CN1768900A - 用于湿度控制的可固化厚膜糊浆组合物 - Google Patents

用于湿度控制的可固化厚膜糊浆组合物 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种厚膜除气剂组合物，该组合物包含：(a)干燥剂材料和(b)有机介质，所述干燥剂材料(a)分散于有机介质(b)中，所述有机介质(b)含有(1)可固化有机聚合物粘合剂；(2)单体：和(3)光引发剂。

Description

用于湿度控制的可固化厚膜糊浆组合物
技术领域
本发明涉及用于控制湿度的可固化厚膜的除气剂糊浆(paste)组合物。在一种具体实施方式中，所述可固化厚膜除气剂糊浆用于控制敏感性电子器件的湿度。
背景技术
本发明描述了一种用于控制湿度的厚膜除气剂组合物。许多环境对不必要的湿度敏感，尤其是各种电子器件。
为了控制不必要的湿度，使用除气剂这一理念已经为公众知晓多年了。除气剂是一种为消耗或钝化痕量的杂质而加入到系统或混合物中的物质。
一种使湿度造成的有害效果最小化的方法中包含了用阻气层(barrier)围绕湿度敏感器件，从而使得活性材料和氧气以及湿气分离。这一方法虽然取得了一定的成功，但却总是不能充分解决由即使是少量由阻气层捕获的湿气或随时间推移而扩散入阻气层的湿气所造成的问题。
众所周知，可以在封闭的阻气层中使用除气剂来控制电子元件或器件的湿度。这些密封阻气层被设计用于保护敏感的电子组件和器件不受外界环境(包括湿度在内)的污染。然而，某些电子器件对湿度高度敏感，且需要将湿度控制在极低的水平上。与此同时，在证实了经加工的组合物可有效粘附于所需基片上的同时，这些电子器件还要求除气剂组合物易于使用和加工。本发明提供了一种UV固化的组合物以顺应这些要求。
涉及到除气剂及其在电子应用中的用途的现有技术材料在下文中有所阐述。通常而言，所述的除气剂材料不是筛网印花的组合物，是由干燥剂材料(即，沸石、硅胶等)和粘合剂组成的。所述的粘合剂可以是有机的或无机的。以下对现有技术的情况进行阐述。
在授予Shores的美国专利5,244,707中，揭示了一种电子器件的密闭外壳，该密闭外壳包含具有干燥剂性质的敷层或粘合剂。所述的敷层或粘合剂含有分散于聚合物中的质子化的矾土硅酸盐粉末。
在授予Shores的美国专利5,591,379中，揭示了一种作为干燥剂有效用于密闭电子器件的物质组合物，该组合物包含分散于粘合剂中的粉末，所述的粉末选自下组：沸石分子筛、活性铝土、硅胶、碱土氧化物和碱金属的碳酸盐；所述的粘合剂为连续的多孔玻璃或多孔陶瓷填料(matrix)；且所述的粉末与粘合剂的体积比为0.001-2。所揭示的用作粘合剂的玻璃必须制成有孔，以形成水蒸气渗透的通道。这可以通过本领域多种已知技术实现，如使用发泡剂、在成形中快速蒸发水份或其它气体、快速分解金属有机聚合物以及低温或不完全烧结。
在授予MacRae的美国专利1,626,682中，揭示了一种多像素平面显示器的方法，其中包括以图形固体材料层间隔分离第一和第二电极，所述的图形固体材料层与两电极中的一个接触并代表性地位于两电极的当中。所述的图案层(网状层，web)包含多个小孔，其中至少一个小孔与特定的像素相联。在小孔中排列一定量的第二材料，在平面场致发射显示器中代表性地为荧光剂，或在液晶显示器中代表性地为滤色材料。所述的网状层可以通过筛网印刷(screen-printing)的方法有助于第二材料的沉积。所述的网状层还可以有助于两电极间的间隔物结构的配备，并可包含除气剂或吸湿材料。
在授予Fischer的美国专利5,401,706中，揭示了一种制备可用于超过150华氏度温度下的干燥剂涂覆的基片的方法，所述的干燥剂以微粒的形式存在且此微粒具有孔，并通过粘合剂附着在基片上，所述被涂覆的基片具有足够的柔韧性而涂覆层对基片具有足够的粘附性，因此所述被涂覆的基片可形成波纹状，涂覆基片中的干燥剂微粒至少具有它们原来吸收能力的60％，且所述粘合剂具有良好的透气性；所述的方法包括以下步骤：(a)配制含水悬浮液，其中包含：一种或多种干燥剂、水基有机粘合剂、帮助保持干燥剂微粒悬浮状态的悬浮剂和至少一部分可进入至少一部分干燥剂微粒孔道的有机孔道清洁剂；(b)将该悬浮液沉积在所述基片上；(c)使沉积悬浮液的粘合剂定位，从而使得沉积的干燥剂微粒粘附在基片上，并使至少一部分孔道清洁剂脱离干燥剂微粒的孔道以防止粘合剂堵塞至少一部分附着的干燥剂的微粒孔道，由此制得一种可用于超过150华氏度温度下的干燥剂涂覆的基片，该基片具有足够的柔韧性，且涂覆层对基片具有足够的粘附性，从而所述被涂覆的基片可形成波纹状，涂覆基片中的微粒至少具有它们原来吸收能力的60％，且其中的粘合剂具有良好的透气性。
在授予Boroson的美国专利6,226,890中，揭示了一种干燥密封于外壳(enclosure)中的湿度敏感电子器件周围环境的方法。Boroson明确声明下述的干燥剂不能“对需要达到湿度水平低于1000ppm的高湿度敏感性器件发挥有效的功能”：矾土(alnmina)、高铝矾土(bauxite)、硫酸钙、粘土、硅胶、沸石、分子筛和活性矾土。
在授予Lazaridis的美国专利4,771,085中，揭示了一种可固化电介质组合物的用途，该组合物被用于需要与柔韧性基片粘合的膜接触开关型电路中。
本发明的发明人设想创造一种可将湿度水平控制在低于约1000ppm的厚膜除气剂组合物，且该除气剂组合物还同时具有约5秒的快速加工速度，以及低加工温度。
本发明提供了用于湿度敏感器件中的可固化厚膜除气剂组合物、控制湿度的方法、和由这些组合物和/或方法形成的制品，所述的湿度敏感器件包括通常需要将湿度控制到低于约1000ppm水平和有时甚至需要低于100ppm的电子器件。此外，所述的除气剂组合物提供了高速的加工且无需高点火温度，当然，所述化合物克通过暴露于包括紫外辐射在内的光化辐射下进行固化。
发明概述
本发明涉及一种厚膜除气剂组合物，该组合物包含：(a)干燥剂材料和(b)有机介质，所述干燥剂材料(a)分散于有机介质(b)中，所述有机介质(b)含有(1)可固化有机聚合物粘合剂；(2)单体；和(3)光引发剂。所述组合物可在有效助于所述单体的光聚合反应的时间和能量下被加工。
本发明还涉及采用所述组合物进行湿度控制的方法，以及通过此类方法和/或组合物形成的制品
发明详述
本发明的厚膜除气剂组合物是一种可在基片上形成的、可固化的陶瓷组合物。例如，在多种电子显示器件中作为片状盖(lid)的玻璃基片。所述的厚膜除气剂在从几千ppm到几个ppm湿度水平的多种环境条件下作为水吸收剂。本发明不限于显示器件应用中，还可用于其它任何器件寿命会因湿气的存在而降低或对湿气的存在敏感的微电子器件应用中。
本发明的厚膜除气剂组合物可通过暴露在光化辐射下而固化。“光化辐射”指的是光线、紫射线和紫外线、X射线、或其它可导致化学变化的辐射。实质上，所述组合物可在有效引发所述单体的光聚合反应/固化的时间和能量下被加工。本发明的厚膜除气剂在固化时，尤其是用于在显示器件应用中的相关玻璃片状盖上，显示出良好的致密性和亲和性。所述厚膜除气剂粘合剂主要是准备用于多种显示应用中的，所述显示应用包括有机的光线发射二极管(OLED)和阴极射线发光器(EL)，其中所述显示器件的寿命与湿度和其它有害气体的控制极为相关。所述显示应用与其它密闭微电子器件的不同之处在于该湿度除气剂在高湿度敏感或气体敏感的环境中工作。所述的显示器件通常要求将湿度控制在低于约1000ppm的水平上，有时甚至要求控制在100ppm以下。
所述厚膜除气剂组合物的主要成分是分散在可固化有机介质中的干燥剂粉末。通常，干燥剂材料是厚膜除气剂的主要功能性成分，它决定了厚膜除气剂的吸水性能。通常，吸水能力与相应干燥剂材料的含量成正比。
如本文所述的厚膜除气剂组合物与基片相结合，这种结合是通过将所述厚膜除气剂组合物沉积在基片上并使该厚膜固化进行的。有赖于器件结构和所要求的性能，所述除气剂厚膜的厚度可由糊浆的连续沉积控制。经单次印刷和固化后的厚膜除气剂的典型厚度为10μm到30μm。当要求强湿气吸收时，无需考虑多余的厚度。
尽管筛网印刷被认为是沉积厚膜除气剂的常用方法，其它任何常规的方法均可被采用，所用的常规方法包括丝网印刷法(stencil printing)、喷射分散法(syringe dispensing)或其它沉积或涂覆技术。
本发明是基于厚膜除气剂组合物(有时也指“糊浆”，paste)可通过将干燥剂材料与可固化有机介质结合而制成这一发现的。本发明的组合物在下文中进一步详细说明。
无机组合物：所述的厚膜除气剂糊浆的无机组合物包含分散于有机介质的干燥剂材料。在除气剂涂胶应用中可选用多种干燥剂材料，如分子筛(或沸石)、碱土金属氧化物、金属氧化物、硫酸盐、氯化物、溴化物。考虑到吸水能力的话，各种沸石被认为是最佳的候选材料，这是由它们有孔结构的固有本质所决定的。
沸石是一种通过物理吸收法进行湿气吸收的材料，其可为天然或合成来源。天然沸石是铝和钠、钙中之一或两者的水合硅酸盐，其种类为Na2O、Al2O3、xH2O和xSiO2。合成沸石由胶加工(gel process)或粘土加工(clay process)制得，这些加工形成沸石所加入的基质。天然和合成的沸石都可用于本发明中。已知的沸石包括菱沸石(也被称为沸石D)、斜发沸石、毛沸石、八面沸石(也被称为沸石X和沸石Y)、镁碱沸石、发光沸石、沸石A和沸石P。关于上述沸石以及其它沸石的详细描述，可在在此列为参考文献的D.W.Breck所著的《沸石分子筛》(John Wiley and Sons出版，纽约，1974)中找到。例如，3A、4A和13X型沸石都具有吸收水分子的能力，且目前都被优选为制造新湿度除气剂的吸收分子筛。此类沸石包括Na2O、Al2O3、和SiO2。某些吸收性除气剂除了湿气外还可吸收气态污染物，如气态H2和O2。Synetix等提出的申请号为WO 02/430098 A1的欧洲专利中描述了一种商业化供应的基于沸石技术的固体除气剂胶囊的实例，这种固体除气剂胶囊可制备用于吸收有机物和湿气。
如本申请所述，加入到组合物中的干燥剂材料的量，应取决于必要的吸湿能力。干燥剂对有机介质的大约相对重量％范围为10到65。
有机介质：分散干燥剂材料的有机介质包含一种或多种可固化有机聚合物粘合剂(包括聚合物、共聚物、寡聚物及其混合物)、一种或多种光敏单体、和多种光化学剂(光引发剂)，光引发剂的功能是协助光化加工和引发所述单体的光聚合反应。其它添加剂，如稳定剂、消泡剂、粘着剂和其它为本领域熟练技术人员所知的添加剂，可加入到所述有机介质中。目前典型性地尚无常规的有机溶剂。
有机聚合物粘合剂：本发明的可固化有机聚合物粘合剂可为聚合物、共聚物、寡聚物或其混合物。存在于有机介质中的有机聚合物粘合剂可选自下组：丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯(urethane acrylate)、环氧丙烯酸酯及其混合物，还包括其它类似的聚合物粘合剂。
单体：本发明的单体或单体类选自：丙烯酸酯单体、甲基丙烯酸酯单体及其混合物。
本发明中有用的单体包括：三羟乙基丙烷乙氧基三丙烯酸酯、丙烯酸叔丁酯和甲基丙烯酸叔丁酯、1，5-戊二醇二丙烯酸酯和二甲基丙烯酸酯、N，N-二乙氨乙基丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯、乙二醇二丙烯酸酯和二甲基丙烯酸酯、1，4-丁二醇二丙烯酸酯和二甲基丙烯酸酯、二甘醇二丙烯酸酯和二甲基丙烯酸酯、己二醇二丙烯酸酯和二甲基丙烯酸酯、1，3-丙二醇二丙烯酸酯和二甲基丙烯酸酯、癸二醇二丙烯酸酯和二甲基丙烯酸酯、1，4-环己二醇二丙烯酸酯和二甲基丙烯酸酯、2，2-二羟甲基丙烷二丙烯酸酯和二甲基丙烯酸酯、甘油二丙烯酸酯和二甲基丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯和二甲基丙烯酸酯、甘油三丙烯酸酯和三甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙醇三丙烯酸酯和三甲基丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯和三甲基丙烯酸酯、聚氧乙烯三羟甲基丙醇三丙烯酸酯和三甲基丙烯酸酯、以及在美国专利3,380,831中所揭示的类似化合物，2，2-二-(对-羟基-苯基)-丙烷二丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯和四甲基丙烯酸酯、2，2-二-(对-羟苯基)-丙烷二甲基丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯、聚乙氧基-2，2-二-(对-羟苯基)丙烷二甲基丙烯酸酯、双酚-A的二-(3-甲基丙烯氧基-2-羟丙基)乙酯、双酚-A的二-(2-甲基丙烯基-氧乙基)醚、双酚-A的二-(3-丙烯氧基(acryloxy)-2-羟丙基)醚、双酚-A的二-(2-丙烯氧基乙基)醚、1，4-丁二醇的二-(3-甲基丙烯基氧-2-羟丙基)醚、三乙二醇二甲基丙烯酸酯、聚丙氧基三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、丁二醇二丙烯酸酯和二甲基丙烯酸酯、1，2，4-丁三醇三丙烯酸酯和三甲基丙烯酸酯、2，2，4-三甲基-1，3-戊二醇二丙烯酸酯和二甲基丙烯酸酯、1-苯乙烯-1，2-二甲基丙烯酸酯、延胡索酸二烯丙酯、苯乙烯、1，4-苯二醇二甲基丙烯酸酯、1，4-二异丙烯基苯、和1，3，5-三异丙烯基苯。
光引发剂：存在于有机介质中的光引发剂是那些热对其无作用但在暴露于光化辐射时可产生自由辐射的物质。代表性的光引发剂在列为本文参考文献的授予Dueber等人的美国专利4,615,560中有所揭示。
这些光引发剂包括取代或未取代的多核醌，该多核醌为在共轭碳环系统中具有两个环内碳原子的化合物，如2-苄基-2-(二甲基氨基)-1-(4-吗啉基苯基)-1-丁酮、2，2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、9，10-蒽醌、2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-叔丁基蒽醌、八甲基蒽醌、1，4-萘醌、9，10-菲醌、苯并蒽-7，12-二酮、2，3-萘并萘-5，12-二酮(2，3-naphthacene-5，12-dione)、2-甲基-1，4-萘醌、1，4-二甲基-蒽醌、2，3-二甲基蒽醌、2-苯基蒽醌、2，3-二苯基蒽醌、惹烯醌(retenequinone)、7，8，9，10-四氢萘并萘(naphthracene)-5，12-二酮、和1，2，3，4-四-氢苯并蒽-7，12-二酮。其它有用的光引发剂(即使有些在如85℃的低温下就可被热活化)，在美国专利2,760,863中有所描述，其中包括邻酮醛基醇，如苯偶姻、新戊姻(pivaloin)、偶姻醚类，例如苯偶姻甲基醚和乙基醚、α-烃-取代的芳族偶姻类，包括α-甲基苯偶姻、α-烯丙基苯偶姻和α-苯基苯偶姻、噻吨酮和/或噻吨酮衍生物和适当的供氢体。在美国专利2,850,445,2,875,047,3,097,096,3,074,974,3,097,097和3,145,104中揭示了光可还原染料和还原剂，在美国专利3,427,161,3,479,185和3,549,367中也描述了吩嗪、噁嗪、和醌类、米切尔氏酮、二苯甲酮、2，4，5-三苯基咪唑基二聚物和供氢体的染料，包括无色染料及其混合物可用作引发剂。在美国专利4,162,162中所揭示的感光剂也可作为光引发剂和光抑制剂。
在一种具体实施方式中，所述有机介质为E.I.Du Pont de Nemours andCompany出品的产品号为5017A的产品。在另一具体实施方式中，有机介质为E.I.Du Pont de Nemours and Company出品的产品号为5018A的产品。
厚膜组合物中的有机介质与分散液中的无机固体的比例有赖于施涂该糊浆的方法和所用有机介质的种类而定，且该比例是可变的。通常，所述分散液包含10-65重量％的无机固体和35-90重量％的介质，以获得良好的涂覆。在这些限制下，理想的是使用最少可能量的粘合剂vis-à-vis固体，以减少有机物的量并获得较好质量的厚膜。选择有机介质的含量，从而为铸模、印刷，如丝网印刷或喷墨印刷、或通过喷镀涂覆、刷布涂覆、喷射分散涂覆、刮浆刀涂覆等提供合适的稠度和流变学。
此外，在除气剂糊浆中的分散有机介质的比例可控制吸收性除气剂固化层的厚度。例如，含有最少量有机介质的厚膜涂胶可形成较厚的除气剂层(此类分散液属于剪切变稀，并由于分散液作用于表面从而使得涂层变得较薄)。
厚膜的应用：所述厚膜除气剂代表性地沉积在基片上，如玻璃、低温共烧结陶瓷(low temperature co-fired ceramics，LTCC)或硅树脂，所述的基片对于气体和湿气是不透性的。该基片也可为柔韧性材料薄片，如聚酯类的不透性的塑料，例如聚乙烯对苯二酸酯，或由塑料薄片和沉积于塑料薄片上的任意金属或电介质层组成的组合材料。在一种实施方式中，所述基片可为透明(或半透明)以使得光线可进入封闭的区域或使得光线可穿过该基片从封闭区域中发射出来。
尽管可使用其它沉积技术如模板印刷(stencil printing)、喷射分散或涂覆技术，该厚膜除气剂的沉积较佳的是通过筛网印刷(screen printing)进行。在筛网印刷时，筛孔的大小控制了沉积厚膜的厚度。
沉积的厚膜通过暴露在光化辐射下固化。该组合物提供了一种如前所述的湿度控制方法，其中所述的除气剂组合物施涂于基片上并通过加工固化该组合物，从而形成附着有固化除气剂组合物的基片。所述方法还可包含将所述的固化除气剂封闭在外壳中，其中基片为该外壳的一个边界。这些方法形成了控制湿度的制品。例如，所述制品可以是湿度敏感的电子器件，如电子显示器件。
该组合物可被UV曝光所固化，如在UV直通炉中经1-5秒的UV曝光。UV光线的通量流密度典型地为300-950mJ/cm2。固化的厚膜的厚度为10μm-30μm。为防止挥发性物质再吸附(和沸石的去活化)，固化步骤通常在没有湿气和其它气体的控制气氛下(如真空下)进行。除非将固化的除气剂保存在没有湿气和其它气体的气氛下，固化步骤通常在将器件封闭入密闭容器之前立即进行。取决于加工步骤，可能需要通过将所述除气剂在100-250℃额外火焰加热(firing)以活化该除气剂来蒸发吸收的湿气。
通过将火焰加热后的除气剂厚膜暴露于变化湿度条件下，如不同的湿度水平、暴露时间和温度以对其湿度敏感性进行评估。采用热重分析仪(TGA)分析法评价在特定温度下的失重情况。TGA评价结果显示在干燥剂材料含量增加时，失重的能力也同样增加。上升到250℃的失重大致相当于固化除气剂重吸收湿气的失去，而300℃以上直到500℃的失重则以有机介质的挥发为主。
将通过给出实施例对本发明进行进一步的详细讨论。然而，本发明的范围并不受这些实施例的限制。
实施例1-10
厚膜除气剂涂胶的制备是通过混合平均粒径为2μm的干燥剂材料(13X型分子筛粉末)和可固化有机介质(购于E.I.Du Pont de Nemours and Company)进行的。在本试验中使用了两种Du Pont的产品，即5017A和5018A。表1代表了含有20-58％分子筛的厚膜组合物的实施例。实施了不同水平的干燥剂与有机介质的比例，以优化性能。改变溶剂的含量在不同沉积方法中对于调节糊浆粘度和膜厚度是必须的。
该除气剂糊浆是通过200筛丝网，印刷在基于碱石灰硅酸盐玻璃片状盖基片上，并在UV直通炉中进行了2秒的UV处理曝光。UV光线的密度为920mJ/cm2。固化厚膜的厚度在10-30μm范围内，这有赖于干燥剂的含量和筛网的孔径。
厚膜稠密地固化，并显示出对玻璃基片的良好粘附性。在火焰加热的厚膜表面没有观察到裂痕或起泡。不考虑糊浆组合物，火焰加热的厚膜的良好厚度均一性保持在+/-3μm。
通过对火焰加热厚膜实施例的评价，对暴露于特定湿度环境的吸湿程度进行定量。表2显示了在热重分析(TGA)结果基础上，所选除气剂样品的吸收性能。吸收结果以厚膜在所给温度下的失重％表示。表2中所示的所有TGA样品均是暴露在85℃/85％相对湿度的条件下1h后制得的。
如实施例中所示，发现除气剂糊浆的吸湿性强烈依赖于温度和分子筛的相对含量。具体而言，提高分子筛的含量趋向于提高失重百分比。例如，在含有50％玻璃的样品中在TGA到达200℃时的失重为11％，而含20％玻璃的组合物失重仅为5％。如果考虑到吸收能力主要是由干燥剂材料的相对含量决定的这一事实，这一趋势是很合理的。
表2也比较了分子筛含量增加条件下的两种UV有机介质，5017A和5018A。由于5018A含有最初为了增加粘合而加入的无机成分，这就使得所能添加的分子筛的最大含量有了一个上限。相应地，实施例8和9过稠，而不能以常规的印刷技术进行筛网印刷。
实施例10不包含干燥剂材料，仅含有UV有机介质，即5018A。如表2所示，实施例10与含29％分子筛的糊浆(实施例7)比较，在到达300℃时显示出较低的失重。这是由分子筛而来的吸湿效果。300℃以上时，UV有机物的挥发对应于较高的失重。
表3和表4显示了实施例1-5分别将UV除气剂糊浆以100℃和200℃的温度再次火焰加热后的失重。所述的再次火焰加热是为了模拟可能的活化过程，该活化过程是为在器件密封前的湿气解吸附而设计的。100℃再次火焰加热后无明显的失重差异，而200℃再次火焰加热后则趋向于显示全面的失重值的降低。该降低显示解吸附在较高温度下可更有效地发生，而吸湿则是一个可逆过程。
表1 厚膜除气剂组合物的重量％
  实施例号   1   2   3   4   5   6   7   8   9   10
  13x5017A5018A   2080--   2376--   2674--   3367--   4357--   5050--   29--71   50--50   58--42   ----100
表2 未活化的厚膜糊浆的失重％
  实施例号   1   2   3   4   5   6   7   10
  达到达到达到达到到达   2.05.013.48.73.   2.05.012.48.71.   2.55.012.46.67.   2.56.013.43.58.   3.09.315.40.52.   4.011.17.62.48.   3.08.011.29.37.   1.01.57.543.53.
表3 将厚膜糊浆在100℃再次火焰加热后的失重％
  实施例号   1   2   3   4   5
  上升至100℃上升至200℃上升至300℃   1.03.512.0   2.35.012.5   2.55.513.0   2.76.514.0   3.09.015.0
表4 将厚膜糊浆在200℃再次火焰加热后的失重％
  实施例号   1   2   3   4   5
  上升至100℃上升至200℃上升至300℃   1.03.09.0   1.33.010.0   1.53.511.0   2.37.013.0   4.08.514.5

Claims (13)

1.一种厚膜除气剂组合物，所述组合物包含：干燥剂材料和有机介质，所述干燥剂材料分散于有机介质中，所述有机介质含有(1)可固化有机聚合物粘合剂；(2)单体；和(3)光引发剂。
2.如权利要求1所述的组合物，其特征在于，所述的干燥剂材料选自：沸石、碱土金属氧化物、金属氧化物、硫酸盐、氯化物、溴化物以及它们的混合物。
3.如权利要求1所述的组合物，其特征在于，所述的可固化有机聚合物粘合剂选自：丙烯酸酯类、甲基丙烯酸酯类、聚氨酯丙烯酸酯类、环氧丙烯酸酯类以及它们的混合物。
4.如权利要求1所述的组合物，其特征在于，所述的单体选自：丙烯酸酯单体、甲基丙烯酸酯单体以及它们的混合物。
5.如权利要求1所述的组合物，其特征在于，所述的干燥剂材料占全部组合物的10-65重量％。
6.如权利要求1所述的组合物，其特征在于，所述的有机介质占全部组合物的35-90重量％。
7.如权利要求1所述的组合物，其特征在于，所述的组合物在有效助于所述单体发生光聚合反应的时间和能量下被加工。
8.一种控制湿度的方法，所述方法包括：
提供权利要求1所述的除气剂组合物；
将所述除气剂组合物施涂在基片上；和
加工所述的除气剂组合物和基片，使所述有机介质固化，从而形成粘附有固化除气剂组合物的基片。
9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述的基片是玻璃。
10.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述的方法还包括将所述的固化的除气剂组合物封闭在外壳中，其中所述的基片是所述外壳的一个边界。
11.一种制品，所述制品是通过权利要求8所述的方法制备的。
12.如权利要求11所述的制品，其特征在于，所述的制品是湿度敏感性的电子器件。
13.一种制品，其特征在于，所述制品含有权利要求1所述的除气剂组合物，其中，所述的组合物通过加工固化有机介质。
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