CN1455708A - 基板洗净方法及洗净装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种基板洗净方法及洗净装置，用以对液晶显示器、光罩等的玻璃基板、印刷布线基板及半导体晶圆等的各种基板施行超声波洗净。设置有：将洗净水储存于内部的储水槽(3)；将基板以可水平移动且里面与储水槽(3)内的洗净水接触的方式加以支持的支持机构(6)；对基板(W)的表面供给经赋予超声波振动的洗净水的洗净水供给机构(1)；在储水槽(3)与洗净水供给机构(1)间移送基板(W)的移送机构(R、r)。对供给至基板(W)的表面的洗净水所赋予的超声波振动，借助于基板(W)传递到与基板里面接触的洗净水，而对与基板里面接触的洗净水赋予超声波振动。基板(W)的表里两面，皆通过经赋予超声波振动的洗净水而被有效地洗净。

Description

基板洗净方法及洗净装置

技术领域

本发明涉及用以对液晶显示器、光罩等的玻璃基板、印刷布线基板及半导体晶圆等的各种基板施行超声波洗净的基板洗净方法及洗净装置。

背景技术

目前，在液晶显示器、光罩等的玻璃基板、印刷布线基板及半导体晶圆等的各种基板的制造工序中，在对基板的表面供给给定的处理液进行处理后，施行将此处理液自基板的表面除去的洗净工序。而且，在此洗净工序中，使用着单纯地以纯水喷洗、或通过刷子将基板表面洗净等的各种洗净装置。其中尤以将基板浸渍于经赋予超声波振动的洗净水中进行洗净的超声波洗净，其对于除去附着在基板里面的极细的尘埃(所谓的粒子)方面很有效。

然而，近年来，基板日趋大型化，如目前的作法那样，在将基板全体浸渍到超声波洗净用的储水槽内的方法中，具有储水槽的超声波洗净装置也需大型化，因此在技术上及成本上都有问题。于是，与纯水喷洗相同地，对流动水赋予超声波振动来洗净基板的方法受到考虑，但在此方法中，由于必须对基板的上下两面供给经赋予超声波振动的洗净水，需有两组超声波赋予装置，故无法抑制装置的大型化及高成本化。

另一方面，在只作单面洗净时，附着在未被洗净侧的面上的粒子，经由背光的点亮等会浮现，是问题点所在。

发明内容

本发明是有鉴于上述的现状而提出的，其目的在于提供一种基板洗净方法及洗净装置，在不损及洗净效果之下，可实现装置的小型化及低成本化。

本发明涉及一种基板洗净方法，其特征在于，使基板里面的至少一部分与洗净水接触，并对该接触部分的相反侧的基板表面供给经赋予超声波振动的洗净水，来将该基板洗净。

在此方法中，在使基板里面的至少一部分与洗净水接触的状态下，对该接触部分的相反侧的基板表面供给经赋予超声波振动的洗净水。对供给至基板表面的洗净水所赋予的超声波振动，透过基板传递到与基板里面接触的洗净水，而对与该基板里面接触的洗净水赋予超声波振动。如此，基板的表里两面可同样地通过经赋予超声波振动的洗净水进行洗净，表里两面可有效地洗净。因而，赋予超声波振动的装置，只要有一台即足够，因此，可抑制装置全体的大型化及高成本化。

并且，也可使上述基板作水平移动，让上述基板里面的全面与上述洗净水接触。

这样，通过基板的水平移动，基板里面的全面会与洗净水接触，由此可将基板的表里两面的全面洗净。因此，并不需要使基板里面的全面与洗净水接触的巨大的装置，可达到洗净装置的小型化、低成本化。

并且，上述的方法的发明，可经由下述的装置的发明有效地实施。即，此装置的发明涉及一种基板洗净装置，其特征在于，具备：储水槽，其上部具有开口部，而将洗净水储存于内部；支持机构，用以支持基板使该基板可作水平移动且其里面可与上述储水槽中储存的洗净水接触；洗净水供给机构，配置于上述储水槽的上方，可对基板的与上述洗净水接触的相反侧的表面供给经赋予超声波振动的洗净水；以及移送机构，在上述储水槽与上述洗净水供给机构之间移送上述基板。

并且，上述洗净水供给机构，也可构成为：具有沿与上述基板的移送方向正交的方向配置的长形喷嘴；上述储水槽的开口部，在与上述基板的移送方向正交方向上的尺寸，比上述基板的该正交方向上的宽度尺寸为长。

并且，上述支持机构，也可具有配置于储水槽内且其上端与该储水槽内的洗净水面一致的支持辊。

通过这样的构成，以使基板的里面能与储水槽内的洗净水确实地接触的方式来支持基板，而且，可防止因自洗净水供给机构供给至基板里面的洗净水的压力造成基板的弯曲，从而可防止没入水面下的现象的发生。并且，此支持辊，由于承受到超声波，所以优选使用可避免因此而遭受损伤的金属等的材料。并且，与基板接触的外围部分，优选为形成缓和的曲面。

并且，在构成上述储水槽的侧壁中，与上述基板的移送方向正交的一对的侧壁被设置成可上下移动，其上端部的高度位置可调整，且通过上述侧壁的上端部所决定的上述洗净水面的高度位置可调整。

依据上述结构，通过使侧壁可上下移动，其上端部的高度可调整，则由该侧壁的上端部所决定的该洗净水面的高度位置也可调整，由此，对于基板里面，可使其以更佳的状态与洗净水接触，可使基板里面的洗净效果成为良好。

附图说明

图1为表示本发明的优选的基板洗净装置的大致结构的俯视图；

图2为图1的侧视图。

具体实施方式

以下，为了就本发明更详细地加以说明，依据附图来作说明。并且，基板W的移送方向，在图1中，为左右方向，在图2中，则为与纸面正交的方向。

如图1所示，本发明的基板洗净装置，具备：用以供给经赋予超声波振动的洗净水的洗净水供给机构1；以及在内部储存着洗净水的储水槽3等。并且，基板W被移送机构的移送辊R及辅助辊r，依箭头A方向移送。

洗净水供给机构1，包括形成有隙缝2a(用以将自给水源20所供给的洗净水形成为膜状而喷吐出)的超声波喷嘴2、以及对通过隙缝2a内的洗净水赋予超声波振动的压电元件(未图示)，该洗净水供给机构1被安装于处理槽内的基板移送路径的上方，通过控制器10来控制其动作。超声波2喷嘴的长边方向，与基板W的移送方向(箭头A方向)正交，长度为可将基板W的宽度方向(上述正交方向)的全宽覆盖的长度。并且，若以1个超声波喷嘴2无法将基板W的全宽覆盖的情况下，也可用至少2个的超声波喷嘴2，依移送方向以前后作平行设置，以将移送的基板的全宽用多个超声波喷嘴2覆盖的方式来构成。

储水槽3，沿着超声波喷嘴2的长边方向形成为细长形状，在上部敞开的箱状的外槽5中，设置有一对的板4与给水喷嘴31。给水喷嘴31安装于外槽5的底板上，连接到给水源30。在外槽5的外侧，沿移送方向(箭头A方向)的前后，设置有辅助辊r。一对的板4，设置于与外槽5的两组侧壁50、52之中的与上述移送方向(箭头A方向)正交的侧壁50上。另一方的侧壁52，由于基板W通过其间移送，故这些间隔比基板W的宽度方向(与上述移送方向正交的方向)的宽度大。并且，侧壁52的高度，比侧壁50的高度高。侧壁50的高度，比基板移送路径的高度(移送辊R及辅助辊r的上端的位置)低，在其上下方向的大致中央处，形成有沿上下方向的长孔51。并且，长孔51，如图2所示，沿着长边方向，隔着适当的间隔设置有多个。

板4，如图1所示，设置于侧壁50的内侧。并且，在侧壁50的外侧，以覆盖长孔51的方式设置平板状的密合板44，通过贯通长孔5 1的螺丝42，将侧壁50夹持的状态下，板4与密合板44固定于侧壁50上，且将长孔51以液密方式密合。并且，螺丝42，可在长孔51内沿着上下方向移动，故板4可变更上下方向的固定位置。

板4的长边方向的两端，如图2所示，以液密方式密合于另一侧壁52的内面，以板4与侧壁52实质形成储水槽3的4侧面，高度较低的板4的上端成为储存在储水槽3内的洗净水的水面H。

并且，如图2所示，在外槽5的外缘，设置有面向着处理槽的壁并与移送方向正交的方向水平地延伸的凸缘部53，通过此凸缘部53使外槽5固定于处理槽内。另一方面，在此凸缘部53的上方，设置有与凸缘部53平行可上下移动的托架43，托架43通过螺丝41可调整其上下方向的位置，并固定。在此托架43上连接有板4的两端，其结果，使板4可通过螺丝41来调整上下方向的位置。

这样，通过介于凸缘部53与托架43之间的螺丝41，可调整外槽5与板4的上下方向的相对位置关系。其后，通过沿着侧壁50的长边方向，将依适当的间隔插入多个设置的长孔51的螺丝锁紧，可将板4固定。

并且，在储水槽3内，设置有作为基板支持机构的支持辊6。此支持辊6，以将其上端设定位于如图1所示的在超声波喷嘴2的隙缝2a的正下方处的方式安装于转轴7上。并且，其最上端，设定为与上述储水槽3内储存的洗净水的水面H的相同高度，换言之，上述板4的高度位置，以与支持辊6的最上端成为相同高度的方式作调整，且使支持辊6上所支持的基板W的里面与洗净水做接触。

并且，支持辊6，如图2所示，依转轴7的轴方向隔着适当的间隔设置有多个。转轴7，沿着储水槽3的长边方向设置，其两端，如图2所示，以可自由旋转的方式支撑在外槽5的侧壁50上。支持辊6是金属制的，与基板W相接的部分作成为圆的面。通过此圆面与基板的浮力，可使基板W的里面不会受到刮伤。并且，移送辊R及辅助辊r，优选由树脂等的柔软性的材料来形成。

按照具备上述结构的本例的基板洗净装置，首先，通过移送辊R及辅助辊r将基板W依箭头A方向移送，导入储水槽3与洗净水供给机构1之间。基板W通过支持辊6支持，其里面与储水槽3内的洗净水接触。另一方面，在与此相反侧的基板W的表面，经赋予超声波振动的洗净水自洗净水供给机构1所供给。对供给至基板W的表面的洗净水所赋予的超声波振动，透过基板W传递到与其里面接触的洗净水，而将超声波振动赋予至与该基板W的里面接触的洗净水。这样，基板W的表里两面可同样地通过经赋予超声波振动的洗净水而被洗净，表里两面可有效地洗净。这样，依据本例的基板洗净装置，用以赋予超声波振动的装置，只要有一台即足够，由此，可抑制装置全体的大型化及高成本化。

然后，通过移送辊R及辅助辊r继续地沿箭头A方向移送的基板W，逐渐离开储水槽3内的洗净水与其里面接触的位置及自洗净水供给机构1供给到其表面的洗净水的位置，最后，基板W的表里全面与洗净水接触，而将该表里两面洗净。因此，不需要有巨大的装置来使基板W的里面全面与洗净水接触，可达到洗净装置的小型化、低成本化。

并且，由于以设置于储水槽3内的支持辊6来支持基板W，所以可在使基板W的里面确实地与储水槽3内的洗净水接触来支持基板，而且，可防止因自洗净水供给机构1供给至基板W的表面的洗净水的压力使得基板W弯曲，从而可防止没入水面下的现象的发生。

并且，由于通过调整板4的高度位置来调整在储水槽3内储存的洗净水的水面位置，故对于基板W的里面，可使其以良好的状态与洗净水接触，进而可使洗净效果良好。

产业上利用的可能性

如上所述，本发明的基板洗净方法及洗净装置，可良好地适用于液晶显示器、光罩等的玻璃基板、印刷布线基板及半导体晶圆等的各种基板的洗净。

Claims (6)

1.一种基板洗净方法，其特征在于：使基板里面的至少一部分与洗净水接触，并对该接触部分的相反侧的基板表面供给经赋予超声波振动的洗净水，将所述基板洗净。

2.如权利要求1所述的基板洗净方法，其特征在于：使所述基板作水平移动，让所述基板里面的全面与所述洗净水接触。

3.一种基板洗净装置，其特征在于：具备：

储水槽，其上部具有开口部，而将洗净水储存于内部；

支持机构，用以支持基板使得该基板可作水平移动且其里面可与所述储水槽中储存的洗净水接触；

洗净水供给机构，配置于所述储水槽的上方，对基板的与所述洗净水接触的相反侧的表面供给经赋予超声波振动的洗净水；以及

移送机构，在所述储水槽与所述洗净水供给机构之间移送所述基板。

4.如权利要求3所述的基板洗净装置，其特征在于：

所述洗净水供给机构具有与所述基板的移送方向正交的方向配置的长形喷嘴，

所述储水槽的开口部，与所述基板的移送方向正交的方向上的尺寸，比所述基板的该正交方向上的宽度尺寸为长。

5.如权利要求3或4所述的基板洗净装置，其特征在于：所述支持机构包括配置于所述储水槽内且其上端与所述储水槽内的洗净水面一致的支持辊。

6.如权利要求3～5中任一项所述的基板洗净装置，其特征在于：在构成所述储水槽的侧壁中，与所述基板的移送方向正交的一对的侧壁被设置成可上下移动，其上端部的高度位置可调整，且由所述侧壁的上端部所决定的所述洗净水面的高度位置可调整。

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