JP4533462B2

JP4533462B2 - 処理方法

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Publication number: JP4533462B2
Application number: JP09558699A
Authority: JP
Inventors: 勤広木
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 1998-04-04
Filing date: 1999-04-01
Publication date: 2010-09-01
Anticipated expiration: 2019-04-01
Also published as: JPH11345859A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、処理方法に関し、更に詳しくは、液晶表示体用基板（以下、「ＬＣＤ用基板」と称す。）や半導体ウエハ等の被処理体に対してエッチングや成膜等の処理を施す処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来のこの種の処理装置としては、例えば、マルチチャンバー処理装置が広く用いられている。マルチチャンバー処理装置は、例えば、減圧下で被処理体（例えば、ＬＣＤ用基板）にそれぞれ同種または異種の処理を施す複数（例えば、３室）の処理室と、これらの処理室に接続された搬送室と、この搬送室に処理室と同様に接続されたロードロック室と、このロードロック室と載置機構に配置されたキャリアとの間でＬＣＤ用基板を遣取りする搬送機構とを備えている。
【０００３】
ＬＣＤ用基板に所定の処理を施す場合には、搬送機構の多関節型搬送アームを屈伸して載置機構に配置されたキャリアからＬＣＤ用基板を一枚ずつ取り出した後、搬送機構がキャリアから処理室側まで移動しロードロック室と対峙する。次いで、ロードロック室の搬出入口のゲートバルブが開き、大気圧化で搬送アームを介してＬＣＤ用基板をロードロック室内へ搬入し搬送アームがロードロック室から退避した後、ゲートバルブを閉じてロードロック室内を密閉する。その後、ロードロック室内の空気を例えば窒素ガス等の不活性ガスで置換すると共に、ロードロック室内の不活性ガスを排気し、ロードロック室内を搬送室内と同程度の減圧状態にする。次いで、搬送室側のゲートバルブが開き、ロードロック室と搬送室が連通した後、搬送室内の搬送アームが駆動し、搬送アームを介してロードロック室内のＬＣＤ用基板を搬送室内へ搬入しゲートバルブを閉じる。搬送室がロードロック室から遮断されると、処理室側のゲートバルブが開き、搬送アームを介して処理室内へＬＣＤ用基板を搬入した後、処理室から搬送アームが退避すると共にゲートバルブが閉じ、処理室と搬送室を遮断し、処理室内でエッチングや成膜等の処理を開始する。処理室内でＬＣＤ用基板の処理が終了すると、搬送室内の搬送アーム及び搬送機構を介して上述した場合とは逆の経路を辿って処理室からキャリア内の元の場所へ処理後のＬＣＤ用基板を戻す。尚、引き続きＬＣＤ用基板に対して別の処理を施す場合には搬送室内の搬送アームを介して次に処理すべき処理室へ処理後のＬＣＤ用基板を搬入し、その処理を施した後、キャリア内の元の場所へ処理後のＬＣＤ用基板を戻す。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の処理装置の場合には、ロードロック室及び搬送室を介して大気圧から処理室内の圧力まで段階的に減圧して処理室内へＬＣＤ用基板等の被処理体を搬入するようにしているため、大気圧下と減圧下の二段階の搬送機構が必要で装置の構成要素が多くフットプリントが大きくなってコスト高になり、しかも搬送工程も大気圧下の搬送工程と減圧下の搬送工程があり、被処理体の受け渡しに要する時間が長くなるという課題があった。
【０００５】
本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、被処理体の搬送工程を簡素化してスループットを高めることができ、また、大気圧下で搬送機構のロードロック室を用いてキャリアと処理室の間で被処理体を搬送する時でもロードロック室内の環境を常に清浄に保持することができ、搬送過程で被処理体を汚染する虞のない処理方法を提供することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項１に記載の処理方法は、ロードロック室がその背面に設けられた送風ファンとフィルタにより上記ロードロック室の外部の空気を清浄化し、清浄化した空気で上記ロードロック室の内部の空気を換気しながらキャリアまで移動する工程と、上記ロードロック室内を上記送風ファンとフィルタにより清浄化した空気で換気しながらその内部の搬送アームを介してキャリア内の被処理体を取り出す工程と、上記ロードロック室が上記送風ファンとフィルタにより上記ロードロック室の外部の空気を清浄化し、清浄化した空気で上記ロードロック室の内部の空気を換気しながら上記キャリアから処理室まで移動する工程と、上記ロードロック室と上記処理室とを接続する工程と、上記ロードロック室内の換気を止めてその内部を減圧する工程と、上記ロードロック室と上記処理室を連通し、上記搬送アームを介して上記ロードロック室と上記処理室との間で上記被処理体を遣取りする工程と、を有することを特徴とするものである。
【０００８】
また、本発明の請求項２に記載の処理方法は、請求項１に記載の発明において、上記ロードロック室の搬出入口を、上記キャリア側と上記処理室側の間で旋回させる工程を有することを特徴とするものである。
【０００９】
また、本発明の請求項３に記載の処理方法は、請求項１または請求項２に記載の発明において、上記ロードロック室の搬出入口の高さを上記キャリア内の被処理体の高さに合わせて昇降させる工程と、上記ロードロック室の搬出入口を上記処理室の接続位置に合わせて昇降させる工程と、を有するものである。
【００１０】
また、本発明の請求項４に記載の処理方法は、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の発明において、上記ロードロック室を一方向で移動させる工程を有することを特徴とするものである。
【００１１】
また、本発明の請求項５に記載の処理方法は、請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の発明において、上記処理室と上記ロードロック室との接続をロックする工程を有することを特徴とするものである。
【００１２】
また、本発明の請求項６に記載の処理方法は、請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の発明において、上記処理室と接続した上記ロードロック室内を減圧する工程を有することを特徴とするものである。
【００１３】
また、本発明の請求項７に記載の処理方法は、請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の発明において、上記ロードロック室をフローティング状態で上記処理室と接続する工程を有することを特徴とするものである。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、図１〜図１５に示す実施形態に基づいて本発明を説明する。
本実施形態の処理装置は、例えば、図１に示すように、所定の減圧下で被処理体（例えば、ＬＣＤ用基板）１に所定の処理（例えば、エッチング処理、成膜処理等）を施す２室の処理室２を有する処理ユニット３と、この処理ユニット３で処理するＬＣＤ用基板１が例えば２５枚収納されたキャリアＣを載置する３台の載置ユニット４と、これら両者３、４間に配設され且つＬＣＤ用基板１を搬送する搬送ユニット５とを備え、搬送ユニット５を介してキャリアＣ内のＬＣＤ用基板を一枚ずつ取り出し、各処理室２内へＬＣＤ用基板１を搬入し、その内部で所定の処理を施し、処理後には逆の経路を辿って処理室２からキャリアＣ内の元の場所へ戻すようにしてある。
【００１７】
而して、上記処理室２の正面にはゲートバルブユニット６及び接続ユニット７が互いに気密を保持した状態で重ねて取り付けられ、接続ユニット７を介して処理室２と搬送ユニット５を直接接続するようにしてある。処理室２の上部には開閉自在な蓋体８が取り付けられ、例えばメンテナンス時等に図１の矢印で示すように蓋体８を一点鎖線で示す位置まで開き、処理室２を開放するようにしてある。処理ユニット３内には処理室２の下部に配置された真空ポンプ９が配設され、この真空ポンプ９により処理室２内を減圧し、所定の真空度を維持するようにしてある。また、載置ユニット４及び搬送ユニット５はいずれも例えば基台１０上に配置されている。尚、載置ユニット４は昇降機構（図示せず）を内蔵したものであってもキャリアＣの高さ等を調整する調整機構を内蔵したものであっても良い。
【００１８】
上記搬送ユニット５は、図１、図２に示すように、ＬＣＤ用基板１を搬送する多関節型の搬送アーム１１と、この搬送アーム１１が収納された略矩形状のロードロック室１２と、このロードロック室１２を処理室２と載置ユニット４間で移動させる駆動ユニット１３と、この駆動ユニット１３が処理室２及び載置ユニット４の間で移動案内する一対のガイドレール１４とを備えている。駆動ユニット１３は、例えば、ロードロック室１２を旋回させるモータ（図示せず）を主体にした旋回駆動機構１５と、この旋回駆動機構１５を昇降させるラックアンドピニオンを主体にした昇降駆動機構１６とを備え、旋回駆動機構１５によりロードロック室１２を処理室２と載置ユニット４との間で例えば１８０°旋回させ、また、昇降駆動機構１６を介してロードロック室１２をキャリアＣ内の任意のＬＣＤ用基板１及び処理室２のゲートバルブユニット６それぞれの高さに合わせて昇降させるようにしてある。ロードロック室１２は、図１、図２に示すように、旋回駆動機構１５を構成する基板１５Ａ上に配設され、この基板１５Ａを介して旋回するようにしてある。
【００１９】
上記ロードロック室１２と基板１５Ａとの関係を図示したものが図３である。そこで、ロードロック室１２について図１、図２をも参照しながら詳述する。即ち、多関節型の搬送アーム１１は、モータ１１Ａと、このモータ１１Ａと回転軸１１Ｂを介して連結された第１アーム１１Ｃと、第１アーム１１Ｃと第２アーム１１Ｄを介して連結され且つＬＣＤ用基板１を支持するフォーク型のハンド１１Ｅとを備え、それぞれの連結部が関節として構成されている。従って、搬送アーム１１は、モータ１１Ａの駆動により第１、第２アーム１１Ｃ、１１Ｄ及びハンド１１Ｅを屈伸し、ハンド１１Ｅをロードロック室１２の搬出入口１２Ａから出し入れし、ＬＣＤ用基板１をキャリアＣ及び処理室２との間で遣取りするようにしてある。また、回転軸１１Ｂは、ボールベアリング等の摺動部材を介して筒状部材１１Ｆ内に磁気シールされた状態で収納されている。そして、この筒状部材１１Ｆはロードロック室１２内からその下面の貫通孔を垂下している。この貫通孔は、筒状部材１１Ｆの外径より大径に形成され、リング状の突起１２Ｂによって補強されている。更に、筒状部材１１Ｆは上下両端がそれぞれ第１アーム１１Ｃとリング状突起１２Ｂに連結されたベローズ１７によって囲まれ、ロードロック室１２の内側と外側を遮断し、ロードロック室１２が処理室２と接続された時にロードロック室１２内の気密を保持するようにしてある。
【００２０】
また、上記ロードロック室１２は、図３に示すように基板１５Ａ上に配設された一対のガイドレール１８に従って往復移動し、ＬＣＤ用基板１を搬送する際に基板１５Ａ上でキャリアＣまたは処理室２に対して進退動できるようにしてある。即ち、ロードロック室１２の下面には支持機構１９を介して各ガイドレール１８それぞれの前後で係合する係合部材２０が取り付けられている。この支持機構１９は、例えば、ガイドレール１８と対向させてロードロック室１２の下面に固定された４個の固定ブロック１９Ａと、これらの固定ブロック１９Ａに山型の板バネ１９Ｂを介して連結された支持体１９Ｃとを備えている。また、この支持機構１９は、支持体１９Ｃに固定された筒状部材１１Ｆを介して搬送アーム１１を支持している。従って、ロードロック室１２は板バネ１９Ｂを介してガイドレール１８に対して弾力的に係合し、ロードロック室１２が処理室２と接合する時に両者間の位置ズレを板バネ１９Ｂによって吸収し、搬送アーム１１は支持機構１９で支持された状態で駆動するようにしてある。
【００２１】
上記ロードロック室１２は、図１に示すように、基板１５Ａ上に配設された一対のエアシリンダ２１を介して各ガイドレール１８に従って往復移動するようになっている。即ち、一対のエアシリンダ２１は、一対のガイドレール１８の外側でこれと平行させて基板１５Ａ上に固定されている。そして、エアシリンダ２１のロッド２１Ａの先端がロードロック室１２の両側面に固定された連結部材１２Ｃに連結されている。また、図３に示すように基板１５Ａには搬送アーム１１の筒状部材１１Ｆが貫通する長孔１５Ｂが形成され、この長孔１５Ｂ内で筒状部材１１Ｆが移動するようになっている。従って、搬送ユニット５とキャリアＣまたは処理室２との間でＬＣＤ用基板１を遣取りする時には、ロードロック室１２がエアシリンダ２１を介してガイドレール１８に従って基板１５Ａ上で往復移動するようにしてある。尚、図２ではエアシリンダ２１を図示してない。
【００２２】
ところで、上記ロードロック室１２はＬＣＤ用基板１を遣取りする時にはクリーンルーム内で開放された状態になっているため、装置廻りの空気がロードロック室１２内に侵入し、装置廻りで発生したパーティクルにより内部が汚染される虞がある。図４、図５に示すロードロック室１２０はこのような汚染から防止するために、ロードロック室１２０が大気に開放されている時には換気機構を用いて内部を常に正圧状態を保持して装置廻りの空気がロードロック室１２０内に侵入しないようにしてある。その他の点では上記ロードロック室１２に準じて構成されている。
【００２３】
即ち、図４、図５に示すロードロック室１２０の背面には換気機構１２１が取り付けられている。この換気機構１２１は、図４、図５に示すように、例えばゲートバルブユニット１２２、ＨＥＰＡフィルタ１２３及び送風ファン１２４を備え、この順序で背面側から外側へ順次配設されている。従って、ロードロック室１２０がキャリアＣと処理室２との間でＬＣＤ用基板１を遣取りする時には、ゲートバルブユニット１２２及び送風ファン１２４が駆動し、ゲートバルブ１２２Ａがロードロック室１２０の背面に形成された開口部１２０Ｃを開放すると共に送風ファン１２４からクリーンルーム内の空気がロードロック室１２０内に送風され、搬出入口１２０Ａから流出しロードロック室１２０内を常に正圧状態に保持し、装置廻りの空気がロードロック室１２０内に侵入しないようになっている。ロードロック室１２０内を流れる空気はＨＥＰＡフィルタ１２３を介して空気中に含まれている装置廻りで発生したパーティクルが除去されて清浄になっており、ＬＣＤ用基板１を汚染する虞がない。
【００２４】
図６に示すロードロック室１２０’は搬送アームとしてフロッグレッグタイプでダブルアームの搬送アーム１１’を使用した以外は図４及び図５に示すロードロック室１２０に準じて構成されている。即ち、このロードロック室１２０’は、換気機構１２１’としてゲートバルブユニット１２２’、ＨＥＰＡフィルタ１２３’及び送風ファン１２４’を備え、ロードロック室１２０’内を清浄な空気で常に正圧に保持し、装置廻りの空気が侵入しないようになっている。このようにダブルアームを採用することでＬＣＤ用基板１の搬出入効率を高めることができる。
【００２５】
また、上記ロードロック室１２と処理室２との間でＬＣＤ用基板１を遣取りする時には、図１、図７に示すように処理室２のゲートバルブユニット６とロードロック室１２とを接続ユニット７を介して接続し、ロードロック室１２内を処理室２内の真空度に合わせて真空引きするようにしてある。尚、図７では説明の都合上搬送ユニット５のロードロック室１２のみを図示してある。
【００２６】
即ち、上記ゲートバルブユニット６は、図８、図９に示すように、処理室２の搬出入口を昇降して開閉するゲートバルブ６Ａと、このゲートバルブ６Ａが取り付けられた枠体６Ｂとを備えている。枠体６Ｂの両面にはそれぞれＯリング等からなるシール部材６Ｃが装着され、これらのシール部材６Ｃによりゲートバルブユニット６と処理室２及び接続ユニット７との間の気密を保持するようにしてある。更に、図８に示すようにゲートバルブ６Ａの上端及び下端にはシール部材６Ｄが装着され、これらのシール部材６Ｄによりゲートバルブ６Ａと処理室２間の気密を保持するようにしてある。枠体６Ｂの上部には例えば窒素ガスの等の不活性ガスを導入する導入管６Ｅが取り付けられ、その下部には排気管６Ｆが取り付けられている。そして、図８の矢印で示すように導入管６Ｅから不活性ガスを導入すると共に排気管６Ｆから排気し、処理室２に対してロードロック室１２が接続された時にロードロック室１２内の空気を不活性ガスと置換した後、その内部を所定の真空度に達するまで排気するようにしてある。
【００２７】
上記接続ユニット７は、図７の（ａ）、図８に示すように、ゲートバルブユニット６に対して気密状態で接合されている。この接続ユニット７は、上記枠体６Ｂに接合された枠体７Ａと、この枠体７Ａの両側に取り付けられた一対のロック機構７Ｂとを備え、ロック機構７Ｂを介して接続ユニット７に接合したロードロック室１２をロックしてロードロック室１２を処理室２側に接続するようにしてある。各ロック機構７Ｂは、例えば図７の（ａ）、（ｂ）、図１０に示すように、枠体７Ａ正面の両側に固定された左右のガイドレール７Ｃと、これらのガイドレール７Ｃとそれぞれ係合し且つロードロック室１２の搬出入口の左右に形成されたフランジ１２Ｄとそれぞれ係合する左右の係合部材７Ｄと、これらの係合部材７Ｄにそれぞれ連結され且つ係合部材７Ｄをガイドレール７Ｃに従ってそれぞれ昇降させる左右の第１エアシリンダ７Ｅと、上記各係合部材７Ｄにそれぞれ取り付けられ且つこれと係合したロードロック室１２のフランジ１１Ｄをそれぞれ均等に押圧してロードロック室１２を枠体７Ａに対して密着させる第２エアシリンダ７Ｆとを備えている。従って、ロードロック室１２が図７の（ａ）に示すように処理室２側に接合されると、ロック機構７Ｂが駆動し、ロードロック室１２が接続ユニット７の枠体７Ａと密着するようにしてある。また、図７の（ｂ）に示すようにロードロック室１２の背後には例えばバネ２２が装着され、このバネ２２を介してロードロック室１２を処理室２側に弾接させ、ロック機構７Ｂが円滑に機能するようにしても良い。尚、図８において７ＧはＯリング等からなるシール部材である。
【００２８】
また、本発明では上記ロック機構７Ｂに代えて図１１の（ａ）、（ｂ）に示すロック機構２３を取り付けても良い。このロック機構２３は、同図に示すように、正逆方向に回転するクランプ２３Ａと、このクランプ２３Ａを進退動作せるエアシリンダ２３Ｂとを備え、枠体７Ａの周面に取り付けられている。一方、ロードロック室１２には搬出入口の全周にフランジ１１Ｅが形成され、このフランジ１１Ｅを介してロードロック室１２を処理室２に対してロックするようにしてある。
【００２９】
また、本発明では図１２、図１３に示すようにロードロック室をフローティング構造にすることで、ロードロック室と処理室との位置合わせをより円滑に行えるようにしても良い。このロードロック室５１は、各図に示すように、フローティング機構５２によって支持されている。このフローティング機構５２は、側面形状がＬ字状に形成された基板５２Ａと、この基板５２Ａに配置されてロードロック室５１を弾力的に支持する第１、第２、第３バネ５２Ｂ、５２Ｃ、５２Ｄとを備えている。第１バネ５２Ｂはロードロック室５１の両側の前後にそれぞれ立設された支持柱５２Ｅとロードロック室５１の上面から側方へ延設されたフランジ５１Ａの間に弾装され、第２バネ５２Ｃは基台５２の垂直壁面とロードロック室５１の背面の間に弾装され、更に第３バネ５２Ｄはロードロック室５１の下面と基板５２Ａの間に弾装されている。そして、ロードロック室５１の基板５２Ａに前記支持機構１９が取り付けられている。従って、ロードロック室５１を処理室２と接続する時には、第１、第２、第３バネ５２Ｂ、５２Ｃ、５２Ｄ介して図１２の矢印で示すようにロードロック室５１が全方向に僅かに変動し、ロードロック室５１と処理室２間の位置ズレを吸収し、ロードロック室５１と処理室２が衝撃なく円滑に接続する。尚、図１３において、５０は多関節型搬送アーム、５３はベローズで、これらは前述したものと同様に構成されている。
【００３０】
次に、本実施形態の処理装置を用いた本発明の処理方法について図１４を参照しながら説明する。まず、キャリアＣからＬＣＤ用基板１を取り出す時には、搬送ユニット５が基台１０上のガイドレール１４に従って載置機構４上の所定のキャリアＣまで移動した後、図１４の（ａ）に示すように旋回駆動機構１５を介してロードロック室１２の搬出入口１２ＡをキャリアＣと対峙させる。次いで、昇降駆動機構１６を介してロードロック室１２が昇降し、搬送アーム１１のハンド１１Ｅの高さを取り出すべきＬＣＤ用基板１の高さに合わせる。
【００３１】
この状態でエアシリンダ２１が駆動してロードロック室１２がガイドレール１８に従って移動し、同図の（ｂ）に示すようにロードロック室１２がキャリアＣへ接近して停止する。引き続きモータ１１Ａが例えば正回転し、第１、第２アーム１１Ｃ、１１Ｄ及びハンド１１Ｅが回転軸１１Ｂを介して伸び、ハンド１１ＥがキャリアＣ内へ進入する。次いで、ロードロック室１２が昇降駆動機構１６を介して僅かに昇降し、キャリアＣ内のＬＣＤ用基板１をハンド１１Ｅ上に載置する。
【００３２】
次いで、搬送アーム１１のモータ１１Ａが逆回転し、同図に（ｃ）に示すように第１、第２アーム１１Ｃ、１１Ｄ及びハンド１１Ｅが回転軸１１Ｂを介してキャリアＣからロードロック室１２内へＬＣＤ用基板１を持ち込む。その後、エアシリンダ２１が駆動してロードロック室１２がガイドレール１８に従って移動し、ロードロック室１２がキャリアＣから離れて元の位置へ戻る。
【００３３】
その後、同図の（ｄ）に示すようにロードロック室１２が旋回駆動機構１５及び昇降駆動機構１６を介して１８０°回転すると共に昇降して搬出入口１２Ａの接続ユニット７の高さに合わせた状態で停止する。次いで、エアシリンダ２１が駆動し、同図の（ｅ）に示すようにロードロック室１２が処理室２へ接近すると、搬出入口１２Ａが処理室２側の接続ユニット７の枠体７Ａと接触する。これと同時に接続ユニット７のロック機構７Ｂの第１エアシリンダ７Ｅが駆動し、係合部材７Ｄがガイドレール７Ｃに従って上昇してロードロック室１２のフランジ１１Ｅと係合すると同時に第２エアシリンダ７Ｆが駆動してロードロック室１２を接続ユニット７の枠体７Ａに密着させる。
【００３４】
この時、図１２、図１３に示すようにロードロック室５１がフローティング構造になっていると、ロードロック室５１は何等の衝撃を伴うことなく接続ユニット７と接触し、しかも接続ユニット７に対して多少の位置ズレがあってもフローティング機構５２によってズレを吸収し、ロードロック室５１と接続ユニット７をロック機構７Ｂを介して円滑に接続することができる。
【００３５】
引き続き、ゲートバルブユニット６の導入管６Ｅから不活性ガス（例えば窒素ガス）を導入すると共に排気管６Ｆからロードロック室１２内の空気を排気し、内部の空気を窒素ガスと置換すると共にロードロック室１２内を処理室２内の真空度に近い状態まで真空引きする。
【００３６】
ロードロック室１２内が所定の真空度に達した後、ゲートバルブ６Ａが開き、ロードロック室１２内で搬送アーム１１のモータ１１Ａが正回転し、同図の（ｆ）に示すように第１、第２アーム１１Ｃ、１１Ｄ及びハンド１１Ｅが回転軸１１Ｂを介して伸びてハンド１１Ｅが処理室２内へ進入し、ハンド１１Ｅ上のＬＣＤ用基板１を処理室２内の載置台２Ａへ引き渡す。この際、処理済みのＬＣＤ用基板１が載置台２Ａ上に存在すれば、ハンド１１Ｅで処理済みのＬＣＤ用基板１を受け取り、処理室２からロードロック室１２内に持ち込む。引き続き、処理室２内へＬＣＤ用基板１を搬入した場合とは逆の手順で処理済みのＬＣＤ用基板１をキャリアＣ内の元の場所へ戻す。
【００３７】
また、図４〜図６に示すロードロック室１２０、１２０’を使用する場合には、ロードロック室１２０、１２０’を介してキャリアＣと処理室２との間でＬＣＤ用基板１を遣取りする時には、換気機構１２１、１２１’が駆動してロードロック室１２０、１２０’内に外気を清浄化しながら送風し、その内部を清浄な空気で常に正圧に保持し、装置廻りの空気が内部に侵入しないようにしてＬＣＤ用基板１をパーティクルの汚染から防止する。即ち、換気機構１２１、１２１’が駆動すると、送風ファン１２４、１２４’が始動すると共に、ゲートバルブ１２２Ａ、１２２’Ａが駆動してロードロック室１２０、１２０’の開口部１２０Ｃ、１２０’Ｃを開放し、外部の空気がＨＥＰＡフィルタ１２３、１２３’で清浄化された後、ロードロック室１２０、１２０’の開口部１２０Ｃ、１２０’Ｃから内部へ流入し搬出入口１２０Ａ、１２０’Ａから流出する。これによりロードロック室１２０、１２０’内に装置廻りの空気が侵入せず、内部を常に清浄な環境にする。そして、ロードロック室１２０、１２０’が処理室２と接続された時点で換気機構１２１、１２１’が停止し、ロードロック室１２０、１２０’内の気密を保持する。その後の工程は上述した通りである。また、処理室２から処理後のＬＣＤ用基板１を戻す時にも換気機構１２１、１２１’が働き、ロードロック室１２０、１２０’内に装置廻りの空気が直接侵入しないようにする。
【００３８】
以上説明したように本実施形態によれば、従来の大気下の搬送機構、ロードロック室及び真空下で搬送する搬送室を搬送ユニット５として纏めて簡素化して処理装置をコンパクト化したため、処理装置全体のフットプリントを格段に削減することができ、格段のコスト低減を実現することができる。しかも、ＬＣＤ用基板１の搬送プロセスも極めて簡素化しているため、ＬＣＤ用基板１のスループットを格段に高めることができる。
【００３９】
また、本実施形態によれば、ロードロック室１２０、１２０’に換気機構１２１、１２１’を設けたため、大気圧下でＬＣＤ用基板１を遣取りする時には、ロードロック室１２０、１２０’内で常に清浄な環境が保持され、ＬＣＤ用基板１のパーティクルによる汚染を確実に防止することができる。
【００４０】
尚、本発明は上記実施形態に何等制限されるものではなく、必要に応じて各構成要素を適宜設計変更することができる。例えば、上記実施形態では、二室の処理室２と一台の搬送ユニット５を備えた処理装置について説明したが、例えば図１５に示すように、３台の処理ユニット３と２台の搬送ユニット５を備えた処理装置であっても良く、また、処理室２と搬送ユニット５が一対一対応の処理装置であっても良い。また、上記実施形態ではＬＣＤ用基板１の処理装置について説明したが、半導体ウエハ等の他の処理装置について適用することができる。要は、従来の大気下の搬送機構、ロードロック室及び真空下で搬送する搬送室を、搬送ユニット５として纏めたものであれば、全て本発明に包含される。
【００４１】
【発明の効果】
本発明によれば、被処理体の搬送工程を簡素化してスループットを高めることができ、また、大気圧下で搬送機構のロードロック室を用いてキャリアと処理室の間で被処理体を搬送する時でもロードロック室の外部の空気を清浄化し、清浄化した空気でロードロック室内の空気を換気してロードロック室内の環境を常に清浄に保持することができ、搬送過程で被処理体を汚染する虞のない処理方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の処理装置の一実施形態を示す斜視図である。
【図２】図１に示す処理装置の載置機構及び搬送ユニットを示す斜視図である。
【図３】図２に示す搬送ユニットのロードロック室を示す断面図である。
【図４】図３に示すロードロック室とは別のタイプのロードロック室の要部を示す斜視図である。
【図５】図４に示すロードロック室の要部を示す断面図である。
【図６】図３に示すロードロック室とは更に別のタイプのロードロック室の要部を示す斜視図である。
【図７】図３に示すロードロック室が処理室に接続された状態を示す図で、（ａ）はその斜視図、（ｂ）は（ａ）の一部を示す断面図である。
【図８】図７の（ａ）に示す処理室のゲートバルブユニット及び接続ユニットを示す断面図である。
【図９】図８に示すゲートバルブユニットを示す斜視図である。
【図１０】図７（ａ）に示す接続ユニットのロック機構を示す斜視図である。
【図１１】図１０に示すロック機構とは別のタイプのロック機構を示す図で、（ａ）は処理室とロードロック室とが接続する直前の状態を示す斜視図、（ｂ）は（ａ）のロック機構によってロードロック室を処理室に接続した状態を示す斜視図である。
【図１２】フローティングタイプのロードロック室を示す斜視図である。
【図１３】図１２に示すロードロック室と処理室とを接続する直前の状態の要部断面図である。
【図１４】（ａ）〜（ｆ）は本発明の処理方法の一実施形態の搬送工程を説明するための説明図である。
【図１５】図１に示す処理装置とは別のタイプの処理装置の一例を示す平面図である。
【符号の説明】
１ＬＣＤ用基板（被処理体）
２処理室
４載置ユニット（載置機構）
５搬送ユニット（搬送機構）
６Ｆ排気管（排気手段）
７Ｂロック機構
１１搬送アーム
１２、１２０、１２０’ロードロック室
１３駆動ユニット（駆動機構）
１５旋回駆動機構
１６昇降駆動機構
１８ガイドレール（移動機構）
２１エアシリンダ（移動機構）
１２１、１２１換気機構

Claims

ロードロック室がその背面に設けられた送風ファンとフィルタにより上記ロードロック室の外部の空気を清浄化し、清浄化した空気で上記ロードロック室の内部の空気を換気しながらキャリアまで移動する工程と、上記ロードロック室内を上記送風ファンとフィルタにより清浄化した空気で換気しながらその内部の搬送アームを介してキャリア内の被処理体を取り出す工程と、上記ロードロック室が上記送風ファンとフィルタにより上記ロードロック室の外部の空気を清浄化し、清浄化した空気で上記ロードロック室の内部の空気を換気しながら上記キャリアから処理室まで移動する工程と、上記ロードロック室と上記処理室とを接続する工程と、上記ロードロック室内の換気を止めてその内部を減圧する工程と、上記ロードロック室と上記処理室を連通し、上記搬送アームを介して上記ロードロック室と上記処理室との間で上記被処理体を遣取りする工程と、を有することを特徴とする処理方法。
上記ロードロック室の搬出入口を、上記キャリア側と上記処理室側の間で旋回させる工程を有することを特徴とする請求項１に記載の処理方法。
上記ロードロック室の搬出入口の高さを上記キャリア内の被処理体の高さに合わせて昇降させる工程と、上記ロードロック室の搬出入口を上記処理室の接続位置に合わせて昇降させる工程と、を有することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の処理方法。
上記ロードロック室を一方向で移動させる工程を有することを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の処理方法。
上記処理室と上記ロードロック室との接続をロックする工程を有することを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の処理方法。
上記処理室と接続した上記ロードロック室内を減圧する工程を有することを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の処理方法。
上記ロードロック室をフローティング状態で上記処理室と接続する工程を有することを特徴とする請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の処理方法。