JP4720096B2 - スロットダイ、スロットダイのスロット間隙の調整方法及び光学フィルムの製造方法 - Google Patents
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- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
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Description
連続走行するウェブの表面にスロットダイの先端リップを近接させて、スロットから塗布液を吐出して塗布するスロットダイであって、該スロットダイがスロット部分で分割可能な少なくとも2つのブロックから構成され、前記2つのブロックがリップからの位置が異なる2つ以上のボルト群で組み上げられており、該ボルト群の各ボルトの締め付け力を増加または減少することによりスロット間隙が調整可能であり、前記スロット部分の少なくとも一方の端に設けたサイドシムプレートの厚みを増加または減少することによりスロット間隙が調整可能であることを特徴とするスロットダイ。
連続走行するウェブの表面にスロットダイの先端リップを近接させて、スロットから塗布液を吐出して塗布する前記スロットダイのスロット間隙の調整方法であって、前記スロットダイがスロット部分で分割可能な少なくとも2つのブロックから構成され、前記2つのブロックがリップからの位置が異なる2つ以上のボルト群で組み上げられており、該ボルト群の各ボルトの締め付け力を増加または減少することによりスロット間隙を調整するとともに、前記スロット部分の少なくとも一方の端に設けたサイドシムプレートの厚みを増加または減少することによりスロット間隙を調整することを特徴とするスロットダイのスロット間隙の調整方法。
連続走行するウェブの表面にスロットダイの先端リップを近接させて、スロットから塗布液を吐出して塗布する光学フィルムの製造方法であって、前記スロットダイがスロット部分で分割可能な少なくとも2つのブロックから構成され、前記2つのブロックがリップからの位置が異なる2つ以上のボルト群で組み上げられており、該ボルト群の各ボルトの締め付け力を増加または減少してスロット間隙が調整するととともに、前記スロット部分の少なくとも一方の端に設けたサイドシムプレートの厚みを増加または減少することによりスロット間隙を調整したスロットダイを用いて塗布することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
光学フィルムの幅が1400〜4000mmであることを特徴とする請求項3に記載の光学フィルムの製造方法。
本発明において使用する支持体としては、特に限定されないが、例えば、ポリエステルフィルム、セルロースエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエーテルスルフォンフィルム、ノルボルネン樹脂フィルム等を挙げることができる。中でもセルロースエステルフィルムが本発明において好ましく、特に、少なくとも一つの方向に延伸したセルロースエステルフィルムが好ましい。
高速液体クロマトグラフィーにより下記条件で測定する。
カラム :MPW×1(東ソー(株)製)
試料濃度 :0.2(質量/体積)%
流量 :1.0ml/分
試料注入量:300μL
標準試料 :ポリメチルメタクリレート(質量平均分子量188,200)
温度 :23℃
また、セルロースエステルを製造中に使用する、または使用材料に微量ながら混在しているセルロースエステル中の金属はできるだけ少ない方が好ましく、Ca、Mg、Fe、Na等の金属の総含有量は100ppm以下が好ましい。
セルロースエステルを溶解しセルロースエステル溶液またはドープ形成に有用な有機溶媒として、塩素系有機溶媒のメチレンクロライド(塩化メチレン)を挙げることができ、セルロースエステル、特にセルローストリアセテートの溶解に適している。非塩素系有機溶媒としては、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン、1,4−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、2,2,2−トリフルオロエタノール、2,2,3,3−ヘキサフルオロ−1−プロパノール、1,3−ジフルオロ−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−メチル−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール、2,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロパノール、ニトロエタン等を挙げることができる。
支持体として使用するセルロースエステルフィルムの製膜方法について述べる。セルロースエステルフィルムは溶液流延製膜方法によ作製する。
本発明に有用な微粒子の分散液を調製する方法とそれをドープに添加する方法としては、例えば以下に示すような三つの方法を挙げることができる。
有機溶媒と微粒子を撹拌混合した後、分散機で分散を行う。これを微粒子分散液とする。微粒子分散液をドープ液に加えて撹拌する。
有機溶媒と微粒子を撹拌混合した後、分散機で分散を行う。これを微粒子分散液とする。別に有機溶媒に少量のセルロースエステルを加え撹拌溶解した液に微粒子分散液を加えて撹拌する。これを微粒子添加液とし、インラインミキサーでドープ液と十分混合する。ここで、下記の微粒子添加液の添加後、紫外線吸収剤を添加してもよい。
有機溶媒に少量のセルロースエステルを加え、撹拌溶解する。これに微粒子を加えて分散機で分散を行う。これを微粒子添加液とする。微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する。
二酸化珪素微粒子を有機溶媒等と混合して分散するときの二酸化珪素の濃度は5〜30質量%が好ましく、10〜25質量%が更に好ましく、15〜20質量%が最も好ましい。
UV−2:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−3:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−4:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
UV−5:2−(2′−ヒドロキシ−3′−(3″,4″,5″,6″−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−6:2,2−メチレンビス(4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール)
UV−7:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
UV−8 :2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン
UV−9 :2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン
UV−10:2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン
UV−11:ビス(2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルフェニルメタン)
紫外線吸収剤としては、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長400nm以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。本発明に係る光学フィルムの紫外線吸収能としては、380nmの波長の光に対して透過率10%以下であることが好ましく、更に好ましくは、透過率6%未満、特に好ましくは透過率0〜4%未満である。
(セルロースアセテートフィルムの作製)
長さ2600m、幅1400mm、膜厚80μmのセルロースアセテートフィルムを下記のように作製した。
セルローストリアセテート(アセチル基置換度2.9) 100質量部
トリフェニルホスフェイト 10質量部
ビフェニルジフェニルホスフェイト 2質量部
チヌビン326(チバスペシャルティケミカルズ(株)製) 0.5質量部
アエロジル R972V(日本アエロジル(株)製) 0.2質量部
メチレンクロライド 405質量部
エタノール 45質量部
以上を密閉型の溶解釜に投入し、攪拌しながら70℃で完全に溶解し、冷却後、安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244を使用して濾過してドープAを得た。調製したドープAをステンレスベルト上に流延し、ステンレスベルト上で、溶媒を蒸発させ、ステンレスベルト上からウェブを剥離した。剥離したウェブをテンター乾燥機に導入し、両端をクリップで把持して幅方向に1.1倍延伸しながら80℃で乾燥させ、110℃、次いで125℃の各乾燥ゾーンを有するロール乾燥機内に配置された多数のロールを通して搬送させながら乾燥を終了させセルロースアセテートフィルムを作製した。
上記セルロースアセテートフィルム上に、下記組成からなるハードコート層液を塗布乾燥してハードコート層を作製した。
下記のものを混合溶解して用いた。
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート2量体 20質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート3量体以上のもの 20質量部
ジエトキシベンゾフェノン光反応開始剤 4質量部
シリコーン系界面活性剤 1質量部
酢酸メチル 75質量部
アセトン 75質量部
〔光学フィルムの作製〕
図7、12に示すボルト群を有するスロットダイ(本発明のスロットダイ)、または図7、12に示すスロットダイから第2のボルト群を除去したスロットダイ(比較例のスロットダイ)を、下記に示すボルト締め付け方法により組み付けた。スロットダイ締め付け用ボルトはM8を用い、また、第1、第2ボルト群の各隣り合うボルトは等間隔である。スロット部は1300mmとした。
テトラエトキシシラン25gとエタノール222gを混合し、これにクエン酸一水和物の1.5質量%水溶液54gを添加した後に、室温にて3時間撹拌してテトラエトキシシラン加水分解物Aを調製した。
上記テトラエトキシシラン加水分解物A 1020質量部
末端反応性ジメチルシリコーンオイル(日本ユニカー社製L−9000)
0.42質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 2700質量部
イソプロピルアルコール 6300質量部
(光学フィルム1の作製)
全ボルトを1000N・cmの力で締付けた図7に示すスロットダイから第2のボルト群を除去したスロットダイを用い、ハードコート層付きセルロースアセテートフィルム上に低屈折率層を塗設した。サイドシムプレートは厚み150μmのものをL、R側に用いた。そのときのスロットダイのスロット間隙の巾手方向分布を図8に示す。スロット間隙は、スロット部分をCCDカメラで撮影し画像処理して求めた。
ボルト4、6、8、10、11、13、15、17、19、21を1500N・cmの力で締め付け、その他のボルトは1000N・cmの力で締付けた図7に示すスロットダイを用い、ハードコート層付きセルロースアセテートフィルム上に低屈折率層を塗設した。サイドシムプレートは厚み150μmのものをL、R側に用いた。そのときのスロットダイのスロット間隙の巾手方向分布を図9に示す。
ボルト4、6、8、10、11、13、15、17、19、21を1500N・cmの力で締め付け、ボルト3、5、7、9、18、20、22を750N・cmの力で締め付け、その他のボルトは1000N・cmの力で締付けた図7に示すスロットダイを用い、ハードコート層付きセルロースアセテートフィルム上に低屈折率層を塗設した。サイドシムプレートは厚み150μmのものをL、R側に用いた。そのときのスロットダイのスロット間隙の巾手方向分布を図10に示す。
ボルト4、6、8、10、11、13、15、17、19、21を1500N・cmの力で締め付け、ボルト3、5、7、9、18、20、22を750N・cmの力で締め付け、その他のボルトは1000N・cmの力で締付けた図7に示すスロットダイを用い、ハードコート層付きセルロースアセテートフィルム上に低屈折率層を塗設した。L側サイドシムプレートは厚み150μm、R側サイドシムプレートは厚み160μmのものを用いた。そのときのスロットダイのスロット間隙の巾手方向分布を図11に示す。
全ボルトを1000N・cmの力で締付けた図12に示すスロットダイから第2のボルト群を除去したスロットダイを用い、ハードコート層付きセルロースアセテートフィルム上に低屈折率層を塗設した。サイドシムプレートは厚み150μmのものをL、R側に用いた。そのときのスロットダイのスロット間隙の巾手方向分布を図13に示す。
ボルト3、9、16を1500N・cmの力で締め付け、ボルト4、10、15を750N・cmの力で締め付け、その他のボルトは1000N・cmの力で締付けた図12に示すスロットダイを用い、ハードコート層付きセルロースアセテートフィルム上に低屈折率膜を塗設した。サイドシムプレートは厚み150μmのものをL、R側に用いた。そのときのスロットダイのスロット間隙の巾手方向分布を図14に示す。
得られた光学フィルムについて、下記方法により巾手方向の膜厚分布を測定した。
○:2%<x≦6%
△:6%<x≦8%
×:8%<x
△が実用可能域下限である。評価の結果を表1に示す。
102 バックバー
103 サイドブロック
104、104′ 第1ボルト群
105、105′ 第2ボルト群
106′ 第3ボルト群
107 リップ
108 スロット
109 ボルト
110 サイドシムプレート
Claims (4)
- 連続走行するウェブの表面にスロットダイの先端リップを近接させて、スロットから塗布液を吐出して塗布するスロットダイであって、該スロットダイがスロット部分で分割可能な少なくとも2つのブロックから構成され、前記2つのブロックがリップからの位置が異なる2つ以上のボルト群で組み上げられており、該ボルト群の各ボルトの締め付け力を増加または減少することによりスロット間隙が調整可能であり、
前記スロット部分の少なくとも一方の端に設けたサイドシムプレートの厚みを増加または減少することによりスロット間隙が調整可能であることを特徴とするスロットダイ。 - 連続走行するウェブの表面にスロットダイの先端リップを近接させて、スロットから塗布液を吐出して塗布する前記スロットダイのスロット間隙の調整方法であって、前記スロットダイがスロット部分で分割可能な少なくとも2つのブロックから構成され、前記2つのブロックがリップからの位置が異なる2つ以上のボルト群で組み上げられており、該ボルト群の各ボルトの締め付け力を増加または減少することによりスロット間隙を調整するとともに、
前記スロット部分の少なくとも一方の端に設けたサイドシムプレートの厚みを増加または減少することによりスロット間隙を調整することを特徴とするスロットダイのスロット間隙の調整方法。 - 連続走行するウェブの表面にスロットダイの先端リップを近接させて、スロットから塗布液を吐出して塗布する光学フィルムの製造方法であって、前記スロットダイがスロット部分で分割可能な少なくとも2つのブロックから構成され、前記2つのブロックがリップからの位置が異なる2つ以上のボルト群で組み上げられており、該ボルト群の各ボルトの締め付け力を増加または減少してスロット間隙が調整するととともに、
前記スロット部分の少なくとも一方の端に設けたサイドシムプレートの厚みを増加または減少することによりスロット間隙を調整したスロットダイを用いて塗布することを特徴とする光学フィルムの製造方法。 - 光学フィルムの幅が1400〜4000mmであることを特徴とする請求項3に記載の光学フィルムの製造方法。
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