TWI259109B - Slit nozzle and substrate processing apparatus - Google Patents
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Description
1259109 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於-種技術,其對於自直線狀噴出口中喷出 處理液之縫隙喷嘴,使縫隙喷嘴 上均一化。 $之贺出口宽度於長度方向 【先前技術】 作為於基板之製造步驟中所使用之基板處理襄置,已知 曉有一種縫隙塗佈機,其自含有直線狀喷出口之缝隙喷嘴 中策出處理液,並且使縫隙噴嘴於特定方向上移動,藉此 白基板之表面塗佈處理液。 於縫隙塗佈機中,要求可高精度地均—塗佈處理液。此 處,若縫隙噴嘴之噴出口之開口間隔(於缝隙喷嘴之掃描方 向上喷出口之開口寬度)不均一,則按照缝隙噴嘴之長度方 2位置’存在有開口間隔較寬之部位或較窄之部位。於此 2形時’將會產生如下問題:向每個位置所喷出之處理液 量變得不均-,從而處理液無法均—塗佈。因而,於缝隙 土佈機中要求可高精度地均一化缝隙噴嘴之噴出口之開口 間隔。 另一方面’考慮到需要確保其清洗容易性等之理由,則 縫隙噴嘴採用如下構造:使兩個構件前後迎合,進而藉由 螺裎仉而旋緊結合兩個構件。因Λ,存在有如下問題:由 於邊螺栓之旋緊狀態從而造成噴出口之開口間隔產生變 化。尤其是由於根據螺孔位置而規定螺栓之旋緊位置,故 而為均-化噴出口之開口間%,重要的是如何規定該螺孔 99486.d〇i 1259109 之位置。 因而,先前以來提出有一種技術,其以均一化喷出口之 開口間隔之方式規定該螺孔之位置。如此之技術例如揭示 於專利文獻1中。 [專利文獻1]日本專利特開2002-239436公報 [發明所欲解決之問題] 此處,缝隙噴嘴之形狀、材質及尺寸(縫隙喷嘴之特性)
等係根據作為處理物件之基板尺寸或所使用之處理液種類 等而實行各種變更者。 然而,於專利文獻1中所揭示之技術係僅對於特定形狀、 材=及特定範圍尺寸之縫隙喷嘴有效之技術,若變更縫隙 喷紫之特性,則對於脫離其有效範圍之縫隙喷嘴不僅無任 :可依據可循,亦存在有原先其有效範圍本身就不明確:問 題。即,存在有如下問題:專利文獻^所揭示之技術係僅 對於具有某種限定範圍之特性之鏠隙喷嘴有效之技術。 本發明係㈣上述問題開發而成者,其目的在於供給_ 種缝隙贺嘴’其可不受各個縫隙喷嘴之特性影響即可 化喷出口之開口間隔。 二 【發明内容】 ~為解決上述課題,請求们之發明係—種縫”嘴, 自大致於水平方向上延伸之直線狀噴出嗔 延仲,第2本體部,其以與上述第】本體部對向之上 配置且形成與上述第输-互結合而大致 99486.doc 1259109 上延伸之長形結合體,連接機構,其配置於特定排列線上 且使上述第1本體部與上述第2本體部相互結合,以及調 機構,其設置於上述結合體之整個長度方向上且用以調^ 上述噴出口之開口間隔;又於上述結合體中,於上述第^ =部與上述第2本體部之-部分對向面上形成有成為弟特 1 =處理液之流路之間隙空間,藉由該間隙空間之下方開口 從而於上述縫隙噴嘴上形成有上述噴出口。 汗口 又,請求項2之發明係關於請求項丨發明之縫隙噴嘴,1 特徵在於:上述調整機構包含開口調整機構,其於開口 ” 向上調整上述噴出口之開口間隔。 方 又,請求項3之發明係關於請求項2發明之縫 ^徵在於:上述開σ調整機構設置於上述特定排列線之^ ,,請求項4之發明係關於請求項2發明之縫隙噴嘴,盆 側试在於.上述開口調整機構設置於上述特定排列線之; 特二:求項5之,明係關於請求項1發明之縫隙噴嘴,其 、 ;上述调整機構包含閉合調整機槿,甘 h 向上調整上述噴出口之開口間隔。 、、於閉合方 又,請求項6之發明係關於請求項 特徵在於:上述閉合調整機構設置於上述=^嘴,其 側。 江特疋排列線之上 月长項7之發明係關於請求 特徵在於:上诫門入^ 貝%明之縫隙喷嘴,其 才口调整機構設置於上述特定排列線之下 99486.doc 1259109 側。 又,請求項8之發明係關於請求 牲^ + 士人 么明之縫隙喷嘴,苴 、政在於.上述調整機構包含開、- 向上坰敏μ、4·、+, η I钱構,其於開口方 门上δ周整上述贺出口之開口間 万 合方向上碉整上m 周整機構,其於閉 乃整上述贺出口之開口間隔。 又,請求項9之發明係一種鏠隙噴嘴 致於4正士人》 /、得彳政在於•自大 欠於水千方向上延伸之直線狀噴出口 、· 又包含异带楚1 士 Μ 特疋處理液’ 已Β長形弟〗本體部,其大致於 體部,1以盥上i+,千方向上延伸,第2本 上述第1本趙部相互結合而大致於水置且形成與 結合體,複數個連接機構,其 =之長形 上述第】本體部與上述第2本體部相上且使 構,其於開口方向上調整上述噴出口之:& ’開口調整機 J玉工地I出口之開口 合調整機構,1於閉人t Λ ^以及閉 严.又^ + 方向上調整上述噴出口之開口間 fe/ ’又於上述結合體中, 部之一 1八、第本體部與上述第2本體 形成有成為特定處理液之流路之間隙
Si有:隙空間之下方開口從而於上述縫隙喷嘴上 形成有上述噴出口。 用工 又’清求項10之發明係關 嘴,其特徵在於.上_ 或9發明之縫隙噴 線之 、^1σ㈣機構設置於上述特定排列 34閉合調整機構設置於上述特定排列線之下 侧0 1 又’清求項11之發明係關於喑炎 嘴,並特^ Μ ㈣明求項8或9發明之縫隙噴 /、特破在於:上述開口調整機構設置於上述特定排列 99486.doc 1259109 線之下侧,上述閉合調整機構設置於上述特定排列線之上 側。 • 又’請求項12之發明係關於請求項8或9發明之缝隙喷 嘴’其特徵在於:上述開口調整機構及上述閉合調整機構 設置於上述特定排列線之相同側。 又,請求項13之發明係關於請求項丨或9發明之縫隙喷 嘴’其特徵在於:上述排列線係於上下方向上大致二等分 鲁 上述結合體中之上述第丨本體部與上述第2本體部之相互約 束面的直線。 又,凊求項14之發明係關於請求項13發明之縫隙喷嘴, 其特徵在於:上述相互約束面之上端線與上述相互約束面 之下端線形成非零之角度,上述特定排列線係二等分上述 角度之直線。 匕又,請求項15之發明係關於請求項丨或9發明之縫隙喷 嘴’:特徵在於:藉由於上述第4體部與上述第2本體部 之間°又置間隔片從而形成有上述間隙空間。 ,言月求項16之發明係一種基板處理裝置,其特徵在於 ^基板上塗佈特定處理液;又包含保持機構,其用以保 土板’縫隙噴嘴’其面向保持於上述保持機構上之上述 自直線狀嘴出口中喷出上述特定處理液’以及移動 嘴相持於上述保持機構上之上述基板與上述縫隙' 致於k移動;又上述縫隙噴嘴包含長形第!本體部,其; 對向之方式h U,其以與上述第1本體; 配置且形成與上述第1本體部相互結合, 99486.doc '10- 1259109 二:水平方向上延伸之長形結合體,連接機構,其配置 互士疋之排列線上且使上述第〗本體部與上述第林體部相 ,以及調整機構,其設置於上述結合體之整個長度 體:上且用以Γ整上述喷出口之開口間隔;又於上述結合 上J上述第1本體部與上述第2本體部之一部分對向面 二成有成為特定處理液之流路之間隙空間,藉由該間隙 :。曰之下㈣口從而於上述缝隙噴嘴上形成有上述嘴出 二明求項17之發明係—種基板處理裝置,其特徵在於·· =板:塗佈特定處理液;又包含保持機構,其用以保持 二:自:隙噴嘴’其面向保持於上述保持機構上之上述基 構…… 中噴出上述特疋處理液’以及移動機 保持於上述保持機構上之上述基板盥上述縫隙噴 ,對地移動;又上述縫隙喷嘴包含長形第二= :::::向上延伸一,其《與上述二: =向之方式得以配置且形成與上述第!本體部相互結合而 致於水平方向上延伸之長形結 A啦恶# ^ 複數個連接機構, i相互Γ1列線上且使上述第1本體部與上述第2本體 “;厂開口調整機構’其於開口方向上調整上述噴 開口間隔,以及閉合調整機 1 、 整上述嘴出口之開口間隔;又於上…:广方向上調 太雜现結合體中,於上述第J 一口 ί5/、上述第2本體部之一部分 定處理液之流路之間隙空間,藉由成有成為特 從而於上述縫隙喷嘴上形成有上述噴出口。 t下方開口 99486.doc -JJ -
1259109 [發明之效果] ;月求項1至8及3至16之發明中,藉由包含調整機構從而 可於縫隙喷嘴之整個長度方向上調整噴出口之間隔;上述 調整機構設置於結合體之整個長度方向上且用以調整噴出 ” 門隔又,藉由獨立設置連接機構與調整機構, 從而可提高組裝效率。又,上 、 如此之構造可不受縫隙噴嘴之 尺寸或材質等特性限制即可加以適用。 + :明求項2至4之發明中,藉由包含開口調整機構,縫隙 贺鳴可於開口方向上調節噴出 Ί間隔,上述開口調 整機:於開口方向上調整噴出口之開口間隔。 +峰求員5至7之發明中’藉由包含閉合調整機構,縫隙 贺鳴可於閉合方向上調節噴 欠 開口間隔;上述閉合調 冓於閉合方向上調整噴出口之開口間隔。 於請求項8至15及17之發明中, 这μ人 月中精由包含開口調整機構以 」:調整機構’縫隙噴嘴可於開口方向與閉合方向上調 :了之開口間隔;上述開口調整機構於開口方向上調 敏+山 述閉合調整機構於閉合方向上調 整贺出口之開口間隔。 於請求項12之發明中,蕤 稭由將開口調整機構及閉合調整 执構故置於特定排列線之 士 a ^ J 1MJ即使相互約束面之上下 方向之寬度比較狹窄,亦 機構。 j °又置開口调整機構及閉合調整 於請求項1 3之發明中,j t 八& a # + 排列線係於上下方向上大致二等 刀結合體中之第丨本體部盥 、弟2本脰部之相互約束面的直 99486.doc 1259109 線,藉此可不受縫隙喷嘴之尺寸限制即可規定連接機構之 排列線。 於請求項14之發明中’相互約束面之上端線與相互約束 面之下端線形成非零之角度,特定排列線係二等分該角度 之直線,藉此可容易地規定連接機構之排列線。 【實施方式】 以下’就本發明之較好的實施形態,—面參照附圖一面 詳細地加以說明。 < 1 ·第1實施形態> 圖1係表示本發明之基板處理褒置1概要之立體圖。圖2 係表示基板處理裝置i之本體2之側剖面,並且表示抗蝕劑 之塗佈動作之主要構成要素的圖。再者,於圖丨中,為便於 圖示及說明,定義Z軸方向表示垂直方向,χγ平面表示水 平面者,但該等係為便於掌握位置關係所定義者,並非限 疋以下所說明之各方向者。關於以下之圖亦相同。 〈全體構成> 基板處理裝置1大致可分為本體2與控制系統6,將用以梦 造液晶顯示裝置之畫面面板之方形玻璃基板作為被處理基 板(以下,僅稱為「基板」)90’於選擇性地钱刻形成於基板 90表面上之電極層等之製程中,構成作為塗佈處理裝置, 其於基板90表面塗佈作為處理液之抗蝕劑。因此,於本每 施形態中,縫隙喷嘴41可嗔出謝卜再者,基板處理$ 置1並非僅為用於液晶顯示裝置之玻璃基板,通常亦可變形 利用作為於平板顯示器用之各種基板塗佈處理液(藥液)之 99486.doc 1259109 裝置。 電 ' 本體2包含平臺3,其起作用作為用以載置且保持基板90 , 之保持台,並且亦起作用作為附屬之各機構之基台。平臺3 係具有長方體形狀之例如一體石製品,其上面(保持面3〇) 及側面加工為平坦面。 平$ 3之上面係水平面且成為基板9〇之保持面3〇。於保持 面30上分佈形成有未圖示之多數個真空吸附口,於基板處 鲁波置1處理基板9〇期間,藉由吸附基板9〇,將基板保持 於特定之水平位置。又,於保持面3〇上藉由未圖示之驅動 _,隔開合適間隔設置有上下自由升降之複數個起模頂 杯LP。起模頂桿1^於取出基板卯時用以上推基板。 保持面30之中於夾住基板9〇之保持區域(保持基板9〇之 區域)之兩端部,固定設置有一對行進執道31,其大致水平 平行地延伸。行進執道31與固定設置於架橋構造4之兩 端卩最下方之未圖不之支持區塊一併導引架橋構造4之移 _動(將移動方向規定在特定方向),且構成將架橋構造4支持 於保持面30上方之線性導執。 八於平堂3之上方設置有架橋構造4,其自該平臺3之兩側部 T大致水平架設。架橋構造4主要包含例如以碳纖維增強樹 脂為骨料之喷嘴支持部4〇及支持其兩端之升降機構〜料。 於噴嘴支持部40上安裝有縫隙喷嘴41。於γ轴方向具有長 度方向之縫隙噴嘴41上連接有供給機構7,其用以向縫隙喷 嘴4 1供給抗蝕劑。 、 圖3係表示組裝構成縫隙喷嘴以主要構件之情況的立 99486.doc -14- 1259109 ~體圖。再者’於圖3中’已省略調整螺钉化、開口調整用 ' 之螺孔群4 1 6及閉合調整用之螺孔群4 1 7。 、縫隙喷嘴41包含第1本體部41〇、第2本體部411、間隙塾 板412及複數個固定螺检413。再者,將本實施形態中縫隙 贺嘴41之2軸方向長度作為「H」,丫軸方向長度作為「w」 而進行以下之說明。於通常之縫隙塗佈機中,雖然假定ι〇〇 至3G0()(mm)作為W之數值,但是#然並非僅限於此。 • 於第1本體部410上設置有第1螺孔群4Ua,其用以旋入複 數個固定螺栓413。又,於以與第!本體部41〇對向之方式配 置之第2本體部411上設置有第2螺孔群侧,其用以於與第 累孔群414a對向之位置旋入複數個固定螺栓。該第"累 孔群4Ua及第2螺孔群414b均設置作為沿χ轴之方向之大致 圓筒狀之孔’雖然禅細情形未有圖示,但是於其圓筒内面 上形成有螺釘帽及螺釘槽,其用以與固定螺栓413連接。 分別對向之第i螺孔群414a及第2螺孔群41仆於第i本體 •部4H)與第2本體部411得以對向配置之狀態中形成一個螺 孔。以下,將藉由該第i螺孔群41乜及第2螺孔群41仆所形 成之螺孔群統稱為固定用之螺孔群4丨4。 再者上过螺釘巾自及螺釘槽,例如,其亦可僅設置於第2 螺孔群414b處。即,第1螺孔群414a亦可僅係以可插入固定 螺栓413之方式所形成之貫通孔。或者,亦可係於第!螺孔 群414a及第2螺孔群414b之任一方中均僅可插入固定螺栓 413之插入孔。於此情形時’雖然固定用之螺孔群414僅係 貫通孔,但是固定螺栓413亦可為如下構造:可藉由螺帽另 99486.doc -15- 1259109 灯固定。即,藉由於由第1螺孔群414a及第2螺孔群4 14b所 - 形成之固定用之螺孔群414中插入有固定螺栓413,則只要 , 係可使第1本體部410與第2本體部411結合之構成,亦可採 用通常等之構造。 間隙墊板412係配置於第丨本體部41〇與第2本體部4ιι之 間之板狀構件,設置有用以貫通固定螺栓413之複數個孔。 間隙墊板412以避開下述焊盤4ud(間隙空間)之方式得以配 肇置,於第1本體部41〇與第2本體部411之間,作為用以設置 特定間隔之間隔片發揮功能。 固疋螺栓413於第1本體部41〇與第2本體部4Π對向之狀 態中,藉由旋入至固定用之螺孔群414,從而使第i本體部 4 1 0與第2本體部4 11相互結合。即,以如此之方式得以形成 有本發明中之結合體。再者,雖然於圖3中僅表示有九個固 定螺栓413以及第1螺孔群414a、第2螺孔群414b,但是固定 螺栓413及螺孔數量並非僅限於此,主要根據縫隙喷嘴41 • 之剛性或重量及W數值等規定合適數量;上述九個固定螺 栓413係作為複數個固定螺栓413,上述第j螺孔群41乜、第 2螺孔群4 14b含有對應於固定螺栓數之螺孔。 圖4係於連接第1本體部410與第2本體部411之狀態中縫 隙噴嘴4 1之XZ平面的剖面圖。藉由將固定螺栓4丨3插入至 固定用之螺孔群4 14,如圖4所示,第1本體部4丨〇、間隙墊 板4 12及第2本體部411形成一體性之構造物(縫隙噴嘴4丨)。 又’縫隙噴嘴41藉由焊盤411d之下方開口,於下端部形成 有喷出口 4 1 a。於本實施形態之基板處理裝置丨中,將喷出 99486.doc -16- 1259109 口 4 1 a之開口間隔之期望值設為r £)」。 : 雖然於圖3中已省略圖示,但是於第丨本體部41〇及第2本 體部4U上進一步設置有調整用之螺孔群41以、41讣、 417a、41 7b作為於X軸方向上延伸之孔。其中,調整用之螺 孔群41 6a與調整用之螺孔群416b分別設置於第!本體部41〇 與第2本體部411對向之位置。因此,於第丨本體部41〇與第2 本體部4U形成結合體之狀態中,設置於調整用之螺孔群 • 416a、調整用之螺孔群416b及間隙墊板412之貫通孔構成插 入調整螺釘415之螺孔(以下,稱之為「開口調整用之螺孔 群416」)。以同樣之方式調整用之螺孔群41〜與調整用之 螺孔群4171^分別設置於第1本體部41〇與第2本體部411對向 之位置,與設置於間隙墊板412上之貫通孔一併構成插入調 整螺釘41 5之螺孔(以下,稱之為「閉合調整用之螺孔群 417」)。 再者,於圖4中,為便於圖示,表示有於γ軸方向之位置 _ 相互相等之開口調整用之螺孔群416及閉合調整用之螺孔 群41 7之任一方中可旋入調整螺釘415。但是,實際上,該 等螺孔亦可按照調整需要選擇性地加以使用。 圖5係說明作為配置固定螺栓413時所使用之基準線之排 列線L〇之規定方法的概念圖。第2本體部4 11係依據γ軸方向 中心位置之對稱構造,於圖5中,僅表示(-γ)方向單側部分 而省略( + Y)側。 第2本體部411與第1本體部410對向之對向面於特定位置 上形成有凹部,該等凹部形成歧管(擴散槽)411}^與焊盤 99486.doc 1259109 4 lid。又,於上述對向面之中,未形成歧管4nb及焊盤&⑴ ‘之部分,藉由結合第2本體部411與第丨本體部41〇,介以間 „ 隙墊板412形成相互具有約束應力作用之「相互約束面s」。 相互約束面S之上端線411e係縫隙喷嘴41之上端面與相互 約束面S之相交線且係沿γ軸方向延伸之直線。另一方面, 相互約束面s之下端線411c構成歧管41^之上端線,且與相 互約束面S之上端線411 e以角度0 〇傾斜。再者,於「相互 約束面S之下端線41 lc」上,於縫隙喷嘴41之兩端部處,未 包含形成缝隙喷嘴41下面之部分。 歧管41 lb形成為與焊盤41 Id相比而於卜X)方向上更深之 溝槽,於縫隙喷嘴41之内部,形成抗蝕劑之流路,從而構 成縫隙喷鳴4 1之間隙空間之一部分。於缝隙噴嘴4 1中,雖 然自設置於中央部附近之未圖示之供給口中供給抗蝕劑, 但是為使自該供給口所供給之抗蝕劑擴散至γ軸方向從而 設置有歧管411b。 φ 於本實施形態之縫隙喷嘴41中,為使所供給之抗蝕劑快 速地擴散至兩端部’歧管4 11 b以面向於縫隙喷嘴4丨之兩端 部傾斜之狀態得以形成。 此處’於本貫施形態之基板處理裝置1中,若將相互約束 面S之上端線411e與下端線411c所成之角度設為「0(。), 排列線L0與相互約束面S之上端線41 le所成之角度設為「固 定螺栓配置角度0 (° )」時,以0 = 2 0之方式規定排列線 L0。藉此,排列線L0成為二等分相互約束面s之上端線““ 與下線4 11 c所成角度0之直線。如圖5所示,排列線l q 99486.doc ^ 18 - 1259109 係於上下方向上大致二等分結合體中之相互約束面s之線。 於本實施形態之第2本體部411中,第2螺孔群414b以排列 於排列線L0上之方式加以設置。又,於缝隙喷嘴4丨中,於 與第2螺孔群414b對向之位置上設置有第1螺孔群414a。因 此’第1螺孔群414a亦設置於排列線L0上。即,於本實施形 態之縫隙噴嘴41中,於藉由固定螺栓413結合第1本體部41〇 與第2本體部4 11之情形時,由於固定用之螺孔群4 14排列於 排列線L0上,故而複數個固定螺栓413亦排列於排列線L〇 上。 以如此之方式,本實施形態之基板處理裝置1之縫隙喷嘴 4 1作為二等分相互約束面s之上端線411 e與下端線411 c所 成角度0之直線從而規定排列線L0。並且,藉由使第1螺孔 群4 14a與第2螺孔群414b排列於該排列線L0上,於相互約束 面S之上端線411e與下端線411c所成之角度0為非「〇」之 情形時,可不受缝隙噴嘴41之尺寸等限制,即可規定固定 用之螺孔群414之位置。再者,若更詳細地加以說明,則較 好的是以第1螺孔群414a及第2螺孔群414b之各螺孔中心配 置於排列線L0上之方式規定第1螺孔群414a及第2螺孔群 414b之位置。 圖6係表示設置於第2本體部4 11上之調整用之螺孔群 416b、41 7b的圖。圖6表示第2本體部411之中,與圖5所示 之部分大致相同之部分。 調整用之螺孔群41 6b、4 1 7b分別具有與第2螺孔群4 14b 大致相同之構造,可以上述之方式插入調整螺釘4丨5。又, 99486.doc -19- 1259109 調整用之螺孔群416b以排列於直線L1上之方式加以設置, • 調整用之螺孔群417b以排列於直線L2上之方式加以設置。 - 即,縫隙喷嘴41分別單獨設置有連接機構(固定螺栓413 及固疋用之螺孔群414)以及調整機構(調整螺釘4丨5、開口調 整用之螺孔群416及閉合調整用之螺孔群417);上述連接機 構用以連接第1本體部410與第2本體部411,上述調整機構 用以調整縫隙噴嘴41之噴出口 41a之開口間隔。藉此,可不 文固定螺栓413之配置位置影響即可調整開口間隔,故而可 不文縫隙喷嘴41之特性(材質或尺寸等)限制即可調整喷出 口 41a之開口間隔。因此,任一縫隙喷嘴“均可均一化長度 方向之開口間隔。 又,組裝縫隙喷鳴41係以藉由相同扭矩僅分別旋緊複數 個固定螺栓413之方式加以實行。χ,調整喷出口 &之開 口間隔係旋入調整螺釘415後與組裝分開實行。藉此,縫隙 喷嘴41之組裝效率得以提高。 • 於本實施形態之縫隙喷嘴41中,開口調整用之螺孔群416 所排列之直線L1得以規定為二等分固定螺栓配置角度0之 直線。即,調整用之螺孔群416b及以與調整用之螺孔群4丨讣 對向之方式所設置之調整用之螺孔群41以相對於排列線l〇 設置於上側(排列線L0與相互約束面s之上端線“ k之間)。 以如此之方式,藉由設置有開口調整用之螺孔群4 1 6,於 連接組裝第1本體部410與第2本體部411時,於γ軸方向上於 喷出口4U之開口間隔小於期望值「D」之位置,藉由將調 整螺釘415插入且旋入至開口調整用之螺孔群416,從而可 99486.doc -20- 1259109 以開口該位置中之開口間隔之方式加以調整。 又,閉合調整用之螺孔群4丨7所排列之直線L2得以規定為 _ 距離相互約束面S之下端線411c特定距離之直線。即,調整 用之螺孔群41 7b及以與調整用之螺孔群4丨7b對向之方式所 設置之調整用之螺孔群417a相對於排列線L〇設置於下側 (排列線L0與相互約束面s之下端線4iic之間)。 以如此之方式,藉由設置有閉合調整用之螺孔群4丨7,於 • 連接組裝第1本體部410與第2本體部411時,於γ轴方向上於 喷出口 41a之開口間隔大於期望值「D」之位置,藉由將調 整螺釘4 1 5插入且旋入至閉合調整用之螺孔群4丨7,從而可 以閉合該位置中之開口間隔之方式加以調整。 通常,於以相同扭矩旋入固定螺栓413且連接第1本體部 4 10與第2本體部411之情形時,由於各構件之加工精度之不 均一等,Y轴方向上喷出口 41a之開口間隔無法均一。但是, 於本實施形態之基板處理裝置1中,藉由複數個開口調整用 _ 之螺孔群4 16及複數個閉合調整用之螺孔群41 7分開排列於 排列線L0之上下兩側,從而可不受喷出口 41 a之開口間隔之 寬窄限制,以使喷出口 41a之開口間隔成為期望值rD」之 方式加以調整。 又,直線LI、L2均規定為遍及縫隙噴嘴41之整個長度方 向’開口调整用之螺孔群4 1 6及閉合調整用之螺孔群41 7均 設置於縫隙喷嘴4 1之整個長度方向上。藉此,本實施形態 之基板處理裝置1之缝隙喷嘴4 1可於整個長度方向(γ軸方 向)上a周整嘴出口 4 1 a之開口間隔。因此,例如,與僅於中 99486.doc -21· 1259109 央部設置用以調整開口間隔之機構且加以調整之情形相 比,可進-步高精度地均一化開口間隔。 再者,於本實施形態之基板處理裝置1中,對於每次组裝 1 大態之各個縫隙喷嘴41,以y軸方向之特定間隔為單位,測
$噴出口 41a之開口問臨。并R 1 ^ 並且,按照所得之測量值以開口
間隔成為「D !之方戎,立目—# A 規疋說入凋整螺釘4 1 5之位置及旋 緊扭矩後Λ仃6周整。但是’調整噴出口 41 &之開口間隔之方 法並非僅限於此,例如,亦可按照縫隙喷嘴Ο之塗佈結果 !整開口間隔。即,亦可按照實際所塗佈之抗蝕劑膜厚值 置丁周I又’亦可預先多次測量藉由特定扭矩旋入固定 才王413之情形時之開σ間隔值,按照平均值或再現性,之 1 :無需每次均加以測量即可實行調整。即,調整方法亦 可採用任何方法。 丛根據如上所述之構造,縫隙喷嘴41將藉由供給機構7所供 、山口之抗#劑自形成於前端之縫隙狀(直線狀)喷出口仏中喷 ::持於平堂3上之基板9。表面之特定區域(以下,稱為 係=缝佈區域」)。藉此,基板處理裝置!將抗敍劑塗 ㈣土板90上。此處’所謂抗钮劑塗佈區域,其係於基板 〜2中所欲塗佈抗钱劑之區域’通常係自基板90之整 肢面積中減去順沿端緣之特定寬度區域後的區域。 由=二升降機構43、44分開於縫隙喷嘴41之兩側,藉 主要勺Μ〇得以與縫隙喷嘴41連結。升降機構43、44 來t二Γ服馬達43a、44a及未圖示之滾球螺桿,依據 束自6之㈣信號,產生架橋構“ 99486.doc -22- 1259109 力。藉此,升降機構43、44使縫隙喷嘴41並行升降。又, 升降機構43、44亦用以調整於縫隙喷嘴“之以平面内之姿 勢。進而,AC伺服馬達43a、44a具有檢測其旋轉量且輸出 至控制系統6之功能。 别 a於架橋構造4之兩端部,沿平臺3之兩側邊緣側分別固定 α又置有對AC無芯線性馬達(以下,僅略稱之為「線性馬 達」)5〇、51,其分別包含固定子(定子)5〇a與移動子鳩及
=子51a與移動子51b。又,於架橋構造4之兩端部分別固 定设置有線性編碼器52、53,其分別包含定標部與檢測子。 線性編碼器52、53用以檢查線性馬達5G、51之位置。以該 等線性馬達50、51與線性編碼器52、53為主構成行進機構 5,其用以將架橋構造4導引至行進執道31並且移動至平臺3 上。即,行進機構5使縫隙喷嘴41於沿基板9〇表面之大致水 平方向上相對地移動。依據此時來自線性編碼器Μ、μ之 檢測結果,藉由控制系統6控制線性馬達50之動作,得以控 制平堂3上之架橋構造4之移動,即可控制缝隙喷嘴ο掃描 基板90。 於本體2之保持面30上,於保持區域之⑼方向側設置有 開口 32。開口 32於與縫隙喷嘴41相同之γ轴方向上具有長度 方向’並且該長度方向長度與縫隙噴嘴41之長度方向長度 相同又,於圖1及圖2中省略圖示,於開口32下方之 内邛α又置有待機盒、喷嘴洗淨機構以及預塗佈機構。 忒等機構例如使用於抗蝕劑供給處理、脫氣處理或者預分 配處理等之預先性處理時,該等處理係於向基板9〇塗佈抗 99486.doc •23- 1259109 钱劑之前實行。 嘴支援部40中,於位於縫隙喷嘴41上方之 置有供給機構7’其向縫隙喷嘴41供給 構 :有將貯存於未圖示之緩衝槽中之陶供給至縫= :功能,雖然詳細情形未有圖…是其主要包含栗、 配管及閥門。 求 力控制系統6於内部包含按照程式而處理各種資料之演算
㈣,保存程式或各種資料之記憶部61。又,於前面3 ^作者用輯於基板處理裝置丨輸人必要指令之操作糾 及顯示各種資料之顯示部63。 再者,具體的是暫時性記憶資料之RAM、讀取專用之 R〇M及磁性碟片裝置#相#於記憶糾。或者,亦可係可 攜帶型光磁性碟片或記憶卡等之記憶媒體及該等讀取裝置 等。又,按鈕及開關類(包含鍵盤或滑鼠等)等相當於操作部 Μ:或者,亦可係如觸摸面板顯示器一樣兼備顯示部631 功能者。液晶顯示器或各種燈等相當於顯示部63 ^ 以上係本實施形態之基板處理裝置〗之構成及功能說明。 <動作說明> 繼而,簡單地說明基板處理裝L中之塗佈處理動作。再 者,以下之基板處理裝们之動作只要未加以特別明示,即 為依據控制系統6之控制加以實行者。 於基板處理裝置1中,若藉由操作者或者未圖示之搬送機 構,將基板90搬送至特定位置時,平臺3將基板9〇吸附且保 持於保持面30上之較位置。繼而,依據來自控制系心 99486.doc -24- 1259109 、 /工制“唬,升降機構43、44使喷嘴支援部4〇於z軸方向上 私動’將縫隙喷嘴4 1調整至適當姿勢。再者,所謂適當姿 ”係縫隙噴嘴41於YZ平面上之姿勢,其中縫隙噴嘴41 與抗蝕劑塗佈區域之間隔係用以塗佈抗蝕劑之恰當間隔。 進而,線性馬達50、51使架橋構造4於(〇〇方向上移動, 且使縫隙喷嘴41移動至喷出開始位置。此處,所謂噴出開 始位置,其係縫隙噴嘴41大致順沿抗蝕劑塗佈區域之一邊 的位置。 若縫隙噴嘴41移動至喷出開始位置為止時,控制系統6 將控制信號傳送至行進機構5之線性馬達5〇、5丨。依據該控 制^唬,藉由線性馬達5〇、51使架橋構造々於卜❼方向上移 動,從而縫隙喷嘴41可掃描基板9〇表面。 此時,供給機構7向縫隙喷嘴41供給抗蝕劑,縫隙噴嘴41 向4几钱劑塗佈區域噴出抗钱劑。藉此,於基板知表面上形 成有抗姓劑層(薄膜)。 § 若縫隙喷嘴41移動至喷出結束位置為止時,控制系統6 將控制信號傳送至升降機構43、44,行進機構5及供給機構 7。依據該控制信號,藉由升降機構43、44及行進機構5使 縫隙喷嘴41移動至待機位置,並且供給機構7停止供給抗蝕 劑’從而停止喷出來自縫隙喷嘴41之抗蝕劑。 以與该縫隙喷嘴41之移動動作並行之方式,平臺3停止吸 附基板90,起模頂桿LP抬起基板90之後,操作者或者搬送 機構自保持面30上取出基板9〇,搬送至下一步處理步驟。 進而,基板處理裝置丨判斷是否存在其他必須處理之基板 99486.doc -25- 1259109 ^上所述,本實施形態之基板處理裝置】之縫隙喷嘴41 精由將用以調整喷出σ 4〗 „ 登賀出口仏之開口間隔之開口調整用之螺
:群416及閉合調整用之螺孔利7設置於結合有幻本體 “ίο與第2本體部411之結合體之整個長度方向上,從而可 於縫隙贺嘴41之整個長度方向上調整噴出口❺之開口間 隔。因此:可使縫隙喷嘴4 i之噴出口 4 i a之開口間隔均—化。 又,藉由單獨設置固定用之螺孔群414(連接機構)、開口 調整用之螺孔群416及閉合調整用之螺孔群㈣調整機 構)’從而可提高組裝效率。又,如此之構造可不受縫隙噴 鳥41之尺寸或材質限制即可加以利用。 、 又,縫隙喷嘴41藉由包含開口調整用之螺孔群416以及閉 合調整用之螺孔群417,於開口方向及閉合方向上均可調^ 喷出口 41a之開口間隔;上述開口調整用之螺孔群‘Μ於開 口方向上調整喷出口 41a之開口間隔,上述閉合調整用之螺 孔群41 7於閉合方向上調整喷出口 4丨a之開口間隔。 又,藉由將排列線L0規定為於上下方向上大致二等分縫 隙噴嘴41之結合體中第丨本體部41〇與第2本體部411之相互 約束面S的直線,從而可不受縫隙喷嘴41之尺寸等之特性限 制即可抑制組裝後之喷出口 4 1 a之開口間隔之不均一,以此 方式可規定固定螺栓413之排列線L0。因此,可將藉由開口 調整用之螺孔群416及閉合調整用之螺孔群417所實施之調 99486.doc -26- 1259109 整設為最小限度。 β 進而,於相互約束面8之上端線4!le與相互約束面s之下 、端線411c形成非零之角度0。之情形時,藉由將排列線“設 為二等分角度0°之直線,可容易地規定固定螺栓413之排 列線L 0。 <2.第2實施形態> 於第1實施形態中,以分別於γ軸方向之相同位置上形成 _ 對之方式設置有開口調整用之螺孔群416與閉合調整用之 螺孔群4 1 7,但是開口調整用之螺孔群4丨6及閉合調整用之 螺孔群4 1 7之配置並非僅限於如此之配置。 圖7係表示依據如此原理所構成之第2實施形態之第2本 體部411的圖。於第2實施形態之第2本體部411中,亦以與 弟1貫施开> 悲之弟2本體部411同樣之方式規定有排列線 L0、直線L1及直線L2。 然而,本實施形態之調整用之螺孔群416b、417b對於第2 φ 螺孔群4 14b之各螺孔交替設置。即,第2實施形態之調整用 之螺孔群4 1 6b、41 7b之設置間隔大於第1實施形態之調整用 之螺孔群416b、41 7b之間隔。 以如此之方式,藉由配置有調整用之螺孔群4丨6b、 4 17b(即,開口調整用之螺孔群416及閉合調整用之螺孔群 4 1 7),由於無需於γ軸方向之相同位置上設置複數個螺孔, 故而即使於相互約束面8之2;軸方向寬度較窄之情形時,亦 可分別設置調整用之螺孔群4 1 6b、4 1 7b。 再者,於本實施形態之基板處理裝置〗中,於固定用之螺 99486.doc -27- 1259109 '孔群414所相鄰之兩個螺孔之間僅可設置開口調整用 .孔群416或者閉合調整用之螺孔群417中之任m、 —亦可相互錯開地配置第1實施形態之開口調整用之螺孔群 41 6及閉σ 6周整用之螺孔群417於γ軸方向之位置。於此情形 時,即使相互約束面SU轴方向寬度較窄,亦可無需開: 调整間隔從而配置該等螺孔群。 < 3 ·弟3實施形態> _ 於上述實施形態中,就均設置有開口調整用之螺孔群 及閉合調整用之螺孔群417之例子加以說明。但是,即使僅 包含該等螺孔群中之任-方,亦可調整喷出口之開口間隔。 圖8係表示依據如此原理所構成之第3實施形態之第2本 體部411的圖。第3實施形態之第2本體部411未設置有構成 閉合調整用之螺孔群417之調整用之螺孔群417b。藉由如此 之構造,於本實施形態之縫隙喷嘴4丨中,僅可於開口方向 上調整喷出口 41a之開口間隔。再者,以與上述實施形態之 φ 第2本體部411相同之方式規定排列線L0及直線L1。 構成本實施形態之缝隙噴嘴4 1之各構件,其即使於產生 有加工精度不均一之情形時,亦以喷出口 4丨a之開口間隔成 為期望值「D」以下之方式得以預先設計/製造。即,於組 裝第1本體部410、第2本體部411及間隙墊板412等之情形 時,避免喷出口 4 1 a之開口間隔大於期望值r 〇」。 若縫隙喷嘴41之各構件以如此之方式加以製造,則較好 的是調整喷出口 41 a之開口間隔可於開口方向上調整該開 口間隔。即,即使以與本實施形態之縫隙噴嘴41相同之方 99486.doc -28- 1259109 式構成為僅包含開口調整用 门正用之螺孔群416,亦可以成為期望 值「D」之方式使開口間隔均一 勺化。因此,即使於相互約束 面S於Z軸方向上較窄且於固 口疋用之螺孔群414之上下兩側 用以設置調整用之螺孔群之处 f <二間不充分之情形時,亦可使 噴出口 41a之開口間隔均一化為 马期主值。再者,亦可以噴出 口 w之開口㈣大於期望值「D」之方式預先製造各構件, 於縫隙噴嘴41上僅設置閉合調整用之螺孔群心7。
<4·第4實施形態> 於上述實施形態中,就開口調整用之螺孔群416設置於排 列線L0之上側而閉合調整用之螺孔群417設置於排列紅〇 之下側之例子加以說明。但是,—調整用之螺孔群416 亦可设置於排列線L0之下側,閉合調整用之螺孔群417亦可 設置於排列線L0之上側。 圖9係表示依據如此原理所構成之第4實施形態之第二本 體部411的圖。再者,以與上述實施形態相同之方式規定排 籲列線L0及直線LI、L2。 如圖9所示,構成第4實施形態之閉合調整用之螺孔群41 7 之調整用之螺孔群417b排列於規定位於排列線£〇上側之直 線L1上。又,構成開口調整用之螺孔群4 i 6之調整用之螺孔 群41 6b排列於規定位於排列線£〇下側之直線L2上。 圖1〇係說明第4實施形態之開口調整用之螺孔群416及閉 合調整用之螺孔群417之構造圖。 設置於第1本體部410上之調整用之螺孔群416a、41 7a得 以設置為於圓筒内面含有螺旋狀螺釘帽及螺釘槽之圓筒 -79- 1259109 孔’如圖10所示,於調整用之螺孔群416a、417a中旋入有 調整螺拴4 1 5。 • 另一方面,設置於第2本體部411上之調整用之螺孔群 416b、417b得以設置為未包含與調整螺栓415旋合之螺釘帽 及螺針槽之圓筒孔(所謂之松孔),且僅插入有調整螺栓 4丨5。藉由如此之構造,本實施形態之調整螺栓415無法發 揮連接第1本體部410與第2本體部411之功能。但是,即使 響 於調整螺栓415未具備連接功能之情形時,由於第i本體部 410與第2本體部411藉由固定螺栓413得以相互連接,故而 亦可一體性地構成縫隙喷嘴41。 又,調整用之螺孔群416b、417b並非貫通孔,且僅於相 互約束面s側含有開口部,自該開口部插入有調整螺栓415。 進而,本實施形態之調整螺栓41 5之釘足長度以長於開口 调整用之螺孔群4 16及閉合調整用之螺孔群41 7深度之方式 加以設計。即,即使於調整螺栓41 5觸及調整用之螺孔群 _ 4 1 6b之底部為止且插入有調整螺栓4 1 5之情形時,調整螺栓 4 15之釘足於第1本體部410側突出。 藉由如此之構造,於調整螺栓415觸及調整用之螺孔群 416b、41 7b之底部之狀態中,進而,藉由旋緊該調整用之 螺栓415,第2本體部411得以推入至(-X)方向。即,旋緊該 調整螺栓4 1 5之動作相當於於配置有調整螺栓4丨5之位置 上,於使第1本體部410與第2本體部411分離之方向上實行 調整者。 因此,若將如此構造之調整用之螺孔群設置於排列線L〇 99486.doc -30- !259l〇9 之上側,則於排列線L〇之上側,由於使第i本體部4丨〇與第2 • 本體部411分離,故而可發揮於閉合方向上調整喷出口 41a , 之功能。即,該等調整用之螺孔群係閉合調整用之螺孔群 4 1 7。另一方面,若將圖1 〇所示之構造設置於排列線L〇之下 側’則於排列線L0之下側,由於使第1本體部4 1 〇與第2本體 部411分離,故而可發揮於開口方向上調整喷出口41a之功 能。即,該等調整用之螺孔群係開口調整用之螺孔群416。 • 如上所述’以與第4實施形態之基板處理裝置1相同之方 式,即使於將開口調整用之螺孔群416設置於排列線L〇之下 側而閉合調整用之螺孔群41 7設置於排列線l〇之上側之情 形時,亦可獲得與第1實施形態同樣之效果。 再者,即使於使用有圖1〇所示之構造之情形時,如第3 實施形態中所述,亦可使用開口調整用之螺孔群416或者閉 合調整用之螺孔群41 7之任一方實行調整。 <5·第5實施形態> • 於上述實施形態中,就於規定調整螺栓415之排列位置之 直線L卜L2上設置有開口調整用之螺孔群416或者閉合調整 用之螺孔群4 1 7之任一方之例子加以說明,但是開口調整用 之螺孔群416或者閉合調整用之螺孔群417之排列並非僅限 於此。 圖11係表示依據如此原理所構成之第5實 體部川的圖。再者,以與上述實施形態相同之方式規= 列線L0及直線L1。 本貫施形態之調整用之螺孔群41讣如圖4所示,其係與調 99486.doc •31- 1259109 整螺栓415旋合之構造,藉由旋入有調整螺栓415,於該位 置處,於使第1本體部410與第2本體部411接近之方向上加 以調整。因此,藉由將如此構造之調整用之螺孔群排列於 規定位於排列線L0上側之直線L1上,從而由該等構成開口 調整用之螺孔群4 1 6。 另一方面,調整用之螺孔群41 7b如圖1〇所示,其係未與 调整螺栓415旋合之構造,藉由插入有調整螺栓415,於該 位置處,於使第1本體部41〇與第2本體部411分離之方向上 加以調整。因此,藉由將如此構造之調整用之螺孔群排列 於排列線L0上側之直線L1上,從而由該等構成閉合調整用 之螺孔群4 1 7。 以如此之方式,於本實施形態之縫隙噴嘴41中,藉由將 排列於第2本體部411之直線L1上之調整用之螺孔構造設為 父替不同者,可以開口調整用之螺孔群416及閉合調整用之 螺孔群417之任一方均排列於直線L1上之方式構成。 藉此,例如,即使於相互約束面8之2軸方向寬度較窄且 於排列線L0之兩侧較難設置調整用之螺孔群之情形時,對 於噴出口 41 a之開口間隔亦可形成均可實行開口調整及閉 合調整之構成。 再者亦可以將開口調整用之螺孔群41 6及閉合調整用之 μ孔群41 7之任一方均排列於排列線l〇下側(例如,排列於 上述實施形態之直線L2上)之方式構成。 <6·變形例> 卜 就本發明之實施形態加以說明,但是本發明並非 99486.doc -32- 1259109 僅限於上述實施形態,亦可實行各種變形。 • 例如’於第2本體部411之表面(與第丨本體部41〇對向之面) •上亦可僅形成有歧管4Ub。#,焊盤411d亦可形成為間隙 墊板4 1 2之厚度份。 又,歧官41 lb及焊盤41 id亦可設置於第丨本體部41〇上。 即,第1本體部410與第2本體部411亦可係大致同一形狀之 構件。 籲又,於相互約束面8之2軸方向寬度較為充分之情形時, 亦可將固定用之螺孔群414、開口調整用之螺孔群416及閉 合調整用之螺孔群417分別設置於γ軸方向之相同位置。圖 12係表示依據如此原理所構成之第2本體部411的圖。 又,規疋排列線L0、直線l 1及直線L2之方法並非僅限於 上述實施形態中之方法。即,可於排列線L〇與相互約束面s 之上端線411 e之間規定直線L1,亦可於排列線乙〇與相互約 束面S之下端線411c之間規定直線L2。進而,開口調整用之 籲螺孔群416及閉合調整用之螺孔群417亦可分別未排列於直 線上。 又,歧管411b亦可設置於大致水平方向上。於此情形時, 較好的是排列線L0得以規定為與相互約束面8之上端線 411e及相互約束面s之下端線411c距離相等之直線。 【圖式簡單說明】 圖1係表示本發明之基板處理裝置之概要的立體圖。 圖2係表示基板處理裝置之本體之側剖面,並且表示抗蝕 劑之塗佈動作之主要構成要素圖。 99486.doc -33 - 1259109 圖 圖3係表示組裝構成縫隙喷嘴 之主要構件之形態的立體 縫隙喷 圖4係於連接有第i本體部與第2本體部之狀態中 噶之xz平面上的剖面圖。 圖5係用以說明於配置固㈣栓時作為標準線之排列線 之規定方法的概念圖。
圖6係表示設置於第丨實施形態之第2本體部上之調整用 之螺孔群的圖。 圖7係表示第2實施形態之第2本體部的圖。 圖8係表示第3實施形態之第2本體部的圖。 圖9係表示第4實施形態之第2本體部的圖。 圖丨〇係表示第4實施形態之調整螺栓及調整用之螺孔群 的圖。 圖11係表示第5實施形態之第2本體部的圖。 圖12係表示變形例之第2本體部的圖。 【主要元件符號說明】 1 基板處理裝置 3 平臺 5 行進機構 6 控制系統 30 保持面 31 行進執道 41 縫隙喷嘴 4 1 a 噴出口 99486.doc -34- 1259109 t
43, 44 升降機構 43a,44a 伺服馬達 90 基板 410 第1本體部 411 第2本體部 411b 歧管 411c 下端線 411d 焊盤 411e 上端線 412 間隙墊板 413 固定螺栓 414 固定用之螺孔群 415 調整螺釘 416 開口調整用之螺孔群 416a, 416b,417a,417b 調整用 417 閉合調整用之螺孔群 L0 排列線 LI, L2 直線 S 相互約束面 之螺孔群 99486.doc -35-
Claims (1)
- !2591〇9 、申請專利範圚 .一種鏠隙嗆喹 ^ 線狀噴出口中噴出於:自大致水平方向延伸之直 貨出特疋處理液,且包合· 長形第1本體部,甘丄 · Ό ,/、大致水平方向延伸; 本體部,其以與上述第〗本 形成與上述第以體。Ρ對向之方式配置’ 長形結合體; 、、①口而大致水平方向延伸之 連接機構,发,, 與上述第2抑 排列線上,使上述第1本體部 弟2本體部相互結合;及 凋整機構,其遍及上述結合 調整上述噴出之長度方向全寬設置, 貝® 口之開口間隔; 於上述結合體中, 夕ν 述弟1本體部與上述第2本體邻 之一部分對向面卜 ^ ee 乂成成為特定處理液之流路的間隙* 間,猎由該間隙空間之 扪間隙工 成上述喷出口。 3而於上述縫隙喷嘴上形 2. ^請求項i之縫隙喷嘴,其中上述調整機構包 機構,該開口調整機構传 °周整 開口間隔。㈣係於打開方向調整上述喷出口之 3 ·如請求項2之縫隙噴嘴,苴中 述特定排列線之上側。〃 1口調整機構設置於上 4·如請求項2之縫隙噴嘴,其中上述開口調整機構 述特定排列線之下側。 、上 5·如請求項1之縫隙嘴嘴’其中上述調整機構包含閉人,整 機構’該閉合調整機構係於閉合方向調整上述嘴:= 99486.doc 1259109 開口間隔。 如請求項5之縫隙喷嘴 述特定排列線之上側。 如請求項5之縫隙喷嘴 述特定排列線之下側。 如請求項1之縫隙噴嘴: 6· 其中上述閉合調整機構設置於上 其中上述閉合調整機構設置於上 8 其中上述調整機構包含: 開口調整機構,其於打開方向調 間隔;及 I貨出口之開口 閉合調整機構,其於閉合 間隔。 閉口方向调整上述噴出口之開口 9. -種縫隙噴嘴’其特徵在於: 線狀噴出口中欠千方向延伸之直 r贺出特定處理液,且包含·· 々長形幻本體部,其大致水平方向延伸; 第2本體部’其以與上述第*體部對向之方 形成與上述第丨本體部相 , 長形結合體; 一而大致水平方向延伸之 複數個連接機構,其配置於特定排列線上,使上述第】 本體部與上述第2本體部相互結合,· , 開口調整機構,1於籽 間隔;及 -於打開方向調整上述噴出口之開口 閉合調整機構,其於閉合方向調 間隔; 义員^ 口之開口 於上述結合體中,於μ、+、… 之一部八… 於上述弟1本體部與上述第2本體部 心對向面上形成成為特定處理液之流路的間隙空 99486.doc 1259109 t 間,藉由該間隙空間 .丨上述噴出口。 $開口而於上述縫隙喷嘴上形 1 〇·如凊求項8或9之縫隙喷嘴,其中 . 開口調整機構設置於上述特定排列線之上侧; u如μ閉合調整機構設置於上述㈣排列線之下側。 明求項8或9之縫隙喷嘴,其中 f相°調整機構設置於上述特定排列線之下側; • :合調整機構設置於上述特定排列線之上側。 •二項8或9之縫隙噴嘴,其中上述開口調整機構及上 u 士: 口㈣機構設置於上述特定排列線之相同側。 .二項1或9之縫隙噴嘴,其中上述排列線係於上下方 體邱致二分割上述結合體之上述第1本體部與上述第2本 體部之相互約束面之直線。 a::::員U之缝隙喷嘴,其中上述相互約束面之上端線 排列互二 =端線形成非零之角度;上述特定 係一專分上述角度之直線。 月长項1或9之縫隙喷嘴,其中於上述第丄本體部與上述 一體部之間設置間隔片,藉此形成上述間隙空間。 土板處理裝置,其特徵在於··於基板塗佈特定處理 液,且包含·· 保持機構,其保持基板; 縫隙H其向保持於上述保持機構之上述基板,自 直^狀噴出口中喷出上述特定處理液;及 私動機構’其使保持於上述保持機構之上述基板與上 99486.doc 1259109 述縫隙喷嘴相對移動; 上述縫隙噴嘴包含: 長形第1本體部,其大致水平方向延伸; 第本體邙,其以與上述第1本體 形成與上述第!本體部相互結合而大致水千之=: 長形結合體丨 人十方向延伸^ $接機構’其配置於特定㈣ 與上述第2本體部相互結合;及 <吏上逑弟1本體苟 凋整機構,其遍及上述結合體之 調整上述噴出口之開口間隔; 白王“置, 之it::體中,於上述第1本體部與上述第2本體部 間,二=上形成成為特定處理液之流路的間隙空 成上述噴二間之下方開口而於上述縫隙噴嘴上形 種基板處理裝置,其特徵·· 液,且包含: ①基板塗佈特定處理 保持機構,其保持基板; 縫隙噴嘴,i / 直線狀喷出口中、:述保持機構之上述基板,自 、 中噴出上述特定處理液;及 :::機構’其使保持於上述保持機構之上 述縫隙噴嘴相對移動; 板”上 上述縫隙噴嘴包含·· ,形第1本體部,其大致水平方向延伸; 本體。P,其以與上述第】本體部對向之方式配置, 99486.doc 1259109 形成與上述第丨本體部 長形結合體; 、、、°&而大致水平方向延伸之 :數個連接機構,其配置於特定排列線上, 本體部與上述第2本體部相互結合; 開口調整機構,苴於打 間隔;及 屬開方向調整上述噴出口 閉合調整機構,其於 々问週整上述噴出口 使上述第1 之開 間隔; 之開口 之-部體中於上述第1本體部與上述第2本體部 間,^對向面上形成成為料處理液之流路的間隙空 …亥間隙空間之下方開口而於 成上述噴出口。 ㈣、噴备上形 99486.doc
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