CN1757441A - 基板处理装置以及基板处理方法 - Google Patents

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CN1757441A CN 200510107679 CN200510107679A CN1757441A CN 1757441 A CN1757441 A CN 1757441A CN 200510107679 CN200510107679 CN 200510107679 CN 200510107679 A CN200510107679 A CN 200510107679A CN 1757441 A CN1757441 A CN 1757441A
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Abstract

本发明提供一种基板处理装置及其方法,能够使狭缝喷嘴状态最佳化,抑制涂覆不均。在狭缝喷嘴(41)中,将第一突出部(410)的第一突出面(410a)配置在比第二突出部(411)的第二突出面(411a)仅低高度差D的位置。进行让狭缝喷嘴(41)沿与正式涂覆处理中的狭缝喷嘴(41)的扫描方向((+X)方向)的相反方向((-X)方向)扫描的同时,向作为预备涂覆构件的辊(71)涂覆抗蚀液的预备涂覆处理。进行使通过预备涂覆处理被正常化的狭缝喷嘴(41)沿(+X)方向扫描的同时向基板(90)涂覆抗蚀液的正式涂覆处理。

Description

基板处理装置以及基板处理方法

技术领域

本发明涉及一种向液晶用玻璃方形基板、半导体晶片、薄膜液晶用柔性基板、光掩膜用基板、滤色器用基板等基板(以下,仅称为“基板”)的表面涂覆光致抗蚀剂等处理液的技术。更详细的说,是涉及一种使喷嘴的状态正常化以提高涂覆精度的技术。

背景技术

一直以来,公知有向基板的表面涂覆光致抗蚀剂等处理液的基板处理装置。作为这种基板处理装置,公知的有使用具有狭缝状喷出部的狭缝喷嘴进行形成涂层的涂覆处理(狭缝涂覆)的狭缝式涂覆机。在涂覆后不进行用于使涂层厚度均匀的旋转处理的狭缝式涂覆机中,涂覆层厚波动(以下称为“涂覆不均”)会导致其产品的配线宽度等的不良(不良原因)。

为了不产生此涂覆不均,让狭缝喷嘴处于适合涂覆处理的规定状态是比较理想的。更具体的说,如图11以及图12的侧视图所示,狭缝喷嘴341的前端部在整个其长度方向都处于在狭缝喷嘴341下端面不存在处理液B的状态(图11)、或是、处于在狭缝喷嘴341的下端面薄且均匀地形成有处理液B的积液的状态(图12)是理想的。就是说,狭缝喷嘴341的前端部,无论是纵向还是横向都处于均匀的状态才是理想的。

但是,如果反复进行涂覆处理的话,如图13所示,就会在狭缝喷嘴341的前端部的侧面等处附着处理液Ba。这样附着的处理液Ba,会干涉从喷出口341a排出的处理液B,而使涂覆处理的精度降低,成为涂覆不均的原因。在为了消除此状况的狭缝式涂覆机中,进行了使用清洗液清洗狭缝喷嘴的前端部的清洗处理。但是,即使进行这样的清洗处理,如图14所示,清洗液R(或是空气)也会进入到喷出口341a内,所以,单单通过清洗处理想把狭缝喷嘴的前端部调整到均匀的规定状态是很难的。

为此,公知有从前的恢复狭缝喷嘴状态的各种技术,例如专利文献1中的方案。

专利文献1中,记载了在狭缝喷嘴的侧面等部位涂覆憎水性材料,使不需要的处理液不能附着那样的加工技术。但是,因为只对1m、或其以上的狭缝喷嘴的前端实施涂覆,就会产生增大成本,狭缝喷嘴价格高这样的问题。此外,因为涂覆处理要伴随着热处理,恐怕会导致狭缝喷嘴的歪斜。

此外,在狭缝式涂覆机中,在狭缝喷嘴接近旋转的略呈圆筒状的辊的外表面的状态,喷出一定量的处理液,由此,实现将狭缝喷嘴的前端部调整到如图11,图12所示的均匀的规定状态(例如参照专利文献2、3)。此处理因为是在对原来的基板进行涂覆处理(正式涂覆处理)之前做,所以被称为“预备涂覆处理(预排出)”。

【专利文献1】JP特开2002-282760公报【专利文献2】JP特开2001-310147号公报【专利文献3】JP特开2004-167476号公报但是,只做上述预备涂覆处理很难让狭缝喷嘴的状态完全达到最佳化。因此,例如,每进行了规定次数的处理、或是每经过了规定的时间,就需要进行狭缝喷嘴的清洗处理等。并且在进行狭缝喷嘴的清洗处理时因为要中断涂覆处理,所以会降低生产率。因此,关于使喷嘴的状态正常化的技术还需要作进一步的改善。

另外,通过预备涂覆处理附着在辊外表面的处理液,在与规定的清洗液混合后,由与旋转的辊的外圆周面接触的长尺状刮板,从辊的外圆周面刮离除去。一般地,此刮板由杨氏模量为610MPa~6530MPa的聚乙烯、聚缩醛、聚酯等塑料构成。

近年来,伴随着基板尺寸的大型化,对狭缝式涂覆机的狭缝喷嘴的尺寸要求也趋于长大化,由此,辊的长度方向的尺寸也趋于长大化。

但是,辊变长变大后,在辊的加工或是安装过程中会发生偏心,或是由于安装的辊的自重在辊的长度方向发生微小的挠曲。由此,在严密的级别(μm级别)中,将辊的外圆周而在长度方向进行的直线的安装就变得很困难。

另一方面,用于除去辊上的附着物的上述刮板,沿着辊的长度方向大致直线地安装着。因此,如果辊的外圆周面在长度方向不是直线,在外周面面的一部分就会产生刮板向辊的按压力变弱的地方或是刮板和辊接触不到的地方。其结果是,在辊的外圆周面,产生无法由刮板除去的部分残留物,而这些残留物会阻碍狭缝喷嘴向规定状态的调整。

发明内容

本发明是鉴于上述课题而提出的,以让狭缝喷嘴的状态最佳化,抑制涂覆不均为第一个目的。

此外,本发明是以在整个辊的长度方向,除去辊上的附着物为第二目的。

为了解决上述课题,实施方案1所述的发明是给基板涂覆处理液的基板处理装置,其特征在于,具有保持基板的保持机构,在沿第一方向扫描保持在上述保持机构的基板的同时,从喷出口向上述基板喷出处理液的狭缝喷嘴,由上述狭缝喷嘴涂覆处理液的预备涂覆构件,以使上述狭缝喷嘴沿与上述第一方向大致反向的第二方向扫描上述预备涂覆构件的表面的方式,使上述狭缝喷嘴和上述预备涂覆构件的表面相对移动的移动机构;上述狭缝喷嘴具有位于上述喷出口的上述第一方向侧的第一突出面和位于上述喷出口的上述第二方向侧的第二突出面;上述第一突出面比上述第二突平面更向处理液的喷出方向突出。

此外,实施方案2的发明是实施方案1所述的基板处理装置,其特征在于,上述预备涂覆构件是大致圆筒状的构件,上述移动机构以使上述狭缝喷嘴沿上述第二方向扫描上述预备涂覆构件的表面的方式,使上述预备涂覆构件在轴心周围旋转。

此外,实施方案3的发明是实施方案2所述的基板处理装置,其特征在于,还具有使第一突出面比第二突出面更突出的调整机构。

此外,实施方案4的发明是实施方案1~3中的任意一项所述的基板处理装置,其特征在于,第一突出面比第二突出面突出30μm或其以上。

此外,实施方案5的发明是实施方案2所述的基板处理装置,其特征在于,还具有通过与上述预备涂覆构件的表面接触,除去该表面上的附着物的长尺状刮板,上述刮板由杨氏模量在1MPa~20MPa范围内的弹性体构成。

此外,实施方案6的发明是实施方案2所述的基板处理装置,其特征在于,还具有通过与上述预备涂覆构件的表面接触,除去该表面上的附着物的长尺状刮板,上述刮板由橡胶构成。

此外,实施方案7的发明是从设在狭缝喷嘴的喷出口喷出处理液,来给基板涂覆处理液的基板处理方法,其特征在于,具有保持基板的保持工序,上述狭缝喷嘴沿第一方向扫描在上述保持工序中被保持的上述基板的同时,给上述基板涂覆处理液的正式涂覆工序,以及,以使上述狭缝喷嘴沿着与上述第一方向大致反向的第二方向扫描的方式,使上述狭缝喷嘴与预备涂覆构件的表面相对移动,同时向上述预备涂覆构件涂覆处理液的预备涂覆工序;在上述正式涂覆工序以及上述预备涂覆工序中,将设在上述喷出口的上述第一方向侧的第一突出面,配置在比设在上述喷出口的上述第二方向侧的第二突出面更低的位置。

此外,实施方案8的发明是实施方案2所述的基板处理方法,其特征在于,上述预备涂覆工序在上述正式涂覆工序之前执行,上述正式涂覆工序在上述预备涂覆工序之后立刻执行。

此外,实施方案9的发明是给基板涂覆处理液的基板处理装置,该装置具有,沿着大致水平的第三方向延伸,在与第三方向垂直的大致水平的第四方向,相对上述基板进行相对移动,同时能够向上述基板喷出上述处理液的狭缝喷嘴,以及沿着上述第三方向延伸,通过从上述狭缝喷嘴向外圆周面喷出上述处理液,将上述狭缝喷嘴的前端部调整到规定状态的大致圆筒状的辊,以及沿着上述第三方向延伸,通过与上述辊的上述外圆周面接触,除去上述外圆周面上的附着物的长尺状刮板,上述刮板由杨氏模量在1MPa~20MPa范围内的弹性体构成。

此外,实施方案10的发明是给基板涂覆处理液的基板处理装置,该装置具有,沿着大致水平的第三方向延伸,在与第三方向垂直的大致水平的第四方向,相对上述基板进行相对移动,同时能够向上述基板喷出上述处理液的狭缝喷嘴,以及沿着上述第三方向延伸,通过从上述狭缝喷嘴向外圆周面喷出上述处理液,将上述狭缝喷嘴的前端部调整到规定状态的大致圆筒状的辊,以及沿着上述第三方向延伸,通过与上述辊的上述外圆周面接触,除去上述外圆周面上的附着物的长尺状刮板,上述刮板由橡胶构成。

此外,实施方案11的发明是实施方案9或10所述的基板处理装置,上述刮板的厚度在0.5mm~10mm的范围内。

此外,实施方案12的发明是实施方案9或10所述的基板处理装置,还具有可以在上述第三方向部分调整上述刮板对上述辊的按压力的调整机构。

此外,实施方案13的发明是实施方案12所述的基板处理装置中,上述调整机构通过在上述第三方向部分变更相对于上述辊的上述刮板的角度,来调整上述按压力。

在实施方案1~8所述的发明中,沿第一方向扫描被保持的基板,同时从喷出口向基板喷出处理液的狭缝喷嘴的第一突出面,比第二突出面更向处理液的喷出方向突出,通过使上述狭缝喷嘴和预备涂覆构件的表面相对移动,使得沿与上述第一方向大致反向的第二方向扫描预备涂覆构件的表面,从而可以抑制涂覆不均。

在实施方案2所述的发明中,预备涂覆构件是大致圆筒状的构件,移动机构使上述预备涂覆构件在轴心周围旋转,使得上述狭缝喷嘴沿上述第二方向扫描上述预备涂覆构件的表面,由此,可以谋求装置的小型化。

在实施方案3所述的发明中,由于还具备使第一突出面比第二突出面更突出的调整机构,例如可以对应于所使用的处理液的种类进行位置调整。

在实施方案8所述的发明中,预备涂覆工序在正式涂覆工序之前执行,正式涂覆工序在预备涂覆工序之后立刻执行,由此,因为在将狭缝喷嘴的状态调整到最佳化之后立刻执行对基板的正式涂覆处理,可以高精度地涂覆处理液。

根据实施方案5、6、以及9~13所述的发明,因为刮板可以沿辊的外圆周面形状变形,即使辊发生了自重挠曲或是偏心,也可以在整个第三方向,刮板与辊的外圆周面接触。因此,可以在整个第三方向除去辊上的附着物。

此外,特别的根据实施方案11所述的发明,可以取得刮板的耐久性和变形性能之间的平衡。

此外,特别的根据实施方案12以及13所述的发明,因为可以在第三方向上部分调整上述刮板对上述辊的按压力,所以即使在第三方向的某个地方刮板的按压力比较弱,也可以对此进行调整,在整个第三方向,除去辊上的附着物。此外,特别的,根据实施方案13所述的发明,可容易地变更此按压力。

附图说明

图1是表示本发明的实施方式涉及的基板处理装置的概略的立体图。

图2是主要表示开口部内的预备涂覆机构的结构的侧视图。

图3是表示安装在预备涂覆位置的狭缝喷嘴的图。

图4是表示基板处理装置动作的流程图。

图5是表示执行正式涂覆处理时发生涂覆不均的结果的图。

图6是表示狭缝式涂覆机的概略结构的立体图。

图7是表示喷嘴调整部结构的侧视图。

图8是表示清洗液的供给系统以及排出系统的图。

图9是详细表示附着物除去部的结构的图。

图10是表示上方螺栓的安装的图。

图11是表示狭缝喷嘴的前端部的正常状态的一个例子的图。

图12是表示狭缝喷嘴的前端部的正常状态的一个例子的图。

图13是表示狭缝喷嘴的前端部的不良状态的一个例子的图。

图14是表示狭缝喷嘴的前端部的不良状态的一个例子的图。

具体实施方式

下面,参照附图详细地说明本发明适用的实施方法。

<1.第一实施方式>

<1-1.基板处理装置的结构>

图1是表示本发明的第一实施方式涉及的基板处理装置即狭缝式涂覆机1的概略的立体图。另外,在图1中,为了图示以及说明的方便,定义Z轴方向表示铅垂方向,XY平面表示水平面,但是这只是为了方便把握位置关系而定义的,并不限定下面说明的各个方向。对以下的图也是同样。

狭缝式涂覆机1可以大致分为涂覆处理部2和控制部8,并把用于制造液晶显示装置的画面面板的方形玻璃基板作为被处理基板(以下仅称为“基板”)90,狭缝式涂覆机1是在有选择性的蚀刻在基板90表面所形成的电极层等的工艺过程中,在基板90的表面上涂覆作为处理液的抗蚀液的涂覆处理装置。因此,在此实施方式中,狭缝喷嘴41喷出抗蚀液。另外,狭缝式涂覆机1不仅可用于液晶显示装置用的玻璃基板,一般地,还可以作为用于在纯平显示器用的各种基板上涂覆处理液的装置来变形利用。

涂覆处理部2具有载物台3,其具有作为载置并保持基板90的保持台的功能的同时,还发挥作为附属的各机构的基座的功能。载物台3是长方体形状的如一个整体石块制成的,其上面(保持面30)以及侧面被加工为平坦的表面。

载物台3的上表面是水平面,是基板90的保持面30。保持面30上分布形成了未图示的多个真空吸附口,在狭缝式涂覆机1处理基板90的过程中,通过吸着基板90,将基板90保持在规定的水平位置上。此外,在保持面30上以适宜的间隔设置有通过未图示的驱动机构在上下自由升降的多个升降销LP。升降销LP用于在取下基板90时推升基板90。

在保持面30中,在夹持基板90的保持区域(保持基板90的区域)的两端部,固定设置了大致平行于水平方向而伸展的一对移动轨道31。移动轨道31,与在架桥构造4的两端部的最下方固定设置的未图示的支承块一起,构成了引导(将移动方向规定为规定方向)架桥构造4移动并将架桥构造4支承在保持面30的上方的线性导轨。

在载物台3的上方,设置了从此载物台3的两侧部分开始略水平架设的架桥构造4。架桥构造4主要由如以碳素纤维加强树脂为骨架材料的喷嘴支承部40、支承其两端的升降机构43、44构成。

在喷嘴支承部40安装了狭缝喷嘴41。在图1的Y轴方向上有长度方向的狭缝喷嘴41上,连接着向狭缝喷嘴41供给抗蚀液的配管和含有抗蚀液用泵等的抗蚀液供给机构(未图示)。狭缝喷嘴41一面扫描基板90的表面,一面向基板90表面的规定区域(以下称为“抗蚀液涂覆区域”)喷出通过抗蚀液用泵供给的抗蚀液,由此向基板90涂覆抗蚀液。另外,所谓抗蚀液涂覆区域是在基板90的表面上要涂覆抗蚀液的区域,通常是从基板90的全部面积中除去了沿着边缘的规定宽度的区域的区域。

此外,狭缝喷嘴41,不光涂覆基板90,其也一面扫描预备涂覆辊71(图2)的表面,一面涂覆抗蚀液。在后面会详细说明狭缝式涂覆机1的这些动作。

升降机构43、44,分在狭缝喷嘴41的两侧,通过喷嘴支承部40与狭缝喷嘴41相连接。升降机构43、44主要由AC伺服电动机43a、44a以及未图示的滚珠螺杆构成,基于从控制部8得到的控制信号产生架桥构造4的升降驱动力。由此,升降机构43、44,可以让狭缝喷嘴41并进的升降。此外,升降机构43、44也可以用于调整狭缝喷嘴41在YZ平面内的姿势。

在架桥构造4的两端部,沿着载物台3的两侧的边缘,分别固定安装着各具有固定元件(定子)50a和移动元件50b以及固定元件51a和移动元件51b的一对AC无芯线性电动机(以下仅简称为“线性电动机”)50、51。此外,在架桥构造4的两端部,分别固定安装了各具备刻度部和检测件的线性编码器52、53。线性编码器52、53算出线性电动机50、51的位置。以这些线性电动机50、51和线性编码器52、53为主,构成用于架桥构造4向行走轨道31被引导,同时在载物台3上移动的行走机构。控制部8,基于来自线性编码器52、53的检测结果,控制线性电动机50、51的动作,控制架桥构造4在载物台3上的移动,就是说控制狭缝喷嘴41对基板90的扫描。

在涂覆处理部2的保持面30上,在保持区域的(-X)方向一侧,设置有开口32。开口32跟狭缝喷嘴41相同,以Y轴方向为长度方向,并且,该长度方向的长度与狭缝喷嘴41的长度方向的长度大致相同。

图2是主要表示开口32内的预备涂覆机构7的结构的侧视图。在图1中虽然省略图示,但是在开口32的下方的涂覆处理部2的内部设置了预备涂覆机构7。

预备涂覆机构7,在向基板90涂覆抗蚀液的涂覆(正式涂覆处理)之前执行的预备涂覆处理(后述)中使用。预备涂覆机构7,具有筐体70、预备涂覆辊(以下仅称为“辊”)71、旋转机构72、以及附着物除去部74。附着物除去部74具有清除液体用的刮板73。

如图2所示,筐体70是以从上面露出辊71的一部分的方式安装的大致呈箱状的构件。在筐体70的内部,存积有用于浸入辊71的涂覆面的一部分的一定量的清洗液。另外,虽然没有详细的图示,但是存积的清洗液,由清洗液供给部供给,通过溢出或是排泄向筐体70外排出。此外,虽然清洗液是含有抗蚀液的溶剂成分的挥发性液体是比较理想的,但是当然不仅限于此。

圆筒状辊71,其圆筒面在预备涂覆处理过程中通过狭缝喷嘴41进行扫描,构成涂覆了抗蚀液的涂覆面。即辊71相当于本发明中的预备涂覆构件。辊71的圆筒中心是轴心P,辊71以轴心P沿Y轴方向的方式配置。由旋转机构72向辊71的轴心P传递旋转驱动力。

旋转机构72,虽没有详细的图示,但其是由生成旋转驱动力的旋转电动机以及传递该旋转驱动力的连接构件等构成的机构。通过该旋转电动机生成的旋转驱动力经由连接构件传递给辊71,使辊71在图2按顺时针旋转。由此,辊71的涂覆面和狭缝喷嘴41相对地移动。

此外,旋转机构72通过使辊71旋转,使辊71的涂覆面浸入存积的清洗液中。此外,在涂覆面中浸入到清洗液中的部分,通过辊71的旋转从清洗液中捞起。

这样,在预备涂覆机构7中,通过将辊71的涂覆面浸入清洗液中,清洗并除去在预备涂覆处理过程中涂覆到涂覆面上的抗蚀液。另外,作为清洗涂覆面的机构,并不限于这样的浸渍清洗机构,例如,也可以在筐体70内设置向涂覆面喷出清洗液的喷嘴。

在筐体70的内部,固定安装了具有清除液体用的刮板73的附着物除去部74。刮板73在向辊71的涂覆面轻微按压的状态,在Y轴方向均匀的接触辊。在此状态,如果辊71旋转,刮板73与涂覆面相对移动,刮板73将涂覆面的附着物拨离除去。

预备涂覆机构7在进行预备涂覆处理时,通过走行机构以及升降机构43、44,将狭缝喷嘴41配置在图2所示的位置(以下称为“预备涂覆位置”)。即,在预备涂覆处理过程中,狭缝喷嘴41几乎处于静止状态。

图3是表示安装在预备涂覆位置的狭缝喷嘴41的图。狭缝喷嘴41被安装在喷嘴支承部40的下方,具有第一突出部410、第二突出部411以及薄垫板412。

如图3所示,第一突出部410和第二突出部411是形状大致相同的构件,并且它们以几乎对置的方式配合,从而构成了狭缝喷嘴41。第一突出部410的下端是在大致水平方向上配置的第一突出面410a。同样地,第二突出部411的下端是在大致水平方向上配置的第二突出面411a。此外,第一突出面410a以及第二突出面411a,都是在狭缝喷嘴41涂覆抗蚀液时,与涂覆对象物(基板90或是辊71)的表面对置的面。

狭缝式涂覆机1中,在第一突出部410和第二突出部411之间形成的空间成为狭缝喷嘴41内的抗蚀液的流路(未图示),该流路的(-Z)方向的开口部形成喷出口(狭缝)41a。通过这样的结构,第一突出面410a配置在喷出口41a的(+X)方向侧,第二突出面411a配置在喷出口41a的(-X)方向侧。

如图3所示,第一突出部410隔着薄垫板412安装在喷嘴支承部40。因此,第一突出面410a在(-Z)方向上仅比第二突出面411a突出薄垫板412的Z轴方向的厚度部分(高度差D)。这样通过使用厚度不同的薄垫板412,薄垫板412就可以具有调整第一突出面410a和第二突出面411a间高度差的调整机构的功能。另外,在本实施方式的狭缝式涂覆机1中,因为Z轴方向表示垂直方向,所以第一突出面410a配置在比第二突出面411a低的位置。

狭缝式涂覆机1中,从未图示的供给口向狭缝喷嘴41供给抗蚀液,此抗蚀液流过狭缝喷嘴41内的流路,从喷出口41a向(-Z)方向喷出。即,第突出面410a比第二突出面411a仅在(-Z)方向突出高度差D,在狭缝式涂覆机1中抗蚀液的喷出方向是(-Z)方向,所以第一突出面410a在喷出方向比第二突出面411a突出。换言之,这意味着在涂覆处理中(正式涂覆处理以及预备涂覆处理),狭缝喷嘴41的第一突出面410a比第二突出面411a更接近涂覆对象物。

回到图1,控制部8内部具备按照程序处理各种数据的运算部80、存储程序和各种数据的存储部81。此外,在其前表面还具备用于操作人员对狭缝式涂覆机1输入必要的指示的操作部82、以及显示各种数据的显示部83。

控制部8通过图1中未图示的电缆与附属于涂覆处理部2的各机构电连接。控制部8,基于来自操作部82的输入信号或是来自未图示的各种传感器等的信号,来控制升降机构43、44的升降动作、行走机构的狭缝喷嘴41的扫描动作,甚至旋转机构72的狭缝喷嘴41的扫描动作。

作为存储部81的具体的例子,有暂时存储数据的RAM、只读的ROM以及磁盘装置等。但是,用便携式光盘或是存储卡等记录介质、以及读取它们的装置来代替存储部81也是可以的。此外,操作部82中应该有按钮以及开关类等(包含键盘或鼠标等)部分,另外也可以具备兼有触控式显示屏那样的显示部83的功能。显示部83中应该具有液晶显示屏或是各种指示灯等。

<1-2.基板处理装置的动作>

接下来,概述狭缝喷嘴41涂覆抗蚀液的动作。另外,一般情况下,以下的动作都是根据来自控制部8的控制信号进行控制的。

图4是表示狭缝式涂覆机1动作的流程图。狭缝式涂覆机1中,通过操作人员或是未图示的搬运机构,将基板90交付给升降销LP。升降销LP,一接收到基板90就开始下降,并埋没到载物台3中,从而将接收到的基板90装载到保持面30。由此,基板90被装载到载物台3的保持面30的规定位置,进而被吸附保持(步骤S1)。

与这样的基板90的搬入处理不同,狭缝式涂覆机1中,在正式涂覆处理之前,先执行使狭缝喷嘴41的前端部的状态恢复的最佳化处理,即预备涂覆处理(步骤S2)。

在预备涂覆处理中,首先,线性电动机50、51使狭缝喷嘴41沿X轴方向移动,并配置于预备涂覆机构7的辊71的上方。接下来,升降机构43、44一面调整狭缝喷嘴41在YZ平面内的姿势,一面使狭缝喷嘴41接近辊71的涂覆面。由此,狭缝喷嘴41移动到预备涂覆位置(图2以及图3)。

狭缝喷嘴41向预备涂覆位置的移动结束后,按照从控制部8来的控制信号,抗蚀液供给机构对狭缝喷嘴41供给抗蚀液,据此,抗蚀液从狭缝喷嘴41的喷出口41a喷出。并且,与喷出抗蚀液同步,通过旋转机构72旋转辊71,执行向涂覆面涂覆抗蚀液,即执行预备涂覆处理。

此时,虽然狭缝喷嘴41几乎呈静止状态,但是通过旋转机构72旋转辊71,狭缝喷嘴41与涂覆面做相对的移动。即狭缝式涂覆机1中,通过旋转机构72旋转涂覆面,实现在预备涂覆处理中狭缝喷嘴41的扫描。

在预备涂覆处理中涂覆面的旋转方向是图2以及图3中的顺时针方向。因此,在预备涂覆处理中狭缝喷嘴41与涂覆面的相对移动方向是曲线。但是,辊71中被涂覆抗蚀液的部分(在涂覆瞬间进行扫描的部分)是,辊71的最高到达点(Z轴方向的坐标最大值)。因此,即使在例如涂覆面做旋转运动时,涂覆瞬间的狭缝喷嘴41的扫描方向是旋转方向的切线方向,即(-X)方向。

虽然后面有说明,但是狭缝式涂覆机1中的正式涂覆处理过程中,狭缝喷嘴41沿(+X)方向扫描基板90。因此,在预备涂覆处理过程中,狭缝喷嘴41的扫描方向与正式涂覆处理中扫描方向几乎反方向。即在本实施方式的狭缝式涂覆机1的预备涂覆处理中,第一突出部410配置于扫描方向的后方,第二突出部411配置于扫描方向的前方。

涂覆面中涂覆了抗蚀液的区域,由辊71的旋转依次浸入存积于筐体70下部的清洗液中。即涂覆于涂覆面上的抗蚀液通过清洗液直接被清洗除去。进而,通过辊71的旋转,从清洗液中捞出浸入到清洗液中的涂覆面,涂覆面的清洗处理完成。

涂覆面中清洗处理完成了的区域,通过辊71的旋转,由刮板73刮掉附着物(主要是清洗液或是抗蚀液的残留物等)。这样一来,通过刮板73进行除去处理。

辊71的涂覆面中,通过预备涂覆处理涂覆了抗蚀液的区域,就这样除去被涂覆的抗蚀液,再返回涂覆抗蚀液的位置(最高到达点)。由此,通过辊71的涂覆面使狭缝喷嘴41处于未被污染的状态。

从狭缝喷嘴41喷出规定量的抗蚀液,一旦完成预备涂覆处理,在线性电动机50、51将狭缝喷嘴41移动到涂覆开始位置的同时,升降机构43、44将狭缝喷嘴41的高度调节到规定的高度。涂覆开始位置就是狭缝喷嘴41几乎沿着基板90的抗蚀液涂覆区域的(-X)侧端边的位置。

这些位置调整一完成,在抗蚀液供给机构向狭缝喷嘴41供给抗蚀液的同时,线性电动机50、51将架桥构造4以规定的速度向(+X)方向移动,从而向基板90涂覆抗蚀液即进行正式涂覆处理(步骤S3)。这样,在本实施方式的狭缝式涂覆机1中,在正式涂覆处理中,狭缝喷嘴41的扫描方向是(+X)方向,和预备涂覆方向的扫描方向即(-X)方向为反方向。

另外,在本实施方式的狭缝式涂覆机1中,狭缝喷嘴41在从预备涂覆位置向涂覆开始位置移动的过程中,从抗蚀液供给机构排出少量的抗蚀液,使得在狭缝喷嘴41的前端部形成抗蚀液的积液。由此,在狭缝喷嘴41接近基板90的时候,在Y轴方向上形成均匀的弯月面,进而提高涂覆精度。

在这里,与其他的方法比较说明执行本实施方式的狭缝式涂覆机1那样的预备涂覆处理(步骤S2)以及正式涂覆处理(步骤S3)时的效果。

图5是表示执行正式涂覆处理时发生涂覆不均的结果的图。另外,在预备涂覆处理中,使狭缝喷嘴的前端对准预备涂覆构件即辊的最高到达点和该辊与狭缝喷嘴的距离,在任意的情况下都为相同的条件。此外,在辊旋转方向中,“顺方向”就是表示预备涂覆处理的扫描方向与正式涂覆处理的扫描方向几乎一致的情况,“逆方向”就是表示预备涂覆处理的扫描方向与正式涂覆处理的扫描方向几乎相反的情况。此外,“突出部高度差”就是本实施方式中的高度差D的值,即表示在正式涂覆处理中配置在扫描方向前方的前突出部(相当于第一突出部410)相对于配置在后方的后突出部(相当于第二突出部411)向喷出方向突出多少的值。进而,图5的涂覆不均发生状况,用记号表示以下结果。

×:从第一张基板开始即发生不均条纹。△:涂覆若干张后发生不均条纹。○:在做了100张连续处理的情况下很少发生不均条纹。◎:即使做了100张连续处理也没有发生不均条纹。在这里,100张连续处理的意思是在途中没有进行狭缝喷嘴的清洗处理的连续处理,而不是只连续地执行正式涂覆处理。

在突出部高度差为“0”的时候(图5中1、6号),不依赖于预备涂覆处理的扫描方向,在涂覆若干张后发生了不均条纹。因为这是狭缝喷嘴的突出部都不突出情况,所以跟以往装置的处理大致相同。从图5表示的结果可知,在以往的装置中,每处理了规定张数,就需要进行狭缝喷嘴的清洗处理。造成这样结果的理由可以认为是因为依赖于狭缝喷嘴的突出部的干燥状态,抗蚀液附着于狭缝喷嘴前端部侧面,或是在预备涂覆构件即辊的积液控干后或在狭缝喷嘴与基板接近前后,在狭缝喷嘴的前端部没有形成均匀的积液等理由,导致基板与抗蚀液的接触形状不稳定。

突出部高度差为“负”并为“顺方向”的时候(图5中2、3号),涂覆若干张后发生不均条纹。可以认为这是因为后突出部侧的抗蚀液变得不均匀结果导致发生不均条纹。即在前突出部比后突出部退出的情况下(前突出部位置较高的情况下),让预备涂覆处理的扫描方向与正式涂覆处理的扫描方向一致之后,通过每进行规定张数后的清洗处理,可以进行与以往装置相同程度的处理。

但是,突出部高度差为“负”并为“逆方向”的时候(图5中7、8号),从第一张开始即发生不均条纹,比以往的装置的涂覆精度还低。可以认为这是因为经预备涂覆处理抗蚀液在后突出部侧面不均匀地被推高,反而促进了不均条纹的发生。

突出部高度差为“正”并为“顺方向”的时候(图5中4、5号),从第一张开始即发生不均条纹,比以往的装置的涂覆精度还低。可以认为这是因为经预备涂覆处理在后突出部侧的抗蚀液不均匀,结果反而促进了不均条纹的发生。

另一方面,与本实施方式的狭缝式涂覆机1相同,突出部高度差为“正”并预备涂覆处理中的扫描方向是“顺方向”的时候(图5中9、10号),与以往的装置相比较,可以让涂覆不均的发生锐减。具体来说,如果突出部高度差为“30μm”,可以将涂覆不均的发生抑制在做100张连续处理时很少发生不均条纹的程度。特别的,当突出部高度差为“70μm”时,即使进行100张连续处理也不会发生不均条纹。

以上,如用图5说明那样,只是突出部高度差为“正”的话,并不会提高涂覆精度,在如图5所示4、5号的等情况下,有可能变坏。为了抑制涂覆不均,除了让突出部高度差为“正”,还需要让预备涂覆处理中狭缝喷嘴的扫描方向与正式涂覆处理中狭缝喷嘴的扫描方向相反。

在本实施方式的狭缝式涂覆机1,因为满足此条件,与以往的装置相比可以抑制涂覆不均的发生。另外,在狭缝喷嘴设置突出部高度差不会使装置结构徒然的复杂化。此外,即使变更了在预备涂覆处理中狭缝喷嘴的扫描方向也几乎不会由此导致成本上升。即,狭缝式涂覆机1是在抑制成本增加的同时可以实现的装置。

此外,根据图5,狭缝式涂覆机1,虽然通过使突出部高度差为“30μm、或其以上”时与以往的装置相比就可以抑制涂覆不均,但是如果是“70μm、或其以上”的话就更理想了。另外,虽然图5中没有表示,但是作为突出部高度差的上限值,突出部高度差为“200μm、或其以下”时,是有抑制涂覆不均的效果的,“100μm、或其以下”是比较理想的。

回到图4,狭缝喷嘴41沿(+X)方向移动,当到达抗蚀液涂覆区域的(+X)侧端边时,步骤S3的正式涂覆处理完成。此外,当正式涂覆处理完成时,通过线性电动机50、51使架桥构造4移动,将狭缝喷嘴41复位到待机位置。另外,待机位置是狭缝喷嘴41未进行处理时的待机的位置,即运入搬出基板90的时候,基板90与狭缝喷嘴41不发生干涉的位置。

当狭缝喷嘴41移动到待机位置时,载物台3的保持面30就停止吸附基板90,基板90被搬出到装置外(步骤S4)。进而,狭缝式涂覆机1,进行要继续处理的其他基板90存在与否的判定(步骤S5),当其他的基板90存在时,返回步骤S1重复进行处理。相反,如果需要处理的其他基板90不存在,就结束处理。

如上,在本实施方式的狭缝式涂覆机1中,狭缝喷嘴41的第一突出面410a比第二突出面411a在抗蚀液的喷出方向((-Z)方向)更突出,在正式涂覆处理中,一边在基板90沿(+X)方向扫描,一边从喷出口41a向基板90喷出处理液的同时,通过旋转机构72使狭缝喷嘴41与辊71做相对的移动,以便在预备涂覆处理中,狭缝喷嘴41沿与(+X)方向几乎相反的(-X)方向扫描辊71的涂覆面,从而不需要花费什么成本,就可以抑制涂覆不均。

此外,辊71是略呈圆筒状的构件,旋转机构72以辊71为轴心旋转,使得狭缝喷嘴41沿(-X)方向扫描辊71的涂覆面,从而与例如在板状预备涂覆构件上进行预备涂覆的情况相比,可以谋求装置的小型化。

此外,作为使第一突出面410a比第二突出面411a更突出的调整机构,通过具有薄垫板412就可以例如根据所使用的抗蚀液的种类来调整位置(调整高度位置)。

此外,通过在正式涂覆处理开始之前进行预备涂覆处理,通过预备涂覆处理将狭缝喷嘴41调整到最佳状态,因为可以在此状态开始正式涂覆处理,所以可以比较高精度地进行正式涂覆处理。

<1-3.变形例>

以上,虽然说明的是本发明的第一实施方式,但是本发明并不限定于上述第一实施方式,而可以作各种各样的变形。

例如,预备涂覆构件并不限于辊71那样的圆筒形状构件。例如,也可以是配置在大致水平方向的板状构件。使用这样的板状构件作为预备涂覆构件时,在预备涂覆处理中,线性电动机50、51也是可以使狭缝喷嘴41和预备涂覆构件相对移动的。

此外,图4所示的处理次序,并不限定于此。例如步骤S1保持基板90的处理,也可以在步骤S2的预备涂覆处理之后进行,这两个处理还可以同时进行。即只要是能得到同样效果的次序,无论按什么样的顺序执行处理都可以。

此外,作为用于使第一突出面410a比第二突出面411a在喷出方向上更突出的方法,也不限定于上述实施方式所示的使用薄垫板412的方式。例如可以预先将第一突出部410制造成比第二突出部411在(-Z)方向长的构件,还可以设置调整弹簧那样的机构,用于使第一突出面410在(-Z)方向上突出。

<2.第二实施方式>

<2-1.基板处理装置的概要>

图6是表示本发明的第二实施方式涉及的基板处理装置即狭缝式涂覆机210的概略结构的立体图。狭缝式涂覆机210是进行向基板290的表面涂覆作为处理液的抗蚀液的、被称为狭缝式涂覆的涂覆处理的涂覆处理装置,利用于有选择的蚀刻在基板290表面所形成的电极层等的工艺过程等。成为狭缝式涂覆机210的涂覆对象的基板290,代表性的是用于制造液晶显示装置的画面面板的方形玻璃基板,还可以是半导体基板、薄膜液晶用柔性基板、光掩膜用基板、滤色器用基板等其他的基板。

如图6所示,狭缝式涂覆机210,可大致分为控制装置全体的控制部201和实施涂覆处理的涂覆处理部202。控制部201,与涂覆处理部202的各个部分电连接,统括地控制涂覆处理部202的各部分的动作。控制部201具备由CPU、RAM以及ROM等构成的微型计算机。控制部201的各种控制功能是通过CPU遵循规定的程序和数据,利用RAM进行运算处理而实现的。此外,在控制部201,设置有接收操作人员的输入操作的操作部211和显示各种数据的显示部212,这些具有用户界面的功能。

涂覆处理部202主要由以下部分构成:载物台203,其用于保持基板290;喷出机构204,其用于向被保持在载物台203的基板290喷出抗蚀液;移动机构205,其用于使喷出机构204沿规定方向移动。

另外,以下为了便于说明,将X轴方向作为深度方向(+X侧是正面侧、-X侧是背面侧),Y轴方向作为左右方向(从正面侧看+Y侧是右侧、-Y侧是左侧)。

载物台203是由略呈长方体状的花岗岩等石材构成的,其上表面加工成大致水平面的平坦面,作为基板290的保持面230发挥功能。在保持面230上分散形成了多个真空吸附口,通过这些真空吸附口吸附基板290,在涂覆处理过程中将基板290以水平状态保持在规定的位置。

喷出机构204主要由以下部分构成:狭缝喷嘴241,其用于喷出抗蚀液;喷嘴支承部242,其用于支承狭缝喷嘴241;2个升降机构243,其用于支承喷嘴支承部242的两端并使其升降。

狭缝喷嘴241,从狭缝状的喷出口向基板290的上表面排出从图外的供给机构供给的抗蚀液。此狭缝喷嘴241,其喷出口在与保持面230大致平行的Y轴方向上延伸,并且可向垂直下方(-Z侧)喷出抗蚀液,由喷嘴支承部242支承着。喷嘴支承部242由以Y轴方向为长度方向的碳素纤维加强树脂等板状构件构成。

2个升降机构243,连接在喷嘴支承部242的左右两端部。这些升降机构243分别具有AC伺服电动机以及滚珠螺杆等,使喷嘴支承部242以及被其支承的狭缝喷嘴241在垂直方向(Z轴方向)上可以升降。通过这2个升降机构243,可以调整狭缝喷嘴241和基板290之间的间隔(间隙)或狭缝喷嘴241对基板290的姿势等。

如图6所示,通过包含这些狭缝喷嘴241、喷嘴支承部242以及2个升降机构243的喷出机构204整体,形成沿Y轴方向架设在载物台203左右两端部的架桥构造。移动机构205,使具有这样的架桥构造的喷出机构204的整体沿X轴方向移动。

如图所示的移动机构205,是左右对称(+Y侧和-Y侧的对称)结构,在左右两端分别有在X轴方向引导喷出机构204移动的移动轨道251,产生用于移动喷出机构204的移动力的线性电动机252和用于检测喷出机构204位置的线性编码器253。

2个行走轨道251分别在载物台203的Y轴方向的端部(左右端部)沿X轴方向延伸设置。通过2个升降机构243的下端部分别沿着2个行走轨道251被引导,喷出机构204的移动方向被规定为X轴方向。

2个线性电动机252分别由具有固定元件252a和移动元件252b的AC无芯线性电动机构成。固定元件252a沿X轴方向设置在载物台203的Y轴方向的侧面(左右侧面)。另一方面,移动元件252b固定设置在升降机构243的外侧。线性电动机252,通过在这些固定元件252a和移动元件252b之间产生的磁力移动喷出机构204。

此外,2个线性编码器253分别具有刻度部253a和检测部253b。在固定安装在载物台203的线性电动机252的固定元件252a的下部沿X轴方向设置有刻度部253a。另一方面,检测部253b固定安装在比固定安装在升降机构243的线性电动机252的移动元件252b更外侧的位置,与刻度部253a对置地配置。线性编码器253,基于刻度部253a和检测部253b的相对位置关系,检测出X轴方向的喷出机构204的位置(具体来说,狭缝喷嘴241的喷出口的位置)。

根据以上的结构,狭缝喷嘴241,可以在保持基板290的保持面230的上部空间,沿与保持面230平行的X轴方向,相对保持面230移动。

此狭缝喷嘴241,在进行涂覆处理之前,为了可以使基板290搬入,避让在比应该保持基板290的规定位置更背面侧(-X侧)的规定的待机位置231(如图6所示状态)。

在涂覆处理中,首先,基板290被搬入并保持在载物台203的保持面230。接着,在狭缝喷嘴241移动到基板290的背面侧(-X侧)的端部的正上方位置的同时,开始从狭缝喷嘴241的喷出口喷出抗蚀液。并且,保持着这个喷出抗蚀液的状态,以规定的速度向正面侧(+X侧)移动狭缝喷嘴241。由此,实现狭缝喷嘴241对基板290的扫描(喷出扫描)。

并且,当狭缝喷嘴241移动到基板290的正面侧(+X侧)的端部的正上方位置时,喷出扫描结束,停止从狭缝喷嘴241喷出抗蚀液。通过这样的处理,在基板290的大致全表面均匀地涂覆了抗蚀液,在基板290的表面上形成了规定层厚的抗蚀液层。其后,狭缝喷嘴241再次避让到待机位置231,从载物台203搬出处理后的基板290。由此,完成了对一个基板290的一系列涂覆处理。有关这样的涂覆处理的控制是通过控制部201实现的。

<2-2.喷嘴调整部>

此外,狭缝式涂覆机210,具备喷嘴调整部206,其在进行上述一系列涂覆处理(正式涂覆处理)之前,进行将狭缝喷嘴241的前端部调整到均匀的正常状态的处理即喷嘴调整处理。喷嘴调整部206,配置在避让位置231的下方(-Z侧),以便可以在待机位置231对避让中的狭缝喷嘴241进行处理。此喷嘴调整部206也与控制部201电连接,通过控制部201控制。

图7是表示从-Y侧看喷嘴调整部206结构的侧视图。喷嘴调整处理,通过用清洗液清洗狭缝喷嘴241的清洗处理和让狭缝喷嘴241排出一定量的抗蚀液的预备涂覆处理这2个阶段进行。因此,喷嘴调整部206,如图所示,具备进行清洗处理的清洗处理部261和进行预备涂覆处理的预备涂覆机构262。清洗处理部261具有与狭缝喷嘴241的前端部形状相配合的清洗空间261a,在该清洗空间261a的对面配置了多个喷出清洗液的喷出口。

此外,预备涂覆机构262主要由下述部分构成:预备涂覆辊263(以下仅称为“辊”),其是从狭缝喷嘴241来的抗蚀液的喷出对象;筐体264,其包围在该辊263周围。

辊263是直径为如100mm~120mm,长度方向的尺寸比狭缝喷嘴241的Y轴方向的尺寸大一些的略呈圆筒状构件,其长度方向(轴心263a的延伸方向)以沿Y轴方向的方式配置。辊263的材料是铁,包含其外圆周面的表面上被实施了硬质黑镀。辊263,可通过图外的驱动机构以轴心263a为中心旋转,其旋转方向是图中箭头Ar表示的方向(图7中顺时针)。

筐体264是箱状的构件,在其上部形成了开口部。辊263配置在筐体264内,使得其上部从筐体264的开口部向外侧露出。此外,辊263的外圆周面的最上部263b,与安装在载物台203的基板290的高度大体相同。在进行预备涂覆处理的时候,从狭缝喷嘴241向此最上部263b喷出抗蚀液。另一方面,在筐体264内部存积有规定量的清洗液281,辊263的下部浸渍于清洗液281中。

此外,预备涂覆机构262,具备用于除去附着在辊263外圆周面的附着物的附着物除去部207。附着物除去部207,具有沿Y轴方向延伸的长尺状刮板(刮刀刀片)271,该刮板271处于与辊263的外圆周面接触的状态。此刮板271,通过辊263的旋转扫描辊263的外圆周面,由此刮离辊263外圆周面的附着物。关于此附着物除去部207在后面会有详细的说明。

通过具有这样结构的喷嘴调整部206实施的喷嘴调整处理也通过控制部201的控制而实现。喷嘴调整处理中,首先,为了进行清洗处理,将狭缝喷嘴241移动到其前端部进入清洗处理部261的清洗空间261a的位置(图7的虚线所示的位置)。然后,从清洗处理部261的多个喷出口向狭缝喷嘴241的前端部喷出清洗液。由此,除去附着在狭缝喷嘴241前端部的侧面等处的抗蚀液。

清洗处理完成后,接着,为了进行预备涂覆处理,狭缝喷嘴241被移动到辊263的外圆周面的最上部263b的正上方的位置(图7的实线所示的位置),与辊263的外圆周面间隔规定的间隙配置。接下来,辊263开始旋转,从狭缝喷嘴241向该旋转中的辊263的外圆周面以一定时间喷出一定量的抗蚀液。由此,执行预备涂覆处理,如图11或是图12所示那样将狭缝喷嘴241的前端部调整成规定的均匀状态。由此完成喷嘴调整处理。

在预备涂覆处理中,辊263的外圆周面中被排有抗蚀液的部分(以下称为“注目面”),通过辊263的旋转,依次浸渍到存积于筐体264的下部的清洗液281中。由此,附着在注目面的抗蚀液与清洗液281混合,大体除去注目面上的抗蚀液。

进而,辊263旋转时,浸渍到清洗液281的注目面,从清洗液281中捞出后,由刮板271扫描。由此,注目面上的附着物(主要是清洗液或是抗蚀液的残留物等)由刮板271刮离,从注目面上除去附着物。通过这样的处理,作为抗蚀液喷出对象的辊263的外圆周面的最上部263b,就总是处于没有附着物存在的状态。

这样通过刮板271被刮下来的刮离物蓄积在辊263与刮板271形成的空间265中。如果对此蓄积的刮离物放置不管,就会影响刮板271的刮离性能,因此在筐体264的内部的合适位置设置有清洗喷嘴266,用于对蓄积刮离物的空间265喷出清洗液282,使刮离物向下方落下。

此清洗喷嘴266,如图8所示那样沿Y轴方向配置,可以在空间265的整个Y轴方向喷出清洗液282。通过控制部201经由可控制开关的控制阀284从清洗液供给部283向清洗喷嘴266供给清洗液。由此,实现通过控制部201控制经由清洗喷嘴266的清洗液282的喷出。

此外,重复预备涂覆处理的话,筐体264内存积的清洗液281会因抗蚀液逐渐被污染,从而导致清洗液281的清洗能力降低。为此,狭缝式涂覆机210,应定期交换筐体264内存积的清洗液281。

即如图8所示,在筐体264的Y轴方向的两侧面设置有用于供给清洗液281的供给口264a,另一方面,在筐体264的下部配置有用于排出清洗液281的排出口264b。供给口264a,经由控制阀285与清洗液供给部283连接,排出口264b经由控制阀286引导到狭缝式涂覆机210的外部。控制阀285以及控制阀286两者,可以通过控制部201控制开关,并通过这些控制阀285以及控制阀286的开关实现筐体264内存积的清洗液281的交换。另外,清洗液281的液面高度,通过在筐体264下面形成的溢流管264c,总是保持在一定的高度。

从清洗喷嘴266喷出清洗液282的时刻,或是交换筐体264内存积的清洗液281的时刻,虽然没有特别的限定,但是,在比如每次起动时、停止时、动作中断时、处理了规定张数的基板等,在各狭缝式涂覆机210的动作中规定的事件时执行是比较好的。

<2-3.附着物除去部>

接下来,进一步详细说明附着物除去部207。图9是详细表示附着物除去部207的结构的图。如图所示,附着物除去部207由弹性体刮板271和保持刮板271的金属制的刮板保持构件272构成。

弹性体刮板271的具体原材料优选采用硅橡胶(硅树脂)、EPDM(EthylenePropylene Diene Methylene Linkage/乙烯丙烯二烯烃共聚物/三元乙丙橡胶)、丁基橡胶、氟化橡胶、帕弗洛(パ一フロ)(注册商标)、以及、卡卢列茨(カルレツツ)(注册商标)等合成橡胶。

此刮板271的原材料的杨氏模量的理想范围是1MPa~20MPa(即1MPa、或其以上且20MPa、或其以下),更理想的范围是6MPa~20MPa。此外特别在采用硅橡胶作为刮板271时,其杨氏模量的理想范围是6MPa~9.5MPa。

通过采用不是塑料,而是硬度较小的弹性原材料作为刮板271,刮板271成为了比较容易变形的构件。为此,如图9所示,刮板271通过接触在XZ平面内变形,由此可以不与辊263的外圆周面进行线接触,而可以与辊263的外圆周面进行面接触,从而大幅度地提高刮离辊263的外表面附着物的性能。

进而,刮板271在其Y轴方向也比较容易变形。为此,由于偏心或是自重的原因,在辊263的外表面有“起伏”或是“挠曲”,即使辊263的外圆周面没有在沿Y轴方向的直线上配置,刮板271会与接触的辊263的外表面的Y轴方向的形状(“起伏”或是“挠曲”)相配合,发生变形。其结果是,在Y轴方向上,没有刮板271与辊263的外表面不接触的地方,刮板271在辊263的外圆周面的整个Y轴方向都是接触的。就是说,辊263的外圆周面的Y轴方向所有的附着物,都会被刮板271除去。

此刮板271的厚度(图9中的符号271t所表示的长度)从0.5mm到10mm(即0.5mm、或其以上且10mm、或其以下)的范围内是比较理想的。如果使刮板271的厚度变小,刮板271的耐久性就会降低,需要频繁地更换刮板271。另一方面,如果使刮板271的厚度变大,虽然刮板271的耐久性会提高,但是其在Y轴方向的变形性能就会下降。刮板271的厚度在上述范围内,就可以保持这样的刮板271的耐久性和变形性能之间的平衡。

另外,刮板271对辊263的外圆周面的按压力,可以通过变更刮板271相对于筐体264的角度(以下称为“配置角度”)来调整。就是说,因为筐体264与辊263的相对的配置关系是固定的,所以刮板271的配置角度规定了刮板271相对于辊263的角度,进而,规定了刮板271对辊263的按压力。这个刮板271的配置角度,可以通过保持刮板271的刮板保持构件272变更。

如图9所示,刮板保持构件272主要由通过2个卡爪273a、273b直接保持刮板271的第一保持部273,支承第一保持部273的第二保持部274和固定设置在筐体264上的第三保持部275构成。

第二保持部274和第三保持部275经由角度调整螺钉276而固定,以便可以调整相互间的角度。因此,通过调整角度调整螺钉276,可以调整第二保持部274和其保持的第一保持部273,进而可以调整被该第一保持部273保持的刮板271对筐体264的相对角度(即“配置角度”)。

此外,此刮板271的配置角度,可以在Y轴方向部分地变更。如图所示,第一保持部273通过上下2个螺栓277、279以及弹簧278被第二保持部274支承着。下方螺栓277以非结合的方式贯通第一保持部273,其前端部固定在第二保持部274上。并且,在此下方螺栓277的头部与第一保持部273的下面之间配置了弹簧278,由此对第一保持部273施加了向第二保持部274靠近方向的弹性力。

另一方面,上方螺栓279与在第二保持部274形成的螺纹结合的同时,贯通第二保持部274,其前端部接触到第一保持部273的上部。就是说,上方螺栓279,以与弹簧278的弹性力相反的方式接触第一保持部273。

此外,此上方螺栓279接触的第一保持部273的上部侧的卡爪273a,是由如2mm左右较薄的不锈钢板构成,可以根据上方螺栓279的按压力发生弹性形变。因此,拧上上方螺栓279后,与其接触部分的卡爪273a变形,进而被该变形的卡爪273a保持的一部分刮板271也向下发生变形。就是说,通过调整上方螺栓279的松紧程度,可以在Y轴方向上调整只与该上方螺栓279的接触部位相关的刮板271的配置角度。

如图10的刮板271的后视图所示,此上方螺栓279,在Y轴方向的多个地方按照规定的间隔配置。因此,在每个配置了此上方螺栓279的位置,都可以局部的调整刮板271的配置角度。就是说,关于整个Y轴方向的刮板271的配置角度可以通过角度调整螺钉276变更,从而关于Y轴方向局部的刮板271的配置角度可以通过上方螺栓279变更。

这样,因为刮板271的配置角度可以在Y轴方向局部地变更,所以可以在Y轴方向局部地变更刮板271对辊263的按压力。刮板271即使采用上述的弹性材料,因年久老化等,刮板271对辊263的外圆周面的按压力在Y轴方向没有保持一定,局部地方的按压力可能变弱。因此对于这样的地方,如果以刮板271对辊263的按压力增大的方式进行调整的话,可以可靠地除去此处的附着物。因此,可以在整个Y轴方向更可靠地除去辊263上的附着物。

<3.其他的实施方式>

此外,在第一实施方式中,图2所示的附着物除去部74可以采用与图9所示的第二实施方式的附着物除去部207相同的结构。此时,第一实施方式的刮板73,采用与第二实施方式的刮板271相同的材料。通过采用这种结构,即使第一实施方式中作为预备涂覆构件的辊71上有“起伏”或是“挠曲”,也可以可靠地除去辊71表面上的附着物。

Claims (13)

1.一种基板处理装置,其给基板涂覆处理液,其特征在于,具有:保持基板的保持机构;沿第一方向扫描保持在上述保持机构的基板的同时,从喷出口向上述基板喷出处理液的狭缝喷嘴;通过上述狭缝喷嘴涂覆处理液的预备涂覆构件;以上述狭缝喷嘴沿着与上述第一方向大致反向的第二方向扫描上述预备涂覆构件的表面的方式,使上述狭缝喷嘴和上述预备涂覆构件的表面相对移动的移动机构;上述狭缝喷嘴,具有:位于上述喷出口的上述第一方向侧的第一突出面;位于上述喷出口的上述第二方向侧的第二突出面;上述第一突出面比上述第二突出面更向处理液的喷出方向突出。
2.如权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,上述预备涂覆构件是大致圆筒状的构件;上述移动机构,以上述狭缝喷嘴沿上述第二方向扫描上述预备涂覆构件的表面的方式,使上述预备涂覆构件在轴心周围旋转。
3.如权利要求2所述的基板处理装置,其特征在于,进一步具有使上述第一突出面比上述第二突出面更突出的调整机构。
4.如权利要求1~3中任意一项所述的基板处理装置,其特征在于,上述第一突出面比上述第二突出面突出30μm或其以上。
5.如权利要求2所述的基板处理装置,其特征在于,进一步具有:通过与上述预备涂覆构件的表面接触来除去该表面上的附着物的长尺状刮板;上述刮板由杨氏模量在1MPa~20MPa范围内的弹性体构成。
6.如权利要求2所述的基板处理装置,其特征在于,进一步具有:通过与上述预备涂覆构件的表面接触来除去该表面上的附着物的长尺状刮板;上述刮板由橡胶构成。
7.一种基板处理方法,从设置在狭缝喷嘴的喷出口喷出处理液,来给基板涂覆处理液,其特征在于,具有:保持基板的保持工序:使上述狭缝喷嘴沿第一方向对在上述保持工序中被保持的上述基板进行扫描的同时,向上述基板涂覆处理液的正式涂覆工序;以上述狭缝喷嘴沿着与上述第一方向大致反向的第二方向扫描的方式,使上述狭缝喷嘴与预备涂覆构件的表面相对移动,同时向上述预备涂覆构件涂覆处理液的预备涂覆工序;在上述正式涂覆工序以及上述预备涂覆工序中,设置在上述喷出口的上述第一方向侧的第一突出面被配置在比设置在上述喷出口的上述第二方向侧的第二突出面更低的位置。
8.如权利要求7所述的基板处理方法,其特征在于,上述预备涂覆工序在上述正式涂覆工序之前执行,上述正式涂覆工序在上述预备涂覆工序之后立刻执行。
9.一种基板处理装置,其给基板涂覆处理液,其特征在于,具有:沿着大致水平的第三方向延伸,在与上述第三方向垂直的大致水平的第四方向,相对上述基板进行相对移动,同时能够向上述基板喷出上述处理液的狭缝喷嘴;沿着上述第三方向延伸,通过使上述狭缝喷嘴向外周面喷出上述处理液,将上述狭缝喷嘴的前端部调整到规定状态的大致圆筒状的辊;沿着上述第三方向延伸,通过与上述辊的上述外周面接触,除去上述外周面上的附着物的长尺状刮板;上述刮板由杨氏模量在1MPa~20MPa范围内的弹性体构成。
10.一种基板处理装置,其给基板涂覆处理液,其特征在于,具有:沿着大致水平的第三方向延伸,在与上述第三方向垂直的大致水平的第四方向,相对上述基板进行相对移动,同时能够向上述基板喷出上述处理液的狭缝喷嘴;沿着上述第三方向延伸,通过使上述狭缝喷嘴向外周面喷出上述处理液,将上述狭缝喷嘴的前端部调整到规定状态的大致圆筒状的辊,沿着上述第三方向延伸,通过与上述辊的上述外周面接触,除去上述外周面上的附着物的长尺状刮板;上述刮板由橡胶构成。
11.如权利要求9或10所述的基板处理装置,其特征在于,上述刮板的厚度在0.5mm~10mm的范围内。
12.如权利要求9或10所述的基板处理装置,其特征在于,进一步具有能够在上述第三方向部分地调整上述刮板对上述辊的按压力的调整机构。
13.如权利要求12所述的基板处理装置,其特征在于,上述调整机构通过在上述第三方向部分地变更相对于上述辊的上述刮板的角度,来调整上述按压力。
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