CN1275889C - 用于平板显示器的玻璃 - Google Patents

用于平板显示器的玻璃 Download PDF

Info

Publication number
CN1275889C
CN1275889C CNB2004100456364A CN200410045636A CN1275889C CN 1275889 C CN1275889 C CN 1275889C CN B2004100456364 A CNB2004100456364 A CN B2004100456364A CN 200410045636 A CN200410045636 A CN 200410045636A CN 1275889 C CN1275889 C CN 1275889C
Authority
CN
China
Prior art keywords
glass
less
base material
pools
liquidus viscosity
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
CNB2004100456364A
Other languages
English (en)
Other versions
CN1550468A (zh
Inventor
L·C·查孔
A·J·G·埃利森
G·B·阿利
J·T·科利
J·C·拉普
R·莫伦纳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Corning Inc
Original Assignee
Corning Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Corning Inc filed Critical Corning Inc
Publication of CN1550468A publication Critical patent/CN1550468A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN1275889C publication Critical patent/CN1275889C/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
    • C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2323/00—Functional layers of liquid crystal optical display excluding electroactive liquid crystal layer characterised by chemical composition
    • C09K2323/02—Alignment layer characterised by chemical composition
    • C09K2323/023—Organic silicon compound, e.g. organosilicon
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

公开一种用于制造平板显示器中基材的玻璃。这种玻璃密度小于2.45g/cm3，液相线粘度大于200,000泊，主要包含以氧化物为基准的摩尔百分数计的下列组成：65-75%SiO2，7-13%Al2O3、5-15%B2O3、0-3%MgO、5-15%CaO、0-5%SrO，基本不含BaO。其应变点高于650℃。

Description

用于平板显示器的玻璃
本发明专利申请是申请日为1999年11月22日，申请号为99813791.X，发明名称为“用于平板显示器的玻璃”的发明专利申请的分案申请。
发明领域
本发明涉及无碱的硅铝酸盐玻璃，这种玻璃具有用于平板显示器基材要求的物理和化学性质。
发明背景
显示器大致分为两种类型：发射型(如CRT和等离子体显示板(PDP))或非发射型。属于后一类的有液晶显示器(LCD)，它依赖于外部光源，显示器仅作为光调制器。在液晶显示器情况，外部光源可以是环境光(用于反射显示器)，也可以是专用光源(如直接观察显示器用的)。
液晶显示器的作用依赖于液晶(LC)材料对光调制的三个固有特性。第一个特性是LC引起偏振光光旋转的能力。第二个特性是LC通过液晶的机械取向形成这种旋转的能力。第三个特性是液晶在施加外电场时进行这种机械取向的能力。
一种简单的扭转向列型(TN)液晶显示器结构中，两个基材包围着一层液晶材料。在称作Normally White的一种显示器中，在基材内表面上施加一层校直层造成液晶导向器(director)旋转90°。这意味着进入液晶盒一面的线型偏振光的偏振被液晶材料旋转90°。彼此呈90°取向的两个偏振膜置于基材的外表面上。
进入第一偏振膜的光成为线型偏振。穿过液晶盒时，这种光的偏振旋转90°，因而能从第二偏振膜射出。若在液晶层两端施加电场，就使液晶导向器按电场取向，干扰其旋转光的能力。通过该液晶盒的线型偏振光，其偏振就不会旋转，而无法通过第二偏振膜。因此，在最简单意义上，液晶材料就成为一个光阀，其透射光或阻碍透射光的能力受到所施加电场的控制。
上面所述的内容与液晶显示器中单一象素的操作有关。高信息型显示器需要有数百万个这些象素集合为一个矩阵格式(matrix format)，其中的象素称作子象素(sub pixel)。对所有这些子象素定址即施加电场，同时使定址速度最大并使串音最小，会提出一些要求。对子象素定址的较好方式之一是用位于各子象素上的薄膜晶体管来控制电场，它就是有源矩阵液晶显示器件(AMLCD)的基础。
制造这些显示器是极为复杂的，基材玻璃的性质非常重要。首要的是，制造AMLCD器件需使用的玻璃基材必须严格控制其尺寸。美国专利3,338,696(Dockerty)和3,682,609(Dockerty)描述的平板下拉法或批料熔制法是不需要高成本的后加工操作(如研磨和抛光)，能供给这种产品的很少方法之一。不幸的是批料熔制法对玻璃性质有非常严格的限制，要求高的液相线粘度，最好大于200,000泊。
构成显示器的两个基材通常是分开制造的。一个是色滤片，其上沉积有红色、蓝色、绿色和黑色的有机染料。这些基色必须各自精确对应于配对的活化板上的象素电极区域。要消除制造两个板时环境热条件差异的影响，要求使用的玻璃基材，其尺寸不受热条件的影响(即这类玻璃的热膨胀系数小)。然而，这种性质又必须与因为热膨胀不匹配而在沉积膜和基材之间产生的应力综合考虑。据估计，最佳热膨胀系数在28-33×10-7/℃范围。
这种所称谓活化板是因为它包含活化薄膜晶体管，可采用典型的半导体方法制造。这些方法包括溅射、CVD、照相平板印刷和蚀刻。都要求玻璃在这些过程中不发生变化。因此，必须保证玻璃的热稳定性和化学稳定性。
热稳定性(也称作热收缩性能)依赖于具体玻璃组合物的固有粘度性质(由其应变点表示)和由制造方法决定的玻璃板的热历史情况。美国专利5,374,595披露了高于650℃应变点和批料熔制法热历史情况的玻璃，它具有基于a-Si薄膜晶体管(TFT)和超低温p-Si TFT的活化板的合格热稳定性。对玻璃板的高温处理(如低温p-Si TFT所需)要求增加对玻璃基材的退火步骤，以确保热稳定性。
化学稳定性表示对制造过程中使用的各种蚀刻溶液的侵蚀具有稳定性。特别是对蚀刻硅层时采用的干蚀刻条件的侵蚀具有稳定性。为规定干蚀刻条件的基准点，将基材样品与称作110BHF的蚀刻剂溶液进行接触。该试验是将玻璃样品浸在30℃的1份体积50％(重量)HF和10份体积40％(重量)NH4F的溶液中5分钟。测定样品的重量损失并观察其外观。
除了这些要求外，AMLCD制造商发现，对大尺寸显示器的需求和规模经济性都要求加工大尺寸的玻璃。目前的工业标准是Gen III(500×650毫米)和GenIII.5(600×720毫米)，但需要进一步适应Gen IV(1×1米)尺寸和可能的更大尺寸。这就会引起一些问题。首先是玻璃的重量。从Gen III.5到Gen IV，玻璃重量增加了50％，使用于将玻璃依次运送到各个加工点的自动化输送装置明显复杂化。另外，取决于玻璃密度和杨氏模量的弹性下垂，这个问题对大尺寸片材更为严重，会影响在加工点之间运送玻璃的箱体中装入、取出和分隔玻璃板的能力。
因此，为解决与大玻璃尺寸有关的困难，要求提供用于显示器的玻璃组成，具有低密度，较好小于2.45g/cm3和约大于200,000泊的液相线粘度。另外，还要求在0-300℃温度范围，玻璃的热膨胀在约28-35×10-7/℃之间，较好在约28-33×10-7/℃之间。而且，应变点大于650℃以及能抵抗蚀刻溶液侵蚀的玻璃是有利的。
发明概述
本发明基于发现了密度小于2.45g/cm3和液相线粘度(定义为液相线温度玻璃的粘度)大于200,000泊，较好大于400,000泊，更好是大于约600,000泊，最好是大于约800,000泊的玻璃。另外，本发明玻璃在0-300℃温度范围具有的线性热膨胀系数，约为28-35×10-7/℃，较好约为28-33×10-7/℃；应变点高于约650℃。本发明的玻璃熔点低于约1700℃。另外，玻璃浸在30℃1份50％(重量)HF和10份40％(重量)NH4F的溶液中5分钟后，其重量损失小于约0.5mg/cm2。
本发明玻璃组成主要包括(以氧化物为基准，按摩尔百分数计)：65-75％SiO2，7-13％Al2O3、5-15％B2O3、0-3％MgO、5-15％CaO、0-5％SrO，基本不含BaO。更好的，本发明玻璃组成主要包括(以氧化物为基准，按摩尔百分数计)：67-73％SiO2，8-11.3％Al2O3、8-12％B2O3、0-1％MgO、5.5-11％CaO和0-5％SrO。
已发现具有上述组成和物理性质的玻璃，尤其是较好组成和较好物理性质的玻璃，其液相线粘度明显受碱土金属RO(R＝Mg、Ca、Sr)总量与氧化铝量的比值(摩尔％)，即RO/Al2O3＝(MgO+CaO+SrO)/Al2O3的影响。该比值指RO/Al2O3，应保持在0.9-1.2范围。更好的应保持在0.92＜RO/Al2O3＜0.96，就可获得最大的液相线粘度。
本发明玻璃基本不含BaO，即这种玻璃所含的BaO小于约0.1％(摩尔)为宜。本发明玻璃还基本不含碱金属氧化物，即这种玻璃的碱金属氧化物总量小于约0.1％(摩尔)为宜。另外，这些玻璃可含有澄清剂(如砷、锑、铈和锡的氧化物和/或卤化物、氯/氟)。
本发明的另一方面，玻璃熔点低于约1700℃。本发明玻璃浸在30℃的1份50％(重量)HF和10份40％(重量)NH4F的溶液中5分钟后，其重量损失小于约0.5mg/cm2。这种玻璃可用作平板显示器的基材。由本发明玻璃制成的基材，用原子力显微镜测定的平均表面粗糙度小于约0.5nm，按光迟后法测定的平均内应力小于约150psi。
本发明详细描述
本发明涉及用作平板显示器基材的改进玻璃。具体而言，这种玻璃能满足对这样基材的各种性能要求。
本发明优选的玻璃密度约小于2.45g/cm3，较好约小于2.40g/cm3，在0-300℃温度范围的CTE约28-35×10-7/℃，较好约28-33×10-7/℃，应变点高于约650℃，较好高于660℃。要求高的应变点有助于防止在随后的热加工中由于收缩导致的玻璃板变形。
在美国专利3,338,696(Dockerty)和3,682,609(Dockerty)中描述了对制造条件如批料熔制法的更多要求，要求玻璃具有高的液相线粘度。因此，本发明的较好实施方案中，玻璃应具有小于约2.45g/cm3密度和大于约200,000泊，较好大于约400,000泊，更好大于约600,000泊，最好大于约800,000泊的液相线粘度。尽管可以采用其它制造方法如浮法来制造本发明玻璃的基材，但是由于各种原因优选采用批料熔制法。首先，批料熔制法制造的玻璃不需要抛光。目前的玻璃抛光可制造平均表面粗糙度大于约0.5nm(Ra)(用原子力显微镜测定)的玻璃基材。按照本发明采用批料熔制法制造的玻璃基材，用原子力显微镜测定，其平均表面粗糙度小于0.5nm。
耐化学性是指对制造过程使用的各种蚀刻剂溶液侵蚀的稳定性。特别是对蚀刻硅层时采用的干蚀刻条件侵蚀的稳定性。干蚀刻条件的一个基准是将基材样品与称作110BHF的蚀刻剂溶液接触。这一试验是将玻璃样品浸在30℃的1份体积50％(重量)HF和10份体积40％(重量)NH4F的溶液中5分钟。测定重量损失(按mg/cm2计)来确定耐化学性。这一性质在表1中列为“110BHF”。
本发明的玻璃组成包含65-75％(摩尔)，较好是67-73％(摩尔)的SiO2作为主要的玻璃形成组分。增加二氧化硅可提高玻璃的液相线粘度，降低其密度和CTE，但是过量的二氧化硅对熔点温度不利。玻璃还包含7-13％(摩尔)，较好8-11.5％(摩尔)的Al2O3。增加Al2O3含量，可提高玻璃的耐用性，降低其CTE，但是液相线温度提高。Al1O3需要至少8％(摩尔)，以便达到要求的应变点；然而，超过11.5％(摩尔)会导致低于要求的液相线温度。
本发明玻璃还包含5-15％(摩尔)，较好8-12％(摩尔)的硼氧化物。硼氧化物能降低液相线温度和密度，其含量至少为8％(摩尔)为佳；然而，超过12％(摩尔)的硼氧化物会对玻璃应变点产生不良影响。
本发明玻璃中MgO的含量为0-3％(摩尔)，较好的为0-1％(摩尔)。增加MgO可降低液相线粘度，因此，要求玻璃中存在不超过3％(摩尔)的MgO。然而，少量MgO对降低粘度有利。
CaO有助于降低玻璃的熔点和液相线温度；然而，超过11％(摩尔)会导致低于要求的应变点和大于要求的热膨胀系数。因此，本发明玻璃可包含5-15％(摩尔)的CaO，但以包含5.5-11％(摩尔)CaO为佳。
RO/Al2O3比值在0.9-1.2范围。在此范围，发现液相线温度的局部最小值，对应于CaO-Al2O3-Si2O基本体系中的共结晶和/或低共熔混合物。这一系列玻璃的粘度曲线没有显著的变化，因此液相线温度的这些变化是提高液相线粘度的主要动力。
由于碱如氧化锂、纯碱或钾碱对薄膜晶体管(TFT)性能的不良影响，应从本发明的玻璃组成中除去这些碱。同样，重碱土金属(SrO和BaO)的含量应很少或排除，因为他们对玻璃密度有不良影响。本发明玻璃组成可包含0-5％(摩尔)SrO。但是，本发明玻璃基本不含BaO。本文中，基本不含BaO指玻璃组成包含小于0.1％(摩尔)的BaO。
还可以含有澄清剂如As2O3、Sb2O3、CeO2、SnO2、Cl、F、SO2等，有助于从玻璃中除去晶种。玻璃中还会包含工业制造玻璃中一般有的杂质。另外，可加入不超过1％(摩尔)总量的下列氧化物，不会使其性能超出上述范围：TiO2、ZnO、ZrO2、Y2O3、La2O3。表1列出本发明玻璃的例子(％(摩尔)的组成和物理性能)。表1中的比较例是Corning Incorporated的1737玻璃。
由下面一些实施例进一步说明本发明，这些实施例用于说明，不构成对本发明的任何限制。表1以摩尔百分数列出了举例性玻璃的组成，是从玻璃配料按照氧化物基准计算的。这些举例性玻璃的制备是在一定温度和时间下熔制各玻璃组成的1000-25000克配料，制得较好均匀的玻璃组合物，如在铂坩埚中于约1625℃熔制约4-16小时。还列出按照玻璃领域常用方法测定的各玻璃组合物的有关玻璃性质。在0-300℃温度范围的线性热膨胀系数(CTE)以×10-7/℃表示，软化点(Soft.Pt)、退火点(Ann.Pt.)和应变点(Str.Pt.)以℃表示。用纤维伸长法(分别按ASTM E228-85，C338和C336)进行这些测定。采用阿基米德法(ASTM C693)测定密度(以g/cm3计)。
对高温粘度数据(用旋转筒式粘度计按ASTM C965-81测定)进行Fulcher公式拟合，计算出200泊的温度(作为熔点温度，℃)(作为定义为玻璃熔体粘度为200泊[20Pa·s]的温度)。采用标准液相线法测定玻璃的液相线温度(Liq.Temp.)。该方法是将粉碎的玻璃颗粒放在一个铂舟中，将该舟置于有梯度温度区域的炉内，在合适的温度范围加热该舟24小时，并用显微镜监测玻璃内部出现晶体时的最高温度作为液相液温度。由该温度和Fulcher公式的系数计算液相线粘度(Liq.Visc，以泊计)。
表1给出许多个玻璃组成，按氧化物为基准的摩尔数计，说明本发明的组成参数。由于各玻璃组成的总量为100或接近100，对实际用途来说，表中的值可视为代表摩尔百分数。实际的配料组分可包含任何一种材料，氧化物或其它化合物，只要它与其它的配料组分熔化在一起时，会转化为所要求合适比例的氧化物。例如，SrCO3和CaCO3能分别作为SrO和CaO的源物质。
目前，认为具有实施例14和19所示组成和性能的玻璃代表了本发明的最佳实施方案，即提供了目前达到本发明目的的最佳性能组合。
尽管以说明为目的详细描述了本发明，但是应理解这些细节仅是说明而已，在不偏离由权利要求书定义的本发明精神和范围下，本领域技术人员可以进行变动。
                                                                    表1
  1   2   3   4   5   6   7   8
  配料组成(摩尔％)
  SiO2   69.75   69.78   69.75   69.8   70.7   70.57   69.1   70.85
  Al2O3   10.2   10.2   10.3   10.3   10   9.77   10.35   9.5
  B2O3   9.7   9.7   9.5   9.5   10   9.95   10.25   10.1
  MgO   0.8   0.8   0.8   0.8   0.12   0.15   1.25
  CaO   7   7   8.5   8.5   9   9.17   9.8   6.7
  SrO   2.2   2.2   0.8   0.8   1.3
  BaO
  As2O3   0.3   0.3   0.4   0.33
  Sb2O3   0.3   0.3   0.3   0.1
  CeO2   0.2
  Y2O3
  SnO2   0.05   0.02   0.05   0.05   0.02   0.02
  Cl   0.2   0   0.2   0.2   0.2
  RO/Al2O3   0.98   0.98   0.98   0.98   0.90   0.95   0.96   0.98
  CTE(0-300℃.，×10-7/℃)   32.7   31.2   31.9   30.8   30.5   30.2   31.5   31.4
  密度(g/cm3)   2.416   2.404   2.394   2.38   2.37   2.355   2.375   2.367
  应变点Pt(℃)   672   674   673   679   671   666   673   664
  退火点Pt(℃)   727   731   729   734   728   729   729   720
  软化点Pt(℃)   984   991   991   995   1001   1001   976   992
  110BHF(mg/cm2)   0.15   0.14   0.145   0.135   0.14   0.15   0.18   0.27
  液相线温度(℃)   1125   1120   1120   1125   1150   1135   1115   1140
  液相线粘度(℃)   5.04E+05   7.06E+05   6.34E+05   6.30E+05   3.66E+05   5.95E+05   5.30E+05   4.77E+05
  熔点(℃)   1659   1668   1650   1659   1668   1680   1635   1686
                                                                                      表1(续)
  9   10   11   12   13   14   15   16   17
  配料组成(摩尔％)
  SiO2   69.1   69.65   68.75   69.1   68.8   69.33   69.65   70.05   69.33
  Al2O3   10.35   10.1   10.55   10.2   10.35   10.55   10.2   9.9   10.55
  B2O3   10.25   10.25   10.25   10.55   10.55   9.97   10.25   10.25   9.97
  MgO   0.15   0.15   0.15   0.15   0.15   0.18   0.15   0.15   0.18
  CaO   9.3   9.45   9.9   9.65   9.8   9.08   8.85   9.25   9.58
  SrO   0.5   0.5   0.5
  BaO
  As2O3   0.33   0.4   0.4   0.33   0.33   0.37   0.4   0.4   0.37
  Sb2O3
  CeO2
  Y2O3
  SnO2   0.02   0.02   0.02   0.02   0.02   0.02   0.02   0.02   0.02
  Cl
  RO/Al2O3   0.96   0.95   0.95   0.96   0.96   0.93   0.93   0.95   0.93
  CTE(0-300℃.，×10-7/℃)   32.2   31.4   31.8   32   31.8   31.5   30.9   30.8   31.4
  密度(g/cm3)   2.377   2.366   2.371   2.364   2.366   2.376   2.369   2.357   2.366
  应变点Pt(℃)   671   669   674   666   667   676   671   668   674
  退火点Pt(℃)   727   725   729   722   723   731   728   726   730
  软化点Pt(℃)   983   985   986   980   980   985   987   992   987
  110BHF(mg/cm2)   0.15   0.12   0.12
  液相线温度(℃)   1095   1090   1100   1090   1115   1095   1100   1100   1120
  液相线粘度(℃)   1.05E+06   1.23E+06   9.19E+05   1.07E+06   5.74E+05   1.19E+06   1.04E+06   1.12E+06   6.23E+05
  熔点(℃)   1649   1654   1650   1642   1650   1651   1657   1674   1654
                                                                                表1(续)
  18   19   20   21   22   23   24   25   26
  配料组成(摩尔％)
  SiO2   69.45   69.33   68.3   70.45   70   70.4   70.1   70   68.3
  Al2O3   11   10.55   10.9   9.85   10.35   10.05   10   10.23   10.9
  B2O3   9   9.97   10.4   9.55   9.5   9.69   10.15   9.75   10.4
  MgO   0.18   1.1   0.8   0.82   0.81   0.8
  CaO   10   9.08   9.1   5.75   8.5   7.14   7.11   7   9.1
  SrO   0.5   1   2.9   0.85   1.89   1.88   2.22   1.0
  BaO
  As2O3   0.4   0.3
  Sb2O3   0.3   0.37   0.3
  CeO2   0.2   0.2   0.2   0.2
  Y2O3
  SnO2   0.05   0.02   0.05   0.05
  Cl   0.2   0.2
  RO/Al2O3   0.91   0.93   0.93   0.99   0.98   0.98   0.98   0.98   0.93
  CTE(0-300℃.，×10-7/℃)   32   31.9   34.8   33.4   32.8   33.5   32.9   33.4   34.5
  密度(g/cm3)   2.386   2.383   2.403   2.405   2.378   2.378   2.374   2.391   2.392
  应变点Pt(℃)   681   675   669   670   672   670   664   671   677
  退火点Pt(℃)   737   730   725   727   728   727   720   727   732
  软化点Pt(℃)   993   984   978   996   988   989   984   989   979
  110BHF(mg/cm2)   0.16   0.3   0.39   0.18   0.17   0.19   0.19
  液相线温度(℃)   1150   1100   1140   1165   1160   1140   1150   1150   1150
  液相线粘度(℃)   2.90E+05   1.06E+06   2.40E+05   2.88E+05   2.49E+05   4.29E+05   2.80E+05   3.11E+05   2.14E+05
  熔点(℃)   1642   1655   1617   1682   1656   1668   1653   1656   1620
                                                                     表1(续)
  27   28   29   30   31   32   比较例
  配料组成(摩尔％)
  SiO2   68   70   70.4   69.8   71   72   67.6
  Al2O3   10.5   10   10.2   10.6   9.9   9.33   11.4
  B2O3   11   10   9.1   9   10   10   8.5
  MgO   1.3
  CaO   10.5   9   5.68   7.14   9.1   8.66   5.2
  SrO   4.55   3.42   1.3
  BaO   4.3
  As2O3   0.4
  Sb2O3   0.3   0.3   0.3   0.3   0.3   0.3
  CeO2
  Y2O3
  SnO2
  Cl
  RO/Al2O3   1.00   0.90   1.00   1.00   0.92   0.93   1.03
  CTE(0-300℃.，×10-7/℃)   34.9   32.0   34.4   34.4   32.1   31.2   37.8
  密度(g/cm3)   2.378   2.355   2.420   2.406   2.353   2.342   2.54
  应变点Pt(℃)   659   673   669   672   669   672   666
  退火点Pt(℃)   713   731   727   729   726   730   721
  软化点Pt(℃)   967   999   987   984   998   1012   975
  110BHF(mg/cm2)   0.23   0.18   0.2
  液相线温度(℃)   1120   1130   1130   1135   1120   1125   1050
  液相线粘度(℃)   3.07E+05   5.99E+05   5.67E+05   4.38E+05   8.46E+05   8.79E+05   2.97E+06
  熔点(℃)   1611   1870   1671   1657   1685   1703   1636

Claims (77)

1.一种硅铝酸盐玻璃，其密度小于2.45g/cm3，液相线粘度大于200,000泊，该玻璃包含氧化物为基准的摩尔百分数计的下列组成：65-75％SiO2，7-13％Al2O3、5-15％B2O3、0-3％MgO、5-15％CaO、0-5％SrO，小于0.1％BaO，以及小于0.1％碱金属氧化物，其特征在于，在0-300℃的温度范围内该玻璃的线性热膨胀系数为28-33×10-7/℃。
2.如权利要求1所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的RO/Al2O3比值为0.9-1.2，RO代表MgO、CaO、SrO和BaO的总量。
3.如权利要求1所述的玻璃，其特征在于，所述RO/Al2O3比值为0.92-0.96，RO代表MgO、CaO、SrO和BaO的总量。
4.如权利要求1所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的应变点高于650℃。
5.如权利要求1所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的应变点高于660℃。
6.如权利要求1所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的熔点低于1700℃。
7.如权利要求1所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃浸在30℃的1份50重量％HF和10份40重量％NH4F的溶液中5分钟后，其重量损失小于0.5mg/cm2。
8.如权利要求1所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的液相线粘度大于400,000泊。
9.如权利要求1所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的液相线粘度大于600,000泊。
10.如权利要求1所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃不含SrO时，含有0-1摩尔％MgO。
11.如权利要求1所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃组成包含氧化物为基准的摩尔百分数计的下列组成：67-73％SiO2，8-11.5％Al2O3、8-12％B2O3、0-1％MgO、5.5-11％CaO和0-5％SrO。
12.如权利要求11所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的应变点高于650℃。
13.如权利要求11所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的应变点高于660℃。
14.如权利要求11所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的熔点低于1700℃。
15.如权利要求11所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的液相线粘度大于400,000泊。
16.如权利要求11所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的液相线粘度大于800,000泊。
17.如权利要求1所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的液相线粘度大于800,000泊。
18.如权利要求1所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的液相线粘度大于400,000泊，密度小于2.40g/cm3。
19.如权利要求1所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的液相线粘度大于600,000泊，密度小于2.40g/cm3。
20.如权利要求1所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的液相线粘度大于800,000泊，密度小于2.40g/cm3。
21.如权利要求1所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的液相线粘度大于400,000泊，密度小于2.40g/cm3，应变点高于650℃。
22.如权利要求1所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的液相线粘度大于600,000泊，密度小于2.40g/cm3，应变点高于650℃。
23.如权利要求1所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的液相线粘度大于800,000泊，密度小于2.40g/cm3，应变点高于650℃。
24.如权利要求1所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的液相线粘度大于400,000泊，密度小于2.40g/cm3，应变点高于660℃。
25.如权利要求1所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的液相线粘度大于600,000泊，密度小于2.40g/cm3，应变点高于660℃。
26.如权利要求1所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的液相线粘度大于800,000泊，密度小于2.40g/cm3，应变点高于660℃。
27.如权利要求1所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的液相线粘度大于400,000泊，密度小于2.40g/cm3，所述玻璃浸在30℃的1份50重量％HF和10份40重量％NH4F的溶液中5分钟后，其重量损失小于0.5mg/cm2。
28.如权利要求1所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的液相线粘度大于600,000泊，密度小于2.40g/cm3，所述玻璃浸在30℃的1份50重量％HF和10份40重量％NH4F的溶液中5分钟后，其重量损失小于0.5mg/cm2。
29.如权利要求1所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的液相线粘度大于800,000泊，密度小于2.40g/cm3，所述玻璃浸在30℃的1份50重量％HF和10份40重量％NH4F的溶液中5分钟后，其重量损失小于0.5mg/cm2。
30.一种平板显示器，其特征在于，采用如权利要求1所述的玻璃构成的基材。
31.如权利要求30所述的平板显示器，其特征在于，所述基材的平均表面粗糙度小于0.5nm。
32.如权利要求30所述的平板显示器，其特征在于，所述基材的平均内部应力小于150psi。
33.如权利要求30所述的平板显示器，其特征在于，在不抛光的条件下，所述基材的平均表面粗糙度小于0.5nm。
34.如权利要求30所述的平板显示器，其特征在于，所述基材的平均表面粗糙度小于0.5nm，平均内部应力小于150psi。
35.一种平板显示器，其特征在于，采用如权利要求11所述的玻璃构成的基材。
36.如权利要求35所述的平板显示器，其特征在于，所述基材的平均表面粗糙度小于0.5nm。
37.如权利要求35所述的平板显示器，其特征在于，所述基材的平均内部应力小于150psi。
38.一种平板显示器，其特征在于，采用如权利要求16所述的玻璃构成的基材。
39.一种用于平板显示器的基材，其特征在于，所述基材由平板透明玻璃构成，所述玻璃的密度小于2.40g/cm3，在0-300℃温度范围的线性热膨胀系数为28-33×10-7/℃，液相线粘度大于400,000泊，包含以氧化物为基准的摩尔百分数计的下列组成：65-75％SiO2，7-13％Al2O3、5-15％B2O3、0-3％MgO、5-15％CaO、0-5％SrO，小于0.1％BaO，以及小于0.1％碱金属氧化物，RO/Al2O3比值为0.92-0.96，RO代表MgO、CaO、SrO和BaO的总量。
40.如权利要求39所述的基材，其特征在于，所述玻璃的应变点高于660℃。
41.如权利要求39所述的基材，其特征在于，所述基材的平均表面粗糙度小于0.5nm。
42.如权利要求39所述的基材，其特征在于，所述基材的平均内部应力小于150psi。
43.一种硅铝酸盐玻璃，包含氧化物为基准的摩尔百分数计的下列组成：65-75％SiO2，7-13％Al2O3，5-15％B2O3，以及小于0.1％碱金属氧化物，其中：
(a)所述玻璃的RO/Al2O3比值为0.9-1.2，RO代表MgO、CaO、SrO和BaO的总量；
(b)所述玻璃的CaO浓度按氧化物为基准的摩尔百分数计为5-15％；
(c)所述玻璃的密度小于2.45g/cm3，液相线粘度大于200,000泊，在0-300℃温度范围内的线性热膨胀系数为28-33×10-7/℃。
44.如权利要求43所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃包含氧化物为基准的摩尔百分数计的下列组成：67-73％SiO2，8-11.5％Al2O3、8-12％B2O3和5.5-11％CaO。
45.如权利要求43所述的玻璃，其特征在于，所述RO/Al2O3比值为0.92-0.96，RO代表MgO、CaO、SrO和BaO的总量。
46.如权利要求43所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃应变点高于650℃。
47.如权利要求43所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃应变点高于660℃。
48.如权利要求43所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的熔点低于1700℃。
49.如权利要求43所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃浸在30℃的1份50重量％HF和10份40重量％NH4F的溶液中后，其重量损失小于0.5mg/cm2。
50.如权利要求43所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的液相线粘度大于400,000泊。
51.如权利要求43所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的液相线粘度大于600,000泊。
52.如权利要求43所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的液相线粘度大于800,000泊。
53.如权利要求43所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的密度小于2.40g/cm3。
54.如权利要求43所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃包含小于0.1摩尔％的BaO。
55.如权利要求43所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的液相线粘度大于400,000泊，密度小于2.40g/cm3。
56.如权利要求43所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的液相线粘度大于600,000泊，密度小于2.40g/cm3。
57.如权利要求43所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的液相线粘度大于800,000泊，密度小于2.40g/cm3。
58.如权利要求43所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的液相线粘度大于400,000泊，密度小于2.40g/cm3，应变点高于650℃。
59.如权利要求43所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的液相线粘度大于600,000泊，密度小于2.40g/cm3，应变点高于650℃。
60.如权利要求43所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的液相线粘度大于800,000泊，密度小于2.40g/cm3，应变点高于650℃。
61.如权利要求43所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的液相线粘度大于400,000泊，密度小于2.40g/cm3，应变点高于660℃。
62.如权利要求43所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的液相线粘度大于600,000泊，密度小于2.40g/cm3，应变点高于660℃。
63.如权利要求43所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的液相线粘度大于800,000泊，密度小于2.40g/cm3，应变点高于660℃。
64.如权利要求43所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的液相线粘度大于400,000泊，密度小于2.40g/cm3，所述玻璃浸在30℃的1份50重量％HF和10份40重量％NH4F的溶液中5分钟后，其重量损失小于0.5mg/cm2。
65.如权利要求43所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的液相线粘度大于600,000泊，密度小于2.40g/cm3，所述玻璃浸在30℃的1份50重量％HF和10份40重量％NH4F的溶液中5分钟后，其重量损失小于0.5mg/cm2。
66.如权利要求43所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的液相线粘度大于800,000泊，密度小于2.40g/cm3，所述玻璃浸在30℃的1份50重量％HF和10份40重量％NH4F的溶液中5分钟后，其重量损失小于0.5mg/cm2。
67.一种平板显示器，其特征在于，采用如权利要求43所述的玻璃构成的基材。
68.如权利要求67所述的平板显示器，其特征在于，所述基材平均表面粗糙度小于0.5nm。
69.如权利要求67所述的平板显示器，其特征在于，所述基材的平均内部应力小于150psi。
70.如权利要求67所述的平板显示器，其特征在于，在不抛光的条件下，所述基材的平均表面粗糙度小于0.5nm。
71.如权利要求67所述的平板显示器，其特征在于，所述基材的平均表面粗糙度小于0.5nm，平均内部应力小于150psi。
72.一种平板显示器，其特征在于，它包含一种基材，所述基材含有如权利要求18所述的玻璃，所述基材的平均表面粗糙度小于0.5nm。
73.一种平板显示器，其特征在于，它包含一种基材，所述基材含有如权利要求19所述的玻璃，所述基材的平均表面粗糙度小于0.5nm。
74.一种平板显示器，其特征在于，它包含一种基材，所述基材含有如权利要求20所述的玻璃，所述基材的平均表面粗糙度小于0.5nm。
75.一种平板显示器，其特征在于，它包含一种基材，所述基材含有如权利要求55所述的玻璃，所述基材的平均表面粗糙度小于0.5nm。
76.一种平板显示器，其特征在于，它包含一种基材，所述基材含有如权利要求56所述的玻璃，所述基材的平均表面粗糙度小于0.5nm。
77.一种平板显示器，其特征在于，它包含一种基材，所述基材含有如权利要求57所述的玻璃，所述基材的平均表面粗糙度小于0.5nm。
CNB2004100456364A 1998-11-30 1999-11-22 用于平板显示器的玻璃 Expired - Lifetime CN1275889C (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US11022098P 1998-11-30 1998-11-30
US60/110,220 1998-11-30
SG200002047A SG103258A1 (en) 1998-11-30 2000-04-11 Glasses for flat panel displays

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB99813791XA Division CN1160268C (zh) 1998-11-30 1999-11-22 用于平板显示器的玻璃

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1550468A CN1550468A (zh) 2004-12-01
CN1275889C true CN1275889C (zh) 2006-09-20

Family

ID=32658692

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB99813791XA Expired - Lifetime CN1160268C (zh) 1998-11-30 1999-11-22 用于平板显示器的玻璃
CNB2004100456364A Expired - Lifetime CN1275889C (zh) 1998-11-30 1999-11-22 用于平板显示器的玻璃

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB99813791XA Expired - Lifetime CN1160268C (zh) 1998-11-30 1999-11-22 用于平板显示器的玻璃

Country Status (8)

Country Link
US (4) US6319867B1 (zh)
EP (1) EP1152990B1 (zh)
JP (1) JP4547093B2 (zh)
CN (2) CN1160268C (zh)
HK (1) HK1070639A1 (zh)
SG (1) SG103258A1 (zh)
TW (2) TWI228100B (zh)
WO (1) WO2000032528A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101092280B (zh) * 2007-06-07 2012-01-18 河南安彩高科股份有限公司 铝硼硅酸盐玻璃组合物及其应用

Families Citing this family (131)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6060168A (en) * 1996-12-17 2000-05-09 Corning Incorporated Glasses for display panels and photovoltaic devices
JP4547093B2 (ja) * 1998-11-30 2010-09-22 コーニング インコーポレイテッド フラットパネルディスプレイ用ガラス
DE19934072C2 (de) * 1999-07-23 2001-06-13 Schott Glas Alkalifreies Aluminoborosilicatglas, seine Verwendungen und Verfahren zu seiner Herstellung
US6537937B1 (en) 1999-08-03 2003-03-25 Asahi Glass Company, Limited Alkali-free glass
US6748765B2 (en) * 2000-05-09 2004-06-15 Richard B. Pitbladdo Overflow downdraw glass forming method and apparatus
US6949485B2 (en) * 2000-06-01 2005-09-27 Asabi Glass Company, Limited Glass for substrate and glass substrate
JP2002029776A (ja) * 2000-07-14 2002-01-29 Nippon Electric Glass Co Ltd 耐クラック性に優れた無アルカリガラス
DE10064804C2 (de) * 2000-12-22 2003-03-20 Schott Glas Alkalifreie Aluminoborosilicatgläser und ihre Verwendung
JP2002193636A (ja) * 2000-12-25 2002-07-10 Nippon Sheet Glass Co Ltd 無アルカリガラスとその製造方法をそれを用いて得られるフラットディスプレーパネル
DE10114581C2 (de) * 2001-03-24 2003-03-27 Schott Glas Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und Verwendungen
US7681414B2 (en) * 2001-08-08 2010-03-23 Corning Incorporated Overflow downdraw glass forming method and apparatus
US9233869B2 (en) 2001-08-08 2016-01-12 Corning Incorporated Overflow downdraw glass forming method and apparatus
KR100754758B1 (ko) * 2001-08-08 2007-09-04 피트블라도 리차드 비. 시트 글래스 형성 장치
US6555232B1 (en) 2001-11-28 2003-04-29 Corning, Incorporated High strain point glasses
CN100569681C (zh) * 2001-12-14 2009-12-16 康宁股份有限公司 溢流下拉熔制法制造平板玻璃的装置和方法
JP3988456B2 (ja) * 2001-12-21 2007-10-10 日本電気硝子株式会社 ガラス及びディスプレイ用ガラス基板
US7538050B2 (en) * 2002-02-05 2009-05-26 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Glass composition
US7119365B2 (en) 2002-03-26 2006-10-10 Sharp Kabushiki Kaisha Semiconductor device and manufacturing method thereof, SOI substrate and display device using the same, and manufacturing method of the SOI substrate
US20030212761A1 (en) * 2002-05-10 2003-11-13 Microsoft Corporation Process kernel
US6895782B2 (en) * 2002-08-08 2005-05-24 Richard B. Pitbladdo Overflow downdrawn glass forming method and apparatus
JP2004075495A (ja) * 2002-08-22 2004-03-11 Nippon Electric Glass Co Ltd 陰極線管パネルガラス
JP4168320B2 (ja) * 2002-08-22 2008-10-22 日本電気硝子株式会社 ガラス基板の製造方法
US6992030B2 (en) * 2002-08-29 2006-01-31 Corning Incorporated Low-density glass for flat panel display substrates
US20040050106A1 (en) * 2002-08-29 2004-03-18 Murnane Rand A. Producing glass using outgassed frit
US7399681B2 (en) 2003-02-18 2008-07-15 Corning Incorporated Glass-based SOI structures
US7176528B2 (en) 2003-02-18 2007-02-13 Corning Incorporated Glass-based SOI structures
CN1764610A (zh) * 2003-03-31 2006-04-26 旭硝子株式会社 无碱玻璃
US7170154B2 (en) * 2003-04-09 2007-01-30 Hoya Corporation Glass for window of semiconductor package, glass window for semiconductor package, process for production of glass window, and semiconductor package
FR2856055B1 (fr) * 2003-06-11 2007-06-08 Saint Gobain Vetrotex Fils de verre aptes a renforcer des matieres organiques et/ou inorganiques, composites les renfermant et composition utilisee
EP1705160A4 (en) * 2003-12-26 2009-05-06 Asahi Glass Co Ltd GLASS NOT COMPRISING ALKALI, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL
KR101035826B1 (ko) * 2003-12-30 2011-05-20 코닝 인코포레이티드 고 변형점 유리
EP1730084B1 (en) * 2003-12-31 2017-05-17 Corning Incorporated Aluminum silicophosphate glasses
US7690221B2 (en) 2004-02-23 2010-04-06 Corning Incorporated Sheet width control for overflow downdraw sheet glass forming apparatus
JP4582498B2 (ja) * 2004-03-12 2010-11-17 日本電気硝子株式会社 ガラス基板
JP4737709B2 (ja) † 2004-03-22 2011-08-03 日本電気硝子株式会社 ディスプレイ基板用ガラスの製造方法
JP2005353577A (ja) * 2004-06-10 2005-12-22 Samsung Sdi Co Ltd 有機電界発光表示装置及びその製造方法
US8042361B2 (en) 2004-07-20 2011-10-25 Corning Incorporated Overflow downdraw glass forming method and apparatus
JP2006041135A (ja) * 2004-07-26 2006-02-09 Sumitomo Bakelite Co Ltd 電子デバイスおよびその製造方法
FR2879591B1 (fr) * 2004-12-16 2007-02-09 Saint Gobain Vetrotex Fils de verre aptes a renforcer des matieres organiques et/ou inorganiques
EP2865655B1 (en) 2004-12-30 2017-07-26 Corning Incorporated Refractory materials
US20060261118A1 (en) * 2005-05-17 2006-11-23 Cox Judy K Method and apparatus for separating a pane of brittle material from a moving ribbon of the material
US20060280920A1 (en) * 2005-06-10 2006-12-14 Abbott John S Iii Selective contact with a continuously moving ribbon of brittle material to dampen or reduce propagation or migration of vibrations along the ribbon
JP5252771B2 (ja) * 2005-06-15 2013-07-31 Ｈｏｙａ株式会社 無アルカリガラス、その製造方法および液晶表示装置のｔｆｔ形成用ガラス基板
JP4803643B2 (ja) * 2005-06-15 2011-10-26 Ｈｏｙａ株式会社 ガラス部材、それを用いた製品およびその製造方法
JP5013308B2 (ja) * 2005-06-27 2012-08-29 日本電気硝子株式会社 ディスプレイ用ガラス基板
CN101208276B (zh) * 2005-06-28 2012-04-25 康宁股份有限公司 硼硅铝酸盐玻璃的澄清
EP1746076A1 (en) * 2005-07-21 2007-01-24 Corning Incorporated Method of making a glass sheet using rapid cooling
US7823417B2 (en) * 2005-11-04 2010-11-02 Ocv Intellectual Capital, Llc Method of manufacturing high performance glass fibers in a refractory lined melter and fiber formed thereby
US8338319B2 (en) * 2008-12-22 2012-12-25 Ocv Intellectual Capital, Llc Composition for high performance glass fibers and fibers formed therewith
US9187361B2 (en) * 2005-11-04 2015-11-17 Ocv Intellectual Capital, Llc Method of manufacturing S-glass fibers in a direct melt operation and products formed there from
US7799713B2 (en) 2005-11-04 2010-09-21 Ocv Intellectual Capital, Llc Composition for high performance glass, high performance glass fibers and articles therefrom
US9656903B2 (en) * 2005-11-04 2017-05-23 Ocv Intellectual Capital, Llc Method of manufacturing high strength glass fibers in a direct melt operation and products formed there from
US8586491B2 (en) 2005-11-04 2013-11-19 Ocv Intellectual Capital, Llc Composition for high performance glass, high performance glass fibers and articles therefrom
JP4752725B2 (ja) * 2005-11-17 2011-08-17 株式会社ニコン ガラス基板およびその製造方法
US20070130994A1 (en) * 2005-12-08 2007-06-14 Boratav Olus N Method and apparatus for drawing a low liquidus viscosity glass
US7748236B2 (en) * 2005-12-27 2010-07-06 Corning Incorporated Overflow downdraw glass forming method and apparatus
US7456057B2 (en) * 2005-12-31 2008-11-25 Corning Incorporated Germanium on glass and glass-ceramic structures
EP1974375A2 (en) * 2006-01-03 2008-10-01 Corning Incorporated Germanium on glass and glass-ceramic structures
US8007913B2 (en) * 2006-02-10 2011-08-30 Corning Incorporated Laminated glass articles and methods of making thereof
WO2007095115A1 (en) 2006-02-10 2007-08-23 Corning Incorporated Glass compositions having high thermal and chemical stability and methods of making thereof
US7635521B2 (en) * 2006-02-10 2009-12-22 Corning Incorporated Glass compositions for protecting glass and methods of making and using thereof
FR2898352B1 (fr) * 2006-03-10 2008-05-30 Saint Gobain Substrats de verre pour ecrans plats
DE102006016256B4 (de) * 2006-03-31 2013-12-12 Schott Ag Aluminoborosilikatglas und dessen Verwendung
US20070264796A1 (en) * 2006-05-12 2007-11-15 Stocker Mark A Method for forming a semiconductor on insulator structure
JP5703535B2 (ja) 2006-05-23 2015-04-22 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス基板
JP2013173670A (ja) * 2006-05-23 2013-09-05 Nippon Electric Glass Co Ltd 無アルカリガラスおよび無アルカリガラス基板
US7534734B2 (en) 2006-11-13 2009-05-19 Corning Incorporated Alkali-free glasses containing iron and tin as fining agents
JP5435394B2 (ja) * 2007-06-08 2014-03-05 日本電気硝子株式会社 強化ガラス基板及びその製造方法
US7709406B2 (en) * 2007-07-31 2010-05-04 Corning Incorporation Glass compositions compatible with downdraw processing and methods of making and using thereof
JP2008013434A (ja) * 2007-09-03 2008-01-24 Nippon Electric Glass Co Ltd 耐クラック性に優れた無アルカリガラス
CN105776849B (zh) 2007-11-29 2020-04-14 康宁股份有限公司 具有改进的韧性和抗刮性的玻璃
DE102008005857A1 (de) 2008-01-17 2009-07-23 Schott Ag Alkalifreies Glas
JP4862859B2 (ja) * 2008-05-12 2012-01-25 日本電気硝子株式会社 ガラス基板
US8187715B2 (en) * 2008-05-13 2012-05-29 Corning Incorporated Rare-earth-containing glass material and substrate and device comprising such substrate
RU2010154445A (ru) 2008-05-30 2012-07-10 Фостер Вилер Энергия Ой (Fi) Способ и система для генерации энергии путем сжигания в чистом кислороде
JP5333984B2 (ja) * 2008-06-27 2013-11-06 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス
US20100055395A1 (en) * 2008-08-28 2010-03-04 Ljerka Ukrainczyk Method of Making Shaped Glass Articles
US8975199B2 (en) 2011-08-12 2015-03-10 Corsam Technologies Llc Fusion formable alkali-free intermediate thermal expansion coefficient glass
US8445394B2 (en) * 2008-10-06 2013-05-21 Corning Incorporated Intermediate thermal expansion coefficient glass
USD615218S1 (en) 2009-02-10 2010-05-04 Owens Corning Intellectual Capital, Llc Shingle ridge vent
USD628718S1 (en) 2008-10-31 2010-12-07 Owens Corning Intellectual Capital, Llc Shingle ridge vent
US8713967B2 (en) * 2008-11-21 2014-05-06 Corning Incorporated Stable glass sheet and method for making same
US8252707B2 (en) * 2008-12-24 2012-08-28 Ocv Intellectual Capital, Llc Composition for high performance glass fibers and fibers formed therewith
US8341976B2 (en) 2009-02-19 2013-01-01 Corning Incorporated Method of separating strengthened glass
US9637408B2 (en) * 2009-05-29 2017-05-02 Corsam Technologies Llc Fusion formable sodium containing glass
US9371247B2 (en) 2009-05-29 2016-06-21 Corsam Technologies Llc Fusion formable sodium free glass
US8647995B2 (en) * 2009-07-24 2014-02-11 Corsam Technologies Llc Fusion formable silica and sodium containing glasses
JP2011063464A (ja) * 2009-09-16 2011-03-31 Nippon Electric Glass Co Ltd プラズマディスプレイ用ガラス板
JP5704395B2 (ja) * 2010-03-29 2015-04-22 日本電気硝子株式会社 ガラスロール梱包体
KR101747057B1 (ko) 2010-06-29 2017-06-13 코닝 인코포레이티드 오버플로 하향인발 융합 공정을 사용해 공동인발하여 만들어진 다층 유리 시트
JP2012036074A (ja) * 2010-07-12 2012-02-23 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラス板
US8796165B2 (en) * 2010-11-30 2014-08-05 Corning Incorporated Alkaline earth alumino-borosilicate crack resistant glass
US20120135853A1 (en) * 2010-11-30 2012-05-31 Jaymin Amin Glass articles/materials for use as touchscreen substrates
WO2012103194A1 (en) * 2011-01-25 2012-08-02 Corning Incorporated Glass compositions having high thermal and chemical stability
US9315412B2 (en) * 2011-07-07 2016-04-19 Corning Incorporated Surface flaw modification for strengthening of glass articles
US9240568B2 (en) 2011-11-10 2016-01-19 Corning Incorporated Opal glasses for light extraction
TWI614227B (zh) * 2012-02-29 2018-02-11 康寧公司 低ｃｔｅ之無鹼硼鋁矽酸鹽玻璃組成物及包含其之玻璃物件
TWI564262B (zh) 2012-02-29 2017-01-01 康寧公司 高ｃｔｅ之硼矽酸鉀核心玻璃與包含其之玻璃物件
US9082764B2 (en) * 2012-03-05 2015-07-14 Corning Incorporated Three-dimensional integrated circuit which incorporates a glass interposer and method for fabricating the same
JP5491567B2 (ja) * 2012-04-23 2014-05-14 Ｈｏｙａ株式会社 無アルカリガラス、その製造方法および液晶表示装置のｔｆｔ形成用ガラス基板
USD710985S1 (en) 2012-10-10 2014-08-12 Owens Corning Intellectual Capital, Llc Roof vent
US10370855B2 (en) 2012-10-10 2019-08-06 Owens Corning Intellectual Capital, Llc Roof deck intake vent
US10017849B2 (en) 2012-11-29 2018-07-10 Corning Incorporated High rate deposition systems and processes for forming hermetic barrier layers
WO2014127108A1 (en) 2013-02-15 2014-08-21 Corning Incorporated High volume production of display quality glass sheets having low zirconia levels
WO2014179140A2 (en) 2013-04-29 2014-11-06 Corning Incorporated Photovoltaic module package
EP2994437A1 (en) 2013-05-10 2016-03-16 Corning Incorporated Laser welding transparent glass sheets using low melting glass or thin absorbing films
CN105980147B (zh) 2013-08-15 2020-07-24 康宁公司 中至高cte玻璃以及包含其的玻璃制品
WO2015023525A1 (en) 2013-08-15 2015-02-19 Corning Incorporated Alkali-doped and alkali-free boroaluminosilicate glass
US9488857B2 (en) 2014-01-10 2016-11-08 Corning Incorporated Method of strengthening an edge of a glass substrate
EP3105192B1 (en) 2014-02-13 2020-01-29 Corning Incorporated Method for making ultra low melting glass frit and fibers
EP3142977B1 (en) 2014-05-15 2021-10-06 Corning Incorporated Aluminosilicate glasses
US9670088B2 (en) 2014-05-20 2017-06-06 Corning Incorporated Scratch resistant glass and method of making
CN106575074B (zh) 2014-07-30 2020-06-05 康宁股份有限公司 高对比度、基于玻璃的可写入/可擦除前投影屏幕
EP3180187A1 (en) * 2014-08-13 2017-06-21 Corning Incorporated Intermediate cte glasses and glass articles comprising the same
JP6575223B2 (ja) * 2014-08-27 2019-09-18 Ａｇｃ株式会社 無アルカリガラス
WO2016069822A1 (en) 2014-10-31 2016-05-06 Corning Incorporated Laser welded glass packages and methods of making
US9919951B2 (en) 2014-10-31 2018-03-20 Corning Incorporated Dimensionally stable fast etching glasses
US9580350B2 (en) 2014-11-19 2017-02-28 Corning Incorporated High hydroxyl TiO2-SiO2 glass
GB201505097D0 (en) * 2015-03-26 2015-05-06 Pilkington Group Ltd Glass
GB201505101D0 (en) * 2015-03-26 2015-05-06 Pilkington Group Ltd Glass
US9953912B2 (en) 2015-04-28 2018-04-24 Corning Incorporated Work pieces and methods of laser drilling through holes in substrates using an exit sacrificial cover layer
US10497898B2 (en) 2015-11-24 2019-12-03 Corning Incorporated Sealed device housing with particle film-initiated low thickness laser weld and related methods
US10410883B2 (en) 2016-06-01 2019-09-10 Corning Incorporated Articles and methods of forming vias in substrates
US10134657B2 (en) 2016-06-29 2018-11-20 Corning Incorporated Inorganic wafer having through-holes attached to semiconductor wafer
US10794679B2 (en) 2016-06-29 2020-10-06 Corning Incorporated Method and system for measuring geometric parameters of through holes
US11078112B2 (en) 2017-05-25 2021-08-03 Corning Incorporated Silica-containing substrates with vias having an axially variable sidewall taper and methods for forming the same
US10580725B2 (en) 2017-05-25 2020-03-03 Corning Incorporated Articles having vias with geometry attributes and methods for fabricating the same
US11554984B2 (en) 2018-02-22 2023-01-17 Corning Incorporated Alkali-free borosilicate glasses with low post-HF etch roughness
TWI814817B (zh) 2018-05-01 2023-09-11 美商康寧公司 低鹼金屬高透射玻璃
JP7127587B2 (ja) * 2019-03-19 2022-08-30 Ａｇｃ株式会社 無アルカリガラス基板
CN112266168A (zh) * 2020-10-16 2021-01-26 郑州旭飞光电科技有限公司 一种无碱高铝硼硅酸盐玻璃及其制备方法

Family Cites Families (46)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US434453A (en) * 1890-08-19 Safety device for elevators
US2231811A (en) 1935-09-24 1941-02-11 Corning Glass Works Tempered glass article
GB479173A (en) 1935-09-24 1938-01-31 Corning Glass Works Improvements in tempered glass articles
NL257758A (zh) 1958-12-02
US3338696A (en) 1964-05-06 1967-08-29 Corning Glass Works Sheet forming apparatus
BE757057A (fr) 1969-10-06 1971-04-05 Corning Glass Works Procede et appareil de controle d'epaisseur d'une feuille de verre nouvellement etiree
SU642265A1 (ru) 1976-09-15 1979-01-15 Предприятие П/Я Х-5382 Стекло
US4394453A (en) 1981-09-08 1983-07-19 Corning Glass Works Envelopes for tungsten-halogen lamps
JPS60215554A (ja) 1984-04-09 1985-10-28 Kobe Steel Ltd 光フアイバのコ−テイング方法及びコ−テイング装置
JPS6483538A (en) 1987-09-28 1989-03-29 Nippon Sheet Glass Co Ltd Glass substrate for electronic apparatus
US4824808A (en) * 1987-11-09 1989-04-25 Corning Glass Works Substrate glass for liquid crystal displays
JP2644622B2 (ja) * 1990-10-24 1997-08-25 ホーヤ株式会社 液晶ディスプレイ基板用ガラス
JP3083586B2 (ja) 1991-04-26 2000-09-04 旭硝子株式会社 無アルカリガラス
JP2871163B2 (ja) 1991-04-26 1999-03-17 日本板硝子株式会社 無アルカリガラス
US5116788A (en) * 1991-08-12 1992-05-26 Corning Incorporated Alkaline earth aluminoborosilicate glasses for flat panel displays
FR2692883B1 (fr) 1992-06-25 1994-12-02 Saint Gobain Vitrage Int Verres thermiquement stables et chimiquement résistants.
US5374595A (en) * 1993-01-22 1994-12-20 Corning Incorporated High liquidus viscosity glasses for flat panel displays
US5508237A (en) 1994-03-14 1996-04-16 Corning Incorporated Flat panel display
JPH0834634A (ja) 1994-07-26 1996-02-06 Nippon Electric Glass Co Ltd 耐薬品性に優れたガラス基板
EP0714862B1 (en) 1994-11-30 1999-03-31 Asahi Glass Company Ltd. Alkali-free glass and flat panel display
JP4250208B2 (ja) 1994-11-30 2009-04-08 旭硝子株式会社 ディスプレイ基板用無アルカリガラス及び液晶ディスプレイパネル
US6169047B1 (en) * 1994-11-30 2001-01-02 Asahi Glass Company Ltd. Alkali-free glass and flat panel display
JP2719504B2 (ja) 1995-02-27 1998-02-25 ホーヤ株式会社 液晶ディスプレイ基板用ガラス
US5885914A (en) 1995-07-28 1999-03-23 Asahi Glass Company Ltd. Alkali-free glass and display substrate
KR100262115B1 (ko) * 1995-09-28 2000-07-15 기시다 기요사쿠 무알칼리유리기판
KR100262116B1 (ko) 1995-09-28 2000-07-15 기시다 기요사쿠 무알칼리유리기판
JPH09110460A (ja) * 1995-10-18 1997-04-28 Central Glass Co Ltd 無アルカリガラス
JP3858293B2 (ja) 1995-12-11 2006-12-13 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス基板
DE19601922C2 (de) 1996-01-13 2001-05-17 Schott Glas Zinn- und zirkonoxidhaltige, alkalifreie Erdalkali-Alumo-Borosilicatgläser und deren Verwendung
DE19603698C1 (de) 1996-02-02 1997-08-28 Schott Glaswerke Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendung
JP3988209B2 (ja) * 1996-06-03 2007-10-10 旭硝子株式会社 無アルカリガラスおよび液晶ディスプレイパネル
JP3800438B2 (ja) 1996-07-09 2006-07-26 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス及びその製造方法
JP3897194B2 (ja) 1997-07-24 2007-03-22 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス及びその製造方法
JP3861271B2 (ja) 1996-08-21 2006-12-20 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス及びその製造方法
JP3800440B2 (ja) 1996-08-21 2006-07-26 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス及びその製造方法
JP3861272B2 (ja) 1996-12-18 2006-12-20 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス及びその製造方法
JP3800443B2 (ja) 1996-10-22 2006-07-26 日本電気硝子株式会社 ディスプレイ用無アルカリガラス基板及びその製造方法
JPH10139467A (ja) 1996-11-12 1998-05-26 Asahi Glass Co Ltd 無アルカリガラス及びフラットディスプレイパネル
US6060168A (en) 1996-12-17 2000-05-09 Corning Incorporated Glasses for display panels and photovoltaic devices
JP4739468B2 (ja) 1997-05-20 2011-08-03 旭硝子株式会社 無アルカリガラスおよびその清澄方法
DE19739912C1 (de) * 1997-09-11 1998-12-10 Schott Glas Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendung
JPH11292563A (ja) 1998-04-03 1999-10-26 Nippon Electric Glass Co Ltd 無アルカリガラス基板
TW432020B (en) 1998-04-27 2001-05-01 Nh Technoglass Co Lining material for glass melting furnace, glass melting furnace, production of glass product and purification of lining material for glass melting furnace
JPH11310430A (ja) * 1998-04-27 1999-11-09 Asahi Glass Co Ltd 基板として用いるためのガラス組成物
US6468933B1 (en) 1998-09-22 2002-10-22 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Alkali-free glass and method of producing the same
JP4547093B2 (ja) * 1998-11-30 2010-09-22 コーニング インコーポレイテッド フラットパネルディスプレイ用ガラス

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101092280B (zh) * 2007-06-07 2012-01-18 河南安彩高科股份有限公司 铝硼硅酸盐玻璃组合物及其应用

Also Published As

Publication number Publication date
JP4547093B2 (ja) 2010-09-22
US7524784B2 (en) 2009-04-28
CN1550468A (zh) 2004-12-01
WO2000032528A1 (en) 2000-06-08
HK1070639A1 (en) 2005-06-24
US6831029B2 (en) 2004-12-14
US20020082158A1 (en) 2002-06-27
TWI228100B (en) 2005-02-21
US7365038B2 (en) 2008-04-29
EP1152990A1 (en) 2001-11-14
US6319867B1 (en) 2001-11-20
US20050084440A1 (en) 2005-04-21
CN1328531A (zh) 2001-12-26
TW200424144A (en) 2004-11-16
SG103258A1 (en) 2004-04-29
CN1160268C (zh) 2004-08-04
EP1152990A4 (en) 2004-11-10
TWI289543B (en) 2007-11-11
EP1152990B1 (en) 2012-10-10
JP2002531360A (ja) 2002-09-24
US20080160221A1 (en) 2008-07-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1275889C (zh) 用于平板显示器的玻璃
EP1534641B1 (en) Low-density glass for flat panel display substrates
CA2113505C (en) High liquidus viscosity glasses for flat panel displays
US7851394B2 (en) Fining of boroalumino silicate glasses
CN102653449B (zh) 无碱玻璃及无碱玻璃基板
US7635521B2 (en) Glass compositions for protecting glass and methods of making and using thereof
TWI441789B (zh) 玻璃基板
JP2004531443A (ja) アルカリ金属不含のアルミノホウケイ酸塩および使用
TW202039390A (zh) 無鹼玻璃
KR100813772B1 (ko) 평평한 패널 디스플레이용 유리

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
REG Reference to a national code

Ref country code: HK

Ref legal event code: DE

Ref document number: 1070639

Country of ref document: HK

C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CX01 Expiry of patent term
CX01 Expiry of patent term

Granted publication date: 20060920