CN1177307A - 气体化合物的储存和释放系统 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及吸附-解吸装置(102),储存和分配气体如氢化物和卤化物气体,以及V族有机金属化合物的方法,通过从吸附剂材料上经压差解吸选择性进行分配。该吸附剂材料优选避免含有如水、金属和氧化的过渡金属物质,它们可严重降解装置(102)中的吸附气。

Description

气体化合物的储存和释放系统
                    本发明的领域
本发明广泛地涉及这样一种储存和分配系统,它可用于选择性地从一个容器或储存器中分配包含氢化物和卤化物气体试剂,在容器或储存器中氢化物和/或卤化物吸附在一种固体吸附剂介质上并在分配操作时从吸附剂介质上解吸出来。
                    相关领域的描述
在半导体材料和设备的生产及各种其他工业过程和应用中,需要有一个可靠的氢化物和卤化物气体的来源。许多这样的气体,例如硅烷、锗烷、氨、磷化氢、砷化氢、乙硼烷、锑化氢、硫化氢、硒化氢、碲化氢和相应的其他卤(氯、溴、碘、氟)化合物,由于考虑到毒性和安全性,在工业过程设备中必须仔细地保存和处理。
气态的砷化氢(AsH3)和磷化氢(PH3)在离子注入法中通常被用作砷(As)和磷(P)源。由于它们极毒且蒸汽压高,它们的应用、运输、储存在半导体工业中引起了严重的安全问题。离子注入法体系一般在压力高达1500磅/平方英寸(表压)条件下采用稀释的砷化氢和磷化氢混合物。这些高压容器灾害性的释放会给生产工人带来严重的可能的伤害甚至死亡。
基于以上这些考虑,离子注入法的使用者必须在砷化合物和磷化合物的固相或气态来源中选择。一个采用固相来源的离子注入器从砷转到磷要花90分钟。而同样情况下采用气态来源则只需15分钟。但是,砷化氢和磷化氢作为两者最常用的气体来源都有很高的毒性。它们的使用由于对处理这些气体的安全性研究最近得到了广泛的关注。在400-1800磅/平方英寸(表压)压力下,0.44或2.3升的圆筒中,许多离子注入体系采用以稀释混合物形式(10-15%)提供的氢化物气体源。这是考虑到从圆筒中气体以压力驱动方式的释放,这种方式促使使用者研究更安全的方法。
于1988年5月17日公告的美国专利U.S.Patent 4,744,221,Karl O.Knollmueller公开了一种储存和接着传送砷化氢的工艺,该工艺通过将砷化氢在大约-30℃-30℃与孔径大小大约为5-15埃的沸石接触以将砷化氢吸附到沸石上,然后以足够的时间加热沸石高达175℃以将砷化氢从沸石材料上释放出来达到分配砷化氢的目的。
Rnollmueller专利公开的方法的缺点是它需要提供用于加热沸石材料的装置,这些装置必须能加热沸石到足够高的温度以定量地把原来吸附在沸石上的砷化氢解吸出来。
使用装有已吸附砷化氢的沸石的容器的外部加热套或其他外部加热设备是有问题的,因为容器一般有显著的热容量,因此对分配操作会产生显著的滞后时间。而且,砷化氢会受热分解并生成氢气给处理系统产生爆炸隐患。同时,这种受热分解导致处理系统中气压的大量增加,这种增加对系统的稳定和操作效率是极其不利的。
在沸石床内排列的加热盘管或其他加热元件也有问题,因为这些装置很难均匀地加热沸石床以得到想要的砷化氢气的均匀释放。
往沸石固定床内通已热载气也许能克服上述的缺点,但是,能使砷化氢解吸的最低温度可能过高或者不适用于砷化氢气的最终使用,因此需要冷却或者其他处理方法来调节用于最终使用的分配气体。
本发明实施了一种气体储存和分配系统,可用于储存和分配氢化物和卤化物气体,该系统克服了上面讨论的Knollmueller专利方法中的缺点。
本发明的系统适用于氢化物和卤化物气体的储存和分配,虽然在室温水平具有选择性地可操作性,但是能够有效地利用沸石材料的高储存吸收容量。
                         本发明简述
本发明实施了一种吸收-解吸装置,可用于储存和分配气体,例如一种从一组包括氢化物、卤化物气体和V族有机金属化合物中选择出来的气体,此装置包括:
一个构建和布置用来装载固相物理吸附剂介质和选择性地进行气体流入和流出所述容器的储存和分配容器;
一种在内部气压下置于所述储存和分配容器中的固相物理吸附剂介质;
一种被吸附在所述固相物理吸附介质上的吸附气体;
一个在气流交换中与储存和分配容器相配套的分配系统,它装配在所述储存和分配容器外部,可用于提供一个低于上述的内部压力和实现吸附在固相物理吸附介质上的吸附气体的解吸以及解吸气通过分配系统的气体流动;
其中,固相物理吸附剂介质中所包含的水、金属的氧化的过渡金属物质(例如氧化物,亚硫酸盐和/或硝酸盐)痕量组分的浓度不足以分解在所述储存和分配容器中的吸附气。
在这类装置中,以物理吸附剂介质的重量计,每一百万份(重量)的固相物理吸附剂介质所含的水和过渡金属氧化物这一类物质的痕量组分少于350份,少于100份是优选地,少于10份更优选,最好是少于1份。
在本发明的装置中,以物理吸附剂介质的重量计,水和氧化的过渡优选金属物质这类物质的固相物理吸附剂介质的痕量组分的浓度最好是在所述的内压下,25℃1年后不足以分解超过5%的吸附气(重量),最好是不超过1%。
在另一个方面,本发明涉及吸收-解吸装置,可用于储存和分配气体,例如从一组包括氢化物、卤化物气体和V族有机金属化合物中选择出来的气体,所述装置包括:
一个构建和布置用来装载固相物理吸附剂介质和选择性地进行气体流入和流出所述容器的储存和分配容器;
一种在内部气压下置于所述储存和分配容器中的固相物理吸附剂介质;
一种被物理吸附在上述固相吸附介质上的吸附气体;
一个在气流交换中与储存和分配容器相配套的分配系统,它装配在上述储存和分配容器外部,可用于提供一个低于上述的内部压力和实现吸附在固相物理吸附介质上的吸附气体的解吸以及解吸气通过分配系统的气体流动;
其中,在固相物理吸附剂介质中,以吸附剂介质的重量计,水和氧化的过渡金属这类物质的痕量组分的浓度最好是在上述的内压下,25℃1周后分解不超过25%的吸附气(重量),最好是不超过10%。
其中,以物理吸附剂介质的重量计,每一百万份(重量)的固相物理吸附剂介质所含的水和氧化的过渡金属物质这一类物质的痕量组分适宜地少于350份,少于100份是优选的,少于10份是较优选的,最好是少于1份。
本发明的另一个方面还涉及吸附-解吸装置,用于储存和分配三氟化硼,这类装置包括:
一个用来装载对三氟化硼有吸附亲和力的固相物理吸附剂介质和选择性地进行三氟化硼流入和流出的储存和分配容器;
一种在内部气压下放置在所述储存和分配容器中的对三氟化硼有吸附亲和力的固相物理吸附剂介质;
一种被物理吸附在所述固相物理吸附介质上的三氟化硼气;
一个在气流交换中与储存和分配容器相配套的分配系统,它装配在所述储存和分配容器外部,可用于提供一个低于上述的内部压力和实现吸附在固相物理吸附介质上的三氟化硼气的解吸以及三氟化硼气体通过分配系统的气体流动;
尽管一般按压差进行操作为宜,考虑到随后被分配气体的吸附和解吸,本发明的系统在某些情况下有利地采用一个与储存和分配容器有关的用来选择性加热固相物理吸附剂介质的加热器,以实现吸附气从固相物理吸附剂介质上的热增强的解吸。
一种适宜的固相物理吸附剂介质包括一种晶体硅铝酸盐组合物,例如,孔径大小大约在4-13埃范围内,尽管有更大孔的晶体硅铝酸盐组合物,例如孔径大小大约在20-40埃的所谓的中孔组合物在本发明的广泛使用中有潜在的价值。这类的晶体硅铝酸盐组合物的例子包括5A分子筛和最好是未粘合的分子筛。尽管象晶体硅铝酸盐这样的分子筛物质和碳分子筛在许多情况下受到欢迎,但是固相物理吸附剂介质可以有效地包含其它质如二氧化硅、氧化铝、大网状聚合物、硅藻土、碳等。附剂材料可以适当地处理以保证它们不含有会破坏性影响气体储存和分配系统行为的痕量组分。例如,碳吸附剂可以用洗涤处理,例如用氢氟酸,使它们尽可能地不含有诸如金属和氧化的渡金属物质的痕量组分。可能有用的碳材料包括所谓的高度均匀的球形颗粒形状的珠状活性碳,例如BAC-MP、BAC-LP和BAC-G-70R,可以从美国的Kreha公司(Kreha Corporation of America,New York,NY)得到。
本发明装置可以与置于储存和分配容器中的固相物理吸附介质以及对其中吸附介质的污染物质如分解产物具有吸附亲和力的化学吸附材料共同组成。例如这些化学吸附材料可以具有一种对非惰性空气的吸附亲和力。可能适宜的化学吸附材料的例子包括这类污染物的清除剂,例如一种从下列组中挑选出来的清除剂:
(A)清除剂,包括一个与一种化合物相联系但不是共价结合的载体,在这种污染物的存在下这种化合物提供通过反应除去这种污染物的阴离子,所述化合物是从以下组中挑选出来的一个或多个:
(i)负碳离子源化合物,其对应的质子化的负碳离子化合物的pKa值大约22-36;以及
(ii)阴离子源化合物,由上述的负碳离子源化合物和吸附气体的反应形成;和
(B)清除剂,包括:
(i)一种具有表面积约在50-1000平方米/克范围内的惰性载体,它在至少大约250℃时保持热稳定;
(ii)一种存在于载体上的活性清除物质,其浓度大约为每升载体0.01-1.0摩尔。通过从钠、钾、铷、铯和它们的混合物和合金中挑选出来的一种IA金属的沉淀和在所述载体上的热解形成。
通过一个例子,这类的化学吸附材料可以有利地包含一种选自三苯甲基锂和砷化钾这一类物质的清除剂组分。
至于这类用于要被分配的吸附气的污染物的化学吸附材料,可以采用多种清除剂或化学吸附材料中任一种,包括由Glenn M.Tom等在1988年8月2日公告的美国专利U.S.Patent 4,761,395和Glenn M.Tom同James V.McManus于1994年6月29日申请的美国专利申请号08/084,414所报道的清除剂组分,这些报道在本专利中被列为参考文献。
当使用时,化学吸附材料可以作为与物理吸附剂床进行气体交换的一个独立的床,或者化学吸附剂可以被随机地或有选择地分配到在储存和分配容器中的吸附剂材料的整个床层中。
本发明的另一个方面涉及一个离子注入系统,其中包括一个用于试剂源材料的试剂源和一个与这种试剂源进行气流交换相配套的离子注入装置,其中试剂源是上述中的一种。
本发明还涉及提供选自氢化物、卤化物气体和V族有机金属化合物气体试剂的方法,该方法包括:
提供一个包含具有对所述气体试剂具有物理吸附亲和力的固相物理吸附剂介质的储存和分配容器;
在所述固相物理吸附剂介质上物理吸附地装载一种选自氢化物气体和卤化硼气体的吸附气,以产生一种已装载有吸附气的吸附剂介质;
通过减压解吸将已装载有吸附气的物理吸附剂介质上的吸附气解吸用于分配;
其中,固相物理吸附剂介质中所包含的水、金属和氧化的过渡金属物质(例如氧化物,亚硫酸盐和/或硝酸盐)痕量组分的浓度不足以分解在所述储存和分配容器中的吸附气。
在进一步的具体方面,本发明涉及一个用于储存和分配三氟化硼的吸附-解吸方法,包括:
提供一个包括有一种对三氟化硼具有吸附亲和力的固相物理吸附剂介质的储存和分配容器;
在所述固相物理吸附剂介质上物理吸附地装载三氟化硼,以产生一种已装载有三氟化硼的物理吸附剂介质;
通过减压解吸将已装载有三氟化硼的物理吸附剂介质上的三氟化硼选择性解吸以用于分配。
本发明关于装置的另一个方面涉及一个用于储存和分配一种可吸附在固相物理吸附剂介质上的气体的吸收-解吸装置,该装置包括:
一个构建和布置用来装载固相物理吸附剂介质和选择性地从所述容器中进行气体流入和流出的储存和分配容器;
一种在内部气压下置于该储存和分配容器中的固相物理吸附剂介质;
一种被物理吸附在所述固相物理吸附介质上的吸附气体;
一种在气流交换中与储存和分配容器相配套的分配系统,它装配在所述储存和分配容器外部,可用于提供一个低于上述的内部压力和实现吸附在固相物理吸附介质上的吸附气体的解吸以及解吸气通过分配系统的气体流动;
一个与分配系统配套的低温泵,用于给解吸气加压及排放得到的加压气体。
在进一步的方法中,本发明涉及一个用于储存和分配一种可吸附在固相物理吸附剂介质上的气体的方法,该方法包括:
提供一个包含有固相物理吸附剂介质的储存和分配容器;
在该固相物理吸附剂介质上吸附该气体;
在该储存和分配容器外部建立一个低于内部压力的压力,以实现从固相物理吸附剂介质中解吸吸附气和从储存和分配容器中流出解吸气;
低温泵抽从储存和分配容器中出来的解吸气到一个预定的压力,其中这个压力要比流出该储存和分配容器的解吸气的压力要高。
本发明其它方面、特征和实施方案将在随后的公开和所附的权利要求中更清楚地说明。
                   附图的简要描述
图1是砷化氢的吸附等温线,图中表明了砷化氢装载量(以克砷化氢/升沸石5A为单位)是压力的对数(以Torr单位)的函数。
图2是磷化氢的吸附等温线,图中表明了磷化氢装载量(以克磷化氢/升沸石5A为单位)是压力的对数(以Tort单位)的函数。
图3是本发明中一个实施方案的储存和释放系统的图形表示。
图4是释放生命期的图,表明砷化氢的压力(以Tort单位)是储存和分配系统装置操作时间的函数。
图5表明了圆筒压力(以Torr单位)是时间(以秒为单位)的函数以及温度(摄氏度为单位,右边y轴)是时间(以秒为单位)的函数,该图形象地显示出在室内空气中当实验进行磷化氢气体储存和释放系统装置的回填充时温度和压力都升高。
图6表明对于砷化氢的一个标准圆筒中释放的砷化氢(以克为单位)是时间(以秒为单位)的函数及与一个砷化氢储存和释放系统装置的关系,以模拟释放中最坏的情况。
图7是对应本发明的进一步的具体实施的一个低温泵抽储存和释放系统装置的透视图。
图8表明了储存和释放系统圆筒压力(以磅/平方英寸(表压)单位)是消逝时间(以分钟为单位)的函数,对应两种铁含量不同的分子筛吸附材料。
              本发明的详细描述和优选的实施方式
本发明提供了一种新型的常压储存和释放系统装置,该装置作为一种气体源提供设备可用于诸如对氢化物和卤化物气体以及V族有机金属化合物如砷化氢、磷化氢、氯气、NF3、BF3、BCl3、乙硼烷(B2H6及它的氘同系物,B2D6)、HCl、HBr、HF、HI、六氟化钨和(CH3)3Sb的离子注入等应用。新型的气体源系统包括一个防漏的气体容器,例如一个气体圆筒,内装将要分配的和将被吸附到一种包括沸石的吸附材料或其他适当的物理吸附剂材料上的气体如砷化氢或磷化氢。在砷化氢和磷化氢的情况下,沸石将砷化氢和磷化氢的蒸汽压减少到小于等于1个大气压。
由于储存和释放系统开始时是在常压下,释放速度的控制主要通过扩散而不是压差。从储存和释放系统中偶然的释放测量到的曝露浓度(exposure concentration)小于1/2 IDLH。对标准圆筒的储存和释放系统的释放速度的比较将在随后更加详细地讨论,并表明储存和释放系统装置和本发明的方法比加压气体源安全约1×105
因为本发明在随后部分主要讨论砷化氢和磷化氢气体的储存和释放,应该认识到本发明的应用不仅限于此,而是可以扩展到各种其他的氢化物和卤化物,例如硅烷、乙硼烷、砷化氢、磷化氢、氯气、BF3、BCl3、B2D6、六氟化钨、氟化氢、氯化氢、碘化氢、溴化氢、锗烷、氨、锑化氢、硫化氢、硒化氢、碲化氢和相应的其他气态卤(氯、溴、碘、氟)化合物如NF3以及V族有机金属化合物如(CH3)3Sb。
本发明用于在小于等于0磅/平方英寸(表压)压力下储存和释放气态砷化氢和磷化氢的新的装置和方法大大降低了这些气体的危险。这项技术包括把这些气体吸附到一种吸附剂如沸石5A上去。通过把气体吸附到一种沸石或其他适宜的固相物理吸附剂上去,气体的蒸汽压可以减少到小于等于0磅/平方英寸(表压)。当压力推动力被消除时从系统中释放的可能性也大大降低了。总体来说,储存和释放系统可以有效地包括一个标准的气体圆筒和气瓶阀,其中装入干燥的沸石5A。然后圆筒中装入1个大气压的氢化物。尽管随后描述的主要是沸石,本发明可以广泛地用于于各种其他物理吸附材料,例如硅藻土、二氧化硅、氧化铝、大网状聚合物(例如Amberlite离子交换树脂,可由Rohm & Haas公司得到,费城,美国),碳(如珠状活性碳),等等。
物理沸石是微孔晶体的碱或碱土金属的硅铝酸盐,可由如下化学计量式表示:
                    Mx/n[(AlO2)x(SiO2)y]zH2O
其中x和y是整数且y/x大于等于1,n是阳离子的价位,z是一个单元晶胞中水分子的个数。沸石5A每克有2.5×1021个氢化物吸附部位。在25℃和1个大气压下一升的沸石将吸附100克的磷化氢和220克的砷化氢。图1和图2分别显示了砷化氢和磷化氢的吸附等温线。
这些等温线表明对于一升的圆筒蒸汽压是被吸附的氢化物的函数。等温线对于决定可分配的氢化物气体的数量很有用处。从等温线上可以看到,在50-760 Torr压力区间内大约50%的氢化物被吸附。这就是实际上能被相应的储存和释放系统释放的氢化物的数量。
利用存在于储存和释放系统与离子注入真空室或其他顺流的位置之间的压差可以确定来自储存和释放系统的气流量。当吸附剂容器压力降低时使用诸如质量流控制器的设备可以实现一个稳定的流动。
本发明沸石储存系统的适宜的释放系统示于图3。
在如图3所示的储存和释放系统中,气体储存圆筒10可以用适宜的物理吸附剂材料床层来填充,例如沸石吸附剂或其他适宜的已在上文详细描述过的物理吸附剂介质。气体圆筒10中含有载体物理吸附气体组分的物理吸附剂,或其它组分如砷化氢或磷化氢。
圆筒10与一个支管12连接,其中有用于来自圆筒10的可控制的气体圆筒阀14,气体圆筒上流分离阀16,它可以被选择性控制以切断圆筒10同支管12的联系。
该支管有一个支路装置18,通过它支管12与内有惰性气体清洗分离阀22的支路清洗线20进行气流交换,由此支管可以在对来自圆筒10的气体激活操作释放之前用惰性气体来清洗。
装置18的下游,支管包括一个连续的气体过滤器28和30,两者中间配置压力转换器32,例如其可以提供约0-25 psia的操作压力。
支管12通过下游的气体过滤器30再与一个支路装置34相连,此支路装置与有旁路分离阀38的旁路管线36相连。支管12的支路装置34的下游有一个气流开关阀40,其下游安装有一个质量流量控制器42,用于调节通过支管12扩散的氢化物或卤化物气体的流速。在质量流量控制器42的下游终点,支管12与耦合装置44连接,它与其上有填充流控制阀48的分配线46连接,也通过耦合装置50与旁路线36进行交换。排放线46如图所示连入了一个离子源发生装置,如单元52所示。排放线46的另一个末端54可以适宜地与其他分配装置耦合以进行和压力都升高。圆筒压力(以Torr单位)是时间(以秒为单位)的函数。
在图5系统中,磷化氢气体储存和释放系统的初始压力是50Torr。当回填充时,反应温度由一个位于储存和释放系统内部的热电偶监测。圆筒内部与空气的反应造成温度升高了35℃。圆筒内的压力用一个电容压力传感器来测量。记录的压力的最高值是大约800Torr。由于床层温度升高造成压力升高到一个大气压以上。实验数据使我们得出如下结论:一个部分使用的磷化氢气体储存和释放系统的空气回填充不是一个显著的安全隐患。由于砷化氢在室温下与空气反应很慢,所以没有研究砷化氢的情况。
如图3所示的储存和释放系统装置中氢化物的释放被测量并如上描述。测量砷化氢从储存和释放系统释放的速度并发现为3.8毫克/分钟。尽管很小,这个速度仍比由扩散方程计算得来的值大3个数量级。此结果被怀疑是在该实验中使用的装置由于离析作用给出了错误的高释放速度。不管怎样,该实验给出了一个最坏的情形,释放速度仍比标准的高压圆筒小105倍。图6给出了标准气体圆筒的释放速度与砷化氢储存和释放系统的关系。
本发明的来自储存和释放系统的砷化氢和磷化氢的纯度极高。唯一显著的不纯物是H2。氢气的含量在10-1000ppm之间变化。由于目前氢气在高压圆筒中被用作一种稀释剂,因此它的存在对于储存和释放系统装置和工艺的操作效率是没有问题的。气相色谱和质谱已采用来证实氢化物的纯度。
释放砷化氢和磷化氢的储存和释放系统完全与离子注入工艺相匹配。裂开片的薄片的产率分析已表明那些来自储存和释放系统的同砷和磷一起注入的裂片的产率与来自标准源的同砷和磷一起注入的产率一样。
因此本发明的储存和释放系统装置和工艺提供了一个明显地更安全的方法可以替代流行的储存和分配氢化物和卤化物的高压气体圆筒的使用。本发明提供了在0磅/平方英寸(表压)压力下由一个圆筒或其他容器运输、存储和释放氢化物的能力。本发明是基于氢化物和卤化物能够被吸附到适宜的载体物质如沸石等的微孔上这一发现的,因而显著地减少了用于储存和分配目的的气体压力。气流交换,作为图3储存和分配系统装置中需要的或必须的在给定的末端应用。
图4表明当流速为1sccm时4X分子筛(2.35升)在砷化氢储存和释放系统装置中的释放生命期大约为1000小时。
生命期测试是在与如图3所示的类似的储存和释放系统装置中进行的。
除了安全这一优点外,本发明的沸石储存技术释放更大量的气体。下面的表1是来自典型高压源的被分配氢化物和来自储存和释放系统的被释放氢化物的比较。
                          表1
储存和释放系统圆筒和标准高压圆筒的释放比较(分配的克数)
    气体种类 400磅/平方英寸(表压)15% 440毫升储存/分配系统   2.3升储存/分配系统
     砷化氢       6      40      225
     磷化氢       3      18      105
由于来自储存和释放系统的氢化物大约是来自标准圆筒的氢化物的5-20倍,由此需要更少的圆筒改变,因此注入装置得到更高的生产率。而且,由于气体的大多数偶然事件发生在圆筒改变中,因此安全性也进一步提高了。
由于储存和释放系统在低于大气压的条件下操作,所以进行了与空气偶然进入磷化氢储存和释放系统圆筒相关的安全性的研究。磷化氢与空气自动地发生下列反应:
                  4PH3+8O2  P4O10+6H2O
                P4O10的ΔHf=-720千卡/摩尔
最初的关注和直觉的预计是反应产生的过量的热会造成很大的压力偏移甚至会导致在圆筒中爆炸。但是,已经知道由于大多数产生的热将被沸石层吸收,所以空气侵入的情况是可以控制的。图5表明了在室内空气中当对0.5升磷化氢气体储存和释放系统装置进行回填充时温度
在本发明的实际应用中只有在低水平对吸附剂物质加热时通过所谓的热辅助释放才可能提高解吸气的释放速度,以至于高达500sccm和更高的流速都是很容易达到的。不管怎样,气体释放的高速率在本发明的广泛的应用中在绝热操作条件下可以达到(没有补充给充满吸附物的吸附剂介质的热或热能),而仅仅靠存在于吸附剂容器和半导体(或其他工业或生产业)诸如离子注入、分子束取向生长、化学气相淀积等过程的负压之间的压差。
本发明的装置可以很容易地以一种单元装置形式得到,作为安置在一个内含多个(如3个)吸附剂容器的气相小室,其中的每一个容器都用支管连接以用于选择性地分配来自一个或多个这些容器的吸附气。小室还可以包括独立的热电偶或者其他温度传感/监测设备和元件以防止使用中的容器和/或气相小室的其他内部元件的过热。
小室还可以包括一个用于选择性地加热其中的容器和吸附剂的易熔的连杆加热器元件;一个洒水系统;一个排气热传感器;一个当监测到有毒气体时能关闭装置的有毒气体监测器;一个洗涤器或一个大的吸附设备;过量压力和温度控制设备。有了这样一套储存和分配系统装置,气体的释放速度在15磅/平方英寸(表压)压力下可以很容易地达到500sccm。
在本发明优选的实践中,固相物理吸附剂介质中所包含的水、金属和氧化过渡金属物质(例如氧化物,亚硫酸盐和/或硝酸盐)痕量组分的浓度不足以分解在上述储存和分配容器中的吸附气。一种高度有效的吸附剂介质是商业上可以得到的Zeochem(Louisville,KY)公司的ZeochemBinderless 5A吸附剂,它是一种合成的硅铝酸盐,分子式为(CaO·Na2O)·Al2O3·2SiO2·xH2O。
在这方面,应该注意的是吸附剂材料中任何水、金属和氧化的过渡金属物质的显著存在都有可能使吸附气的大量分解。在没有这些“污染物”的分子筛或其他材料中,吸附气的降解水平和相应的压力值都保持在较低值上。考虑到分子筛材料的显著特殊性,一种大量使用的这类吸附剂不变地含有粘土或其他矿物黏合剂,这些物质上含有上述的能降低储存和释放系统容器装置和工业效率的降解促进剂。
通过如例的方法,上述的未粘合Zeochem材料不含可检测到的金属不纯物,而其他传统的分子筛材料如Linde 5A沸石中有大量的铁存在。因此,未粘合沸石显示的降解水平为每年大概1-2%的砷化氢这个数量级(在一个装有该沸石的砷化氢储存和分配系统装置中),而Linde 5A沸石对砷化氢的降解水平是每天百分之几十这一数量级。使用未粘合沸石时,含吸附剂材料容器中的每星期压力增加小于5%,而Linde 5A沸石(含有粘合金属组分)在相应的储存和释放系统装置中每天压力增加9磅/平方英寸(表压)(60%)。
因此在本发明适宜的条件下,以吸附剂介质的重量计,每一百万份(重量)的固相物理吸附剂介质所含的水和氧化过渡金属物这一类物质的痕量组分适宜地少于350份,优选少于100份,较优选少于10份,最优选是少于1份。
相应地,以物理吸附剂介质的重量计,水和氧化的过渡金属物质(例如氧化物,亚硫酸盐和/或硝酸盐)这类物质的痕量组分的浓度最好是在上述的内压下,25℃1年后不足以分解超过5%的吸附气(重量)。
在某些应用中,在比含吸附剂的储存和释放系统容器排放压力更高的情况下,需要提供来自这样一种储存和释放系统装置的气体。在这些情况下,可以使用文丘里泵把被供给气体的压力升高到一个比圆筒顶部(含有吸附着要被分配气体的吸附剂)压力还高的预定值。尽管这些文丘里泵在预定的更高压力水平上产生了被分配气体,但是它们也导致被分配气被载气稀释,因为载气与来自圆筒的被分配气一起被引入了。
在那些希望得到来自储存和释放系统容器的高纯干净气体的情况下,这种稀释作用代表了对整个操作系统的一个显著的限制。可以用机械泵代替文丘里泵装置,但是机械泵的缺点是有大量的移动元件,这可能导致与泵内微粒形成和/或润滑剂的进入有关的问题。
在那些希望得到来自储存和释放系统容器的高纯干净气体的情况下,在设备储存和释放系统中使用低温泵系统可能是有利的。
图7是对应本发明的进一步的具体实例的一个低温泵抽储存和释放系统装置100的透视图。
在低温泵抽系统中,主圆筒102内装一种适宜的已装载上将被分配的吸附气的吸附剂材料(未显示)如分子筛,它还装配有一个阀头装置104,其中包括主圆筒阀106,该阀在分配过程开始时是在“关”的位置上的。
阀头装置104与包括分离阀110、质量流控制器112、分离阀114和低温泵116的管线108耦合。管线108依次再与包括分离阀118和122管线109以及产品分配调节器装置130耦合,产品分配调节器装置130有一个排放口134,可与下游操作系统耦合。与管线109连接的是一个中压储存容器120。
与管线108耦合的低温泵116有一个液氮(或其他适宜的制冷液或制冷流体)导入口128和液氮出口126及一个介于入口128和出口126之间的被加热设备124包围的液体流路。导温泵的液体制冷剂入口和出口可与一个液体制冷剂源相连,例如一个低温空气分离装置或一个低温圆筒液氮或其他冷却剂源。由此低温泵形成一个低温冷阱装置。于是低温泵的出口连接一个分离阀122,中压圆筒120可以通过分离阀122隔离。
在管线108上有一个压力转换器111,它与圆筒102以监测关系耦合用来监测圆筒的压力以及相应地调节分离阀118。
图7表明了储存和释放系统的操作,其中硅烷作为气体被在圆筒102中的吸附剂吸附并在适宜的高压下被释放,氮气作为制冷剂在低温泵116中被用作工作流体。硅烷的沸点为-111.5℃,熔点为185℃,氮气的沸点为-1956.8℃。
之所以选择硅烷作示例是因为它在高压下相对难以释放(相对于其他有更高沸点和冰点的氢化物如砷化氢,这些氢化物也因此更容易被低温泵抽,需要的低温冷却也更少)。
如果在一开始,阀110、114和106是开着的,同时阀118和122关闭并在真空下,而且低温泵的温度降至液氮温度,硅烷将在低温泵中冷凝并结冰,甚至在供给圆筒102中存在相对低的内压时也可。
质量流控制器112可以对将进入低温泵116的气体量进行精确的测量。因为要避免低温泵的过压,因而这种精确测量是很重要的。在这些操作条件下,硅烷将高于它的临界温度以致于低温泵中最终压力可能会很高。
当正确数量的气体被传送到低温泵116以后,阀110和114关闭。冷凝的硅烷于是被加热到接近室温。加热通过加热设备124进行,加热设备124如具体示例所示包括带式加热器,也可以是任何适宜的适用于此用途的加热设备。因此硅烷气不会因此被加热到高温,而且将被分配的产品气的稳定性和纯度也因此得到提高,这是因为加热会导致硅烷气降解的发生以及由此产生的对纯度和进一步稳定性的不利影响。
低温泵内升温后硅烷气的压力可能显著提高,由此高纯的气体被有效地压缩,而无需暴露在具有许多运动部件的机械泵中,这些运动部件可能给产品气带来污染。
在低压条件下整个系统的物料量此刻可能相当少,大多数的硅烷低压下留在吸附剂容器圆筒102中。
打开阀118将允许气体流入中压圆筒120中;如果阀122打开,产品硅烷气则可以通过排放口134流入下游过程,监测通过与调节器装置130连接的监测设备(如流体压力)完成。调节器装置130与在整个系统中可以同其他阀或低温泵耦合的压力转换器132连接,因此产品气可以在选定压力和体积流速下被释放。
相应地,各种阀、质量流控制器、低温泵、转换器和调节器可以以任何适宜的方式与例如循环系统和操作安全系统相互连接,以便在一个容易控制和重复生产的方式下实现要求的对硅烷或其他吸附气的释放。
因此,图7表明最好控制系统的操作时间以避免破坏或影响下游过程流动。来自在低温泵和中压容器中的质量流控制器和压力转换器的信号可以用于自动化过程系统。低温泵可以循环地把储存和释放系统中的气体移至中压圆筒120中以便维持调节器出口的恒定压力。
                     实施例1
在储存和释放圆筒中的砷化氢气体的分解被用来比较地评估两种分子筛吸附材料:Linder 5A分子筛(Union Carbide公司,Danbury,Conneccticut)(以后称为吸附剂A)和Zeochem 5A分子筛(Zeochem公司,Louisville,KY)(以后称为吸附剂B)。吸附剂A和B都是孔径为5埃的合成的晶体硅铝酸钙,但吸附剂A含一种粘土粘合剂而吸附剂B没有。
下面的表II是吸附剂A和B的定量分析,显示了两者组成上的差别,其中所列的百万分之一(ppm)浓度误差±50%。
                   表II
吸附剂A和吸附剂B的定量分析(百万分之一,ppm)
   吸附剂A    吸附剂B
    铝钡铍钙钴铬铜铁镓镁锰钼镍磷铅硅锡锶钛钒锌锆     主要a<372<372major<372<372<3723084<372556<372<372<372<372<372主要<372<372<372<372<372<372     主要<301<301major<301<301<301<301<301<301<301<301<301<301<301主要<301<301<301<301<301<301
    硅%铝%钙%     21.1919.117.21     19.7017.397.45
a主要此处是指至少为5%(基于分子筛的总重量的重量百分比)
如表II数据所示,吸附剂B所有被测量组分中除了分子筛的主要成分钙、铝、硅之外含有痕量组分(此处定义为少于500ppm的特定组分的数量),而吸附剂A(3084ppm)含有显著大量的铁和略多于痕量的镁。
在两种吸附材料的对比实验中,在相同的气体圆筒中分别装入一种分子筛材料(吸附剂A装入第一个圆筒,吸附剂B装入第二个圆筒),每一个圆筒中的分子筛材料都装载上相同数量的砷化氢气体。当分别完成各自圆筒的装载之后,每一个圆筒中的压力被监测,压力的升高是由于由反应产生的砷化氢的分解反应 造成的,而氢气不被分子筛所吸附。监测在恒温下进行。
图8中曲线表明产生的压力历程是时间的函数,其中压力(磅/平方英寸(表压))是消逝时间(分钟)的函数。如图所示,表示含吸附剂A的圆筒中气体压力特性的曲线A在250小时后升至大约37.5磅/平方英寸(表压),而表示含吸附剂B的圆筒中气体压力特性的曲线B在相同测试时间区域内压力没有升高。
吸附剂A和B分别显示出的特性差异是非常明显的,因为在其他组分等同时,吸附剂A中大于痕量浓度的情况导致压力大幅度增加,这种增加是含吸附剂A的圆筒中砷化氢的分解而造成的,而吸附剂B使砷化氢保持在不分解状态,也没有与压力增加相关的氢气的生成。
因而,诸如砷化氢和磷化氢等氢化物气体能通过吸附材料的供给被消除是一个重大的发现,这些吸附材料不含那些通常存在于商品用分子筛和其他包含矿质或含粘土的粘合剂中的大于痕量的如铁的污染物,其中的粘合剂被加入吸附剂以便增加吸附材料的结构稳定性和完整性。
                     工业应用
本发明可以应用于半导体材料和设备的生产及其他耗气过程操作,在这些过程中可以提供一个可靠的“按需供给”的例如氢化物、卤化物和气态V族有机金属化合物的气体源,气体包括硅烷、乙硼烷、锗烷、氨、磷化氢、砷化氢、锑化氢、硫化氢、硒化氢、碲化氢、三氟化硼、六氟化钨、氯气、氯化氢、溴化氢、碘化氢和氟化氢。
本发明通过提供这些气体的经济可靠源,避免了传统高压气体圆筒使用中存在的危险和气体处理问题。在这些气体源中,气体以被吸附态在相对低压下被安全地吸附在吸附剂介质上,而且气体也可以很容易地被分配到需要使用气体的位置,本发明避免了常规高压气瓶使用中的危险和气体处理问题。
权利要求书
1.一种吸收-解吸装置,可用于储存和分配气体,所述装置包括:
一个构建和布置用来装载固相物理吸附剂介质和选择性地进行气体流入和流出的储存和分配容器;
一种在内部气压下,放置于所述储存和分配容器中的固相物理吸附剂介质;
一种被物理吸附在所述固相物理吸附介质上的吸附气体;
一种在气流交换中与储存和分配容器相配套的分配系统,它装配在所述的储存和分配容器外部,可用于提供一个低于所述的内部压力和实现吸附在固相物理吸附介质上的至少部分吸附气体的解吸和产生解吸气,以及解吸气通过分配系统的气体流动;
其中,固相物理吸附剂介质中任何水、金属和氧化的过渡金属物质(例如氧化物,亚硫酸盐和/或硝酸盐)的浓度在所述的内压下,25℃1年后,不足以分解在所述储存和分配容器中大于5%的吸附气。
2.根据权利要求1的装置,其中,以物理吸附剂介质的重量计,每一百万份(重量)的固相物理吸附剂介质所含选自水和氧化的过渡金属物质的痕量组分少于350份。
3.根据权利要求1的装置,其中,以物理吸附剂介质的重量计,每一百万份(重量)的固相物理吸附剂介质所含选自水和氧化的过渡金属物质的痕量组分少于100份。
4.根据权利要求1的装置,其中,以物理吸附剂介质的重量计,每一百万份(重量)的固相物理吸附剂介质所含选自水和氧化的过渡金属物质的痕量组分少于1份。
5.根据权利要求1的装置,其中,以物理吸附剂介质的重量计,选自水和氧化的过渡金属物质的固相物理吸附介质的痕量组分的浓度是在所述的内压下,25℃1年后不足以分解超过5%的吸附气(重量)。
6.根据权利要求1的装置,其中氧化的过渡金属物质选自其氧化物、亚硫酸盐和硝酸盐。
7.根据权利要求1的装置,其中吸附气是氢化物气体。
8.根据权利要求1的装置,其中吸附气选自硅烷、乙硼烷、砷化氢、磷化氢、氯气、BCl3、BF3、B2D6、六氟化钨、(CH3)3Sb、氟化氢、氯化氢、溴化氢、碘化氢、锗烷、氨、锑化氢、硫化氢、硒化氢、碲化氢、和NF3
9.根据权利要求1的装置,其中吸附气是三氟化硼。
10.一种吸收-解吸装置,可用于储存和分配气体,所述装置包括:
一个构建和布置用来装载固相物理吸附剂介质和选择性地进行气体流入和流出的储存和分配容器;
一种在内部气压下,放置于所述储存和分配容器中的固相物理吸附剂介质;
一种被物理吸附在所述固相物理吸附介质上的吸附气体;
一种在气流交换中与储存和分配容器相配套的分配系统,它装配在所述储存和分配容器外部,可用于提供一个低于所述的内部压力和实现将吸附在固相物理吸附介质上的至少部分吸附气体的解吸以及解吸气通过分配系统的气体流动;
其中,在固相物理吸附剂介质中,以物理吸附剂介质的重量计,水和氧化的过渡金属物质(例如氧化物,亚硫酸盐和/或硝酸盐)的痕量组分的浓度在所述的内压下,25℃1周后不足以分解超过5%的吸附气(重量)。
11.根据权利要求10的装置,其中,以物理吸附剂介质的重量计,每一百万份(重量)的固相物理吸附剂介质所含选自水和氧化的过渡金属物质的痕量组分少于350份。
12.根据权利要求10的装置,其中,以物理吸附剂介质的重量计,每一百万份(重量)的固相物理吸附剂介质所含选自水和氧化的过渡金属物质的痕量组分少于100份。
13.根据权利要求10的装置,其中,以物理吸附剂介质的重量计,每一百万份(重量)的固相物理吸附剂介质所含选自水和氧化的过渡金属物质的痕量组分少于1份。
14.根据权利要求10的装置,其中,以物理吸附剂介质的重量计,固相物理吸附剂介质中,水和氧化的过渡金属物质的痕量组分的浓度是在所述的内压下,25℃1年后不足以分解超过5%的吸附气(重量)。
15.根据权利要求10的装置,其中氧化的过渡金属物选自其氧化物、亚硫酸盐和硝酸盐。
16.根据权利要求10的装置,其中吸附气是氢化物气体。
17.根据权利要求10的装置,其中吸附气选自硅烷、乙硼烷、砷化氢、磷化氢、氯气、BCl3、BF3、B2D6、六氟化钨、(CH3)3Sb、氟化氢、氯化氢、溴化氢、碘化氢、锗烷、氨、锑化氢、硫化氢、硒化氢、碲化氢、和NF3
18.根据权利要求10的装置,其中吸附气是三氟化硼。
19.一种吸收-解吸装置,可用于储存和分配气体,所述装置包括:
一个构建和布置用来装载固相物理吸附剂介质和选择性地进行气体流入和流出的储存和分配容器;
一种在内部气压下,放置于所述储存和分配容器中的固相物理吸附剂介质;
被物理吸附在所述固相物理吸附介质上的三氟化硼气;以及
一种在气流交换中与储存和分配容器相配套的分配系统,它装配在所述的储存和分配容器外部,可用于提供一个低于所述的内部压力和实现将吸附在固相物理吸附介质上的至少部分吸附气体的解吸和产生解吸的三氟化硼,以及解吸气通过分配系统的气体流动。
20.根据权利要求1的装置,进一步包括一个与储存和分配容器有关的用来选择性加热固相物理吸附剂介质的加热器,以实现吸附气从固相物理吸附剂介质上的热增加的解吸。
21.根据权利要求1的装置,其中固相物理吸附剂介质选自以下一种材料:二氧化硅、碳、分子筛、氧化铝、大网状聚合物、硅藻土和硅铝酸盐。
22.根据权利要求1的装置,其中固相物理吸附剂介质包含晶体硅铝酸盐组合物。
23.根据权利要求22的装置,其中晶体硅铝酸盐组合物的孔径大小大约在4-13埃范围内。
24.根据权利要求22的装置,其中晶体硅铝酸盐组合物包括5A分子筛。
25.根据权利要求22的装置,其中晶体硅铝酸盐组合物包括未粘合的分子筛。
26.根据权利要求1的装置,其中固相物理吸附剂介质存在于含有化学吸附剂介质的所述的储存和分配容器中,化学吸附材料对其中所述吸附气的污染物具有吸附亲和力。
27.根据权利要求26的装置,其中化学吸附材料对非惰性空气具有吸附亲和力。
28.根据权利要求26的装置,其中化学吸附材料包括选自下列组中的清除剂:
(A)清除剂,包括与一种化合物相联系但不是共价结合的载体,在所述污染物的存在下,这种化合物提供可以实现除去这种污染物的阴离子,所述化合物是从以下组中挑选出来的一个或多个组分:
(i)负碳离子源化合物,其对应的质子化的负碳离子化合物的pKa值大约22-36;
(ii)阴离子源化合物,由所述的负碳离子源化合物和吸附气的反应形成;以及
(B)清除剂,包括:
(i)一种具有表面积在50-1000平方米/克范围内的惰性载体,它在至少大约250℃时保持热稳定;
(ii)一种活性的清除物质,以大约每升载体0.01-1.0摩尔的浓度存在于载体上,通过从钠、钾、铷、铯和它们的混合物和合金中挑选出来的一种IA金属的沉淀和其在所述载体上的热解形成。
29.根据权利要求26的装置,其中化学吸附材料选自三苯甲基锂和砷化钾。
30.一个离子注入系统,其中包括一个用于试剂源材料的试剂源和一个与这种试剂源进行气流连接相配套的离子注入装置,其中试剂源包括:
一个吸收-解吸装置,可用于储存和分配气体,所述装置包括:
一个构建和布置用来装载固相物理吸附剂介质和选择性地进行气体流入和流出的储存和分配容器;
一种在内部气压下,放置于所述储存和分配容器中的固相物理吸附剂介质;
一种被物理吸附在所述固相物理吸附介质上的吸附气体;以及
一种在气流交换中与储存和分配容器及所述的离子注入装置相互连接的分配系统,它装配在所述储存和分配容器外部,可用于提供一个低于所述的内部压力和实现吸附在固相物理吸附介质上的至少部分吸附气体的解吸和产生解吸气,以及解吸气从分配系统到离子注入装置的气体流动;
其中,固相物理吸附剂介质中所包含选自水、金属和氧化的过渡金属物质(例如氧化物,亚硫酸盐和/或硝酸盐)痕量组分的浓度不足以分解在所述储存和分配容器中的吸附气。
31.一个供给气体试剂的方法,包括:
提供一个容纳有对所述气体试剂具有吸附亲和力的固相物理吸附剂介质的储存和分配容器;
在所述固相物理吸附剂介质上物理吸附装载一种吸附气,以产生一种已装载有吸附气的物理吸附剂介质;
通过减压解吸将已装载有吸附气的物理介质上至少部分的吸附气选择性解吸进行分配;
其中,固相物理吸附剂介质中任何水、金属和氧化的过渡金属物质(例如氧化物,亚硫酸盐和/或硝酸盐)的浓度不足以分解在所述储存和分配容器中的吸附气。
32.根据权利要求31的方法,其中,以物理吸附剂介质的重量计,每一百万份(重量)的固相物理吸附剂介质所含的水和氧化过渡金属物质的痕量组分少于350份。
33.根据权利要求31的方法,其中,以物理吸附剂介质的重量计,每一百万份(重量)的固相物理吸附剂介质所含选自水和氧化的过渡金属物质的痕量组分少于100份。
34.根据权利要求31的方法,其中,以物理吸附剂介质的重量计,每一百万份(重量)的固相物理吸附剂介质所含选自水和氧化的过渡金属物质的痕量组分少于1份。
35.根据权利要求31的方法,其中,基于物理吸附剂介质的重量,从包含水和氧化的过渡金属物的中选择出来的痕量组分的浓度在所述的内压下,25℃1周后不足以分解超过25%的吸附气(重量)。
36.根据权利要求31的方法,其中氧化的过渡金属物优选自其氧化物、亚硫酸盐和硝酸盐。
37.根据权利要求31的方法,其中吸附气是氢化物气体。
38.根据权利要求31的方法,其中吸附气选自硅烷、乙硼烷、砷化氢、磷化氢、氯气、BCl3、BF3、B2D6、六氟化钨、(CH3)3Sb、和氟化氢、氯化氢、溴化氢、碘化氢、锗烷、氨、锑化氢、硫化氢、硒化氢、碲化氢、和NF3
39.根据权利要求31的方法,其中吸附气是三氟化硼。
40.一个供给气体试剂的方法,包括:
提供一个容纳有一种对所述气体试剂具有吸附亲和力的固相物理吸附剂介质的储存和分配容器;
在所述固相物理吸附剂介质物理吸附装载所述气体作为吸附气,以产生一种已装载有吸附气的物理吸附剂介质;
通过减压解吸,将已装载有吸附气的物理吸附剂介质上的至少部分吸附气选择性地解吸进行分配;
其中,在固相物理吸附剂介质中,以物理吸附剂介质的重量计,水和氧化的过渡金属物质(例如氧化物,亚硫酸盐和/或硝酸盐)的浓度在所述的内压下,25℃1周后不足以分解超过10%的吸附气(重量)。
41.根据权利要求40的方法,其中,以物理吸附剂介质的重量计,每一百万份(重量)的固相物理吸附剂介质所含选自水和氧化的过渡金属物质的痕量组分少于350份。
42.根据权利要求40的方法,其中,以物理吸附剂介质的重量计,每一百万份(重量)的固相物理吸附剂介质所含选自水和氧化的过渡金属物质的痕量组分少于100份。
43.根据权利要求40的方法,其中,以物理吸附剂介质的重量计,每一百万份(重量)的固相物理吸附剂介质所含的水和氧化过渡金属物质的痕量组分少于1份。
44.根据权利要求40的方法,其中,以物理吸附剂介质的重量计,水和氧化过渡金属物质的痕量组分的浓度在所述的内压下,25℃1年后不足以分解超过5%的吸附气(重量)。
45.根据权利要求40的方法,其中氧化的过渡金属物质选自其氧化物、亚硫酸盐和硝酸盐。
46.根据权利要求40的方法,其中吸附气是氢化物气体。
47.根据权利要求40的方法,其中吸附气选自硅烷、乙硼烷、砷化氢、磷化氢、氯气、BCl3、BF3、B2D6、六氟化钨、(CH3)3Sb、和氟化氢、氯化氢、溴化氢、碘化氢、锗烷、氨、锑化氢、硫化氢、硒化氢、碲化氢、和NF3
48.根据权利要求40的方法,其中吸附气是三氟化硼。
49.一个用于储存和分配三氟化硼的吸附-解吸方法,所述方法包括:
提供一个容纳有一种对三氟化硼具有吸附亲和力的固相物理吸附剂介质的储存和分配容器;
在所述固相物理吸附剂介质上物理吸附装载三氟化硼,以产生一种已装载有三氟化硼的物理吸附剂介质;
通过减压解吸将已装载有三氟化硼的物理吸附剂介质上的三氟化硼选择性解吸进行分配。
50.根据权利要求31的方法,进一步包括选择性加热固相物理吸附剂介质以实现吸附气从固相物理吸附剂介质上的热增强的解吸。
51.根据权利要求31的方法,其中固相物理吸附剂介质选自一种下列材料:二氧化硅、碳、分子筛、氧化铝、大网状聚合物、硅藻土和硅铝酸盐。
52.根据权利要求31的方法,其中固相物理吸附剂介质包含晶体硅铝酸盐组合物。
53.根据权利要求52的方法,其中晶体硅铝酸盐组合物的孔径大小在大约4-13埃范围内。
54.根据权利要求52的方法,其中晶体硅铝酸盐组合物包括5A分子筛。
55.根据权利要求51的方法,其中晶体硅铝酸盐组分包括未粘合的分子筛。
56.根据权利要求31的方法,其中固相物理吸附剂介质存在于含有化学吸附剂介质的所述储存和分配容器中,化学吸附材料对其中所述吸附气的污染物具有吸附亲和力。
57.根据权利要求31的方法,其中吸附气含有杂质组分,在储存和分配容器中加入固相物理吸附剂介质及杂质清除剂以除去吸附气中的杂质组分。
58.根据权利要求56的方法,其中化学吸附材料对非惰性空气具有吸附亲和力。
59.根据权利要求26的装置,其中化学吸附材料包括选自下列组中的清除剂:
(A)清除剂,包括与一种化合物相联系但不是共价结合的载体,在所述污染物的存在下,这种化合物提供可以实现除去这种污染物的阴离子,所述化合物是从以下组中挑选出来的一个或多个组分:
(i)负碳离子源化合物,其对应的质子化的负碳离子化合物的pKa值从大约22-36;以及
(ii)阴离子源化合物,由所述的负碳离子源化合物和吸附气的反应形成;以及
(B)清除剂,包括:
(i)一种具有表面积在50-1000平方米/克范围内的惰性载体,它在至少大约250℃时保持热稳定;
(ii)一种活性的清除物质,以大约每升载体0.01-1.0摩尔的浓度存在于载体上,通过从钠、钾、铷、铯和它们的混合物和合金中挑选出来的一种IA金属的沉淀和其在所述载体上的热解形成。
60.根据权利要求56的方法,其中化学吸附材料选自三苯甲基锂和砷化钾。
61.一种用于储存和分配一种可吸附在固相物理吸附剂介质上的气体的吸收-解吸装置,所述装置包括:
一个构建和布置用来装载固相物理吸附剂介质和选择性地进行气体流入和流出的储存和分配容器;
一种在内部气压下,放置于所述储存和分配容器中的固相物理吸附剂介质;
一种被物理吸附在所述固相物理吸附介质上的吸附气体;
一种在气流交换中与储存和分配容器相配套的分配系统,它装配在所述的储存和分配容器外部,可用于提供一个低于上述的内部压力和实现吸附在固相物理吸附介质上的至少部分吸附气体的解吸和产生解吸气,以及解吸气通过分配系统的气体流动;
一个与所述分配系统配套的低温泵,用于给解吸气加压及排放得到的加压气体。
62.一种用于储存和分配一种可吸附在固相物理吸附剂介质上的气体的方法,所述方法包括:
提供一个容纳有固相物理吸附剂介质的储存和分配容器;
在所述固相物理吸附剂介上吸附所述气体;
在储存和分配容器外部建立一个低于内部压力的压力,以实现将固相物理吸附剂介质上的至少部分吸附气的解吸和解吸气流出储存和分配容器;
低温泵抽从储存和分配容器中出来的解吸气到一个预定的压力,其中所述的预定压力要比流出储存和分配容器的解吸气的压力高。

Claims (62)

1.一种吸收-解吸装置,可用于储存和分配气体,所述装置包括:
一个构建和布置用来装载固相物理吸附剂介质和选择性地进行气体流入和流出的储存和分配容器;
一种在内部气压下,放置于所述储存和分配容器中的固相物理吸附剂介质;
一种被物理吸附在所述固相物理吸附介质上的吸附气体;
一种在气流交换中与储存和分配容器相配套的分配系统,它装配在所述的储存和分配容器外部,可用于提供一个低于上述的内部压力和实现吸附在固相物理吸附介质上的吸附气体的解吸以及解吸气通过分配系统的气体流动;
其中,固相物理吸附剂介质中所包含选自水、金属和氧化的过渡金属物质(例如氧化物,亚硫酸盐和/或硝酸盐)的痕量组分的浓度不足以分解在所述储存和分配容器中的吸附气。
2.根据权利要求1的装置,其中,以物理吸附剂介质的重量计,每一百万份(重量)的固相物理吸附剂介质所含选自水和氧化的过渡金属物质的痕量组分少于350份。
3.根据权利要求1的装置,其中,以物理吸附剂介质的重量计,每一百万份(重量)的固相物理吸附剂介质所含选自水和氧化的过渡金属物质的痕量组分少于100份。
4.根据权利要求1的装置,其中,以物理吸附剂介质的重量计,每一百万份(重量)的固相物理吸附剂介质所含选自水和氧化的过渡金属物质的痕量组分少于1份。
5.根据权利要求1的装置,其中,以物理吸附剂介质的重量计,选自水和氧化的过渡金属物质的固相物理吸附介质的痕量组分的浓度是在所述的内压下,25℃1年后不足以分解超过5%的吸附气(重量)。
6.根据权利要求1的装置,其中氧化的过渡金属物质选自其氧化物、亚硫酸盐和硝酸盐。
7.根据权利要求1的装置,其中吸附气是氢化物气体。
8.根据权利要求1的装置,其中吸附气选自硅烷、乙硼烷、砷化氢、磷化氢、氯气、BCl3、BF3、B2D6、六氟化钨、(CH3)3Sb、氟化氢、氯化氢、溴化氢、碘化氢、锗烷、氨、锑化氢、硫化氢、硒化氢、碲化氢、和NF3
9.根据权利要求1的装置,其中吸附气是三氟化硼。
10.一种吸收-解吸装置,可用于储存和分配气体,所述装置包括:
一个构建和布置用来装载固相物理吸附剂介质和选择性地进行气体流入和流出的储存和分配容器;
一种在内部气压下,放置于所述储存和分配容器中的固相物理吸附剂介质;
一种被物理吸附在所述固相物理吸附介质上的吸附气体;
一种在气流交换中与储存和分配容器相配套的分配系统,它装配在所述储存和分配容器外部,可用于提供一个低于所述的内部压力和实现将吸附在固相物理吸附介质上的吸附气体的解吸以及解吸气通过分配系统的气体流动;
其中,在固相物理吸附剂介质中,以物理吸附剂介质的重量计,水和氧化的过渡金属物质(例如氧化物,亚硫酸盐和/或硝酸盐)的痕量组分的浓度在上述的内压下,25℃1周后不足以分解超过5%的吸附气(重量)。
11.根据权利要求10的装置,其中,以物理吸附剂介质的重量计,每一百万份(重量)的固相物理吸附剂介质所含选自水和氧化的过渡金属物质的痕量组分少于350份。
12.根据权利要求10的装置,其中,以物理吸附剂介质的重量计,每一百万份(重量)的固相物理吸附剂介质所含选自水和氧化的过渡金属物质的痕量组分少于100份。
13.根据权利要求10的装置,其中,以物理吸附剂介质的重量计,每一百万份(重量)的固相物理吸附剂介质所含选自水和氧化的过渡金属物质的痕量组分少于1份。
14.根据权利要求10的装置,其中,以物理吸附剂介质的重量计,固相物理吸附剂介质中,水和氧化的过渡金属物质的痕量组分的浓度是在所述的内压下,25℃1年后不足以分解超过5%的吸附气(重量)。
15.根据权利要求10的装置,其中氧化的过渡金属物选自其氧化物、亚硫酸盐和硝酸盐。
16.根据权利要求10的装置,其中吸附气是氢化物气体。
17.根据权利要求10的装置,其中吸附气选自硅烷、乙硼烷、砷化氢、磷化氢、氯气、BCl3、BF3、B2D6、六氟化钨、(CH3)3Sb、氟化氢、氯化氢、溴化氢、碘化氢、锗烷、氨、锑化氢、硫化氢、硒化氢、碲化氢、和NF3
18、根据权利要求10的装置,其中吸附气是三氟化硼。
19.一种吸收-解吸装置,可用于储存和分配气体,所述装置包括:
一个构建和布置用来装载固相物理吸附剂介质和选择性地进行气体流入和流出的储存和分配容器;
一种在内部气压下,放置于所述储存和分配容器中的固相物理吸附剂介质;
被物理吸附在所述固相吸附介质上的三氟化硼气;以及
一种在气流交换中与储存和分配容器相配套的分配系统,它装配在所述的储存和分配容器外部,可用于提供一个低于所述的内部压力和实现将吸附在固相物理吸附介质上的吸附气体的解吸以及解吸气通过分配系统的气体流动。
20.根据权利要求1的装置,进一步包括一个与储存和分配容器有关的用来选择性加热固相物理吸附剂介质的加热器,以实现吸附气从固相物理吸附剂介质上的热增加的解吸。
21.根据权利要求1的装置,其中固相物理吸附剂介质选自以下一种材料:二氧化硅、碳、分子筛、氧化铝、大网状聚合物、硅藻土和硅铝酸盐。
22.根据权利要求1的装置,  其中固相物理吸附剂介质包含晶体硅铝酸盐组合物。
23.根据权利要求22的装置,其中晶体硅铝酸盐组合物的孔径大小大约在4-13埃范围内。
24.根据权利要求22的装置,其中晶体硅铝酸盐组合物包括5A分子筛。
25.根据权利要求22的装置,其中晶体硅铝酸盐组合物包括未粘合的分子筛。
26.根据权利要求1的装置,其中固相物理吸附剂介质存在于含有化学吸附剂介质的所述的储存和分配容器中,化学吸附材料对其中所述吸附气的污染物具有吸附亲和力。
27.根据权利要求26的装置,其中化学吸附材料对非惰性空气具有吸附亲和力。
28.根据权利要求26的装置,其中化学吸附材料包括选自下列组中的清除剂:
(A)清除剂,包括与一种化合物相联系但不是共价结合的载体,在所述污染物的存在下,这种化合物提供可以实现除去这种污染物的阴离子,所述化合物是从以下组中挑选出来的一个或多个组分:
(i)负碳离子源化合物,其对应的质子化的负碳离子化合物的pKa值大约22-36;
(ii)阴离子源化合物,由所述的负碳离子源化合物和吸附气的反应形成;以及
(B)清除剂,包括:
(i)一种具有表面积在50-1000平方米/克范围内的惰性载体,它在至少大约250℃时保持热稳定;
(ii)一种活性的清除物质,以大约每升载体0.01-1.0摩尔的浓度存在于载体上,通过从钠、钾、铷、铯和它们的混合物和合金中挑选出来的一种IA金属的沉淀和其在所述载体上的热解形成。
29.根据权利要求26的装置,其中化学吸附材料选自三苯甲基锂和砷化钾。
30.一个离子注入系统,其中包括一个用于试剂源材料的试剂源和一个与这种试剂源进行气流连接相配套的离子注入装置,其中试剂源包括:
一个吸收-解吸装置,可用于储存和分配气体,所述装置包括:
一个构建和布置用来装载固相物理吸附剂介质和选择性地进行气体流入和流出的储存和分配容器;
一种在内部气压下,放置于所述储存和分配容器中的固相物理吸附剂介质;
一种被物理吸附在所述固相物理吸附介质上的吸附气体;以及
一种在气流交换中与储存和分配容器及上述的离子注入装置相互连接的分配系统,它装配在上述储存和分配容器外部,可用于提供一个低于所述的内部压力和实现吸附在固相物理吸附介质上的吸附气体的解吸以及解吸气从分配系统到离子注入装置的气体流动;
其中,固相物理吸附剂介质中所包含选自水、金属和氧化的过渡金属物质(例如氧化物,亚硫酸盐和/或硝酸盐)痕量组分的浓度不足以分解在所述储存和分配容器中的吸附气。
31.一个供给气体试剂的方法,包括:
提供一个容纳有对所述气体试剂具有吸附亲和力的固相物理吸附剂介质的储存和分配容器;
在所述固相物理吸附剂介质上物理吸附装载一种吸附气,以产生一种已装载有吸附气的物理吸附剂介质;
通过减压解吸将已装载有吸附气的物理介质上的吸附气选择性解吸进行分配;
其中,固相物理吸附剂介质中所包含的水、金属和氧化的过渡金属物质(例如氧化物,亚硫酸盐和/或硝酸盐)痕量组分的浓度不足以分解在所述储存和分配容器中的吸附气。
32.根据权利要求31的方法,其中,以物理吸附剂介质的重量计,每一百万份(重量)的固相物理吸附剂介质所含选自水和氧化过渡金属物质的痕量组分少于350份。
33.根据权利要求31的方法,其中,以物理吸附剂介质的重量计,每一百万份(重量)的固相物理吸附剂介质所含选自水和氧化的过渡金属物质的痕量组分少于100份。
34.根据权利要求31的方法,其中,以物理吸附剂介质的重量计,每一百万份(重量)的固相物理吸附剂介质所含选自水和氧化的过渡金属物质的痕量组分少于1份。
35.根据权利要求31的方法,其中,基于物理吸附剂介质的重量,从包含水和氧化的过渡金属物的中选择出来的痕量组分的浓度在所述的内压下,25℃1年后不足以分解超过5%的吸附气(重量)。
36.根据权利要求31的方法,其中氧化的过渡金属物优选自其氧化物、亚硫酸盐和硝酸盐。
37.根据权利要求31的方法,其中吸附气是氢化物气体。
38.根据权利要求31的方法,其中吸附气选自硅烷、乙硼烷、砷化氢、磷化氢、氯气、BCl3、BF3、B2D6、六氟化钨、(CH3)3Sb、和氟化氢、氯化氢、溴化氢、碘化氢、锗烷、氨、锑化氢、硫化氢、硒化氢、碲化氢、和NF3
39.根据权利要求31的方法,其中吸附气是三氟化硼。
40.一个供给气体试剂的方法,包括:
提供一个容纳有一种对所述气体试剂具有吸附亲和力的固相物理吸附剂介质的储存和分配容器;
在所述固相物理吸附剂介质物理吸附装载一种吸附气,以产生一种已装载有吸附气的物理吸附剂介质;
通过减压解吸,将已装载有吸附气的物理吸附剂介质上的吸附气选择性地解吸进行分配;
其中,在固相物理吸附剂介质中,以物理吸附剂介质的重量计,水和氧化的过渡金属物质(例如氧化物,亚硫酸盐和/或硝酸盐)的痕量组分的浓度在所述的内压下,25℃1周后不足以分解超过5%的吸附气(重量)。
41.根据权利要求40的方法,其中,以物理吸附剂介质的重量计,每一百万份(重量)的固相物理吸附剂介质所含选自水和氧化的过渡金属物质的痕量组分少于350份。
42.根据权利要求40的方法,其中,以物理吸附剂介质的重量计,每一百万份(重量)的固相物理吸附剂介质所含选自水和氧化的过渡金属物质的痕量组分少于100份。
43.根据权利要求40的方法,其中,以物理吸附剂介质的重量计,每一百万份(重量)的固相物理吸附剂介质所含的水和氧化过渡金属物质的痕量组分少于1份。
44.根据权利要求40的方法,其中,以物理吸附剂介质的重量计,水和氧化过渡金属物质的痕量组分的浓度在所述的内压下,25℃1年后不足以分解超过5%的吸附气(重量)。
45.根据权利要求40的方法,其中氧化的过渡金属物质选自其氧化物、亚硫酸盐和硝酸盐。
46.根据权利要求40的方法,其中吸附气是氢化物气体。
47.根据权利要求40的方法,其中吸附气选自硅烷、乙硼烷、砷化氢、磷化氢、氯气、BCl3、BF3、B2D6、六氟化钨、(CH3)3Sb、和氟化氢、氯化氢、溴化氢、碘化氢、锗烷、氨、锑化氢、硫化氢、硒化氢、碲化氢、和NF3
48.根据权利要求10的方法,其中吸附气是三氟化硼。
49.一个用于储存和分配三氟化硼的吸附-解吸方法,所述方法包括:
提供一个容纳有一种对三氟化硼具有吸附亲和力的固相物理吸附剂介质的储存和分配容器;
在所述固相物理吸附剂介质上物理吸附装载三氟化硼,以产生一种已装载有三氟化硼的物理吸附剂介质;
通过减压解吸将已装载有三氟化硼的物理吸附剂介质上的三氟化硼选择性解吸进行分配。
50.根据权利要求31的方法,进一步包括选择性加热固相物理吸附剂介质以实现吸附气从固相物理吸附剂介质上的热增强的解吸。
51.根据权利要求31的方法,其中固相物理吸附剂介质选自一种下列材料:二氧化硅、碳、分子筛、氧化铝、大网状聚合物、硅藻土和硅铝酸盐。
52.根据权利要求31的方法,其中固相物理吸附剂介质包含晶体硅铝酸盐组合物。
53.根据权利要求31的方法,其中晶体硅铝酸盐组合物的孔径大小在大约4-13埃范围内。
54.根据权利要求31的方法,其中晶体硅铝酸盐组合物包括5A分子筛。
55.根据权利要求51的方法,其中晶体硅铝酸盐组分包括未粘合的分子筛。
56.根据权利要求31的方法,其中固相物理吸附剂介质存在于含有化学吸附剂介质的所述储存和分配容器中,化学吸附材料对其中所述吸附气的污染物具有吸附亲和力。
57.根据权利要求31的方法,其中吸附气含有杂质组分,在储存和分配容器中加入固相物理吸附剂介质及杂质清除剂以除去吸附气中的杂质组分。
58.根据权利要求56的方法,其中化学吸附材料对非惰性空气具有吸附亲和力。
59.根据权利要求56的装置,其中化学吸附材料包括选自下列组中的清除剂:
(A)清除剂,包括与一种化合物相联系但不是共价结合的载体,在所述污染物的存在下,这种化合物提供可以实现除去这种污染物的阴离子,所述化合物是从以下组中挑选出来的一个或多个组分:
(i)负碳离子源化合物,其对应的质子化的负碳离子化合物的pKa值大约22-36;以及
(ii)阴离子源化合物,由所述的负碳离子源化合物和吸附气的反应形成;以及
(B)清除剂,包括:
(i)一种具有表面积在50-1000平方米/克范围内的惰性载体,它在至少大约250℃时保持热稳定;
(ii)一种活性的清除物质,以大约每升载体0.01-1.0摩尔的浓度存在于载体上,通过从钠、钾、铷、铯和它们的混合物和合金中挑选出来的一种IA金属的沉淀和其在所述载体上的热解形成。
60.根据权利要求56的方法,其中化学吸附材料选自三苯甲基锂和砷化钾。
61.一种用于储存和分配一种可吸附在固相物理吸附剂介质上的气体的吸收-解吸装置,所述装置包括:
一个构建和布置用来装载固相物理吸附剂介质和选择性地进行气体流入和流出的储存和分配容器;
一种在内部气压下,放置于所述储存和分配容器中的固相物理吸附剂介质;
一种被物理吸附在所述固相物理吸附介质上的吸附气体;
一种在气流交换中与储存和分配容器相配套的分配系统,它装配在所述的储存和分配容器外部,可用于提供一个低于上述的内部压力和实现吸附在固相物理吸附介质上的吸附气体的解吸以及解吸气通过分配系统的气体流动;
一个与所述分配系统配套的低温泵,用于给解吸气加压及排放得到的加压气体。
62.一种用于储存和分配一种可吸附在固相物理吸附剂介质上的气体的方法,所述方法包括:
提供一个容纳有固相物理吸附剂介质的储存和分配容器;
在所述固相物理吸附剂介上吸附所述气体;
在储存和分配容器外部建立一个低于内部压力的压力,以实现将固相物理吸附剂介质上的吸附气的解吸和解吸气流出储存和分配容器;
低温泵抽从储存和分配容器中出来的解吸气到一个预定的压力,其中所述的预定压力要比流出储存和分配容器的解吸气的压力高。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102731054A (zh) * 2012-07-11 2012-10-17 中国第一汽车股份有限公司 含有分子筛的储氨混合物多孔固体样块及其制备方法
CN103889894A (zh) * 2011-08-23 2014-06-25 先进技术材料股份有限公司 供应用于熏蒸应用的磷化氢的系统和方法
CN109310987A (zh) * 2016-06-20 2019-02-05 科思创德国股份有限公司 储存材料和储存氯气的方法
CN112744787A (zh) * 2020-12-16 2021-05-04 四川天采科技有限责任公司 一种含高浓度HF的HCl气体深度脱氟干燥的FTrPSA分离与净化方法

Families Citing this family (169)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6132492A (en) * 1994-10-13 2000-10-17 Advanced Technology Materials, Inc. Sorbent-based gas storage and delivery system for dispensing of high-purity gas, and apparatus and process for manufacturing semiconductor devices, products and precursor structures utilizing same
US5704967A (en) * 1995-10-13 1998-01-06 Advanced Technology Materials, Inc. Fluid storage and delivery system comprising high work capacity physical sorbent
US6204180B1 (en) 1997-05-16 2001-03-20 Advanced Technology Materials, Inc. Apparatus and process for manufacturing semiconductor devices, products and precursor structures utilizing sorbent-based fluid storage and dispensing system for reagent delivery
US5707424A (en) * 1994-10-13 1998-01-13 Advanced Technology Materials, Inc. Process system with integrated gas storage and delivery unit
US6083298A (en) * 1994-10-13 2000-07-04 Advanced Technology Materials, Inc. Process for fabricating a sorbent-based gas storage and dispensing system, utilizing sorbent material pretreatment
US5518528A (en) * 1994-10-13 1996-05-21 Advanced Technology Materials, Inc. Storage and delivery system for gaseous hydride, halide, and organometallic group V compounds
KR100271084B1 (ko) * 1996-05-20 2000-11-01 바누치 유진 지. 작동 용량이 높은 물리적 흡착제를 포함하는 유체 저장 및 전달 시스템
US5916245A (en) * 1996-05-20 1999-06-29 Advanced Technology Materials, Inc. High capacity gas storage and dispensing system
US5837027A (en) * 1996-05-20 1998-11-17 Advanced Technology Materials, Inc. Manufacturing process for gas source and dispensing systems
US5858067A (en) * 1996-05-20 1999-01-12 Advanced Technology Materials, Inc. Ex situ degassing and sorbate loading system for manufacture of sorbent-based fluid storage and dispensing apparatus
US5961697A (en) * 1996-05-20 1999-10-05 Advanced Technology Materials, Inc. Bulk storage and dispensing system for fluids
US5882384A (en) * 1996-05-20 1999-03-16 Advanced Technology Materials, Inc. Gas source and dispensing system with in situ monitoring of pressure and temperature
AU713214B2 (en) * 1996-05-20 1999-11-25 Advanced Technology Materials, Inc. Fluid storage and delivery system comprising high work capacity physical sorbent
US5993766A (en) * 1996-05-20 1999-11-30 Advanced Technology Materials, Inc. Gas source and dispensing system
US5917140A (en) * 1996-05-21 1999-06-29 Advanced Technology Materials, Inc. Sorbent-based fluid storage and dispensing vessel with enhanced heat transfer means
US5676735A (en) * 1996-10-31 1997-10-14 Advanced Technology Materials, Inc. Reclaiming system for gas recovery from decommissioned gas storage and dispensing vessels and recycle of recovered gas
US6338312B2 (en) * 1998-04-15 2002-01-15 Advanced Technology Materials, Inc. Integrated ion implant scrubber system
US6309446B1 (en) * 1997-02-17 2001-10-30 Kanebo, Ltd. Activated carbon for adsorptive storage of gaseous compound
WO2000009257A1 (fr) * 1998-02-17 2000-02-24 Takachiho Chemical Industrial Co., Ltd. Procede et dispositif de stockage et d'alimentation de compose gazeux
US6110257A (en) * 1997-05-16 2000-08-29 Advanced Technology Materials, Inc. Low concentration gas delivery system utilizing sorbent-based gas storage and delivery system
US6019823A (en) * 1997-05-16 2000-02-01 Advanced Technology Materials, Inc. Sorbent-based fluid storage and dispensing vessel with replaceable sorbent cartridge members
US6027547A (en) * 1997-05-16 2000-02-22 Advanced Technology Materials, Inc. Fluid storage and dispensing vessel with modified high surface area solid as fluid storage medium
US5851270A (en) * 1997-05-20 1998-12-22 Advanced Technology Materials, Inc. Low pressure gas source and dispensing apparatus with enhanced diffusive/extractive means
US5985008A (en) * 1997-05-20 1999-11-16 Advanced Technology Materials, Inc. Sorbent-based fluid storage and dispensing system with high efficiency sorbent medium
GB9724168D0 (en) 1997-11-14 1998-01-14 Air Prod & Chem Gas control device and method of supplying gas
US6007609A (en) * 1997-12-18 1999-12-28 Uop Llc Pressurized container with restrictor tube having multiple capillary passages
US5980608A (en) * 1998-01-07 1999-11-09 Advanced Technology Materials, Inc. Throughflow gas storage and dispensing system
US5929325A (en) * 1998-01-12 1999-07-27 The Dumont Company, Inc. System for containing and handling toxic gas and methods for containing and handling same
US6153150A (en) 1998-01-12 2000-11-28 Advanced Technology Materials, Inc. Apparatus and method for controlled decomposition oxidation of gaseous pollutants
US6261524B1 (en) 1999-01-12 2001-07-17 Advanced Technology Materials, Inc. Advanced apparatus for abatement of gaseous pollutants
EP1064996A4 (en) * 1998-02-17 2006-05-10 Air Water Inc ACTIVE CARBON FOR ADSORPTION AND STORAGE OF A GASEOUS COMPOUND
US6660063B2 (en) 1998-03-27 2003-12-09 Advanced Technology Materials, Inc Sorbent-based gas storage and delivery system
US6406519B1 (en) 1998-03-27 2002-06-18 Advanced Technology Materials, Inc. Gas cabinet assembly comprising sorbent-based gas storage and delivery system
US6453924B1 (en) 2000-07-24 2002-09-24 Advanced Technology Materials, Inc. Fluid distribution system and process, and semiconductor fabrication facility utilizing same
US5937895A (en) * 1998-04-17 1999-08-17 Uop Llc Fail-safe delivery valve for pressurized tanks
US6045115A (en) * 1998-04-17 2000-04-04 Uop Llc Fail-safe delivery arrangement for pressurized containers
US6343476B1 (en) 1998-04-28 2002-02-05 Advanced Technology Materials, Inc. Gas storage and dispensing system comprising regulator interiorly disposed in fluid containment vessel and adjustable in situ therein
US6620256B1 (en) 1998-04-28 2003-09-16 Advanced Technology Materials, Inc. Non-plasma in-situ cleaning of processing chambers using static flow methods
US6101816A (en) * 1998-04-28 2000-08-15 Advanced Technology Materials, Inc. Fluid storage and dispensing system
US6029500A (en) * 1998-05-19 2000-02-29 Advanced Technology Materials, Inc. Piezoelectric quartz crystal hydrogen sensor, and hydrogen sensing method utilizing same
US6079252A (en) * 1998-05-20 2000-06-27 Advanced Technology Materials, Inc. Leak detection device, and fluid vessel assembly comprising same
US6156578A (en) * 1998-06-01 2000-12-05 Advanced Technology Materials, Inc. Quartz crystal microbalance system for detecting concentration of a selected gas component in a multicomponent gas stream
US6070576A (en) * 1998-06-02 2000-06-06 Advanced Technology Materials, Inc. Adsorbent-based storage and dispensing system
GB9816316D0 (en) 1998-07-28 1998-09-23 Zeneca Ltd Compound storage
US6113673A (en) * 1998-09-16 2000-09-05 Materials And Electrochemical Research (Mer) Corporation Gas storage using fullerene based adsorbents
US6395070B1 (en) * 1998-10-06 2002-05-28 Matheson Tri-Gas, Inc. Methods for removal of impurity metals from gases using low metal zeolites
US6295861B1 (en) 1999-01-28 2001-10-02 Advanced Technology Materials, Inc. Quartz crystal microbalance sensors and semiconductor manufacturing process systems comprising same
US6581623B1 (en) * 1999-07-16 2003-06-24 Advanced Technology Materials, Inc. Auto-switching gas delivery system utilizing sub-atmospheric pressure gas supply vessels
US6302139B1 (en) 1999-07-16 2001-10-16 Advanced Technology Materials, Inc. Auto-switching gas delivery system utilizing sub-atmospheric pressure gas supply vessels
GB9917616D0 (en) * 1999-07-27 1999-09-29 Boc Group Plc Improved metal foam container
US6277342B1 (en) * 1999-08-23 2001-08-21 Air Products And Chemicals, Inc. Storage and safe delivery of hazardous specialty gases by acid/base reactions with ionic polymers
US6391385B1 (en) * 1999-10-18 2002-05-21 Advanced Technology Materials, Inc. Method of abating of effluents from chemical vapor deposition processes using organometallic source reagents
US6491884B1 (en) * 1999-11-26 2002-12-10 Advanced Technology Materials, Inc. In-situ air oxidation treatment of MOCVD process effluent
US6621848B1 (en) * 2000-04-25 2003-09-16 The Boeing Company SECOIL reprocessing system
WO2001083084A1 (en) * 2000-05-03 2001-11-08 Advanced Technology Materials, Inc. Gas cabinet assembly comprising sorbent-based gas storage and delivery system
AU2000260133A1 (en) * 2000-06-07 2001-12-17 Chemisar Laboratories Process for storage, transmission and distribution of gaseous fuel
US6500238B1 (en) 2000-08-10 2002-12-31 Advanced Technology Materials, Inc. Fluid storage and dispensing system
US6360546B1 (en) 2000-08-10 2002-03-26 Advanced Technology Materials, Inc. Fluid storage and dispensing system featuring externally adjustable regulator assembly for high flow dispensing
JP3758131B2 (ja) * 2000-08-23 2006-03-22 株式会社日本製鋼所 ガス吸放出物質を用いたガス吸放出装置およびその運転方法
US6515290B1 (en) 2000-09-05 2003-02-04 Axcelis Technologies, Inc. Bulk gas delivery system for ion implanters
US6547861B2 (en) * 2000-12-26 2003-04-15 Matheson Tri-Gas,, Inc. Method and materials for purifying reactive gases using preconditioned ultra-low emission carbon material
US6494343B2 (en) 2001-02-15 2002-12-17 Advanced Technology Materials, Inc. Fluid storage and dispensing system featuring ex-situ strain gauge pressure monitoring assembly
US6879876B2 (en) 2001-06-13 2005-04-12 Advanced Technology Materials, Inc. Liquid handling system with electronic information storage
US6932945B2 (en) * 2001-06-19 2005-08-23 Air Products And Chemicals, Inc. Adsorbent based gas delivery system with integrated purifier
US6790363B2 (en) * 2001-07-24 2004-09-14 Chk Group, Inc. Method of treating arsenic-contaminated waters
US6471750B1 (en) 2001-08-08 2002-10-29 Advanced Technology Materials, Inc. Gas cabinet assembly comprising back migration scrubber unit
US20040023419A1 (en) * 2001-09-24 2004-02-05 Extraction Systems, Inc System and method for monitoring contamination
US7092077B2 (en) * 2001-09-24 2006-08-15 Entegris, Inc. System and method for monitoring contamination
US7254983B2 (en) * 2001-10-16 2007-08-14 Hera Usa Inc. Fuel gauge for hydrogen storage media
US6592653B2 (en) 2001-11-12 2003-07-15 Advanced Technology Materials, Inc. Fluid storage and delivery system utilizing low heels carbon sorbent medium
US6764755B2 (en) 2001-12-17 2004-07-20 Advanced Technology Materials, Inc. Channelized sorbent media, and methods of making same
US6620225B2 (en) 2002-01-10 2003-09-16 Advanced Technology Materials, Inc. Adsorbents for low vapor pressure fluid storage and delivery
US6774019B2 (en) * 2002-05-17 2004-08-10 International Business Machines Corporation Incorporation of an impurity into a thin film
US6648034B1 (en) * 2002-05-23 2003-11-18 Air Products And Chemicals, Inc. Purgeable manifold for low vapor pressure chemicals containers
US6857447B2 (en) * 2002-06-10 2005-02-22 Advanced Technology Materials, Inc. Pressure-based gas delivery system and method for reducing risks associated with storage and delivery of high pressure gases
US6716271B1 (en) 2002-10-29 2004-04-06 Advanced Technology Materials, Inc. Apparatus and method for inhibiting decomposition of germane
US7105037B2 (en) * 2002-10-31 2006-09-12 Advanced Technology Materials, Inc. Semiconductor manufacturing facility utilizing exhaust recirculation
US6770117B2 (en) * 2002-10-31 2004-08-03 Advanced Technology Materials, Inc. Ion implantation and wet bench systems utilizing exhaust gas recirculation
US6935354B2 (en) * 2002-12-09 2005-08-30 Advanced Technology Materials, Inc. Permeable gas assembly for gas delivery
US6991671B2 (en) 2002-12-09 2006-01-31 Advanced Technology Materials, Inc. Rectangular parallelepiped fluid storage and dispensing vessel
US7370661B2 (en) * 2002-12-09 2008-05-13 Advanced Technology Materials, Inc. Permeable gas assembly for gas delivery
US8002880B2 (en) 2002-12-10 2011-08-23 Advanced Technology Materials, Inc. Gas storage and dispensing system with monolithic carbon adsorbent
US6743278B1 (en) * 2002-12-10 2004-06-01 Advanced Technology Materials, Inc. Gas storage and dispensing system with monolithic carbon adsorbent
US7494530B2 (en) * 2002-12-10 2009-02-24 Advanced Technology Materials, Inc. Gas storage and dispensing system with monolithic carbon adsorbent
US6997202B2 (en) * 2002-12-17 2006-02-14 Advanced Technology Materials, Inc. Gas storage and dispensing system for variable conductance dispensing of gas at constant flow rate
US6960700B1 (en) 2002-12-19 2005-11-01 Uop Llc Adsorbent beds for removal of hydrides from hydrocarbons
DE10306344B8 (de) * 2003-02-15 2013-11-21 Pharmpur Gmbh Gasspeicher zur Speicherung einer vorgegebenen Gasmenge und Freigabe des Gases für eine medizinische Applikation
US6868869B2 (en) * 2003-02-19 2005-03-22 Advanced Technology Materials, Inc. Sub-atmospheric pressure delivery of liquids, solids and low vapor pressure gases
US7063097B2 (en) 2003-03-28 2006-06-20 Advanced Technology Materials, Inc. In-situ gas blending and dilution system for delivery of dilute gas at a predetermined concentration
WO2004088415A2 (en) * 2003-03-28 2004-10-14 Advanced Technology Materials Inc. Photometrically modulated delivery of reagents
US6843830B2 (en) * 2003-04-15 2005-01-18 Advanced Technology Materials, Inc. Abatement system targeting a by-pass effluent stream of a semiconductor process tool
US7172646B2 (en) 2003-04-15 2007-02-06 Air Products And Chemicals, Inc. Reactive liquid based gas storage and delivery systems
JP2005024068A (ja) * 2003-07-02 2005-01-27 Toyo Tanso Kk ハロゲンガス又はハロゲン含有ガスの供給装置
US6909839B2 (en) * 2003-07-23 2005-06-21 Advanced Technology Materials, Inc. Delivery systems for efficient vaporization of precursor source material
US6907740B2 (en) * 2003-07-23 2005-06-21 Advanced Technology Materials, Inc. Gas charging system for fill of gas storage and dispensing vessels
US7150353B2 (en) * 2003-08-01 2006-12-19 Stephen Michael Lord Method for safe handling of unstable hydride gases
US20050053535A1 (en) * 2003-09-08 2005-03-10 Seh America, Inc. Gettering filter and associated method for removing oxygen from a gas
US6955198B2 (en) * 2003-09-09 2005-10-18 Advanced Technology Materials, Inc. Auto-switching system for switch-over of gas storage and dispensing vessels in a multi-vessel array
WO2005037421A2 (en) * 2003-10-14 2005-04-28 Advanced Technology Materials, Inc. Hydrogen generation
US7018448B2 (en) * 2003-10-28 2006-03-28 Advanced Technology Materials, Inc. Gas cabinet including integrated effluent scrubber
US7253002B2 (en) * 2003-11-03 2007-08-07 Advanced Technology Materials, Inc. Fluid storage and dispensing vessels having colorimetrically verifiable leak-tightness, and method of making same
US7306870B2 (en) * 2004-02-13 2007-12-11 The Gillette Company Fuel cell
US7303607B2 (en) 2004-06-14 2007-12-04 Air Products And Chemicals, Inc. Liquid media containing Lewis acidic reactive compounds for storage and delivery of Lewis basic gases
US7396381B2 (en) * 2004-07-08 2008-07-08 Air Products And Chemicals, Inc. Storage and delivery systems for gases held in liquid medium
US7648682B2 (en) * 2004-07-08 2010-01-19 Air Products And Chemicals, Inc. Wick systems for complexed gas technology
US7563308B2 (en) * 2004-09-23 2009-07-21 Air Products And Chemicals, Inc. Ionic liquid based mixtures for gas storage and delivery
US7404845B2 (en) * 2004-09-23 2008-07-29 Air Products And Chemicals, Inc. Ionic liquid based mixtures for gas storage and delivery
US7282084B2 (en) * 2004-10-15 2007-10-16 Air Products And Chemicals, Inc. Liquid media containing Lewis basic reactive compounds for storage and delivery of Lewis acidic gases
US7955797B2 (en) 2004-10-25 2011-06-07 Advanced Technology Materials, Inc. Fluid storage and dispensing system including dynamic fluid monitoring of fluid storage and dispensing vessel
US20060115591A1 (en) * 2004-11-29 2006-06-01 Olander W K Pentaborane(9) storage and delivery
KR20070116050A (ko) * 2005-02-28 2007-12-06 어드밴스드 테크놀러지 머티리얼즈, 인코포레이티드 유체 분배 용기의 누설 시험 및 검정을 위한 장치 및 그방법
JP4681325B2 (ja) * 2005-03-04 2011-05-11 セイコーインスツル株式会社 逆流防止監視付きガス供給システムの使用方法
US7638058B2 (en) * 2005-04-07 2009-12-29 Matheson Tri-Gas Fluid storage and purification method and system
JP2008540944A (ja) * 2005-05-03 2008-11-20 アドバンスド テクノロジー マテリアルズ,インコーポレイテッド 流体保存・分配システム及びそれを含む流体供給プロセス
KR101241922B1 (ko) * 2005-06-22 2013-03-11 어드밴스드 테크놀러지 머티리얼즈, 인코포레이티드 통합 가스 배합 장치 및 방법
US20070028766A1 (en) * 2005-08-08 2007-02-08 Ravi Jain Method for removing impurities from a gas
US20070028764A1 (en) * 2005-08-08 2007-02-08 Carsten Wittrup Method for enabling the provision of purified carbon dioxide
US20070028772A1 (en) * 2005-08-08 2007-02-08 Ravi Jain Method and system for purifying a gas
US7481985B2 (en) * 2005-08-08 2009-01-27 The Boc Group, Inc. Method of removing impurities from a gas
US8017405B2 (en) 2005-08-08 2011-09-13 The Boc Group, Inc. Gas analysis method
US20070031302A1 (en) * 2005-08-08 2007-02-08 Carsten Wittrup Method and apparatus for purifying a gas
US7556671B2 (en) * 2005-08-08 2009-07-07 The Boc Group, Inc. System and method for purifying a gas
KR20080038241A (ko) * 2005-08-22 2008-05-02 어드밴스드 테크놀러지 머티리얼즈, 인코포레이티드 물질 봉쇄 시스템
SG165321A1 (en) 2005-08-30 2010-10-28 Advanced Tech Materials Boron ion implantation using alternative fluorinated boron precursors, and formation of large boron hydrides for implantation
WO2007027965A2 (en) * 2005-08-30 2007-03-08 Advanced Technology Materials, Inc. Delivery of low pressure dopant gas to a high voltage ion source
US20070157804A1 (en) * 2006-01-06 2007-07-12 Mcmanus James V Method and apparatus for decommissioning and recycling retired adsorbent-based fluid storage and dispensing vessels
KR101412735B1 (ko) * 2006-01-30 2014-07-01 어드밴스드 테크놀러지 머티리얼즈, 인코포레이티드 유체 저장/분배, 탈황, 및 적외선 복사 방출에 유용한 탄소질 재료, 이를 이용하는 장치 및 방법
US7716850B2 (en) * 2006-05-03 2010-05-18 Georgia-Pacific Consumer Products Lp Energy-efficient yankee dryer hood system
WO2007142700A1 (en) * 2006-06-02 2007-12-13 Advanced Technology Materials, Inc. Copper (i) amidinates and guanidinates for forming copper thin films
KR101533045B1 (ko) * 2006-07-10 2015-07-02 인티그리스, 인코포레이티드 정보 저장 엘리먼트를 갖는 물질 저장 용기를 관리하기 위한 시스템 및 방법
WO2008069821A1 (en) * 2006-12-05 2008-06-12 Advanced Technology Materials, Inc. Metal aminotroponiminates, bis-oxazolinates and guanidinates
US8539781B2 (en) * 2007-06-22 2013-09-24 Advanced Technology Materials, Inc. Component for solar adsorption refrigeration system and method of making such component
DE102007030106A1 (de) * 2007-06-28 2009-01-02 Intega Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Behandeln eines Halbleitersubstrats
US20100228399A1 (en) * 2007-12-06 2010-09-09 Udischas Richard J Pressure regulator assembly and system for the controlled storage and dispensing of a fluid
WO2009079218A2 (en) 2007-12-06 2009-06-25 L'air Liquide Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude Integrated valve regulator assembly and system for the controlled storage and dispensing of a hazardous material
US8119853B2 (en) * 2008-01-10 2012-02-21 L'Air Liquide SociétéAnonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude Low pressure acetylene storage
JP2011512015A (ja) 2008-02-11 2011-04-14 アドバンスド テクノロジー マテリアルズ,インコーポレイテッド 半導体処理システムにおけるイオン源の洗浄
US11634815B2 (en) 2008-07-03 2023-04-25 Rasirc, Inc. Method, system, and device for storage and delivery of process gas from a substrate
US20100290977A1 (en) * 2009-05-15 2010-11-18 Bowers Charles W Method of removing hydrocarbon impurities from a gas
US8598022B2 (en) 2009-10-27 2013-12-03 Advanced Technology Materials, Inc. Isotopically-enriched boron-containing compounds, and methods of making and using same
US8858819B2 (en) 2010-02-15 2014-10-14 Air Products And Chemicals, Inc. Method for chemical mechanical planarization of a tungsten-containing substrate
KR20130098284A (ko) 2010-06-25 2013-09-04 어드밴스드 테크놀러지 머티리얼즈, 인코포레이티드 제논 및 다른 고부가가치 화합물의 회수
US20130251913A1 (en) * 2010-11-30 2013-09-26 Advanced Technology Materials, Inc. Ion implanter system including remote dopant source, and method comprising same
US8679231B2 (en) 2011-01-19 2014-03-25 Advanced Technology Materials, Inc. PVDF pyrolyzate adsorbent and gas storage and dispensing system utilizing same
JP5899883B2 (ja) * 2011-01-26 2016-04-06 セントラル硝子株式会社 高圧ガスの供給方法、衝撃波減衰機構を有する機器及び高圧ガスの供給装置
US8795411B2 (en) 2011-02-07 2014-08-05 Air Products And Chemicals, Inc. Method for recovering high-value components from waste gas streams
CN104302962B (zh) * 2012-02-24 2017-05-31 恩特格里斯公司 流体运送系统和方法
EP2855009A4 (en) 2012-05-29 2016-04-13 Entegris Inc CARBON ADSORBENT FOR THE REMOVAL OF HYDROGEN SULFIDE FROM GAS, AND REGENERATION OF ADSORBENT
CA2919152A1 (en) * 2012-07-24 2014-01-30 Paul H. Smith, Jr. Hydrogen energy systems
CA2921548A1 (en) 2012-08-24 2014-02-27 Oscomp Systems Inc. Virtual gaseous fuel pipeline
WO2014088797A1 (en) * 2012-12-05 2014-06-12 Linde Aktiengesellschaft Diborane storage and blending
WO2014088794A1 (en) * 2012-12-05 2014-06-12 Linde Aktiengesellschaft Diborane storage
US9186650B2 (en) 2013-04-05 2015-11-17 Entegris, Inc. Adsorbent having utility for CO2 capture from gas mixtures
CN110665329B (zh) 2013-08-05 2022-05-24 纽麦特科技公司 递送用于离子注入的气体的方法
KR102075322B1 (ko) 2014-10-27 2020-02-07 엔테그리스, 아이엔씨. 이온 주입 방법 및 장치
US9909670B2 (en) * 2015-03-04 2018-03-06 Praxair Technology, Inc. Modified vacuum actuated valve assembly and sealing mechanism for improved flow stability for fluids sub-atmospherically dispensed from storage and delivery systems
CN108367269B (zh) * 2015-11-07 2021-10-29 恩特格里斯公司 吸附剂与流体供应包装及包括其的设备
EP3431859A1 (de) 2017-07-21 2019-01-23 Covestro Deutschland AG Verfahren zur leckage-sicheren speicherung von verflüssigtem chlor
US11098402B2 (en) 2017-08-22 2021-08-24 Praxair Technology, Inc. Storage and delivery of antimony-containing materials to an ion implanter
US10597773B2 (en) 2017-08-22 2020-03-24 Praxair Technology, Inc. Antimony-containing materials for ion implantation
JP2021503371A (ja) 2017-11-17 2021-02-12 ラシルク, インコーポレイテッドRasirc, Inc. 基材からのプロセスガスを貯蔵および送達する方法、システムおよびデバイス
US11236863B2 (en) * 2018-01-08 2022-02-01 Ut-Battelle, Llc Automated cryogenic refilling system
US11491435B2 (en) 2019-05-24 2022-11-08 Entegris, Inc. Methods and systems for removing ammonia from a gas mixture
KR102660643B1 (ko) * 2019-05-24 2024-04-26 엔테그리스, 아이엔씨. 유기금속 증기를 흡착하기 위한 방법 및 시스템
US11692671B2 (en) * 2020-05-07 2023-07-04 Numat Technologies, Inc. Apparatus and method for dispensing gas from a storage vessel
CN112728411A (zh) * 2020-12-31 2021-04-30 湖南理工学院 一种纯氢输运分配管网系统及其控制方法
CN115957717A (zh) * 2022-12-20 2023-04-14 张家港安储科技有限公司 一种单块多孔无机材料吸附剂及其应用
CN115770548B (zh) * 2022-12-22 2024-04-16 中昊光明化工研究设计院有限公司 全硅分子筛吸附剂在特种气体存储中的应用
CN115947308A (zh) * 2022-12-28 2023-04-11 江西蓝星星火有机硅有限公司 一种低压氯化氢回收至高压系统的装置

Family Cites Families (69)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US240423A (en) * 1881-04-19 Alexander james
US1608155A (en) * 1920-08-02 1926-11-23 American Solvent Recovery Corp Means for transporting and storing gases
US1714245A (en) * 1927-12-23 1929-05-21 American Signs Corp Gas-purifying trap and method of restoring same
US2356334A (en) * 1941-12-18 1944-08-22 Hooker Electrochemical Co Means for storing and concentrating anhydrous hydrogen chloride
US2450289A (en) * 1944-04-15 1948-09-28 Little Inc A Gas treating apparatus
US2663626A (en) * 1949-05-14 1953-12-22 Pritchard & Co J F Method of storing gases
BE565604A (zh) * 1953-09-25 1900-01-01
US3287432A (en) * 1957-04-11 1966-11-22 Texaco Inc Selective sorption process
US3093564A (en) * 1957-10-21 1963-06-11 Westinghouse Electric Corp Gas handling systems for radioactive gases
US3080307A (en) * 1957-10-21 1963-03-05 Westinghouse Electric Corp Radioactive fluid handling system
NL241272A (zh) * 1958-07-14
US2997371A (en) * 1958-12-01 1961-08-22 Standard Oil Co Recovering of bf3 from admixture with hydrocarbons
US3116132A (en) * 1960-01-22 1963-12-31 Olin Mathieson Process for the adsorption and desorption of diborane
US3006153A (en) * 1960-08-29 1961-10-31 Union Carbide Corp Method and apparatus for storing and transporting ozone
NL297067A (zh) * 1962-09-04 1900-01-01
US3144200A (en) * 1962-10-17 1964-08-11 Clyde E Taylor Process and device for cryogenic adsorption pumping
US3264803A (en) * 1963-01-21 1966-08-09 Gen Electric Sorption vacuum pump
US3415069A (en) * 1966-10-31 1968-12-10 Nasa High pressure helium purifier
US3469375A (en) * 1967-10-16 1969-09-30 Nasa Sorption vacuum trap
US3648194A (en) * 1969-09-10 1972-03-07 United Aircraft Corp Semiclosed cycle gas laser system
US3675392A (en) * 1970-01-30 1972-07-11 Ite Imperial Corp Adsorption-desorption method for purifying sf{11
GB1385922A (en) * 1971-03-31 1975-03-05 Yatsurugi Y Kuratomi T Preparation and use of 4-5a zeolite
US3713273A (en) * 1971-05-03 1973-01-30 R Coffee Method and apparatus for storing gases and fueling internal combustion engines
US3719026A (en) * 1971-06-01 1973-03-06 Zeochem Corp Selective sorption of non-polar molecules
US3788036A (en) * 1972-07-26 1974-01-29 D Stahl Pressure equalization and purging system for heatless adsorption systems
US4023701A (en) * 1974-03-04 1977-05-17 Dockery Denzel J Breathing apparatus for underwater use
JPS5272373A (en) * 1975-12-15 1977-06-16 Chiyoda R & D Adsorption and separation apparatus
GB1594454A (en) * 1976-12-23 1981-07-30 Boc Ltd Gas separation
US4343770A (en) * 1977-12-19 1982-08-10 Billings Energy Corporation Self-regenerating system of removing oxygen and water impurities from hydrogen gas
US4263018A (en) * 1978-02-01 1981-04-21 Greene & Kellogg Pressure swing adsorption process and system for gas separation
NL8005645A (nl) * 1980-10-13 1982-05-03 Euratom Werkwijze voor het omkeerbaar opsluiten van gassen of dampen in een natuurlijk of synthetisch zeoliet.
DE3139781A1 (de) * 1981-10-07 1983-04-21 Nyby Uddeholm AB, 64480 Torshälla Verfahren und vorrichtung zur reinigung eines dampffoermige schadstoffe enthaltenden gases
US4477265A (en) * 1982-08-05 1984-10-16 Air Products And Chemicals, Inc. Argon purification
JPS6071040A (ja) * 1983-09-27 1985-04-22 Takeda Chem Ind Ltd 有害ガス吸着剤
SU1181692A1 (ru) * 1983-11-14 1985-09-30 Московский ордена Ленина и ордена Трудового Красного Знамени химико-технологический институт им.Д.И.Менделеева Способ очистки газов от примесей фосфина и арсина
US4552571A (en) * 1984-04-05 1985-11-12 Vbm Corporation Oxygen generator with two compressor stages
FR2575869B1 (fr) * 1984-11-23 1987-07-10 Telecommunications Sa Generateur laser a catalyseur pour le gaz laser
JPS61133116A (ja) * 1984-11-30 1986-06-20 Nippon Paionikusu Kk ガス精製装置
FR2580947B1 (fr) * 1985-04-25 1989-09-01 Air Liquide Procede et installation d'epuration par adsorption sur charbon actif, et pot adsorbeur correspondant
US4673415A (en) * 1986-05-22 1987-06-16 Vbm Corporation Oxygen production system with two stage oxygen pressurization
US4869733A (en) * 1986-05-22 1989-09-26 Vbm Corporation Super-enriched oxygen generator
JPH06104177B2 (ja) * 1986-10-02 1994-12-21 大阪瓦斯株式会社 高純度ガス貯蔵用圧力容器
US5151395A (en) * 1987-03-24 1992-09-29 Novapure Corporation Bulk gas sorption and apparatus, gas containment/treatment system comprising same, and sorbent composition therefor
US4761395A (en) * 1987-03-24 1988-08-02 Advanced Technology Materials, Inc. Process and composition for purifying arsine, phosphine, ammonia, and inert gases to remove Lewis acid and oxidant impurities therefrom
US4749384A (en) * 1987-04-24 1988-06-07 Union Carbide Corporation Method and apparatus for quick filling gas cylinders
US4723967A (en) * 1987-04-27 1988-02-09 Advanced Technology Materials, Inc. Valve block and container for semiconductor source reagent dispensing and/or purification
US4738693A (en) * 1987-04-27 1988-04-19 Advanced Technology Materials, Inc. Valve block and container for semiconductor source reagent dispensing and/or purification
US4744221A (en) * 1987-06-29 1988-05-17 Olin Corporation Zeolite based arsine storage and delivery system
DE3729517A1 (de) * 1987-09-03 1989-03-16 Siemens Ag Adsorptionseinrichtung zur gastrennung
SU1544475A1 (ru) * 1987-12-07 1990-02-23 Предприятие П/Я Г-4567 Способ получени сорбента дл очистки газов
SU1583151A1 (ru) * 1988-05-23 1990-08-07 Государственный научно-исследовательский и проектный институт редкометаллической промышленности "Гиредмет" Способ очистки газов от арсина
DE3842930A1 (de) * 1988-12-21 1990-06-28 Bayer Ag Verfahren zur adsorptiven sauerstoffanreicherung von luft mit mischungen aus ca-zeolith a molekularsieben mittels vakuum-swing-adsorption
DE3843313A1 (de) * 1988-12-22 1990-06-28 Wacker Chemitronic Verfahren zur entfernung von gasfoermigen kontaminierenden, insbesondere dotierstoffverbindungen aus halogensilanverbindungen enthaltenden traegergasen
JPH0316638A (ja) * 1989-06-14 1991-01-24 Mitsubishi Heavy Ind Ltd オゾン吸着済及びオゾン吸蔵装置
FR2652346B1 (fr) * 1989-09-22 1991-11-29 Air Liquide Procede de preparation de disilane.
JPH03127606A (ja) * 1989-10-09 1991-05-30 Hitachi Ltd 充填塔構造
US5202096A (en) * 1990-01-19 1993-04-13 The Boc Group, Inc. Apparatus for low temperature purification of gases
FR2659030B1 (fr) * 1990-03-02 1993-01-08 Air Liquide Enceinte et installation d'absorption pour separation des melanges gazeux.
JP3038353B2 (ja) * 1990-12-21 2000-05-08 石川島播磨重工業株式会社 オゾンの保存方法
JPH06104510A (ja) * 1991-06-04 1994-04-15 Sumitomo Heavy Ind Ltd ガスレーザ装置およびその運転法
JPH06125127A (ja) * 1991-06-04 1994-05-06 Sumitomo Heavy Ind Ltd ガスレーザ装置およびその運転法
JPH05272373A (ja) * 1992-03-27 1993-10-19 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 内燃機関の燃焼装置
US5238469A (en) * 1992-04-02 1993-08-24 Saes Pure Gas, Inc. Method and apparatus for removing residual hydrogen from a purified gas
US5224350A (en) * 1992-05-11 1993-07-06 Advanced Extraction Technologies, Inc. Process for recovering helium from a gas stream
GB9220975D0 (en) * 1992-10-06 1992-11-18 Air Prod & Chem Apparatus for supplying high purity gas
US5385689A (en) * 1993-06-29 1995-01-31 Novapure Corporation Process and composition for purifying semiconductor process gases to remove Lewis acid and oxidant impurities therefrom
US5417742A (en) * 1993-12-03 1995-05-23 The Boc Group, Inc. Removal of perfluorocarbons from gas streams
US5518528A (en) * 1994-10-13 1996-05-21 Advanced Technology Materials, Inc. Storage and delivery system for gaseous hydride, halide, and organometallic group V compounds
US5707424A (en) * 1994-10-13 1998-01-13 Advanced Technology Materials, Inc. Process system with integrated gas storage and delivery unit

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103889894A (zh) * 2011-08-23 2014-06-25 先进技术材料股份有限公司 供应用于熏蒸应用的磷化氢的系统和方法
CN102731054A (zh) * 2012-07-11 2012-10-17 中国第一汽车股份有限公司 含有分子筛的储氨混合物多孔固体样块及其制备方法
CN102731054B (zh) * 2012-07-11 2015-09-16 中国第一汽车股份有限公司 含有分子筛的储氨混合物多孔固体样块及其制备方法
CN109310987A (zh) * 2016-06-20 2019-02-05 科思创德国股份有限公司 储存材料和储存氯气的方法
CN112744787A (zh) * 2020-12-16 2021-05-04 四川天采科技有限责任公司 一种含高浓度HF的HCl气体深度脱氟干燥的FTrPSA分离与净化方法
CN112744787B (zh) * 2020-12-16 2022-05-03 四川天采科技有限责任公司 一种含高浓度HF的HCl气体深度脱氟干燥的FTrPSA分离与净化方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH10503268A (ja) 1998-03-24
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IL115619A0 (en) 1996-01-19
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DE69518657D1 (de) 2000-10-05
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US5935305A (en) 1999-08-10
JP3058918B2 (ja) 2000-07-04
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DE785817T1 (de) 1998-01-29
AU3830095A (en) 1996-05-06
EP0785817B1 (en) 2000-08-30

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