CN116529610A - 样本分析装置 - Google Patents

Abstract

本申请实施例提供一种样本分析装置，其包括分注机构和清洗机构；分注机构包括移动部件和移液针；清洗机构包括清洗池和超声波发生器，超声波发生器位于清洗池的底部且位于清洗池背离清洗室的一侧，以通过清洗池向清洗室内的清洗液传递声场并将声场的能量集中至清洗室内移液针所在的位置。

Description

样本分析装置

本申请要求于2020年11月25日提交中国专利局、申请号为202011340594.2、申请名称为“一种样本分析装置和样本分析方法”的中国专利申请的优先权，其全部内容通过引用结合在本申请中。

技术领域

本申请涉及医疗技术领域，尤其涉及一种样本分析装置。

背景技术

体外诊断检验设备，需要使用移液针（例如样本针和试剂针等）进行样本或试剂的加注，以保证充分反应。移液针可以重复使用，其在工作过程中，会接触不同的液体介质，为了消除不同介质之间的携带污染，需要在移液针每次工作后进行清洗，以清除移液针表面残留的物质，避免其被带入下一个反应中，造成交叉污染，影响测试结果的准确性。

技术问题

对移液针如何清洗一直是一个在不断研究的问题。

技术解决方案

本申请实施例提供一种样本分析装置，下面具体说明。

一种实施例中提供一种样本分析装置，其包括：

分注机构，包括移动部件和设置于所述移动部件上的移液针；所述移动部件用于驱动所述移液针在不同的操作位之间移动以吸取或排放目标液体，所述目标液体包括样本或者试剂中的至少一个；

清洗机构，所述清洗机构包括清洗池和超声波发生器，所述清洗池设置有顶部开口的清洗室，所述清洗室的开口位于所述移液针的移动轨迹上，所述移液针经所述开口插入所述清洗室内，所述超声波发生器位于所述清洗池的底部且位于所述清洗池背离清洗室的一侧，以通过所述清洗池向所述清洗室内的清洗液传递声场并将所述声场的能量集中至清洗室内所述移液针所在的位置；以及

液路支持机构，所述液路支持机构用于向所述清洗室提供清洗液。

一实施例中，所述清洗室包括能量集中区域以及能量传递区域，所述能量传递区域包绕所述能量集中区域，所述超声发生器发出的声场的能量经所述能量传递区域传递后集中至所述能量集中区域，所述移液针位于所述能量集中区域中进行清洗。

一实施例中，所述清洗池的重心和所述超声波发生器的震动中心的连线与所述移液针的轴线平行，且所述连线或者所述连线的延长线穿过所述能量集中区域。

一实施例中，所述清洗池的重心和所述超声波发生器的震动中心位于所述移液针的轴线上。

一实施例中，所述超声波发生器通过所述清洗池向所述清洗室内的清洗液传递声场并将所述声场的能量集中至所述移液针。

一实施例中，所述清洗池包括第一底壁和第一侧壁，所述第一侧壁围绕所述第一底壁的周缘设置以围合形成所述清洗室，所述第一底壁包括连接区域，所述移液针在所述第一底壁的正投影位于所述连接区域内，所述超声波发生器的输出端抵接所述连接区域。

一实施例中，所述第一底壁包括朝向所述超声波发生器的底面，所述底面为中心对称结构，所述超声波发生器的输出端抵接所述底面的中心。

一实施例中，所述清洗池还包括第二侧壁和第二底壁，所述第二底壁围绕所述第一底壁设置且与所述第一底壁的周缘连接，或者，所述第二底壁围绕所述第一侧壁设置且与所述第一侧壁朝向所第二底壁的外表面连接，所述第二侧壁围绕所述第二底壁的外周缘设置以围合形成溢流室，所述溢流室用于承接从所述清洗室中溢流出的液体。

一实施例中，所述第一底壁设有与所述清洗室连通的第一废液排出口，所述第二底壁设有与所述溢流室连通的第二废液排出口。

一实施例中，所述第一侧壁包括第一圆弧段，所述第二侧壁包括第二圆弧段，所述第一圆弧段对应的轴线和所述第二圆弧段对应的轴线重合。

一实施例中，所述第一侧壁包括第一圆弧段，所述第二侧壁包括第二圆弧段，所述第一圆弧段占所述第一侧壁的比例不小于80%，所述第二圆弧段占所述第二侧壁的比例不小于60%。

一实施例中，所述第二底壁包括第一环绕部和第一凸出部，所述第一环绕部围绕所述第一底壁设置，所述第一凸出部位于所述第一环绕部远离所述第一底壁一侧，所述第一凸出部设有第二废液排出口，以使所述溢流室内的清洗液通过所述第二废液排出口排出；

所述第二侧壁包括与所述第一环绕部连接的第二环绕部和与所述第一凸出部连接的第二凸出部；

所述第一侧壁包括与所述一凸出部和所述第二凸出部相对设置的平衡部，以使所述超声波发生器的声场的能量集中至所述清洗室内所述移液针所在的位置。

一实施例中，所述平衡部设有与所述清洗室连通的进液通道。

一实施例中，所述第一底壁设有与所述清洗室连通的第一废液排出口，所述清洗池还包括与所述第一废液排出口连接的第一排液接头、以及与所述进液通道连接的进液接头；所述清洗池还包括安装于所述第二废液排出口的第二排液接头；

所述第一排液接头和所述进液接头位于所述超声波发生器同一侧，且与所述第二排液接头位于所述超声波发生器相对的两侧，以使所述超声波发生器的声场的能量集中至所述清洗室内所述移液针所在的位置。

一实施例中，所述第二废液排出口的截面为圆形且直径大于6毫米。

一实施例中，所述清洗池还包括排水泵，所述排水泵与所述第二废液排出口连通，所述第二废液排出口的截面为圆形且直径大于3毫米。

一实施例中，所述样本分析装置还包括控制器，所述控制器用于当所述溢流室内的液体的液量超过液量阈值时，控制所述超声波发生器停止清洗所述移液针或所述超声波发生器清洗所述移液针无效。

一实施例中，所述第一侧壁包括第一圆弧段，所述第一圆弧段占所述第一侧壁的比例不小于80%，所述第一圆弧段对应的直径小于所述超声波发生器发出的超声波的1/2个波长。

一实施例中，所述清洗室内所述清洗液的液面与所述第一底壁的距离小于所述超声波发生器发出的超声波的1个波长。

一实施例中，所述样本分析装置还包括样本承载机构、试剂承载机构、反应机构、混匀机构以及测定机构，所述样本承载机构设置有至少一个样本位，所述样本位用于放置样本容器，所述样本容器用于容置样本；所述试剂承载机构设置有至少一个试剂位，所述试剂位用于放置试剂容器，所述试剂容器用于容置试剂；所述反应机构，具有多个用于放置反应杯的放置位，所述反应机构用于孵育其放置位上反应杯中的反应液，其中反应液由样本和试剂所制备；所述混匀机构，用于对反应杯中需要混匀的反应液进行混匀；所述移动机构包括第一移动组件以及第二移动组件，所述移液针包括样本针和试剂针，所述第一移动组件与所述样本针连接，以在样本位、放置位以及清洗机构之间移动样本针，所述第二移动组件与所述试剂针连接，以在试剂位、放置位以及清洗机构之间移动试剂针。

一实施例中，所述混匀机构包括搅拌杆驱动机构和搅拌杆，所述搅拌杆驱动机构驱动搅拌杆移动，以对反应杯中需要混匀的反应液进行混匀；所述清洗机构设置于所述搅拌杆的移动轨迹上，以对搅拌完后的所述搅拌杆进行超声波清洗。

有益效果

依据上述实施例的样本分析装置，引入超声波发生器，配合清洗池对移液针进行超声波清洗，并且能够将超声波发出的声场的能量向移液针集中，具有强力剥离清洗的效果，可以有效消除累积污染物残留，清洗得比较干净。而且，超声波发生器安装在清洗池外，不需要深入清洗池的清洗液中，不需要考虑超声波发生器防水问题，可以简化超声波发生器的防水要求；清洗池不需要容纳超声波发生器，清洗池的体积可以做的比较小，充分利用清洗池外的空间以容纳超声波发生器，提高样本分析装置内的空间利用率。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍。

图1为本申请实施例提供的样本分析装置的第一种结构示意图。

图2为图1所示样本分析装置中清洗机构的第一种结构示意图。

图3为图2所示清洗机构的另一角度示意图。

图4为本申请实施例提供的清洗机构中声场传递的示意图。

图5为图1所示样本分析装置中清洗机构的第二种结构示意图。

图6为图5所示清洗机构的另一角度示意图。

图7为本申请实施例提供的清洗机构和分注机构的结构示意图。

图8为本申请实施例提供的清洗机构中声场传递的另一示意图。

图9为图1所示样本分析装置中清洗机构的第三种结构示意图。

图10为图9所示清洗机构的爆炸示意图。

图11为本申请实施例提供的样本分析装置中液路支持机构部分部件的结构示意图。

图12为图1所示样本分析装置中清洗机构的第四种结构示意图。

图13为图12所示清洗结构的另一角度示意图。

图14为图1所示样本分析装置中清洗机构的第五种结构示意图。

图15为图14所示清洗结构的另一角度示意图。

图16为本申请实施例提供的样本分析装置的第二种结构示意图。

图17为本申请实施例提供的样本分析装置的第三种结构示意图。

图18为本申请实施例提供的样本分析装置的部分部件的立体图。

图19为本申请实施例提供的样本分析方法的流程图。

图20为本申请实施例提供的样本分析方法的另一流程图。

本发明的实施方式

下面通过具体实施方式结合附图对本发明作进一步详细说明。其中不同实施方式中类似元件采用了相关联的类似的元件标号。在以下的实施方式中，很多细节描述是为了使得本申请能被更好的理解。然而，本领域技术人员可以毫不费力的认识到，其中部分特征在不同情况下是可以省略的，或者可以由其他元件、材料、方法所替代。在某些情况下，本申请相关的一些操作并没有在说明书中显示或者描述，这是为了避免本申请的核心部分被过多的描述所淹没，而对于本领域技术人员而言，详细描述这些相关操作并不是必要的，他们根据说明书中的描述以及本领域的一般技术知识即可完整了解相关操作。

另外，说明书中所描述的特点、操作或者特征可以以任意适当的方式结合形成各种实施方式。同时，方法描述中的各步骤或者动作也可以按照本领域技术人员所能显而易见的方式进行顺序调换或调整。因此，说明书和附图中的各种顺序只是为了清楚描述某一个实施例，并不意味着是必须的顺序，除非另有说明其中某个顺序是必须遵循的。

本文中为部件所编序号本身，例如“第一”、“第二”等，仅用于区分所描述的对象，不具有任何顺序或技术含义。而本申请所说“连接”、“联接”，如无特别说明，均包括直接和间接连接（联接）。

一般针对移液针诸如样本针和试剂针等，会专门设计相应的清洗机构，当移液针完成一次介质的分注后——样本针是对样本完成分注，试剂针是对试剂完成分注，一般都会运动至清洗位进行清洗，清洗完成后，再执行下一次介质的分注。为了尽量避免清洗花费时间太长，对测试速度造成影响，一般这种清洗都无法完全去除污染物，随着仪器长期使用，其表面的微小污染的累积最终可能导致交叉污染超标，或残留的累积会导致部件表面属性发生变化，增加清洗后液体残留，该残留进入反应系统后会导致测试结果异常。

对于这种情况，可以有两种处理方式：

一是进行定期人工维护清理：这种方式可以较好的清理累积残留物质，但需要人工执行，执行时间及频率无法准确控制，操作复杂度较高。且对于精密单元的异常操作或操作不当，可能会造成单元的损坏或失效。

二是增加特殊化学清洗：这种方式是使用一种或多种化学清洗剂，通过定期添加的方式对待清洗对象如移液针进行特殊清洗，一般为自动执行。这种方式只适用于能够与所使用清洗剂产生反应的污染物质，对于复杂的污染物质则还是难以清除，尤其对于清洗剥离力较小的场合。另外，过多的清洗介质的引入，也会增加操作复杂度和对耗材管理的难度。

本申请引入超声波发生器进行清洗，来对待清洗对象例如移液针进行超声波模式清洗，实现强力剥离清洗的效果，可以有效消除累积污染物残留，清洗得比较干净。另外一些方案中，对于有多个不同的待清洗对象，例如样本针和试剂针等，可以使用同样结构的具有超声波发生器的清洗机构，不用专门针对不同的待清洗对象再重新设计不同的清洗机构，下面对本发明进行说明。

请参照图1，一些实施例中公开了一种样本分析装置，其可以包括分注机构2、清洗机构4和液路支持机构，下面具体说明。

分注机构2可以包括移动部件22和设置于移动部件22上的移液针24；移动部件22用于驱动移液针24在不同的操作位之间移动以吸取或排放目标液体。一些实施例中，移液针24的数量可以根据需要设置为一根或多根。一些实施例中，当移液针24为多根时，移动部件22可以驱动这些移液针24各自独立地运动。移动部件22可以是一个二维或三维的驱动机构，这可以根据具体的需求来设计。对于移液针24而言，一套典型的时序动作是这样的：移液针24运动到例如吸液位去吸取目标液体，然后再运动到例如加液位将所吸取的目标液体排放到反应杯，然后移动到预定位置被清洗。当然，一些例子中，在移液针24吸取目标液体后且排放目标液体前，也可以对移液针24进行一次外壁的清洗。一些实施例中，目标液体包括样本或者试剂中的至少一个。一些例子中，移液针24可以在第一时间段吸取和排放样本，还可以在第二时间段吸取和排放试剂。另一些例子中，移液针24仅用于吸取和排放样本，或者仅用于吸取和排放试剂。

请结合图2和图3，清洗机构4可以包括清洗池42和超声波发生器44，清洗池42设置有顶部开口422的清洗室424，清洗室424的开口422位于移液针24的移动轨迹上，移液针24可以经开口422插入清洗室424内。液路支持机构用于向清洗室424提供清洗液。

一些实施例中，超声波发生器44位于清洗池42的底部且位于清洗池42背离清洗室424的一侧，以通过清洗池42向清洗室424内的清洗液传递声场并将声场的能量集中至清洗室424内移液针24所在的位置。

可以理解的是，移液针24所在的位置可以理解为清洗室424内用于容纳移液针24的区域，该区域可以根据需要设置。一些例子中，该区域可以为清洗室424的中间区域，中间区域的截面积占清洗室424的截面积的一半。另一些例子中，该区域可以以清洗室424的轴线为中心，半径为清洗室424的半径的一半的圆柱区域。

本申请引入超声波发生器44，超声波发生器44配合清洗池42对移液针24进行超声波清洗，并且能够将超声波发出的声场的能量向移液针24集中，具有强力剥离清洗的效果，可以有效消除累积污染物残留，清洗得比较干净。超声波可以设置在清洗池42底部且背离移液针24一侧，即超声波发生器44安装在清洗池42外，不需要深入清洗池42的清洗液中，不需要考虑超声波发生器44防水问题，可以简化超声波发生器44的防水要求；清洗池42不需要容纳超声波发生器44，清洗池42的体积可以做的比较小，充分利用清洗池42外的空间以容纳超声波发生器44，提高样本分析装置内的空间利用率。

需要说明的是，样本分析装置中的清洗机构4的体积有限，超声波发生器44设置于清洗池42的底部，超声波发生器44的体积也有限，对应的功率也较小，若没有对声场进行集中，超声波发生器44发生的声场会向各个方向扩散，声场的能量达到移液针24的也有限，无法很好的清洗移液针24的外壁。若选择体积更大功率也更大的超声波发生器44，虽然可以提高清洗效果，但是会增加清洗机构和样本分析装置的体积，同时也会增加清洗机构和样本分析装置的功耗。而样本分析装置中体积有限，无法提供更多的体积。因此，本申请的清洗池42和超声波发生器44配合可以将声场的能量集中至清洗室424内移液针24所在的位置，在实现清洗机构和超声波发生器44小体积的前提下，还可以实现强力剥离清洗的效果，并且超声波发生器的功率也较小，功耗也较低。

利用超声波发生器44对移液针24超声波模式清洗的原理为：利用超声波发生器44发出的超声波在液体中的空化作用、加速度作用和/或直进流作用等对液体和污染物直接、间接的作用，使污染物被分散、乳化、剥离而达到清洗目的。一般地，超声波清洗可以利用超声波产生的强烈空化作用及振动将待清洗对象表面的污垢剥离脱离，同时还可以将油脂性的污物分解和乳化。一些实施例中，本文中的超声波模式清洗所使用的媒介包含化学试剂，例如上文所说的清洗液。

一些实施例中，清洗池42的内壁可以设有反射结构，反射结构可以将超声波发出的声场进行反射，以改变声场的传播方向，即改变声场的能量的传递方向，从而使超声波发出的声场的能量向移液针24所在的位置集中。

一些实施例中，超声波发生器44也可以通过清洗池42向清洗室424内的清洗液传递声场并将声场的能量集中至移液针24。移动部件22可以将移液针24移动到清洗室424内的固定位置。例如，移动部件22可以将移液针24移动到清洗室424的轴线位置。超声波发生器44和清洗池42配合可以将声场能量集中至移液针24，从而可以很好的清洗移液针24外壁。

一些实施例中，清洗室424可以包括能量集中区域424a以及能量传递区域424b，能量传递区域424b包绕能量集中区域424a，即能量传递区域424b位于超声波发生器44和能量集中区域424a之间，超声发生器发出的声场的能量经能量传递区域424b传递后集中至能量集中区域424a，移液针24位于能量集中区域424a中进行清洗。能量集中区域424a单位体积内的声场的能量大于能量传递区域424b单位体积内的声场的能量。示例性地，超声波发生器44发出的声场的能量可以经过能量传递区域424b传递到能量集中区域424a，声场的能量经过能量传递区域424b传递到清洗池42的内壁时，内壁可以将声场的能量反射，并将反射后的声场的能量再经过能量传递区域424b传递到能量集中区域424a，从而将声场的能量向能量集中区域424a集中，使能量集中区域424a中声场的能量大于能量传递区域424b中声场的能量。

可以理解的是，移动部件22将移液针24移动到清洗室424内时，考虑到移动部件22的移动误差，移液针24每次移动到清洗室424内时，无法固定在同一位置，但是会位于一误差范围内。能量集中区域424a可以为该误差范围，能量集中区域424a也可以包含该误差范围。超声波发生器44发出的声场的能量集中至能量集中区域424a，移液针24位于能量集中区域424a内，可以保证每次都将声场的能量集中至移液针24所在的位置。

一些实施例中，为了更好的将超声波发生器44发出的声场的能量集中至移液针24所在的位置，可以设置清洗池42的重心和超声波发生器44的震动中心的连线与移液针24的轴线平行，且连线或者连线的延长线穿过能量集中区域424a，从而可以使超声波发生器44发出的声场的能量朝向能量集中区域424a传递。可以理解的是，移液针可以垂直放置，移液针的轴线平行于垂直线，清洗池42的重心和超声波发生器44的震动中心可以在一条垂直线上，超声波发生器44发出声场的过程中，同时会将震动传递到清洗池42，若清洗池42的重心和超声波发生器44的震动中心不在一条垂直线上，清洗池42在震动过程中会倾斜且倾斜角度可能会不断变化，从而导致声场的传播方向不断改变，声场的能量朝各个方向传递，清洗移液针的声场的能量无法满足清洗要求。本实施例中的清洗池42的重心和超声波发生器44的震动中心在一条垂直线上，清洗池42在震动过程中不会倾斜，从而可以使声场的传播方向不会改变，声场的能量能够朝向移液针24传递。一些实施例中，清洗池42内壁可以设置对应的反射结构，以将声场反射至移液针24，以使声场的能量集中至移液针。具体可参阅上述实施例，在此不再赘述。

一些实施例中，清洗池42的重心和超声波发生器44的震动中心位于移液针24的轴线上，从而可以使超声波发生器44发出的声场的能量朝向移液针24传递，且移液针24的轴线所在位置为能量最集中的位置，移液针24围绕轴线的外壁各个位置的能量接近且都很大，从而能够将移液针24的外壁各个位置都清洗的很干净，不会造成移液针24外壁各个位置的能量差异较大，部分清洗的很干净，部分清洗的不干净。

一些实施例中，清洗池42包括第一底壁421和第一侧壁423，第一侧壁423围绕第一底壁421的周缘设置以围合形成清洗室424。请结合图4，第一底壁421可以包括连接区域4212，移液针24在第一底壁421的正投影位于连接区域4212内，超声波发生器44的输出端抵接连接区域4212，以使超声波发生器44发出的声场主要朝向移液针24传播，从而使声场的能量主要集中在移液针24所在位置。

一些实施例中，第一底壁421包括朝向超声波发生器44的底面4214，底面4214为中心对称结构，如圆形、椭圆形、正多边形或其他中心结构，超声波发生器44的输出端抵接底面4214的中心。需要说明的是，底面4214为中心对称结构，将超声波发生器44的输出端抵接在底面4214的中心，底面4214的中心和超声波的震动中心的连线或者该连线的延长线可以穿过清洗池42的重心，通过底面4214的中心可以方便的在底面4214确定与超声波发生器44的连接点。

一些实施例中，第一底壁421的底面4214也可以为非中心对称结构，底面4214可以包括位于清洗池42的重心和超声波发生器44震动中心的连线或连线的延长线上的连接点，超声波发生器44的输出端抵接底面4214的连接点。

一些实施例中，请结合图5和与图6，清洗池42还包括第二侧壁425和第二底壁427，第二底壁427围绕第一底壁421设置且与第一底壁421的周缘连接，第二侧壁425围绕第二底壁427的外周缘设置以围合形成溢流室426，溢流室426用于承接从清洗室424中溢流出的液体。

清洗池42除了清洗室424外还可以包括溢流室426，溢流室426可以承接从清洗室424中溢流出的液体，不需要严格控制注入清洗液的液量，清洗液注满清洗室424后可以部分溢流至溢流室426中，清洗室424内的清洗液每次都可以保证有足够且同样多的清洗液。第二底壁427和第一底壁421相互连接形成清洗池42的底壁，第二底壁427和第一底壁421可以为两个底壁相互连接，第二底壁427和第一底壁421也可以一体成型。

需要说明的是，请结合图7和图8，具有溢流室426的清洗池42同样能够配合超声波发生器44将声场的能量集中到移液针24，具体可参阅上述实施例，在此不再赘述。

一些实施例中，清洗池42还包括第二侧壁425和第二底壁427，第二底壁427围绕第一侧壁423设置且与第一侧壁423朝向第二底壁427的外表面连接，第二侧壁425围绕第二底壁427的外周缘设置以围合形成溢流室426，溢流室426用于承接从清洗室424中溢流出的液体。

第二底壁427也可以与第一侧壁423连接。例如，第二底壁427与第一侧壁423远离开口422的边缘连接，第二底壁427也可以与第一侧壁423中间连接。

一些实施例中，第二底壁427和第一底壁421可以处于同一平面。

一些实施例中，第二底壁427和第一底壁421可以处于不同平面。例如，第一底壁421连接于第一侧壁423的中间，第二底壁427连接于第一侧壁423远离开口422的端部，即第二底壁427与开口422所在平面的距离大于第一底壁421与开口422所在平面的距离。第一底壁421和第一侧壁423还可以形成与清洗室424相对设置的凹槽，超声波发生器44的输出端可以位于该凹槽内，并与第一底壁421抵接。

需要说明的是，一些实施例中，清洗池42可以仅包括清洗室424，在另一实施例中，清洗池42可以包括清洗室424和溢流室426。

一些实施例中，第一底壁421设有与清洗室424连通的第一废液排出口（图中未示出），第二底壁427设有与溢流室426连通的第二废液排出口4274。设置在第一底壁421的第一废液排出口可以将清洗室424内的液体排出，设置在第二底壁427的第二废液排出口4274可以将溢流室426内的液体排出。需要说明的是，清洗室424内的液体可以从清洗室424的开口422溢流到溢流池中，并带走一些污物，但是有一些污物会残留在清洗室424内的底部不容易从开口422溢流出，第一废液排出口可以将清洗室424内的液体全部排出，并将一些残留的污物一同排出，清除的更加干净。在一些例子中，可以持续在清洗室424内进液，同时打开第一废液排出口，从而将清洗室424清洗的很干净。

第二废液排出口4274可以将溢流室426内的液体排出，从而减小对清洗池42重心的影响。

一些实施例中，请结合图9，第一侧壁423包括第一圆弧段4232，第二侧壁425包括第二圆弧段4252，第一圆弧段4232对应的轴线和第二圆弧段4252对应的轴线重合。从而方便将清洗池42的重心在第一圆弧段4232对应的轴线上，以便声场的能量向移液针集中。

一些实施例中，第一侧壁423包括第一圆弧段4232，第二侧壁425包括第二圆弧段4252，第一圆弧段4232占第一侧壁423的比例不小于80%，例如，第一圆弧段4232占第一侧壁423的比例可以为85%、90%、95%、100%等。第二圆弧段4252占第二侧壁425的比例不小于60%，例如，第二圆弧段4252占第二侧壁425的比例可以为65%、70%、80%、90%、100%等。一些例子中，第一侧壁423整体为圆环状，第二圆弧段占第二侧壁的比例在80%至90%之间。另一些例子中，第一侧壁423整体为圆环状，第二侧壁整体为圆环状。

一些实施例中，请继续参阅图5，第二底壁427包括第一环绕部4277和第一凸出部4278，第一环绕部4277围绕第一底壁421设置，第一凸出部4278位于第一环绕部4277远离第一底壁421一侧，第一凸出部4278设有第二废液排出口4274，以使溢流室426内的清洗液通过第二废液排出口4274排出；第二侧壁425包括与第一环绕部4277连接的第二环绕部4256和与第一凸出部4278连接的第二凸出部4258；第一侧壁423包括与第一凸出部4278和第二凸出部4258相对设置的平衡部4234，以使超声波发生器44的声场的能量集中至清洗室424内移液针24所在的位置。

第一环绕部4277为规则的形状，例如，第一环绕部4277可以为圆环形。第一环绕部4277的重心在第二圆弧段4252的轴线上，不会对清洗池42的重心产生影响，但是第一凸出部4278设置在第一环绕部4277远离第一底壁421一侧，第二侧壁425对应第一凸出部4278具有第二凸出部4258，第一凸出部4278和第二凸出部4258的重心不在第二圆弧段4252的轴线上，因此，在第一侧壁423上设置与一凸出部和第二凸出部4258相对设置平衡部4234，清洗池42一侧设有第一凸出部4278和第二凸出部4258，清洗池42另一侧设置平衡部4234，以使清洗池42的重心位于第二圆弧段4252的轴线上，以及使超声波发生器44的声场的能量集中至清洗室424内移液针24所在的位置。

第一凸出部4278上设置第二废液排出口4274，可以使第一环绕部4277的尺寸较小，减少第二底壁427的整体尺寸，有利于清洗池42和样本分析装置的小型化。

一些实施例中，平衡部4234可以为专门设置用于平衡第一凸出部4278和第二凸出部4258的结构。平衡部4234重量可以与第一凸出部和第二凸边部的重量之和相等或接近，以使清洗池的重心位于移液针或移液针的延长线上。

一些实施例中，平衡部4234还可以实现其他功能。示例性地，平衡部4234可以设有与清洗室连通的进液通道4236。平衡部4234一端与第一侧壁423连接，平衡部4234另一端与第二侧壁425连接，平衡部4234设有贯穿第一侧壁423和第二侧壁425的进液通道4236，以将外部的清洗液注入清洗室。

一些实施例中，第一底壁421设有与清洗室连通的第一废液排出口，清洗池42还包括与第一废液排出口连接的第一排液接头4216、以及与进液通道4236连接的进液接头4238；清洗池42还包括安装于第二废液排出口4274的第二排液接头4276；第一排液接头4216和进液接头4238位于超声波发生器44同一侧，且与第二排液接头4276位于超声波发生器44相对的两侧，以使超声波发生器44的声场的能量集中至清洗室424内移液针24所在的位置。

考虑到第一排液接头4216、第二排液接头4276和进液接头4238的重量较大，会影响清洗池42的重心位置。因此，将第一排液接头4216和进液接头4238位于超声波发生器44同一侧，且与第二排液接头4276位于超声波发生器44相对的两侧，以使清洗池42的重心位于第一侧壁423的第一圆弧段4232对应的轴线上，使超声波发生器44的声场的能量集中至清洗室424内移液针24所在的位置。

一些实施例中，第二废液排出口4274可以通过重力溢流排液，第二废液排出口4274的截面可以为圆形且直径不小于6毫米。例如，第二废液排出口4274的截面的直径可以为6毫米、1/4英寸或7毫米等，以防脏污物质堵塞第二废液排出口4274。

一些实施例中，清洗池42还包括排水泵（图中未示出），排水泵与第二废液排出口4274连通，第二废液排出口4274可以通过排水泵排液，第二废液排出口4274的截面可以为圆形且直径不小于3毫米。例如，第二废液排出口4274的截面的直径可以为3毫米、1/8英寸或4毫米等，以防脏污物质堵塞第二废液排出口4274。

一些实施例中，样本分析装置还包括控制器8，控制器8用于当溢流室426内的液体的液量超过液量阈值时，控制超声波发生器44停止清洗移液针24或超声波发生器44清洗移液针24无效。

示例性地，当清洗室424内的液体溢流至溢流室426后，控制器8可以获取溢流室426内液体的液量。当液量超过液量阈值时，说明溢流室426内的液体过多，会导致超声波发生器44的声场分布改变，导致声场的能量无法向移液针24集中，移液针24的清洗效果可能无法满足要求。此时，控制器8可以控制超声波发生器44停止清洗移液针24，或者控制超声波发生器44清洗移液针24无效。同时还可以发出提示信息，让操作人员及时处理。例如，发出报警声和/或让报警灯闪烁，以使操作人员及时清理第二废液排出口4274，以将溢流室426内的液体排出。

一些实施例中，清洗池42底部可以设置重力传感器或压力传感器，以测试得到清洗池42的重力或压力，并根据该重力或压力计算得到溢流室426内液体的重量，从而判断溢流室426内液体的液量是否超过液量阈值。

一些实施例中，溢流室426内可以设置液面传感器，以测试得到溢流室426内液体的液面高度，并根据该液面高度判断溢流室426内液体的液量是否超过液量阈值。

一些实施例中，第一侧壁423包括第一圆弧段4232，第一圆弧段4232占第一侧壁423的比例不小于80%，考虑到清洗池42的反射和传播衰减，为了使清洗池42配合超声波发生器44对移液针24达到较强的清洗效果，第一圆弧段4232对应的直径可以小于超过超声波发生器44发出的超声波的1/2个波长，以使超声波发生器44发出声场的能量大部分能够集中至清洗室424中的移液针24。

一些实施例中，考虑到超声波发生器44的传播衰减，为了使超声波发生器44对移液针24达到较强的清洗效果，清洗室424内清洗液的液面与第一底壁421的距离小于超声波发生器44发出的超声波的1个波长。一些例子中，清洗室424内清洗液的液面与第一底壁421的距离还可以小于超声波发生器44发出的超声波的1/2个波长。

一些实施例中，为了防止移液针24和清洗池42的第一底壁421碰撞，防止影响清洗池底壁的震动，移液针24和第一底壁421之间需要间隔1毫米至3毫米之间。

超声波发生器44是这样一种器件：超声波发生器44把所接收的工作电转换成高频交流电信号进行驱动，将电功率转换成机械功率即超声波再发出去。一些实施例中，超声波发生器44能够被开启和关闭，当被开启时，超声波发生器44进行工作，当被关闭时，超声波发生器44停止工作。

为了更好的理解清洗池，一些实施例中，请结合图10，清洗池可以包括清洗池壳体420、第一排液接头4216、第二排液接头4276和进液接头4238，具体结构可参阅上述实施例，在此不再赘述。超声波发生器44可以包括下法兰441a、第一硅胶圈442a、前盖板443、第二硅胶圈442b、上法兰441b、第一压电陶瓷444a、第一电极片445a、第二压电陶瓷444b、第二电极片445b、后端盖446、绝缘套管447和内六角螺丝448。第一压电陶瓷444a、第一电极片445a、第二压电陶瓷444b和第二电极片445b配合可以输出声场。下法兰441a、前盖板443、上法兰441b、后端盖446、绝缘套管447和内六角螺丝448配合可以与清洗池壳体420固定连接，第一硅胶圈442a和第二硅胶圈442b可以提高超声波发生器的防水效果。需要说明的是，超声波发生器还可以根据需要采用其他结构，本实施例不对超声波发生器的具体结构进行限定。

一些实施例中，请结合图11，清洗机构4还可以包括用于开启和关闭第一废液排出口4216的第一控制阀11——例如电磁阀；当第一控制阀11被开启时，则废液可以通过第一废液排出口4216排出。

移液针24可以至少部分伸入到清洗室424内，超声波模式清洗所使用的媒介或者说清洗介质通过进液通道4236被输送到清洗室424中，超声波发生器44工作，超声波发生器44产生的振动对清洗室424内的清洗介质产生空化作用，进而对清洗清洗室424内的被清洗对象进行超声波模式清洗；清洗结束后，超声波发生器44则停止工作。在清洗过程中，多余的清洗介质有可能会通过清洗室424的顶部开口溢流到溢流室426中，并进一步通过与溢流室426连通的第二废液排出口4274进行排放。清洗过程中，在第一废液排出口4216没有配置第一控制阀11的例子中，溢流室426中的清洗介质也可以在清洗过程中通过第一废液排出口4216排出，在这样的例子中，清洗介质需要不断从进液通道4236被输送到溢流室426；当然，在第一废液排出口4216配置有第一控制阀11的例子中，清洗过程中，第一控制阀11也可以被控制开启，类似地，清洗过程中，清洗介质需要不断从进液通道4236被输送到溢流室426。在第一废液排出口4216配置有第一控制阀11的例子中，清洗过程中，第一控制阀11也可以被控制关闭，在清洗完成后，第一控制阀11再被控制开启，从而存留于清洗溢流室426中清洗介质通过第一废液排出口4216排出。

在不具有溢流室426的例子中，可以通过控制进入进液通道4236的清洗介质的用量，来使得清洗室424不发生液体的溢流。

介质输送通道62一端与进液通道4236连接，介质输送通道62的另一端可以连接有一条或多条支路，每条支路上都可以设置一个第二控制阀64——例如电磁阀；通过开启和关闭第二控制阀64就可以控制对应支路的导通和截止。当介质输送通道62连接有多条支路时，则每条支路可以连接一不同的清洗介质，这样就可以实现多种不同清洗介质分别对待清洗对象进行清洗，每条支路对应一种清洗介质，当需要使用时，则控制开启对应支路的第二控制阀64，将对应的清洗介质通过介质输送通道62和进液通道4236输送到清洗室424中。超声波模式清洗可以允许一种或多种清洗介质对待清洗对象进行清洗；在清洗时间充足的情况下，在清洗过程中，可以使用不同的清洗介质依次对待清洗对象进行清洗；在清洗时间不充足的情况下，可以使用一种清洗介质例如清洗液对待清洗对象进行清洗。当然，在对待清洗对象进行超声波模式清洗时，可以在某些次的超声波模式清洗中使用一种清洗液，而在另一些超声波模式清洗中使用一种或多种清洗介质，这一种或多种清洗介质至少包含有清洗剂，例如每进行完N次的仅使用清洗液的超声波模式清洗后，就进行一次使用有清洗剂的超声波模式清洗。

由于超声波发生器44能够被开启和关闭，因此本申请考虑也在清洗过程中超声波发生器44关闭，直接使用清洗介质来清洗被清洗对象，这样清洗机构4就可以变为普通清洗机构4，即清洗机构4既可以实现超声波模式的清洗，也可以实现普通模式清洗。因此一些实施例中，考虑将清洗机构4和普通清洗机构4一体设置。当清洗机构4开启超声波发生器44时，其能够进行超声波模式清洗，当关闭超声波发生器44时，其能够进行普通模式清洗。

考虑到待清洗对象可能为多个，例如试剂针有多根，例如样本针有多根，为了使得多个清洗对象可以同时进行清洗，以提升工作效率，可以将多个清洗机构4设计在一起；图12和图13就是这样的例子，可以将两个清洗机构设计在一起，以对样本针的清洗为例，可以同时对两根样本针进行清洗。

在将多个清洗机构设计在一起的实施例中，也可以进一步集成，例如这多个清洗机构的溢流室是共用的，相应地，第二废液排出口也是共用的；图14和图15就是这样的例子，两个清洗机构共同一个溢流室426，这个溢流室426通过一个第二废液排出口4274进行废液的排出。

溢流室426在具体工作过程中，待清洗对象在清洗室中的高度、清洗时长、清洗所使用的清洗介质都可以根据需求来控制和设定。

在达到超声波清洗条件时，清洗机构可以在连续周期工作中对待清洗对象执行超声波模式清洗，也可以在完成本次项目的任务后对待清洗对象执行超声波模式清洗。举个例子，本次批量申请了50个项目测试，在测试过程中，如果达到了超声波清洗条件，那么可以在完成这50个项目测试后再对待清洗对象执行超声波模式清洗，也可以在完成待清洗对象执行完当前项目的任务后就立即对其执行超声波模式清洗。

一些实施例中，请继续参阅图1，样本分析装置还可以包括样本承载机构1、试剂承载机构3、反应机构5、混匀机构7以及测定机构9。

样本承载机构1设置有至少一个样本位，样本位用于放置样本容器，样本容器用于容置样本。一些实施例中，样本承载机构1可以通过样本分配模块（SDM，Sample Delivery Module）及前端轨道来实现放置样本容器。

试剂承载机构3设置有至少一个试剂位，试剂位用于放置试剂容器，试剂容器用于容置试剂。一些实施例中，试剂承载机构3可以呈圆盘状结构设置，试剂承载机构3能够转动并带动其承载的试剂容器转动，用于将试剂容器转动到吸试剂位，以供试剂针244吸取试剂。在一实施例中，试剂承载机构3为一个，其可以分离设置于反应机构5的外面。

反应机构5具有多个用于放置反应杯的放置位，反应机构5用于孵育其放置位上反应杯中的反应液，其中反应液由样本和试剂所制备。一些实施例中，反应机构5可以呈圆盘状结构设置，反应机构5能够转动并带动其放置位中的反应杯转动，用于在反应机构5内调度反应杯以及孵育反应杯中的反应液。本文中所涉及到的加样位、加试剂位、混匀位和测定位等，可以是反应机构5中某些位置的放置位，即加样位、加试剂位、混匀位和测定位等是被设置于反应机构5内。

一些实施例中，反应机构5可以包括可独立转动或一起转动的内圈部和外圈部；内圈部包括一圈或多圈轨道，每圈轨道设置有若干放置位，用于反应杯的孵育和将反应杯在内圈部的各放置位之间的调度；外圈部包括一圈或多圈轨道，每圈轨道设置有若干放置位，用于将反应杯在外圈部的各放置位之间调度。

混匀机构7用于对反应杯中需要混匀的反应液进行混匀。

测定机构9用于对反应液进行测定。一些实施例中，测定机构9用于对反应液进行测定。例如测定机构9用于孵育完成的且位于测定位的反应杯中的反应液进行测定，得到测试结果。一些实施例中，测定机构9可以是光测式的测定单元，其可以对待测的反应液的发光强度或者吸光度进行检测，通过定标曲线，计算样本中待测成分的浓度等。在一些实施例中，测定机构9可以分离设置于反应机构5的外面。

在一些实施例中，请结合图16，移动部件22包括第一移动组件222以及第二移动组件224，移液针24包括样本针242和试剂针244，第一移动组件222与样本针242连接，以在样本位、放置位以及清洗机构4之间移动样本针242，第二移动组件224与试剂针244连接，以在试剂位、放置位以及清洗机构4之间移动试剂针244。

一些实施例中，样本分析装置包括2个清洗机构，一个清洗机构4给样本针242进行清洗，另一个清洗机构4给试剂针244进行清洗。另一些实施例中，清洗机构4可以分时给样本针242和试剂针244进行清洗。清洗机构4设置于样本针242和试剂针244运动轨迹相交处。

一些实施例中，移液针24可以移动到清洗机构4后先进行普通模式清洗，再通过超声波发生器进行超声波模式清洗。

一些实施例中，请参阅图17，样本分析装置还可以包括普通清洗机构10，普通清洗机构10用于对移液针24进行普通模式清洗。例如普通清洗机构10用于通过清洗液和/或清洗剂等对移液针24进行冲洗和/或浸泡等清洗操作。本文中的清洗液指的是诸如生理盐水、蒸馏水或稀释液等液体介质，而清洗剂则是指可以与待清洗对象上面的污染物质进行化学反应的一些介质，例如可以是一些带酸性的液体等。普通清洗机构10可以采用现有或未来出现的一些清洗机构来实现对移液针24的清洗。

普通清洗机构10设置于移液针24的运动轨迹上，这样移液针24可以移动到普通清洗机构10来进行清洗。一些实施例中，移液针24可以先移到普通清洗机构10进行普通模式清洗，然后再移动到清洗机构4进行超声波模式清洗。

除了移液针诸如样本针和试剂针等探针需要清洗，样本分析装置中还有其他一些部分也需要清洗，例如混匀机构，尤其是通过搅拌杆进行搅拌来混匀的混匀机构——一般地，使用移液针进行完样本和试剂的分注后，需要进一步对样本和试剂混合在一起的反应液进行搅拌混匀，以保证充分反应；这过程中，搅拌杆也会接触到不同的液体介质，为了消除不同介质之间的携带污染，也需要在搅拌植每搅拌完一次后进行清洗，以清除搅拌杆表面残留的物质，避免其被带入下一个反应中，造成交叉污染，影响测试结果的准确性。

不仅移液针会专门设计有相应的清洗机构，同样地，混匀机构也会设计有相应的清洗机构——一般地，会对不同的待清洗对象设计专门的清洗方案和清洗机构，这是因为各待清洗对象所接触的液体介质不同，因此若需要达到较好的清洗效果，各待清洗对象都需要有专门的清洗方案和清洁机构。另外，可以理解地，除移液针外，其他待清洗对象例如混匀机构，也存在移液针类似的残留累积的问题。

一些实施例中，请结合图18，混匀机构7包括搅拌杆驱动机构72和搅拌杆74，搅拌杆驱动机构72驱动搅拌杆74移动，以对反应杯中需要混匀的反应液进行混匀；搅拌杆74的数量可以为一根或多根，当搅拌杆的数量为多根时，在其中一根搅拌杆74执行搅拌动作时，其他搅拌杆74可以利用这个时间来被清洗。清洗机构4设置于搅拌杆74的移动轨迹上，以对搅拌完后的搅拌杆74进行超声波清洗。清洗机构4的结构可以参阅上述实施例中清洗机构4的结构，在此不再赘述。

需要说明的是，一些例子中，清洗机构的数量可以为1个，一个清洗机构分时对样本针、试剂针和搅拌杆进行超声波模式清洗。另一些例子中，清洗机构的数量可以为3个，其中，一个清洗机构对样本针进行超声波模式清洗，另一个清洗机构对试剂针进行超声波模式清洗，剩下的一个清洗机构对搅拌杆进行超声波模式清洗。又一些例子中，清洗机构的数量可以为2个，其中，一个清洗机构对样本针、试剂针和搅拌杆中的2个进行超声波模式清洗，另一个清洗机构对样本针、试剂针和搅拌杆中剩下的1个进行超声波模式清洗。当然，还可以2个清洗机构根据需要同时为样本针、试剂针和搅拌杆中的1个或2个进行超声波清洗。

下面对样本分析装置的工作过程进行一个说明。

一般地，一个项目测试需要经过这样的流程：加样和加试剂，对样本和试剂形成的反应液进行混匀和孵育，对孵育完成的反应液进行测定；而在这个过程中，样本针242在排放完一次样本后且吸取下一次样本前，一般需要进行清洗，以防止交叉污染；类似地，试剂针244在排放完一次试剂后且吸取下一次试剂前，一般也需要进行清洗，以防止交叉污染；类似地，混匀机构7在使用搅拌杆74搅拌完一个反应杯中的反应液后且对下一个反应杯中反应液进行搅拌前，一般也需要进行清洗，以防止交叉污染。

因此，一个具体的测试流程中，控制器8控制第一移动组件222驱动样本针242移动到样本承载机构1以吸取待进样的样本，并排放到位于加样位的反应杯；控制器8控制第二移动组件224驱动试剂针224移动到试剂承载机构3以吸取试剂，并排放到位于加试剂位的反应杯；可以理解地，加样本和加试剂的过程，可以是同时进行，也可以是先后进行，并且可以是先加样再加试剂，也可以是先加试剂再加样。接着，控制器8控制混匀机构7对反应液进行混匀，控制器8控制反应机构5对反应液进行孵育。当孵育完成后，控制器8控制测定机构9对孵育完成的反应液进行测定。

为了防止交叉污染，在测试流程中可以对样本针242、试剂针244和搅拌杆74等进行清洗。

例如，在上述的测试流程中，控制器8还控制普通清洗机构对排放完样本后的样本针进行普通模式清洗，控制清洗机构在满足超声波清洗条件时对样本针进行超声波模式清洗。

例如，在上述的测试流程中，控制器8还控制普通清洗机构对排放完试剂后的试剂针进行普通模式清洗，控制清洗机构在满足超声波清洗条件时对试剂针进行超声波模式清洗。

例如，在上述的测试流程中，控制器8还控制普通清洗机构对搅拌完成后的混匀机构进行普通模式清洗，控制清洗机构在满足超声波清洗条件时对混匀机构进行超声波模式清洗。可以理解地，这里说的“搅拌完成”，指的是对一个反应杯中的反应液完成搅拌。

上面涉及到超声波清洗条件，不论是对应样本针的清洗机构，对应试剂针的清洗机构还是对应混匀机构的清洗机构，它们的超声波清洗条件可以相同也可以不同，它们的超声波清洗条件具体可以是下面的一种或多种：

样本分析装置开机时——这是指样本分析装置开机时就启动超声波模式清洗，以为接下来的测试做好准备；

样本分析装置关机时——这是指样本分析装置接收到关机指令时，先进行超声波模式清洗，然后再执行关机指令以进行关机；

样本分析装置进入休眠时——这是指样本分析装置进入休眠前，先进行超声波模式清洗，然后再进入休眠；

样本分析装置退出休眠时——这是指样本分析装置退出休眠时，接着就进行超声波模式清洗，以为接下来的测试做好准备；

预设的定期清洗时间点——例如设置每天早上8点，12点，下午4点等为定期清洗时间，到达定期清洗时间点时，就会启动超声波模式清洗；

距离上一次超声波模式清洗，样本分析装置已工作第一时间——例如将第一时间设置为4个小时，当距离上一次超声波模式清洗为4小时后，样本分析装置又会自动启动一次超声波模式清洗；

距离上一次超声波模式清洗，样本分析装置累计测试的样本数量或项目数量已达第一数量——例如将第一数量设置为100个，则当距离上一次超声波模式清洗后，样本分析装置又累计测试了100个样本数量或项目数量，样本分析装置又会自动启动一次超声波模式清洗；

接收到超声波清洗启动命令——例如用户手动下达超声波清洗启动命令。

为了方便用户下达超声波清洗启动命令，一些实施例中，可以在样本分析装置中引入一硬件结构，当该硬件结构被触发时，则会发出超声波清洗启动命令。例如样本分析装置可以包括一按键，当该按键被按下时，则会发出超声波清洗启动命令；因此用户可以手动来按动该按键，从而向样本分析装置发出超声波清洗启动命令。

如何实现超声波模式清洗的结构可以参阅上述实施例中清洗机构的结构，在此不再赘述。

以上是样本分析装置的一些说明。请参照图19和图20，本申请一些实施例中还公开一种样本分析方法，其包括以下步骤：

步骤1000：控制移液针从吸样位吸取样本，并排放到位于加样位的反应杯中。

步骤1100：控制移液针从吸试剂位吸取试剂，并排放到位于加试剂位的反应杯中。移液针可以包括样本针和试剂针，或者，移液针包括样本试剂针，样本试剂针是这样的一种探针，其可以被用于吸取和排放样本，也可以被用于吸取和排放试剂。

步骤1200：控制对反应杯中由样本和试剂形成的反应液进行混匀。例如控制一搅拌杆对反应杯中反应液进行搅拌。

步骤1300：控制对反应杯中的反应液进行孵育。

步骤1400：控制对孵育完成的反应液进行测定。

其中在上述的测试过程中：

步骤2000：控制对排样完成后的移液针进行普通模式清洗；

步骤2100：在满足超声波清洗条件时，还控制对移液针进行超声波模式清洗。

步骤3000：控制对搅拌杆进行普通模式清洗；

步骤3100：在满足超声波清洗条件时，还控制对搅拌杆进行超声波模式清洗。

上述方法步骤中所涉及到的普通模式清洗和超声波模式清洗，可以参见上文对样本分析装置中的描述，例如普通模式清洗是指通过清洗液和/或清洗剂等对样本针进行冲洗和/或浸泡等清洗操作；超声波模式清洗或者说超声波清洗（ultrasonic cleaning），是利用超声波在液体中的空化作用、加速度作用和/或直进流作用等对液体和污染物直接、间接的作用，使污染物被分散、乳化、剥离而达到清洗目的。一般地，超声波清洗可以利用超声波产生的强烈空化作用及振动将待清洗对象表面的污垢剥离脱离，同时还可以将油脂性的污物分解和乳化。一些实施例中，本文中的超声波模式清洗所使用的媒介包含化学试剂，例如上文所说的清洗剂。

步骤2100和步骤3100中所涉及到的超声波清洗条件可以是相同的，也可以不同的，步骤2100和步骤3100中的超声波清洗条件可以是下面的一种或多种：

样本分析装置开机时——这是指样本分析装置开机时就启动超声波模式清洗，以为接下来的测试做好准备；

样本分析装置关机时——这是指样本分析装置接收到关机指令时，先进行超声波模式清洗，然后再执行关机指令以进行关机；

样本分析装置进入休眠时——这是指样本分析装置进入休眠前，先进行超声波模式清洗，然后再进入休眠；

样本分析装置退出休眠时——这是指样本分析装置退出休眠时，接着就进行超声波模式清洗，以为接下来的测试做好准备；

预设的定期清洗时间点——例如设置每天早上8点，12点，下午4点等为定期清洗时间，到达定期清洗时间点时，就会启动超声波模式清洗；

距离上一次超声波模式清洗，样本分析装置已工作第一时间——例如将第一时间设置为4个小时，当距离上一次超声波模式清洗为4小时后，样本分析装置又会自动启动一次超声波模式清洗；

距离上一次超声波模式清洗，样本分析装置累计测试的样本数量或项目数量已达第一数量——例如将第一数量设置为100个，则当距离上一次超声波模式清洗后，样本分析装置又累计测试了100个样本数量或项目数量，样本分析装置又会自动启动一次超声波模式清洗；

接收到超声波清洗启动命令——例如用户手动下达超声波清洗启动命令。

本文参照了各种示范实施例进行说明。然而，本领域的技术人员将认识到，在不脱离本文范围的情况下，可以对示范性实施例做出改变和修正。例如，各种操作步骤以及用于执行操作步骤的组件，可以根据特定的应用或考虑与系统的操作相关联的任何数量的成本函数以不同的方式实现（例如一个或多个步骤可以被删除、修改或结合到其他步骤中）。

在上述实施例中，可以全部或部分地通过软件、硬件、固件或者其任意组合来实现。另外，如本领域技术人员所理解的，本文的原理可以反映在计算机可读存储介质上的计算机程序产品中，该可读存储介质预装有计算机可读程序代码。任何有形的、非暂时性的计算机可读存储介质皆可被使用，包括磁存储设备（硬盘、软盘等）、光学存储设备（CD至ROM、DVD、Blu Ray盘等）、闪存和/或诸如此类。这些计算机程序指令可被加载到通用计算机、专用计算机或其他可编程数据处理设备上以形成机器，使得这些在计算机上或其他可编程数据处理装置上执行的指令可以生成实现指定的功能的装置。这些计算机程序指令也可以存储在计算机可读存储器中，该计算机可读存储器可以指示计算机或其他可编程数据处理设备以特定的方式运行，这样存储在计算机可读存储器中的指令就可以形成一件制造品，包括实现指定功能的实现装置。计算机程序指令也可以加载到计算机或其他可编程数据处理设备上，从而在计算机或其他可编程设备上执行一系列操作步骤以产生一个计算机实现的进程，使得在计算机或其他可编程设备上执行的指令可以提供用于实现指定功能的步骤。

虽然在各种实施例中已经示出了本文的原理，但是许多特别适用于特定环境和操作要求的结构、布置、比例、元件、材料和部件的修改可以在不脱离本披露的原则和范围内使用。以上修改和其他改变或修正将被包含在本文的范围之内。

前述具体说明已参照各种实施例进行了描述。然而，本领域技术人员将认识到，可以在不脱离本披露的范围的情况下进行各种修正和改变。因此，对于本披露的考虑将是说明性的而非限制性的意义上的，并且所有这些修改都将被包含在其范围内。同样，有关于各种实施例的优点、其他优点和问题的解决方案已如上所述。然而，益处、优点、问题的解决方案以及任何能产生这些的要素，或使其变得更明确的解决方案都不应被解释为关键的、必需的或必要的。本文中所用的术语“包括”和其任何其他变体，皆属于非排他性包含，这样包括要素列表的过程、方法、文章或设备不仅包括这些要素，还包括未明确列出的或不属于该过程、方法、系统、文章或设备的其他要素。此外，本文中所使用的术语“耦合”和其任何其他变体都是指物理连接、电连接、磁连接、光连接、通信连接、功能连接和/或任何其他连接。

具有本领域技术的人将认识到，在不脱离本发明的基本原理的情况下，可以对上述实施例的细节进行许多改变。因此，本发明的范围应仅由权利要求确定。

Claims (21)

1. 一种样本分析装置，其中，包括：

   分注机构，包括移动部件和设置于所述移动部件上的移液针；所述移动部件用于驱动所述移液针在不同的操作位之间移动以吸取或排放目标液体，所述目标液体包括样本或者试剂中的至少一个；

   清洗机构，包括清洗池和超声波发生器，所述清洗池设置有顶部开口的清洗室，所述清洗室的开口位于所述移液针的移动轨迹上，所述移液针经所述开口插入所述清洗室内，所述超声波发生器位于所述清洗池的底部且位于所述清洗池背离清洗室的一侧，以通过所述清洗池向所述清洗室内的清洗液传递声场并将所述声场的能量集中至清洗室内所述移液针所在的位置；以及

   液路支持机构，用于向所述清洗室提供清洗液。
2. 如权利要求1所述的样本分析装置，其中，所述清洗室包括能量集中区域以及能量传递区域，所述能量传递区域包绕所述能量集中区域，所述超声发生器发出的声场的能量经所述能量传递区域传递后集中至所述能量集中区域，所述移液针位于所述能量集中区域中进行清洗。
3. 如权利要求2所述的样本分析装置，其中，所述清洗池的重心和所述超声波发生器的震动中心的连线与所述移液针的轴线平行，且所述连线或者所述连线的延长线穿过所述能量集中区域。
4. 如权利要求1所述的样本分析装置，其中，所述清洗池的重心和所述超声波发生器的震动中心位于所述移液针的轴线上。
5. 如权利要求1所述的样本分析装置，其中，所述超声波发生器通过所述清洗池向所述清洗室内的清洗液传递声场并将所述声场的能量集中至所述移液针。
6. 如权利要求2-5中任一项所述的样本分析装置，其中，所述清洗池包括第一底壁和第一侧壁，所述第一侧壁围绕所述第一底壁的周缘设置以围合形成所述清洗室，所述第一底壁包括连接区域，所述移液针在所述第一底壁的正投影位于所述连接区域内，所述超声波发生器的输出端抵接所述连接区域。
7. 如权利要求6所述的样本分析装置，其中，所述第一底壁包括朝向所述超声波发生器的底面，所述底面为中心对称结构，所述超声波发生器的输出端抵接所述底面的中心。
8. 如权利要求6所述的样本分析装置，其中，所述清洗池还包括第二侧壁和第二底壁，所述第二底壁围绕所述第一底壁设置且与所述第一底壁的周缘连接，或者，所述第二底壁围绕所述第一侧壁设置且与所述第一侧壁朝向所第二底壁的外表面连接，所述第二侧壁围绕所述第二底壁的外周缘设置以围合形成溢流室，所述溢流室用于承接从所述清洗室中溢流出的液体。
9. 如权利要求8所述的样本分析装置，其中，所述第一底壁设有与所述清洗室连通的第一废液排出口，所述第二底壁设有与所述溢流室连通的第二废液排出口。
10. 如权利要求8所述的样本分析装置，其中，所述第一侧壁包括第一圆弧段，所述第二侧壁包括第二圆弧段，所述第一圆弧段对应的轴线和所述第二圆弧段对应的轴线重合。
11. 如权利要求10所述的样本分析装置，其中，所述第一侧壁包括第一圆弧段，所述第二侧壁包括第二圆弧段，所述第一圆弧段占所述第一侧壁的比例不小于80%，所述第二圆弧段占所述第二侧壁的比例不小于60%。
12. 如权利要求8所述的样本分析装置，其中，所述第二底壁包括第一环绕部和第一凸出部，所述第一环绕部围绕所述第一底壁设置，所述第一凸出部位于所述第一环绕部远离所述第一底壁一侧，所述第一凸出部设有第二废液排出口，以使所述溢流室内的清洗液通过所述第二废液排出口排出；

    所述第二侧壁包括与所述第一环绕部连接的第二环绕部和与所述第一凸出部连接的第二凸出部；

    所述第一侧壁包括与所述一凸出部和所述第二凸出部相对设置的平衡部，以使所述超声波发生器的声场的能量集中至所述清洗室内所述移液针所在的位置。
13. 如权利要求12所述的样本分析装置，其中，所述平衡部设有与所述清洗室连通的进液通道。
14. 如权利要求13所述的样本分析装置，其中，所述第一底壁设有与所述清洗室连通的第一废液排出口，所述清洗池还包括与所述第一废液排出口连接的第一排液接头、以及与所述进液通道连接的进液接头；所述清洗池还包括安装于所述第二废液排出口的第二排液接头；

    所述第一排液接头和所述进液接头位于所述超声波发生器同一侧，且与所述第二排液接头位于所述超声波发生器相对的两侧，以使所述超声波发生器的声场的能量集中至所述清洗室内所述移液针所在的位置。
15. 如权利要求14所述的样本分析装置，其中，所述第二废液排出口的截面为圆形且直径大于6毫米。
16. 如权利要求14所述的样本分析装置，其中，所述清洗池还包括排水泵，所述排水泵与所述第二废液排出口连通，所述第二废液排出口的截面为圆形且直径大于3毫米。
17. 如权利要求12所述的样本分析装置，其中，所述样本分析装置还包括控制器，所述控制器用于当所述溢流室内的液体的液量超过液量阈值时，控制所述超声波发生器停止清洗所述移液针或所述超声波发生器清洗所述移液针无效。
18. 如权利要求6所述的样本分析装置，其中，所述第一侧壁包括第一圆弧段，所述第一圆弧段占所述第一侧壁的比例不小于80%，所述第一圆弧段对应的直径小于所述超声波发生器发出的超声波的1/2个波长。
19. 如权利要求6所述的样本分析装置，其中，所述清洗室内所述清洗液的液面与所述第一底壁的距离小于所述超声波发生器发出的超声波的1个波长。
20. 如权利要求1所述的样本分析装置，其中，所述样本分析装置还包括：

    样本承载机构，设置有至少一个样本位，所述样本位用于放置样本容器，所述样本容器用于容置样本；

    试剂承载机构，设置有至少一个试剂位，所述试剂位用于放置试剂容器，所述试剂容器用于容置试剂；

    反应机构，具有多个用于放置反应杯的放置位，所述反应机构用于孵育其放置位上反应杯中的反应液，其中反应液由样本和试剂所制备；

    混匀机构，用于对反应杯中需要混匀的反应液进行混匀；以及

    测定机构，用于对反应液进行测定；

    其中，所述移动部件包括第一移动组件以及第二移动组件，所述移液针包括样本针和试剂针，所述第一移动组件与所述样本针连接，以在样本位、放置位以及清洗机构之间移动样本针，所述第二移动组件与所述试剂针连接，以在试剂位、放置位以及清洗机构之间移动试剂针。
21. 如权利要求20所述的样本分析装置，其中，所述混匀机构包括搅拌杆驱动机构和搅拌杆，所述搅拌杆驱动机构驱动搅拌杆移动，以对反应杯中需要混匀的反应液进行混匀；所述清洗机构设置于所述搅拌杆的移动轨迹上，以对搅拌完后的所述搅拌杆进行超声波清洗。