前記
保持部に載置された基板の対角部を押圧するための水平
移動手段と、を有することを特徴とする。

【００１１】請求項６の発明は、請求項５記載の処理装
置において、前記押圧部が、２つのローラにより前記基
板の対角部を押圧するよう構成されたことを特徴とす
る。

【００１２】請求項７の発明は、請求項６記載の処理装
置において、前記２つのローラは、大径のローラと、小
径のローラとで構成されることを特徴とする。

【００１３】請求項８の発明は、請求項５乃至７いずれ
か１項記載の処理装置において、前記昇降手段による上
下方向の駆動力を、前記水平移動手段における水平方向
の駆動力に変換するリンク機構を具備したことを特徴と
する。

【００１４】請求項９の発明は、基板をロード・アンロ
ードするロードロック室内に設けられた回転軸の回りに
回転可能で、前記基板を前記回転軸の上方に移動可能
な、前記基板を搬送するための基板搬送部と、前記基板
を保持する保持部と前記基板を押圧する押圧部とを有す
る複数の位置合わせ部であって、前記ロードロック室内
の前記回転軸を挟む位置に設けられた位置合わせ部と、
前記位置合わせ部を上下動可能とする昇降手段と、前記
押圧部を水平方向に移動させて前記保持部に載置された
前記基板の対角部を押圧するための水平移動手段と、を
有するロードロック室内の位置合わせ機構による位置合
わせ方法であって、前記基板搬送部で前記回転軸上に前
記基板を搬送する工程と、前記位置合わせ部を上昇させ
て前記保持部に前記基板を載置する工程と、前記押圧部
で前記基板の対角部を押圧する工程と、前記位置合わせ
部を下降させて前記保持部から前記基板搬送部に前記基
板を載置する工程と、を有することを特徴とする。

【００１５】請求項１０の発明は、基板に所定の処理を
施す真空処理室と、基板をロード・アンロードするロー
ドロック室内に設けられた回転軸の回りに回転可能で、
前記基板を前記回転軸の上方に移動可能な、前記基板を
搬送するための基板搬送部と、前記基板を保持する保持
部と前記基板を押圧する押圧部とを有する複数の位置合
わせ部であって、前記ロードロック室内の前記回転軸を
挟む位置に設けられた位置合わせ部と、前記位置合わせ
部を上下動可能とする昇降手段と、前記押圧部を水平方
向に移動させて前記保持部に載置された前記基板の対角
部を押圧するための水平移動手段と、を有する装置にお
ける搬送方法であって、前記基板搬送部で前記回転軸上
に前記基板を搬送する工程と、前記位置合わせ部を上昇
させて前記保持部に前記基板を載置する工程と、前記押
圧部で前記基板の対角部を押圧する工程と、前記位置合
わせ部を下降させて前記保持部から前記基板搬送部に前
記基板を載置する工程と、前記基板搬送部によって、前
記基板を真空処理室に搬送する工程と、を有することを
特徴とする。

【００１６】請求項１１の発明は、請求項１０記載の搬
送方法において、前記押圧部が、２つのローラにより前
記基板の対角部を押圧するよう構成されたことを特徴と
する。

【００１７】請求項１２の発明は、請求項１１記載の搬
送方法において、前記２つのローラは、大径のローラ
と、小径のローラとで構成されることを特徴とする。

【００１８】請求項１３の発明は、請求項１０又は１１
項記載の搬送方法において、前記昇降手段による上下方
向の駆動力を、前記水平移動手段における水平方向の駆
動力に変換するリンク機構を具備したことを特徴とす
る。

【００１９】上記構成の本発明では、被処理基板を確実
に真空処理室内の所定位置に配置することができ、搬送
中の破損を防止することができるとともに、良好な処理
を確実に行うことができる。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下、本発明をＬＣＤ基板の処理
を行う真空処理室を複数備えたいわゆるマルチチャンバ
型の真空処理装置に適用した実施の形態を図面を参照し
て説明する。

【００２１】図１に示すように、本実施の形態の真空処
理装置１には、その中央部に内部を気密に閉塞可能に構
成されたロードロック室２が設けられている。また、こ
のロードロック室２の周囲には、ロードロック室２を囲
む如く、3 つの真空処理室Ａ、Ｂ、Ｃとオートローダ３
が設けられている。

【００２２】これらの真空処理室Ａ、Ｂ、Ｃおよびオー
トローダ３と、ロードロック室２との間には、それぞれ
ゲートバルブ４、５、６、７が介挿されており、これら
のゲートバルブ４、５、６、７を閉じることによってロ
ードロック室２との間を気密に閉塞することができると
ともに、これらのゲートバルブ４、５、６、７を開ける
ことによって、ＬＣＤ基板８を搬入・搬出することがで
きるよう構成されている。

【００２３】なお、真空処理室Ａ、Ｂ、Ｃは、それぞれ
内部を所定の真空度の所定ガス雰囲気として、ＬＣＤ基
板８に所定の処理、例えばエッチング処理、アッシング
処理等を施すためのものである。また、オートローダ３
は、複数枚のＬＣＤ基板８を収容するカセット等からＬ
ＣＤ基板８を取り出し、後述する搬送アーム９に受け渡
すとともに、処理の終了したＬＣＤ基板８を搬送アーム
９から受け取って、カセット等に収容するものである。

【００２４】また、ロードロック室２内には、ＬＣＤ基
板８を搬送するための搬送アーム９が設けられており、
この搬送アーム９のホームポジション、すなわち搬送ア
ーム９が収縮して、図１に点線で示すようにアームの回
転軸１０上にＬＣＤ基板８が位置するポジションには、
ＬＣＤ基板８の対角部に位置する如く、位置合わせ部１
１ａ、１１ｂが設けられている。つまり、回転軸１０を
挟む位置に位置合わせ部１１ａ、１１ｂが設けられてい
る。なお、搬送アーム９のＬＣＤ基板８が載置される部
分には、四隅にそれぞれ柔軟かつ滑り難い材質の部材、
例えばバイトン製のＯリング９ａが配置されており、Ｌ
ＣＤ基板８は、これらのＯリング９ａ上に載置されるよ
う構成されている。これにより、ＬＣＤ基板８が金属製
の搬送アーム９に接触して傷付いたり、搬送中に振動等
で位置ずれを起こし難いよう構成されている。

【００２５】これらの位置合わせ部１１ａ、１１ｂは、
図２に示すように、それぞれＬＣＤ基板８を持ち上げる
ための保持部１２と、この保持部１２上に配置されＬＣ
Ｄ基板８の角部を挟むようにしてＬＣＤ基板８を所定位
置に位置決めする2 つのローラ１３とを備えている。そ
して、図３に示すように、これら位置合わせ部１１ａ、
１１ｂの保持部１２が同調してまず上昇し、搬送アーム
９上のＬＣＤ基板８を下方から押し上げて保持部１２上
に乗せ（図３ｂ）、この後、水平方向に移動し、ローラ
１３によってＬＣＤ基板８を押圧するようにして、ＬＣ
Ｄ基板８を位置決めし（図３ｃ）、この後、保持部１２
が下降して再度搬送アーム９上にＬＣＤ基板８を載置
し、ＬＣＤ基板８を搬送アーム９上の所定位置に位置決
めするよう構成されている。なお、上述したローラ１３
は、ＬＣＤ基板８と当接されるため、柔軟性を有し、か
つ、変形しにくい材質である必要があり、例えばポリテ
トラフルオロエチレン等を用いることが好ましい。

【００２６】本実施例においては、上記位置合わせ部１
１ａ、１１ｂの動きは、1 つの駆動源、例えばエアシリ
ンダ１４によって実現されている。すなわち、図２およ
び図３に示すように、エアシリンダ１４は、ベース１５
に固定されており、このエアシリンダ１４の駆動軸１６
には昇降ベース１７が固定されている。この昇降ベース
１７は、上下方向に沿ってベース１５に設けられたリニ
アガイド１８に案内され、エアシリンダ１４の駆動軸１
６の伸縮に伴って上下動するよう構成されている。

【００２７】また、この昇降ベース１７には、中間ベー
ス１９が係止されている。この中間ベース１９は、上下
方向に沿って設けられたリニアガイド２０を介して昇降
ベース１７に上下動自在に係止されており、昇降ベース
１７と中間ベース１９との間には、スプリング２１が介
挿されている。そして、昇降ベース１７が上昇すると、
このスプリング２１によって中間ベース１９が引き上げ
られ、上昇するよう構成されている。また、中間ベース
１９にはストッパ２２が設けられており、図３ｂに示す
ように、このストッパ２２がベース１５に当接された位
置で中間ベース１９の上昇が制限され、この後、スプリ
ング２１が伸長し、リニアガイド２０に沿って昇降ベー
ス１７のみが上昇するよう構成されている。

【００２８】さらに、上記中間ベース１９には、水平方
向（ＬＣＤ基板８を押圧する方向）に沿って設けられた
リニアガイド２３を介して水平方向に移動自在とされた
位置決めベース２４が係止されている。また、この位置
決めベース２４は、リンク機構２５を介して昇降ベース
１７に接続されており、上述した図３ｂの位置からさら
に昇降ベース１７のみが上昇し、位置決めベース２４と
昇降ベース１７との間隔が狭まると、リンク機構２５の
作用によって、図３ｃに矢印で示すように、位置決めベ
ース２４が水平方向に移動するよう構成されている。

【００２９】なお、図２に示すように、位置決めベース
２４上には、リニアガイド２６およびスプリング２７を
介し、水平方向に移動自在に保持部１２が係止されてお
り、保持部１２がスプリング２７の弾性に応じて位置決
めベース２４に対して移動することにより、ＬＣＤ基板
８を押圧した際に、ＬＣＤ基板８に過大な力が加わらな
いよう構成されている。

【００３０】上記構成の本実施例の真空処理装置１で
は、まず、図１に示すように、ゲートバルブ４を開と
し、他のゲートバルブ５、６、７を閉とした状態で、搬
送アーム９をオートローダ３側に伸長させ、図示しない
移載機構等によってＬＣＤ基板８を搬送アーム９上に載
置する。

【００３１】次に、搬送アーム９を縮めてホームポジシ
ョンに戻すことにより、ＬＣＤ基板８をロードロック室
２内に搬入する。

【００３２】この後、ゲートバルブ４を閉じ、ロードロ
ック室２内を所定の真空度に設定するとともに、位置合
わせ部１１ａ、１１ｂにより、前述したようなＬＣＤ基
板８の位置決めを実施する。

【００３３】そして、ロードロック室２内が所定の真空
度に達すると、所定の真空処理室、例えば真空処理室Ａ
のゲートバルブ５を開として、この真空処理室Ａ側に搬
送アーム９を伸長させ、位置決めされたＬＣＤ基板８を
真空処理室Ａ内に搬入し、例えば真空処理室Ａ内に設け
られた受け渡し機構等によって、真空処理室Ａ内の所定
位置に載置する。なお、真空処理室Ａ内は、予め所定の
真空度に設定されている。

【００３４】しかる後、搬送アーム９を縮め、ゲートバ
ルブ５を閉として、真空処理室Ａの内部を所定の真空度
の所定ガス雰囲気として、ＬＣＤ基板８に所定の処理、
例えばエッチング処理あるいはアッシング処理等を施
す。

【００３５】そして、真空処理室Ａ内でのＬＣＤ基板８
の処理が終了すると、同様に搬送アーム９によって、真
空処理室Ａから搬出し、位置合わせ部１１ａ、１１ｂに
よって位置決めした後、次の真空処理室、例えば真空処
理室Ｂへ搬入、あるいは他の処理を施さない場合はオー
トローダ３へ搬出する。

【００３６】このように、本実施例の真空処理装置１で
は、ロードロック室２内に設けられた位置合わせ部１１
ａ、１１ｂによって、搬送アーム９上のＬＣＤ基板８を
位置決めした後、順次各真空処理室Ａ、Ｂ、Ｃあるいは
オートローダ３にＬＣＤ基板８を搬送するので、ＬＣＤ
基板８を確実に各部の所定位置に配置することができ
る。したがって、搬送中の破損を防止することができる
とともに、良好な処理を確実に行うことができる。

【００３７】次に、処理を行うＬＣＤ基板８の外形が異
なる場合、あるいはＬＣＤ基板８の縦と横を逆にして搬
送および処理を行う場合について説明する。

【００３８】上述した位置合わせ部１１ａ、１１ｂに設
けられたローラ１３は、着脱自在に構成されており、こ
のローラ１３の位置の変更あるいは交換し、搬送アーム
９によってＬＣＤ基板８を所定角度回転させることによ
ってＬＣＤ基板８の外形の相違に対処することができ
る。

【００３９】すなわち、例えば図４に示すように、位置
合わせ部１１ａ、１１ｂに大径のローラ１３ａと小径の
ローラ１３ｂをそれぞれ配置し、同図に示すような外形
のＬＣＤ基板８ａを、その長手方向が搬送方向と直行す
るよう支持した状態で位置決め可能な場合、このＬＣＤ
基板８ａを縦横逆にした状態で搬送すると、そのままで
は位置合わせ部１１ａ、１１ｂによる位置決めを行うこ
とができない。このような場合、図５に示すように、予
め、位置合わせ部１１ａ、１１ｂに図４の場合とは逆に
配列されるよう大径のローラ１３ａと小径のローラ１３
ｂをそれぞれ配置しておく。そして、搬送アーム９によ
って位置決め位置に搬送してきたＬＣＤ基板８ａを、Ｌ
ＣＤ基板８ａをその中心を軸として所定角度回転させ、
ＬＣＤ基板８ａの角部を位置合わせ部１１ａ、１１ｂ側
に向け、この状態で位置決めを行う。

【００４０】つまり、この場合、まず図６（ａ）に示す
ように、ＬＣＤ基板８ａの長手方向が搬送方向と一致す
るように搬送アーム９上に配置し、次に搬送アーム９を
収縮させて図６（ｂ）に示すように、位置合わせ部１１
ａ、１１ｂの間にＬＣＤ基板８ａを搬送する。そして、
ここでＬＣＤ基板８ａを回転させ、図６（ｃ）に示すよ
うに、ＬＣＤ基板８ａの角部を位置合わせ部１１ａ、１
１ｂ側に向け、この状態で位置合わせ部１１ａ、１１ｂ
を動作させてＬＣＤ基板８ａの角部を押圧し、図６
（ｄ）に示すように位置決めを行う。

【００４１】上記例では、ＬＣＤ基板８ａを縦横逆にし
た場合について説明したが、外形が相違する異なったＬ
ＣＤ基板８に対しても同様に、ローラ１３の位置の変更
およびサイズの異なるローラ１３への交換と、搬送アー
ム９の制御プログラムの変更により同様にして対処する
ことができる。これにより、ハードウェアの大幅な変更
を行うことなく、ＬＣＤ基板８のある程度の外形等の相
違に対応することができ、フレキシビィリティーの向上
を図ることができる。

【００４２】なお、上記実施例では、本発明を3 つの真
空処理室Ａ、Ｂ、Ｃを有するマルチチャンバ型の装置に
適用した実施例について説明したが、真空処理室を1 つ
のみ有するシングルチャンバ型の真空処理装置について
も同様に適用することができる。また、ＬＣＤ基板８の
処理を行う真空処理装置に限らず、他の基板例えば半導
体基板の処理を行う真空処理装置等にも同様にして適用
することができる。

【００４３】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
被処理基板を確実に真空処理室内の所定位置に配置する
ことができ、搬送中の破損を防止することができるとと
もに、良好な処理を確実に行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例に係る真空処理装置の概略構
成を示す図。

【図２】図１の真空処理装置の位置合わせ部の構成を示
す図。

【図３】図１の真空処理装置の位置合わせ部の動作を説
明するための図。

【図４】図１の真空処理装置の位置合わせ部の動作を説
明するための図。

【図５】図１の真空処理装置の位置合わせ部の動作を説
明するための図。

【図６】図１の真空処理装置の位置合わせ部の動作を説
明するための図。

【符号の説明】

１……真空処理装置、２……ロードロック室、３……オ
ートローダ、４，５，６，７……ゲートバルブ、８……
ＬＣＤ基板、９……搬送アーム、１０……回転軸、１１
ａ，１１ｂ……位置合わせ部。

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板をロード・アンロードするロードロ
   ック室内に設けられた回転軸の回りに回転可能で、前記
   基板を前記回転軸の上方に移動可能な、前記基板を搬送
   するための基板搬送部と、 前記基板を保持する保持部と前記基板を押圧する押圧部
   とを有する複数の位置合わせ部であって、前記ロードロ
   ック室内の前記回転軸を挟む位置に設けられた位置合わ
   せ部と、 前記位置合わせ部を上下動可能とする昇降手段と、 前記押圧部を水平方向に移動させて前記保持部に載置さ
   れた前記基板の対角部を押圧するための水平移動手段
   と、 を有することを特徴とするロードロック室内の位置合わ
   せ機構。
2. 【請求項２】 請求項１記載のロードロック室内の位置
   合わせ機構において、 前記押圧部が、２つのローラにより前記基板の対角部を
   押圧するよう構成されたことを特徴とするロードロック
   室内の位置合わせ機構。
3. 【請求項３】 請求項２記載のロードロック室内の位置
   合わせ機構において、 前記２つのローラは、大径のローラと、小径のローラと
   で構成されることを特徴とするロードロック室内の位置
   合わせ機構。
4. 【請求項４】 請求項１乃至３いずれか１項記載のロー
   ドロック室内の位置合わせ機構において、 前記昇降手段による上下方向の駆動力を、前記水平移動
   手段における水平方向の駆動力に変換するリンク機構を
   具備したことを特徴とするロードロック室内の位置合わ
   せ機構。
5. 【請求項５】 基板に所定の処理を施す真空処理室と、 前記真空処理室内に前記基板をロード・アンロードする
   ためのロードロック室と、 前記ロードロック室内に設けられた回転軸の回りに回転
   可能で、基板を前記回転軸の上方に移動可能な、基板を
   搬送するための基板搬送部と、 基板を保持する保持部と基板を押圧する押圧部とを有す
   る複数の位置合わせ部であって、前記ロードロック室内
   の前記回転軸を挟む位置に設けられた位置合わせ部と、 前記位置合わせ部を上下動可能とする昇降手段と、 前記押圧部を水平方向に移動させて前記保持部に載置さ
   れた基板の対角部を押圧するための水平移動手段と、 を有することを特徴とする処理装置。
6. 【請求項６】 請求項５記載の処理装置において、 前記押圧部が、２つのローラにより前記基板の対角部を
   押圧するよう構成されたことを特徴とする処理装置。
7. 【請求項７】 請求項６記載の処理装置において、 前記２つのローラは、大径のローラと、小径のローラと
   で構成されることを特徴とする処理装置。
8. 【請求項８】 請求項５乃至７いずれか１項記載の処理
   装置において、 前記昇降手段による上下方向の駆動力を、前記水平移動
   手段における水平方向の駆動力に変換するリンク機構を
   具備したことを特徴とする処理装置。
9. 【請求項９】 基板をロード・アンロードするロードロ
   ック室内に設けられた回転軸の回りに回転可能で、前記
   基板を前記回転軸の上方に移動可能な、前記基板を搬送
   するための基板搬送部と、 前記基板を保持する保持部と前記基板を押圧する押圧部
   とを有する複数の位置合わせ部であって、前記ロードロ
   ック室内の前記回転軸を挟む位置に設けられた位置合わ
   せ部と、 前記位置合わせ部を上下動可能とする昇降手段と、 前記押圧部を水平方向に移動させて前記保持部に載置さ
   れた前記基板の対角部を押圧するための水平移動手段
   と、を有するロードロック室内の位置合わせ機構による
   位置合わせ方法であって、 前記基板搬送部で前記回転軸上に前記基板を搬送する工
   程と、 前記位置合わせ部を上昇させて前記保持部に前記基板を
   載置する工程と、 前記押圧部で前記基板の対角部を押圧する工程と、 前記位置合わせ部を下降させて前記保持部から前記基板
   搬送部に前記基板を載置する工程と、 を有することを特徴とする位置合わせ方法。
10. 【請求項１０】 基板に所定の処理を施す真空処理室
    と、 基板をロード・アンロードするロードロック室内に設け
    られた回転軸の回りに回転可能で、前記基板を前記回転
    軸の上方に移動可能な、前記基板を搬送するための基板
    搬送部と、 前記基板を保持する保持部と前記基板を押圧する押圧部
    とを有する複数の位置合わせ部であって、前記ロードロ
    ック室内の前記回転軸を挟む位置に設けられた位置合わ
    せ部と、 前記位置合わせ部を上下動可能とする昇降手段と、 前記押圧部を水平方向に移動させて前記保持部に載置さ
    れた前記基板の対角部を押圧するための水平移動手段
    と、を有する装置における搬送方法であって、 前記基板搬送部で前記回転軸上に前記基板を搬送する工
    程と、 前記位置合わせ部を上昇させて前記保持部に前記基板を
    載置する工程と、 前記押圧部で前記基板の対角部を押圧する工程と、 前記位置合わせ部を下降させて前記保持部から前記基板
    搬送部に前記基板を載置する工程と、 前記基板搬送部によって、前記基板を真空処理室に搬送
    する工程と、 を有することを特徴とする搬送方法。
11. 【請求項１１】 請求項１０記載の搬送方法において、 前記押圧部が、２つのローラにより前記基板の対角部を
    押圧するよう構成されたことを特徴とする搬送方法。
12. 【請求項１２】 請求項１１記載の搬送方法において、 前記２つのローラは、大径のローラと、小径のローラと
    で構成されることを特徴とする位置合わせ方法。
13. 【請求項１３】 請求項１０又は１１項記載の搬送方法
    において、 前記昇降手段による上下方向の駆動力を、前記水平移動
    手段における水平方向の駆動力に変換するリンク機構を
    具備したことを特徴とする搬送方法。