CN1669665A - 细缝喷嘴和基板处理装置 - Google Patents
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- CN1669665A CN1669665A CNA2005100551715A CN200510055171A CN1669665A CN 1669665 A CN1669665 A CN 1669665A CN A2005100551715 A CNA2005100551715 A CN A2005100551715A CN 200510055171 A CN200510055171 A CN 200510055171A CN 1669665 A CN1669665 A CN 1669665A
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 82
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 38
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 13
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 13
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 13
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 7
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 10
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 8
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 108010022579 ATP dependent 26S protease Proteins 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- BGOFCVIGEYGEOF-UJPOAAIJSA-N helicin Chemical compound O[C@@H]1[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@H]1OC1=CC=CC=C1C=O BGOFCVIGEYGEOF-UJPOAAIJSA-N 0.000 description 1
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012797 qualification Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 235000014347 soups Nutrition 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 description 1
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F03—MACHINES OR ENGINES FOR LIQUIDS; WIND, SPRING, OR WEIGHT MOTORS; PRODUCING MECHANICAL POWER OR A REACTIVE PROPULSIVE THRUST, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- F03D—WIND MOTORS
- F03D3/00—Wind motors with rotation axis substantially perpendicular to the air flow entering the rotor
- F03D3/04—Wind motors with rotation axis substantially perpendicular to the air flow entering the rotor having stationary wind-guiding means, e.g. with shrouds or channels
- F03D3/0436—Wind motors with rotation axis substantially perpendicular to the air flow entering the rotor having stationary wind-guiding means, e.g. with shrouds or channels for shielding one side of the rotor
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- F03—MACHINES OR ENGINES FOR LIQUIDS; WIND, SPRING, OR WEIGHT MOTORS; PRODUCING MECHANICAL POWER OR A REACTIVE PROPULSIVE THRUST, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- F03D—WIND MOTORS
- F03D3/00—Wind motors with rotation axis substantially perpendicular to the air flow entering the rotor
- F03D3/06—Rotors
- F03D3/062—Rotors characterised by their construction elements
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F05—INDEXING SCHEMES RELATING TO ENGINES OR PUMPS IN VARIOUS SUBCLASSES OF CLASSES F01-F04
- F05B—INDEXING SCHEME RELATING TO WIND, SPRING, WEIGHT, INERTIA OR LIKE MOTORS, TO MACHINES OR ENGINES FOR LIQUIDS COVERED BY SUBCLASSES F03B, F03D AND F03G
- F05B2240/00—Components
- F05B2240/20—Rotors
- F05B2240/21—Rotors for wind turbines
- F05B2240/211—Rotors for wind turbines with vertical axis
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/70—Wind energy
- Y02E10/74—Wind turbines with rotation axis perpendicular to the wind direction
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Sustainable Development (AREA)
- Sustainable Energy (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
一种细缝喷嘴，不受到各个细缝喷嘴的特性的影响，可使喷出口的开口间距均匀。在构成细缝喷嘴的第1主体部、第2主体部和垫板上设置有固定用螺纹孔组(第2螺纹孔组)、打开调整用螺纹孔组(调整用螺纹孔组)和关闭调整用螺纹孔组(调整用螺纹孔组)。将固定用螺栓拧入固定用螺纹孔组中，组装这些部件，然后，测定喷出口的开口间距。对应于该测定结果，在喷出口的开口间距窄于期望的值的位置，将调整螺钉拧入打开调整用螺纹孔组中，在大于期望的值的位置，将调整螺钉拧入关闭调整用螺纹孔组中。由此进行调整而使得喷出口的开口间距在Y轴方向上均匀化。
Description
技术领域
本发明涉及针对从直线状的喷出口喷出处理液的细缝喷嘴，使喷出口的宽度在纵向均匀化的技术。
背景技术
作为用于基板的制造工序的基板处理装置，人们知道有细缝涂敷器，其从具有直线状的喷出口的细缝喷嘴喷出处理液，同时使细缝喷嘴沿规定方向移动，由此在基板的表面上涂敷处理液。
在细缝涂敷器中，要求高精度地均匀涂敷处理液。在这里，如果细缝喷嘴的喷出口的开口间距(细缝喷嘴扫描方向的喷出口的开口宽度)不均匀，则对应于细缝喷嘴的纵向的位置，存在开口间距较宽的部位和较窄的部位。在此情况下，在每个位置喷出的处理液的量不均匀，产生无法均匀地涂敷处理液的问题。于是，在细缝涂敷器中，要求使细缝喷嘴的喷出口的开口间距高精度地均匀。
另一方面，细缝喷嘴由于确保其清洗容易性等的理由，故成为在前后使2个部件嵌合，并通过螺栓将其紧固而结合的结构。于是，具有由于该螺栓的紧固状况而喷出口的开口间距发生变化的问题。特别是由于通过螺纹孔的位置确定螺栓的紧固位置，故为了使喷出口的开口间距均匀，重要的是如何确定该螺纹孔的位置。
于是在过去，人们提出按照使喷出口的开口间距均匀的方式确定该螺纹孔的位置的技术。这样的技术记载在例如专利文献1中。
专利文献1：日本专利申请特开2002-239436号公报。
在这里，细缝喷嘴的形状、材质和尺寸(细缝喷嘴的特性)等根据成为处理对象的基板的尺寸、所使用的处理液的种类等而发生各种变化。
但是，专利文献1中所记载的技术为仅仅对于特定的形状、材质和特定范围的尺寸的细缝喷嘴有效的技术，其具有下述的问题，即，对于改变细缝喷嘴的特性，在该有效范围之外的细缝喷嘴，不仅没有任何的基准，而且有效范围本身也不明确。即，记载于专利文献1中的技术具有如下问题：为仅仅对于具有某种有限的范围的特性的细缝喷嘴有效的技术。
发明内容
本发明是针对上述课题而提出的，其目的在于提供一种细缝喷嘴，不受到各个的细缝喷嘴的特性的影响，可使喷出口的开口间距均匀。
为了解决上述课题，(1)所述的发明涉及一种细缝喷嘴，从沿大致水平方向延伸的直线状的喷出口喷出规定的处理液，其特征在于，包括：沿大致水平方向延伸的长状的第1主体部；第2主体部，其与上述第1主体部相对向而配置，与上述第1主体部相互结合而形成沿大致水平方向延伸的长状的结合体；紧固装置，其设置于规定的排列线上，使上述第1主体部和上述第2主体部相互结合；调整装置，其设置于上述结合体的整个纵向上，调整上述喷出口的开口间距，在上述结合体中，在上述第1主体部和第2主体部的相对向面的一部分上形成有成为规定的处理液的流路的间隙空间，由该间隙空间的下方开口在上述细缝喷嘴上形成上述喷出口。
另外，(2)所述的发明涉及(1)所述的发明的细缝喷嘴，其特征在于上述调整装置具有将上述喷出口的开口间距向着打开方向调整的打开调整装置。
此外，(3)所述的发明涉(2)所述的发明的细缝喷嘴，其特征在于上述打开调整装置设置于上述规定的排列线的上侧。
还有，(4)所述的发明涉及(2)所述的发明的细缝喷嘴，其特征在于上述打开调整装置设置于上述规定的排列线的下侧。
再有，(5)所述的发明涉及(1)所述的发明的细缝喷嘴，其特征在于上述调整装置具有将上述喷出口的开口间距向着关闭方向调整的关闭调整装置。
另外，(6)所述的发明涉及(5)所述的发明的细缝喷嘴，其特征在于上述关闭调整装置设置于上述规定的排列线的上侧。
此外，(7)所述的发明涉及(5)所述的发明的细缝喷嘴，其特征在于上述关闭调整装置设置于上述规定的排列线的下侧。
还有，(8)所述的发明的涉及(1)所述的发明的细缝喷嘴，其特征在于上述调整装置包括：将上述喷出口的开口间距向着打开方向调整的打开调整装置；将上述喷出口的开口间距向着关闭方向调整的关闭调整装置。
再有，(9)所述的发明涉及一种细缝喷嘴，从沿大致水平方向延伸的直线状的喷出口喷出规定的处理液，其特征在于，包括：沿大致水平方向延伸的长状的第1主体部；第2主体部，其与上述第1主体部相对向而配置，与上述第1主体部相互结合而形成沿大致水平方向延伸的长状的结合体；多个紧固装置，其设置于规定的排列线上，使上述第1主体部和第2主体部相互结合；将上述喷出口的开口间距向着打开方向调整的打开调整装置；将上述喷出口的开口间距向着关闭方向调整的关闭调整装置，在上述结合体中，在上述第1主体部和第2主体部的相对向面的一部分上形成有成为规定的处理液的流路的间隙空间，由该间隙空间的下方开口在上述细缝喷嘴上形成上述喷出口。
另外，(10)所述的发明涉及(8)或(9)所述的发明的细缝喷嘴，其特征在于上述打开调整装置设置于上述规定的排列线的上侧，上述关闭调整装置设置于上述规定的排列线的下侧。
此外，(11)所述的发明涉及(8)或(9)所述的发明的细缝喷嘴，其特征在于上述打开调整装置设置于上述规定的排列线的下侧，上述关闭调整装置设置于上述规定的排列线的上侧。
还有，(12)所述的发明涉及(8)或(9)所述的发明的细缝喷嘴，其特征在于上述打开调整装置和上述关闭调整装置设置于上述规定的排列线的相同侧。
再有，(13)所述的发明涉及(1)或(9)所述的发明的细缝喷嘴，其特征在于上述排列线为在上下方向上将上述结合体的上述第1主体部和上述第2主体部的相互约束面大致分为2个部分的直线。
另外，(14)所述的发明涉及(13)所述的发明的细缝喷嘴，其特征在于上述相互约束面的上端线和上述相互约束面的下端线成为不为零的角度，上述规定的排列线为将上述角度二等分的直线。
此外，(15)所述的发明涉及(1)或(9)所述的发明的细缝喷嘴，其特征在于通过在上述第1主体部和上述第2主体部之间设置有间隔件来形成上述间隙空间。
还有，(16)所述的发明涉及一种基板处理装置，在基板上涂敷规定的处理液，其特征在于，包括：保持基板的保持装置；细缝喷嘴，其向着上述保持装置所保持的基板，从直线状的喷出口喷出上述规定的处理液；移动机构，其使上述保持装置所保持的上述基板和上述细缝喷嘴相对移动，上述细缝喷嘴包括：沿大致水平方向延伸的长状的第1主体部；第2主体部，其与上述第1主体部相对向而配置，与上述第1主体部相互结合而形成沿大致水平方向延伸的长状的结合体；紧固装置，其设置于规定的排列线上，使上述第1主体部和上述第2主体部相互结合；调整装置，其设置于上述结合体的整个纵向上，调整上述喷出口的开口间距，在上述结合体中，在上述第1主体部和第2主体部的相对向面的一部分上形成有成为规定的处理液的流路的间隙空间，由该间隙空间的下方开口在上述细缝喷嘴上形成上述喷出口。
再有，(17)所述的发明涉及一种基板处理装置，在基板上涂敷规定的处理液，其特征在于，包括：保持基板的保持装置；细缝喷嘴，其向着上述保持装置所保持的基板，从直线状的喷出口喷出上述规定的处理液；移动机构，其使上述保持装置所保持的上述基板和上述细缝喷嘴相对移动，上述细缝喷嘴包括：沿大致水平方向延伸的长状的第1主体部；第2主体部，其与上述第1主体部相对向而配置，与上述第1主体部相互结合而形成沿大致水平方向延伸的长状的结合体；多个紧固装置，其设置于规定的排列线上，使上述第1主体部和第2主体部相互结合；将上述喷出口的开口间距向着打开方向调整的打开调整装置；将上述喷出口的开口间距向着关闭方向调整的关闭调整装置，在上述结合体中，在上述第1主体部和第2主体部的相对向面的一部分上形成有成为规定的处理液的流路的间隙空间，由该间隙空间的下方开口在上述细缝喷嘴上形成上述喷出口。
在(1)～(8)和(13)～(16)所述的发明中，通过设置调整装置，该调整装置在结合体的整个纵向上设置，调整喷出口的开口间距，可在细缝喷嘴的整个纵向上调整喷出口的间距。另外，通过独立地设置紧固装置和调整装置，组装效率提高。另外，无论细缝喷嘴的尺寸、材质等的特性如何，这样的结构均可适用。
在(2)～(4)所述的发明中，细缝喷嘴设置打开调整装置，该打开调整装置将喷出口的开口间距向着打开方向调整，由此，可向着打开方向调节喷出口的开口间距。
在(5)～(7)所述的发明中，细缝喷嘴设置关闭调整装置，该关闭调整装置将喷出口的开口间距向着关闭方向调整，由此，可向着关闭方向调节喷出口的开口间距。
在(8)～(15)和(17)所述的发明中，细缝喷嘴包括打开调整装置，该打开调整装置将喷出口的开口间距向着打开方向调整；关闭调整装置，该关闭调整装置将喷出口的开口间距向着关闭方向调整，由此，可向着打开方向与关闭方向调节喷出口的开口间距。
在(12)所述的发明中，打开调整装置和关闭调整装置设置于规定的排列线的相同侧，由此，即使在相互约束面的上下方向的宽度较窄的情况下，仍可设置打开调整装置和关闭调整装置。
在(13)所述的发明中，排列线为在上下方向上将结合体的第1主体部和第2主体部的相互约束面分为大致2个部分的直线，由此，可与细缝喷嘴的尺寸等因素，而确定紧固装置的排列线。
在(14)所述的发明中，相互约束面的上端线和相互约束面的下端线为不为零的角度，规定的排列线为将该角度二等分的直线，由此，可容易确定紧固装置的排列线。
附图说明
图1为本发明的基板处理装置的外观结构的立体图；
图2为表示基板处理装置的主体的侧视图，并且表示抗蚀剂液的涂敷动作的主要的组成部件的图；
图3为表示组装构成细缝喷嘴的主要部件的情况的立体图；
图4为将第1主体部和第2主体部紧固在一起的状态的细缝喷嘴的XZ平面的剖视图；
图5为说明形成设置固定螺栓时的基准线的排列线的确定方式的示意图；
图6为表示设置于第1实施形式的第2主体部上的调整用螺纹孔组的图；
图7为表示第2实施形式的第2主体部的图；
图8为表示第3实施形式的第2主体部的图；
图9为表示第4实施形式的第2主体部的图；
图10为表示第4实施形式的调整螺栓和调整用螺纹孔组的图；
图11为表示第5实施形式的第2主体部的图；
图12为表示变形例的第2主体部的图。
具体实施方式
下面参照附图，对本发明的最佳实施形式进行详细描述。
(1.第1实施形式)
图1为表示本发明的基板处理装置1的概略结构的立体图。图2为表示基板处理装置1的主体2的侧视图，并且表示抗蚀剂液的涂敷动作的主要组或部件的图。另外，在图1中，为了便于图示和描述，按照Z轴方向表示垂直方向，XY方向表示水平面的方式进行定义，但是，这些定义都是便于把握位置关系而进行的，不构成对在下面描述的各方向的限定。对于以下的附图也相同。
(整体结构)
基板处理装置1主要分为主体2和控制系统6，用于制造液晶显示装置的画面面板的方形玻璃基板构成为被处理基板(在下面简称为“基板”)90，在有选择地对形成于基板90的表面上的电极层等进行蚀刻的工艺中，形成在基板90的表面上涂敷作为处理液的抗蚀剂液的涂敷处理装置。于是，在本实施形式中，细缝喷嘴41可喷出抗蚀剂液。另外，该基板处理装置1不仅可用作对液晶显示装置用的玻璃基板，而且一般也能够变形用作对平板显示器用的各种基板涂敷处理液(药液)的装置。
主体2具有作为用于放置、保持基板90的保持台的功能，并且还具有作为附属的各机构的基座的功能的台3。该台3呈长方体状，例如为一体的石制品，其上表面(保持面30)和侧面加工为平坦面。
该台3的上表面为水平面，形成基板90的保持面30。在该保持面30上，分布而形成图中未示出的多个真空吸附孔，在基板处理装置1中对基板90进行处理的期间吸附基板90，由此将基板90保持于规定的水平位置。另外，在保持面30上以适当的间距设置有可通过图中未示出的驱动机构而上下升降的多个升降销LP，该升降销LP用于在取下基板90时将基板90向上推。
在保持面30中隔着基板90的保持区域(保持基板90的区域)的两端部，固定设置有沿着大致水平方向平行延伸的一对行走轨31。该行走轨31和固定设置于桥架结构4两端部的最下方的图中未示出的支承件一起，构成对桥架结构4的移动进行导向(将移动方向规定为规定的方向)、将桥架结构4支承于保持面30的上方的直线导向件。
在台3的上方设置有从该台3的两侧部分基本水平地架设的桥架结构4。该桥架结构4主要由喷嘴支承部40和支承其两端的升降机构43、44构成，该喷嘴支承部40以例如碳纤维增强树脂为骨材。
在喷嘴支承部40上安装有细缝喷嘴41。在Y轴方向上具有纵向的细缝喷嘴41上连接有用于向细缝喷嘴41供给抗蚀剂液的供给机构7。
图3为表示组装构成细缝喷嘴41的主要部件的情况的立体图。另外，在图3中，调整螺钉415、打开调整用螺纹孔组416和关闭调整用螺纹孔组417省略。
细缝喷嘴41由第1主体部410、第2主体部411、垫板412和多个固定螺栓413构成。另外，以本实施形式的细缝喷嘴41的Z轴方向的长度为“H”，Y轴方向的长度为“W”而进行下述的描述。在一般的细缝涂敷器中，将W的值假定为100～3000(mm)的范围内，显然也不限于此值。
在第1主体部410中，设置有用于拧入多个固定螺栓413的第1螺纹孔组414a。另外，在与第1主体部410相对向而设置的第2主体部411上，在与第1螺纹孔组414a相对向的位置设置有用于拧入多个固定螺栓413的第2螺纹孔组414b。该第1螺纹孔组414a和第2螺纹孔组414b都作为沿X轴方向的大致圆筒状的孔而设置，具体结构在图中未示出，但是，在其圆筒内面形成有用于与固定螺栓413螺合的螺纹牙和螺纹槽。
分别相对向的第1螺纹孔组414a和第2螺纹孔组414b在第1主体部410和第2主体部411相对向设置的状态下形成1个螺纹孔。以下将由第1螺纹孔组414a和第2螺纹孔组414b形成的螺纹孔组统称为固定用螺纹孔组414。
另外，前述的螺纹牙和螺纹槽例如也可仅仅设置于第2螺纹孔组414b中。即第1螺纹孔组414a也可为按照可插入固定螺栓413的方式形成的单纯的通孔。或者，第1螺纹孔组414a和第2螺纹孔组414b都为可单纯插入固定螺栓413的插入孔也可以。在此情况下，固定用螺纹孔组414为单纯的通孔，但是，固定螺栓413也可为通过螺母而另外固定的结构。即如果为通过将固定螺栓413插入由第1螺纹孔组414a和第2螺纹孔组414b形成的固定用螺纹孔组414中，将第1主体部410和第2主体部411结合的结构，则也可采用一般等那样的结构。
垫板412为设置于第1主体部410和第2主体部411之间的板状的部件，其设置有用于使固定螺栓413贯穿的多个孔。该垫板412按照避开后述的区台(ランド)411d(间隙空间)的方式设置，在第1主体部410和第2主体部411之间，具有用于设置规定的间距的间隔件的功能。
固定螺栓413在第1主体部410和第2主体部411相对向的状态，拧入到固定用螺纹孔组414中，由此将第1主体部410和第2主体部411相互结合。即如此形成本发明的结合体。另外，在图3中，仅仅给出作为多个固定螺栓413的9个固定螺栓413和具有与此相对应的数量的螺纹孔的第1、第2螺纹孔组414a、414ab的情况，但是固定螺栓413和螺纹孔的数量不限于此，主要对应于细缝喷嘴41的刚性、重量和W的值等确定适合的数量。
图4为将第1主体部410和第2主体部411紧固的状态的细缝喷嘴41的XZ平面的剖视图。通过将固定螺栓413插入固定用螺纹孔组414中，则象图4所示的那样，第1主体部410、垫板412和第2主体部411形成为一体的结构物(细缝喷嘴41)。另外，细缝喷嘴41通过区台411d的下方开口，在底端部形成喷出口41a。在本实施形式的基板处理装置1中，喷出口41a的开口间距的期望值由“D”表示。
在第1主体部410和第2主体部411上，调整用螺纹孔组416a、b、417a、b作为沿X轴方向延伸的孔而设置，虽然这一点在图3中未示出。其中，调整用螺纹孔组416a和调整用螺纹孔组416b分别设置于第1主体部410和第2主体部411中的相对向的位置。所以在第1主体部410和第2主体部411形成结合体的状态下，调整用螺纹孔组416a、调整用螺纹孔组416b和设置于垫板412中的通孔构成插入调整螺钉415的螺纹孔(在下面称为“打开调整用螺纹孔416”)。同样，调整用螺纹孔组417a和调整用螺纹孔组417b分别设置于第1主体部410和第2主体部411的相对向的位置，与设置于垫板412上的通孔一起，形成插入调整螺钉415的螺纹孔(在下面称为“关闭调整用螺纹孔组417”)。
另外在图4中，为了便于图示，示出了Y轴方向的位置相互相等的打开调整用螺纹孔组416和关闭调整用螺纹孔组417中都拧入调整螺钉415的情况。但是实际上这些螺纹孔也可根据调整的需要而有选择地使用。
图5为说明形成设置固定螺栓413时的基准线的排列线L0的确定方式的示意图。第2主体部411为以Y轴方向的中心位置为基准的对称结构，在图5中，仅仅示出(-Y)方向单侧部分，而(+Y)侧省略。
第2主体部411的与第1主体部410相对向的对向面在规定的位置形成有凹部，这些凹部形成集流腔(扩散槽)411b和区台411d。另外，前述的对向面中，未形成集流腔411b和区台411d的部分通过将第2主体部41与第1主体部410结合，形成借助垫板412而作用有相互的约束应力的“相互约束面S”。相互约束面S的上端线411e为细缝喷嘴41的上端面与相互约束面S的交线，形成沿Y轴方向的直线。另一方面，相互约束面S的下端线411c构成集流腔411b的上端线，与相互约束面S的上端线411e以角度ψ(°)倾斜。另外，“相互约束面S的下端线411c”在细缝喷嘴41的两端部，不包括形成细缝喷嘴41的下表面的部分。
集流腔411b作为比区台411d在(-X)方向上更深的槽而形成，在细缝喷嘴41的内部形成抗蚀剂液的流路，构成细缝喷嘴41的间隙空间的一部分。从设置于中间部附近的图中未示出的供给口向细缝喷嘴41供给抗蚀剂液，为了使从该供给口供给的抗蚀剂液沿Y轴方向扩散而设置集流腔411b。
在本实施形式的细缝喷嘴41中，为了使所供给的抗蚀剂液快速地扩散到两端部，集流腔411b以朝向细缝喷嘴41的两端部倾斜的状态形成。
在这里，在本实施形式的基板处理装置1中，相互约束面S的上端线411e与下端线411c之间的角度为“ψ(°)”，排列线L0和相互约束面S的上端线411e之间的角度为“固定螺栓配置角度θ(°)”时，按照ψ＝2θ的方式确定排列线L0。由此，排列线L0为将相互约束面S的上端线411e和下端线411c之间的角度ψ二等分的直线。象图5所示的那样，排列线L0为沿上下方向将结合体的相互约束面S大致分成2部分的线。
在本实施形式的第2主体部411中，第2螺纹孔组414b按照排列于排列线L0上的方式设置。另外，在细缝喷嘴41中，在与第2螺纹孔组414b相对向的位置上设置有第1螺纹孔组414a。所以第1螺纹孔组414a也设置于排列线L0上。即，在本实施形式的细缝喷嘴41中，在第1主体部410和第2主体部411通过固定螺栓413而结合在一起的情况下，由于固定用螺纹孔组414排列于排列线L0上，故多个固定螺栓413也排列于排列线L0上。
象这样，本实施形式的基板处理装置1的细缝喷嘴41将排列线L0确定为将相互约束面S的上端线411e和下端线411c之间的角度ψ二等分的直线。另外，在该排列线L0上排列第1螺纹孔组414a和第2螺纹孔组414b，由此在相互约束面S的上端线411e和下端线411c之间的角度ψ不为“0”时，无论细缝喷嘴41的尺寸怎样等，均可确定固定用螺纹孔组414的位置。另外，更具体地说，最好按照第1螺纹孔组414a和第2螺纹孔组414b的各螺纹孔的中心设置于排列线L0上的方式确定第1螺纹孔组414a和第2螺纹孔组414b的位置。
图6为表示设置于第2主体部411上的调整用螺纹孔组416b、417b的图。图6示出第2主体部411中与图5所示的部分基本相同的部分。
调整用螺纹孔组416b、417b分别具有与第2螺纹孔组414b基本相同的结构，可象前述那样插入调整螺钉415。另外，调整用螺纹孔组416按照排列于直线L1上的方式设置，调整用螺纹孔组417b按照排列于直线L2上的方式设置。
即，细缝喷嘴41分别单独地设置有紧固装置(固定螺栓413和固定用螺纹孔组414)，该紧固装置用于将第1主体部410和第2主体部411紧固；调整装置(调整螺钉415、打开调整用螺纹孔组416以及关闭调整用螺纹孔组417)，该调整装置调整细缝喷嘴41的喷出口41a的开口间距。由此，由于与固定螺栓413的配置位置无关，均可进行开口间距的调整，故可在不为细缝喷嘴41的特性(材质、尺寸等)影响的情况下，调整喷出口41a的开口间距。所以无论什么样的细缝喷嘴41，均可使纵向的开口间距均匀。
另外，细缝喷嘴41的组装通过分别仅以相同的扭矩将多个固定螺栓413紧固而进行。另外，喷出口41a的开口间距的调整通过紧固调整螺钉415，独立于组装而另外进行。由此，细缝喷嘴41的组装效率提高。
在本实施形式的细缝喷嘴41中，将打开调整用螺纹孔组416所排列的直线L1确定为将固定螺栓配置角度θ二等分的直线。即，调整用螺纹孔组416b和按照与其相对向的方式设置的调整用螺纹孔组416a设置于排列线L0的上侧(排列线L0和相互约束面S的上端线411e之间)。
象这样，在通过设置打开调整用螺纹孔组416，而紧固、组装第1主体部410和第2主体部411时，在Y轴方向上，在喷出口41a的开口间距小于期望值“D”的位置处，通过将调整螺钉451插入打开调整用螺纹孔组416中并将其紧固，由此可按照打开该位置的开口间距的方式进行调整。
此外，将关闭调整用螺纹孔组417所排列的直线L2确定为与相互约束面S的下端线411c相距规定距离的直线。即，调整用螺纹孔组417b和按照与其相对向的方式设置的调整用螺纹孔组417a设置于排列线L0的下侧(排列线L0和相互约束面S的下端线411之间)。
象这样，在通过设置关闭调整用螺纹孔组417，而紧固、组装第1主体部410和第2主体部411时，在Y轴方向上，在喷出口41a的开口间距大于期望值“D”的位置处，将调整螺钉451插入关闭调整用螺纹孔组417中并将其紧固，由此可按照关闭该位置的开口间距的方式进行调整。
一般在按照相同扭矩紧固固定螺栓413，将第1主体部410和第2主体部411紧固的情况下，因各部件的加工精度的误差等，Y轴方向的喷出口41a的开口间距不均匀。但是，在本实施形式的基板处理装置1中，多个打开调整用螺纹孔组416和多个关闭调整用螺纹孔组417分列在排列线L0的上下两侧而排列，由此，无论喷出口41a的开口间距的宽窄，均可进行调整，使得喷出口41a的开口间距为期望值“D”。
还有，直线L1、L2均在细缝喷嘴41的纵向整体的范围内被规定，打开调整用螺纹孔组416和关闭调整用螺纹孔组417均在细缝喷嘴的纵向整体的范围内设置。由此，本实施形式的基板处理装置1的细缝喷嘴41可在纵向(Y轴方向)的整体范围内调整喷出口41a的开口间距。所以，例如与仅在中间部设置调整开口间距的机构而进行调整的情况相比较，能以更高精度使开口间距均匀。
还有，在本实施形式的基板处理装置1中，针对每次组装后状态的各个的细缝喷嘴41，按照Y轴方向的每个规定间距测定喷出口41a的开口间距。而根据所获得的测定值，确定拧入调整螺钉415的位置和紧固扭矩而进行调整，使得开口间距为“D”。但是，调整喷出口41a的开口间距的方式不限于此，例如，也可对应于细缝喷嘴41的涂敷结果调整开口间距。即，也可对应于实际涂敷的抗蚀剂膜厚的值进行调整。另外，也可预先多次测定以规定的扭矩紧固固定螺栓413时的开口间距的值，而对应于平均值或再现性，在以后不用每次测定而进行调整。即，调整方式也可采用任意的方法。
通过以上这样的结构，细缝喷嘴41将通过供给机构7供给的抗蚀剂液从形成于前端的细缝状(直线状)的喷出口41a喷出到保持于台3上的基板90的表面的规定的区域(在下面称为“抗蚀剂涂敷区域”)。由此，基板处理装置1将抗蚀剂液涂敷于基板90上。在这里，抗蚀剂涂敷区域是在基板90的表面中要涂敷抗蚀剂液的区域，通常是指从基板90的整个面积中去除了沿端缘的规定宽度的区域的区域。
返回到图1，升降机构43、44分列在细缝喷嘴41的两侧，通过喷嘴支承部40与细缝喷嘴41连接。升降机构43、44主要由AC伺服马达43a、44a和图中未示出的滚珠丝杠构成，根据来自控制系统6的控制信号，产生桥架结构的升降驱动力。由此升降机构43、44使细缝喷嘴41并行地升降。另外，该升降机构43、44还用于调整细缝喷嘴41的YZ平面内的姿势。另外，AC伺服马达43a、44a具有检测出其旋转量并输出给控制系统6的功能。
在桥架结构4的两端部，沿台3的两侧的缘侧，分别固定设置有一对AC无芯线性马达(在下面简称为“线性马达”)50、51，该一对线性马达分别具有固定件50a和移动件50b、以及固定件51a和移动件51b。另外，在桥架结构4的两端部分别固定设置有分别具有刻度部和检出件的线性编码器52、53。该线性编码器52、53检测出线性马达50、51的位置。以这些线性马达50、51和线性编码器52、53为主而构成桥架结构4由行走轨31导向、同时在台3上移动用的行走机构5。即，行走机构5使细缝喷嘴41向着沿基板90的表面的大致水平方向相对移动。此时根据来自线性编码器52、53的检出结果，控制系统6对线性马达50的动作进行控制，由此对台3上的桥架结构4的移动、即细缝喷嘴41对基板90的扫描进行控制。
在主体2的保持面30上，在保持区域的(-X)方向侧设置有开口32。该开口32与细缝喷嘴41相同，沿Y轴方向具有纵向，并且该纵向长度基本与细缝喷嘴41的纵向长度相同。另外，虽然在图1和图2中省略，但在开口32的下方的主体2的内部设置有待机罐、喷嘴清洗机构与预涂敷机构。这些机构例如在对基板90涂敷抗蚀剂液之前进行的抗蚀剂液供给处理、空气排出处理、或预分配处理等的预备处理时使用。
在喷嘴支承部40，在细缝喷嘴41的上方的位置设置有向细缝喷嘴41供给抗蚀剂液的供给机构7。该供给机构7具有将贮存在图中未示出的暂时存储箱中的抗蚀剂液供给细缝喷嘴41的功能，具体的内容在图中未示出，但其主要由泵、配管和喷嘴构成。
控制系统6在其内部设置有按照程序对各种数据进行处理的运算部60、与保存程序和各种数据的存储部61。另外，在前面设置有操作人员向基板处理装置1输入必要的指示用的操作部62以及显示各种数据的显示部63。
另外，具体来说，临时存储数据的RAM、读取专用的ROM和磁盘装置相当于该存储部61。或者也可为便携光磁盘、存储卡等存储媒体、以及它们的读取装置等。另外，按钮和开关类(包括键盘、鼠标等)等相当于操作部62。或者，也可象触摸面板显示器那样同时兼具有显示器63的功能。液晶显示器和各种灯等相当于显示部63。
以上对本实施形式的基板处理装置1的结构和功能进行了描述。
(动作描述)
下面简单地对基板处理装置1的涂敷处理动作进行描述。另外，以下的基板处理装置1的动作只要没有特别明示，则根据控制系统6的控制而进行。
在该基板处理装置1中，如果由操作人员或图中未示出的运送机构将基板90运送到规定位置，则台3将基板90吸附而保持在保持面30上的规定位置。接着，基于来自控制系统6的控制信号，升降机构43、44使喷嘴支承部40沿Z轴方向移动，将细缝喷嘴调整到适合姿势。另外，适合姿势指细缝喷嘴41和抗蚀剂涂敷区域之间的间距为涂敷抗蚀剂液所适合的间距的细缝喷嘴41的YZ平面的姿势。
另外，线性马达50、51使桥架结构4向(-X)方向移动，将细缝喷嘴41移动到喷出开始位置。在这里，喷出开始位置为细缝喷嘴41基本沿抗蚀剂涂敷区域的一边的位置。
如果该细缝喷嘴41移动到喷出开始位置，则控制系统6将控制信号提供给行走机构5的线性马达50、51。根据该控制信号，线性马达50、51使桥架结构4向(-X)方向移动，由此细缝喷嘴41对基板90表面进行扫描。
此时，供给机构7向细缝喷嘴41供给抗蚀剂液，该细缝喷嘴41将抗蚀剂液喷出到抗蚀剂涂敷区域。由此在基板90的表面上形成抗蚀剂液的层(薄膜)。
如果细缝喷嘴41移动到喷出结束位置，则控制系统6将控制信号提供给升降机构43、44、行走机构5和供给机构7。根据该控制信号，升降机构43、44以及行走机构5将细缝喷嘴41移动到待机位置，同时供给机构7停止抗蚀剂液的供给，由此停止来自细缝喷嘴41的抗蚀剂液的喷出。
与该细缝喷嘴41的移动动作相并行，台3停止基板90的吸附，升降销LP将基板90上抬，然后，操作人员或运送机构将基板90从保持面30取出，运送到下一处理工序。
接着，基板处理装置1判断其他应处理的基板90是否存在，在存在应处理的基板90的情况下，反复进行前述的处理。另一方面，在不存在应处理的基板90的情况下，结束处理。
象上述那样，本实施形式的基板处理装置1的细缝喷嘴41，在第1主体部410和第2主体部41 1结合在一起的结合体的长度方向的整个范围内，设置调整喷出口41a的开口间距的打开调整用螺纹孔组416和关闭调整用螺纹孔组417，由此可在细缝喷嘴41的整个长度方向上调整喷出口41a的开口间距。所以，可使细缝喷嘴41的喷出口41a的开口间距均匀。
另外，通过独立设置固定用螺纹孔组414(紧固装置)、打开调整用螺纹孔组416和关闭调整用螺纹孔组417(调整装置)，提高了组装效率。另外，这种结构无论细缝喷嘴41的尺寸、材质如何均可适用。
此外，细缝喷嘴41包括将喷出口41a的开口间距向着打开方向调整的打开调整用螺纹孔组416、将喷出口41a的开口间距向着关闭方向调整的关闭调整用螺纹孔组417，由此可将喷出口41a的开口间距向着打开方向以及关闭方向调整。
还有，排列线L0作为下述的直线而被规定，该直线在上下方向上将细缝喷嘴41结合体的第1主体部410和第2主体部411的相互约束面S基本分成2个部分，由此可按照与细缝喷嘴41的尺寸等的特性无关，抑制组装后的喷出口41a的开口间距的偏差的方式确定固定螺栓413的排列线L0。所以可使打开调整用螺纹孔组416和关闭调整用螺纹孔组417的调整达到最小限度。
再有，在相互约束面S的上端线411e与相互约束面S的下端线411c构成不为零的角度ψ°的情况下，排列线L0为将角度ψ°二等分的直线，由此，可容易确定固定螺栓413的排列线L0。
(2.第2实施形式)
在第1实施形式中，打开调整用螺纹孔组416和关闭调整用螺纹孔组417按照分别在Y轴方向的相同位置成对的方式设置，但是打开调整用螺纹孔组416和关闭调整用螺纹孔组417的配置不限于这样的配置。
图7为表示根据这样的原理而构成的第2实施形式的第2主体部411的图。同样在第2实施形式的第2主体部411中，排列线L0、直线L1和直线L2按照与第1实施形式的第2主体部411相同的方式规定。
但是，本实施形式的调整用螺纹孔组416、417相对于第2螺纹孔组414b的各个螺纹孔交替地设置。即第2实施形式的设置调整用螺纹孔组416b、417b的设置间距大于第1实施形式的调整用螺纹孔组416b、417b的间距。
由于通过象这样设置调整用螺纹孔组416b、417b(即打开调整用螺纹孔组416和关闭调整用螺纹孔组417)，不必在Y轴方向的相同位置设置多个螺纹孔，故即使在相互约束面S的Z轴方向的宽度较窄的情况下，可分别设置调整用螺纹孔组416b、417b。
另外，在本实施形式的基板处理装置1中，在固定用螺纹孔组414的邻接的2个螺纹孔之间，仅仅设置打开调整用螺纹孔组416或关闭调整用螺纹孔组417中的任何一者。但是，也可将第1实施形式的打开调整用螺纹孔组416和关闭调整用螺纹孔组417的Y轴方向的位置相互错开而设置。在此情况下，即使在相互约束面S的Z轴方向的宽度较窄的情况下，可在不扩大调整间距的情况下设置这些螺纹孔组。
(3.第3实施形式)
在上述实施形式中，对设置打开调整用螺纹孔组416和关闭调整用螺纹孔组417两者的例子进行了描述。但是，即使是这些螺纹孔组中仅任何一者仍可调整喷出口的开口间距。
图8为表示根据这样的原理而构成的第3实施形式的第2主体部411的图。第3实施形式的第2主体部411未设置构成关闭调整用螺纹孔组417的调整用螺纹孔417b。通过这样的结构，在本实施形式的细缝喷嘴41中，可仅仅向着打开方向调整喷出口41a的开口间距。另外，排列线L0和直线L1按照上述实施形式的第2主体411相同的方式规定。
构成本实施形式的细缝喷嘴41的各部件按照即使在产生加工精度的偏差的情况下喷出口41a的开口间距仍在期望值“D”以下的方式预先设计、制造。即，在组装第1主体部410、第2主体部411和垫板412等的情况下，喷出口41a的开口间距不大于期望值“D”。
如果细缝喷嘴41的各部件象这样制造，则喷出口41a的开口间距的调整只要向着打开方向调整该开口间距即可。即象本实施形式的细缝喷嘴41那样，即使在为仅仅具有打开调整用螺纹孔组416的结构的情况下，仍可使开口间距以成为期望值“D”的方式均匀。所以，即使在相互约束面S在Z轴方向上较窄，在固定用螺纹孔组414的上下两侧设置调整用螺纹孔组的空间不足够大的情况下，仍可使喷出口41a的开口间距均匀地成为期望值。另外，也可是按照使喷出口41a的开口间距大于期望值“D”的方式预先制造各部件，在细缝喷嘴41中仅仅设置关闭调整用螺纹孔组417的结构。
(4.第4实施形式)
在上述实施形式中，对打开调整用螺纹孔组416设置于排列线L0的上侧，关闭调整用螺纹孔组417设置于排列线L0的下侧的实例进行了描述。但是，也可将打开调整用螺纹孔组416设置于排列线L0的下侧，将关闭调整用螺纹孔组417设置于排列线L0的上侧。
图9为表示根据这样的原理而构成的第4实施形式的第2主体部411的图。另外，排列线L0和直线L1、L2按照与上述实施形式相同的方式规定。
象图9所示的那样，构成第4实施形式的关闭调整用螺纹孔417的调整用螺纹孔组417b排列于规定在排列线L0的上侧的直线L1上。另外，构成打开调整用螺纹孔组416的调整用螺纹孔组416b排列于规定在排列线L0的下侧的直线L2上。
图10为说明第4实施形式的打开调整用螺纹孔组416和关闭调整用螺纹孔组417的结构的图。
设置于第1主体部410上的调整用螺纹孔组416a、417a作为在圆筒内面具有螺旋状的螺纹牙和螺纹槽的圆筒孔而设置，象图10所示的那样，拧入调整螺栓415。
另一方面，设置于第2主体部411上的调整用螺纹孔组416b、417b作为不具有与调整螺栓415螺合的螺纹牙和螺纹槽的圆筒孔(所谓的螺栓孔)而设置，形成调整螺栓415简单地插入的结构。通过这样的结构，本实施形式的调整螺栓415不具有将第1主体部415和第2第2主体部411紧固的功能。但是，即使在调整螺栓415不具有紧固功能的情况下，由于第1主体部410和第2主体部411通过固定螺栓413相互紧固，故成一体地构成细缝喷嘴41。
此外，调整用螺纹孔组416b、417b不是通孔，仅仅在相互约束面S侧具有开口部，从该开口部插入调整螺栓451。
还有，本实施形式的调整螺栓415的栓体的长度按照大于打开调整用螺纹孔组416和关闭调整用螺纹孔组417的深度的方式设定。即，即使在插入调整螺栓415，直到调整螺栓415与调整用螺纹孔组416b的底部接触为止的情况下，调整螺栓415的栓体在第1主体部410侧仍富余。
通过这样的结构，在调整螺栓415与调整用螺纹孔组416b、417b的底部接触的状态下，进一步将该调整用螺栓415紧固，从而向着(-X)方向按压第2主体部411。即，紧固调整螺栓415的动作相当于在设置该调整螺栓415的位置处，向着使第1主体部410和第2主体部411离开的方向进行调整。
所以，如果将这样的结构的调整用螺纹孔组设置于排列线L0的上侧，则在排列线L0的上侧，由于使第1主体部410和第2主体部411离开，故实现向着关闭方向调整喷出口41a的功能。即，这些调整用螺纹孔组成为关闭调整用螺纹孔组417。另一方面，如果将图10所示的结构设置于排列线L0的下侧，由于在排列线L0的下侧使第1主体部410和第2主体部411离开，故实现向着打开方向调整喷出口41a的功能。即，这些调整用螺纹孔组成为打开调整用螺纹孔组416。
象上述这样，即使象第4实施形式的基板处理装置1的那样，将打开调整用螺纹孔组416设置于排列线L0的下侧，将关闭调整用螺纹孔组417设置于上侧的情况下，仍获得与第1实施形式相同的效果。
还有，也可按照下述方式构成，即，即使在采用图10所示的结构的情况下，仍可象在第3实施形式中描述的那样采用打开调整用螺纹孔组416或关闭调整用螺纹孔组417中的任意一方进行调整。
(5.第5实施形式)
在上述实施形式中，对在规定调整螺栓415的排列位置的直线L1、L2上设置打开调整用螺纹孔组416或关闭调整用螺纹孔组417中的任何一者的实例进行了描述，但是，打开调整用螺纹孔组416或关闭调整用螺纹孔组417的排列并不限于此。
图11为表示根据这样的原理而构成的第5实施形式的第2主体部411的图。另外，排列线L0和直线L1按照与上述实施形式相同的方式规定。
本实施形式的调整用螺纹孔组416b象图4所示的那样，为与调整螺栓415螺合的结构，通过螺入调整螺栓415，在此位置，向着使第1主体部410和第2主体部411接近的方向调整。所以，通过将这样的结构的调整用螺纹孔排列于规定在排列线线L0的上侧的直线L1上，从而它们构成打开调整用螺纹孔组416。
另一方面，调整用螺纹孔组417b象图10所示的那样，为不与调整螺栓415螺合的结构，通过插入调整螺栓415，在此位置，向着使第1主体部410和第2主体部411离开的方向进行调整。所以，通过将这样的结构的调整用螺纹孔组排列于排列线L0的上侧的直线L1上，从而它们构成关闭调整用螺纹孔组417。
象这样，在本实施形式的细缝喷嘴41中，排列于第2主体部411的直线L1上的调整用螺纹孔的结构是交替不同的，由此可按照打开调整用螺纹孔组416和关闭调整用螺纹孔组417都排列于直线L1上的方式构成。
由此，例如形成下述的方案，其中，即使在相互约束面S的Z轴方向的宽度较窄，难于在排列线L0的两侧设置调整用螺纹孔组的情况下，仍可针对该喷出口41a的开口间距，可进行打开调整和关闭调整中的任意的调整。
此外，按照打开调整用螺纹孔组416和关闭调整用螺纹孔组417都排列于排列线L0的下侧(例如排列于上述实施形式的直线L2上)的方式构成也可以。
(6.变形实例)
以上对本发明的实施形式进行了描述，但是，本发明并不限于上述实施形式，可实现各种变形。
例如，也可在第2主体部411的表面(与第1主体部相对向的面)上，仅仅形成集流腔411b。即，区台411d也可按照垫板412的厚度形成。
还有，集流腔411b和区台411d还可设置于第1主体部410上。即，第1主体部410和第2主体部411也可为基本相同的形状的部件。
再有，也可在相互约束面S的Z轴方向的宽度足够大的情况下，将固定用螺纹孔组414、打开调整用螺纹孔组416和关闭调整用螺纹孔组417分别设置于Y轴方向的相同位置。图12为表示根据这样的原理而构成的第2主体部411。
另外，规定排列线L0、直线L1和直线L2的方式不限于上述实施形式的方式。即，直线L1可规定于排列线L0和相互约束面S的上端线411e之间，直线L2可规定于排列线L0和相互约束面S的下端线411c之间。另外，打开调整用螺纹孔组416和关闭调整用螺纹孔组417也可分别排列于直线上。
此外，集流腔411b也可基本沿水平方向设置。在此情况下，最好排列线L0作为相互约束面S的上端线411e和相互约束面S的下端线411c之间的距离相等的直线而被规定。
Claims (17)
1.一种细缝喷嘴，从沿大致水平方向延伸的直线状的喷出口喷出规定的处理液，其特征在于，包括：
沿大致水平方向延伸的长状的第1主体部；
第2主体部，其与上述第1主体部相对向而配置，与上述第1主体部相互结合而形成沿大致水平方向延伸的长状的结合体；
紧固装置，其设置于规定的排列线上，使上述第1主体部和上述第2主体部相互结合；
调整装置，其设置于上述结合体的整个纵向上，调整上述喷出口的开口间距，
在上述结合体中，在上述第1主体部和第2主体部的相对向面的一部分上形成有成为规定的处理液的流路的间隙空间，由该间隙空间的下方开口在上述细缝喷嘴上形成上述喷出口。
2.根据权利要求1所述的细缝喷嘴，其特征在于，上述调整装置具有将上述喷出口的开口间距向着打开方向调整的打开调整装置。
3.根据权利要求2所述的细缝喷嘴，其特征在于，上述打开调整装置设置于上述规定的排列线的上侧。
4.根据权利要求2所述的细缝喷嘴，其特征在于，上述打开调整装置设置于上述规定的排列线的下侧。
5.根据权利要求1所述的细缝喷嘴，其特征在于，上述调整装置具有将上述喷出口的开口间距向着关闭方向调整的关闭调整装置。
6.根据权利要求5所述的细缝喷嘴，其特征在于，上述关闭调整装置设置于上述规定的排列线的上侧。
7.根据权利要求5所述的细缝喷嘴，其特征在于，上述关闭调整装置设置于上述规定的排列线的下侧。
8.根据权利要求1所述的细缝喷嘴，其特征在于，上述调整装置包括：
将上述喷出口的开口间距向着打开方向调整的打开调整装置；
将上述喷出口的开口间距向着关闭方向调整的关闭调整装置。
9.一种细缝喷嘴，从沿大致水平方向延伸的直线状的喷出口喷出规定的处理液，其特征在于，包括：
沿大致水平方向延伸的长状的第1主体部；
第2主体部，其与上述第1主体部相对向而配置，与上述第1主体部相互结合而形成沿大致水平方向延伸的长状的结合体；
多个紧固装置，其设置于规定的排列线上，使上述第1主体部和第2主体部相互结合；
将上述喷出口的开口间距向着打开方向调整的打开调整装置；
将上述喷出口的开口间距向着关闭方向调整的关闭调整装置，
在上述结合体中，在上述第1主体部和第2主体部的相对向面的一部分上形成有成为规定的处理液的流路的间隙空间，由该间隙空间的下方开口在上述细缝喷嘴上形成上述喷出口。
10.根据权利要求8或9所述的细缝喷嘴，其特征在于，
上述打开调整装置设置于上述规定的排列线的上侧，
上述关闭调整装置设置于上述规定的排列线的下侧。
11.根据权利要求8或9所述的细缝喷嘴，其特征在于，
上述打开调整装置设置于上述规定的排列线的下侧，
上述关闭调整装置设置于上述规定的排列线的上侧。
12.根据权利要求8或9所述的细缝喷嘴，其特征在于，
上述打开调整装置和上述关闭调整装置设置于上述规定的排列线的相同侧。
13.根据权利要求1或9所述的细缝喷嘴，其特征在于，上述排列线为在上下方向上将上述结合体的上述第1主体部和上述第2主体部的相互约束面大致分为2个部分的直线。
14.根据权利要求13所述的细缝喷嘴，其特征在于，上述相互约束面的上端线和上述相互约束面的下端线成为不为零的角度，
上述规定的排列线为将上述角度二等分的直线。
15.根据权利要求1或9所述的细缝喷嘴，其特征在于，通过在上述第1主体部和上述第2主体部之间设置有间隔件来形成上述间隙空间。
16.一种基板处理装置，在基板上涂敷规定的处理液，其特征在于，包括：
保持基板的保持装置；
细缝喷嘴，其向着上述保持装置所保持的基板，从直线状的喷出口喷出上述规定的处理液；
移动机构，其使上述保持装置所保持的上述基板和上述细缝喷嘴相对移动，
上述细缝喷嘴包括：
沿大致水平方向延伸的长状的第1主体部；
第2主体部，其与上述第1主体部相对向而配置，与上述第1主体部相互结合而形成沿大致水平方向延伸的长状的结合体；
紧固装置，其设置于规定的排列线上，使上述第1主体部和上述第2主体部相互结合；
调整装置，其设置于上述结合体的整个纵向上，调整上述喷出口的开口间距，
在上述结合体中，在上述第1主体部和第2主体部的相对向面的一部分上形成有成为规定的处理液的流路的间隙空间，由该间隙空间的下方开口在上述细缝喷嘴上形成上述喷出口。
17.一种基板处理装置，在基板上涂敷规定的处理液，其特征在于，包括：
保持基板的保持装置；
细缝喷嘴，其向着上述保持装置所保持的基板，从直线状的喷出口喷出上述规定的处理液；
移动机构，其使上述保持装置所保持的上述基板和上述细缝喷嘴相对移动，
上述细缝喷嘴包括：
沿大致水平方向延伸的长状的第1主体部；
第2主体部，其与上述第1主体部相对向而配置，与上述第1主体部相互结合而形成沿大致水平方向延伸的长状的结合体；
多个紧固装置，其设置于规定的排列线上，使上述第1主体部和第2主体部相互结合；
将上述喷出口的开口间距向着打开方向调整的打开调整装置；
将上述喷出口的开口间距向着关闭方向调整的关闭调整装置，
在上述结合体中，在上述第1主体部和第2主体部的相对向面的一部分上形成有成为规定的处理液的流路的间隙空间，由该间隙空间的下方开口在上述细缝喷嘴上形成上述喷出口。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004078145A JP4522726B2 (ja) | 2004-03-18 | 2004-03-18 | スリットノズルおよび基板処理装置 |
| JP2004078145 | 2004-03-18 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN1669665A true CN1669665A (zh) | 2005-09-21 |
| CN100400180C CN100400180C (zh) | 2008-07-09 |
Family
ID=35041225
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CNB2005100551715A Active CN100400180C (zh) | 2004-03-18 | 2005-03-18 | 细缝喷嘴和基板处理装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4522726B2 (zh) |
| KR (1) | KR100676243B1 (zh) |
| CN (1) | CN100400180C (zh) |
| TW (1) | TWI259109B (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105629530A (zh) * | 2016-01-19 | 2016-06-01 | 京东方科技集团股份有限公司 | 清洗装置及其使用方法 |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4720096B2 (ja) * | 2004-04-02 | 2011-07-13 | コニカミノルタオプト株式会社 | スロットダイ、スロットダイのスロット間隙の調整方法及び光学フィルムの製造方法 |
| JP5109689B2 (ja) * | 2008-01-30 | 2012-12-26 | 大日本印刷株式会社 | ヘッド検査洗浄装置、ヘッド検査洗浄方法 |
| KR100969358B1 (ko) | 2008-06-30 | 2010-07-09 | 주식회사 디엠에스 | 슬릿 노즐 |
| KR101066370B1 (ko) * | 2009-02-18 | 2011-09-20 | 김형섭 | 점성 액체 분사 장치 |
| JP5154510B2 (ja) * | 2009-06-05 | 2013-02-27 | 東京エレクトロン株式会社 | プライミング処理方法及びプライミング処理装置 |
| JP5803217B2 (ja) * | 2011-03-31 | 2015-11-04 | 大日本印刷株式会社 | ダイヘッドおよびダイヘッドのスリットの隙間の大きさの調整方法 |
| JP5983477B2 (ja) * | 2013-03-18 | 2016-08-31 | 三菱マテリアル株式会社 | 塗布工具 |
| JP6697645B1 (ja) * | 2020-03-19 | 2020-05-20 | 日東電工株式会社 | 押出方法 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07106332B2 (ja) * | 1988-08-23 | 1995-11-15 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布装置 |
| JPH0725255Y2 (ja) * | 1989-10-16 | 1995-06-07 | 石川島播磨重工業株式会社 | カーテンコータ |
| JP2961027B2 (ja) * | 1992-11-11 | 1999-10-12 | 三菱重工業株式会社 | 塗工液ノズル |
| JP2512698B2 (ja) * | 1993-12-29 | 1996-07-03 | 中外炉工業株式会社 | 多層ダイコ―タ |
| JP3386656B2 (ja) * | 1996-04-25 | 2003-03-17 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 塗布液の乾燥防止方法及びその装置 |
| JP3629358B2 (ja) * | 1997-11-28 | 2005-03-16 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 処理液塗布装置 |
| JPH11188301A (ja) * | 1997-12-26 | 1999-07-13 | Hirata Corp | 流体塗布装置 |
| JP2002239436A (ja) * | 2001-02-15 | 2002-08-27 | Toray Ind Inc | 塗布装置 |
| JP4315796B2 (ja) * | 2003-12-26 | 2009-08-19 | 大日本スクリーン製造株式会社 | スリットノズルおよび基板処理装置 |
-
2004
- 2004-03-18 JP JP2004078145A patent/JP4522726B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2005
- 2005-03-18 CN CNB2005100551715A patent/CN100400180C/zh active Active
- 2005-03-18 KR KR1020050022508A patent/KR100676243B1/ko active IP Right Grant
- 2005-03-18 TW TW094108423A patent/TWI259109B/zh active
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105629530A (zh) * | 2016-01-19 | 2016-06-01 | 京东方科技集团股份有限公司 | 清洗装置及其使用方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR100676243B1 (ko) | 2007-01-30 |
| CN100400180C (zh) | 2008-07-09 |
| KR20060044374A (ko) | 2006-05-16 |
| JP4522726B2 (ja) | 2010-08-11 |
| TW200602129A (en) | 2006-01-16 |
| JP2005262084A (ja) | 2005-09-29 |
| TWI259109B (en) | 2006-08-01 |
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| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
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| GR01 | Patent grant | ||
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