CN115025945A - 供液装置、涂布装置、老化装置及供液方法 - Google Patents

供液装置、涂布装置、老化装置及供液方法 Download PDF

Info

Publication number
CN115025945A
CN115025945A CN202111579161.7A CN202111579161A CN115025945A CN 115025945 A CN115025945 A CN 115025945A CN 202111579161 A CN202111579161 A CN 202111579161A CN 115025945 A CN115025945 A CN 115025945A
Authority
CN
China
Prior art keywords
liquid
pipe
filter
liquid supply
tank
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202111579161.7A
Other languages
English (en)
Inventor
芳川典生
伊藤隆介
前向正刚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Screen Holdings Co Ltd
Original Assignee
Screen Holdings Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Screen Holdings Co Ltd filed Critical Screen Holdings Co Ltd
Publication of CN115025945A publication Critical patent/CN115025945A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D35/00—Filtering devices having features not specifically covered by groups B01D24/00 - B01D33/00, or for applications not specifically covered by groups B01D24/00 - B01D33/00; Auxiliary devices for filtration; Filter housing constructions
    • B01D35/14—Safety devices specially adapted for filtration; Devices for indicating clogging
    • B01D35/143—Filter condition indicators
    • B01D35/1435—Filter condition indicators with alarm means
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/10—Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D19/00—Degasification of liquids
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D29/00—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor
    • B01D29/11—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor with bag, cage, hose, tube, sleeve or like filtering elements
    • B01D29/114—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor with bag, cage, hose, tube, sleeve or like filtering elements arranged for inward flow filtration
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D29/00—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor
    • B01D29/60—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor integrally combined with devices for controlling the filtration
    • B01D29/601—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor integrally combined with devices for controlling the filtration by clearness or turbidity measuring
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D29/00—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor
    • B01D29/62—Regenerating the filter material in the filter
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D35/00—Filtering devices having features not specifically covered by groups B01D24/00 - B01D33/00, or for applications not specifically covered by groups B01D24/00 - B01D33/00; Auxiliary devices for filtration; Filter housing constructions
    • B01D35/16—Cleaning-out devices, e.g. for removing the cake from the filter casing or for evacuating the last remnants of liquid
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D36/00—Filter circuits or combinations of filters with other separating devices
    • B01D36/001—Filters in combination with devices for the removal of gas, air purge systems
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D37/00—Processes of filtration
    • B01D37/04—Controlling the filtration
    • B01D37/041—Controlling the filtration by clearness or turbidity measuring
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/10—Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
    • B05C11/1002—Means for controlling supply, i.e. flow or pressure, of liquid or other fluent material to the applying apparatus, e.g. valves
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/10—Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
    • B05C11/1002—Means for controlling supply, i.e. flow or pressure, of liquid or other fluent material to the applying apparatus, e.g. valves
    • B05C11/1007—Means for controlling supply, i.e. flow or pressure, of liquid or other fluent material to the applying apparatus, e.g. valves responsive to condition of liquid or other fluent material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/11—Vats or other containers for liquids or other fluent materials
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/549—Organic PV cells

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
  • Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
  • Filtration Of Liquid (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)

Abstract

本发明提供一种能够恰当地把握适用于高粘度处理液的过滤的过滤器的寿命或老化程度的技术。供液单元(10)是一种供给高粘度的处理液的装置。供液单元(10)具有：供给罐(11)、供液口(19)、第一供液配管(12)和第二供液配管(14)、加压机构(15)、第二过滤器(F2)、测量模块(174)。供液单元能够贮存高粘度的处理液。供液口向供给对象供给处理液。第一供液配管和第二供液配管连接供给罐和供液口。加压机构用于从供给罐向供液口输送处理液。第二过滤器配置在第二供液配管，并过滤处理液。测量模块在第二过滤器的下游侧的位置对通过了第二过滤器的处理液中的颗粒量进行测量。

Description

供液装置、涂布装置、老化装置及供液方法
技术领域
本发明涉及一种供液装置、涂布装置、老化装置及供液方法。
背景技术
以往，在液晶显示装置用玻璃基板、半导体基板、PDP(等离子显示屏)用玻璃基板、光掩模用玻璃基板、滤光片用基板、记录盘用基板、太阳能电池用基板、电子纸用基板等精密电子装置用基板、矩形玻璃基板、薄膜液晶用挠性基板、有机EL(电致发光)用基板(以下，仅称作“基板”)的制造工艺中，使用涂布装置对基板的表面涂布光刻胶等液体。以往的涂布装置例如记载于专利文献1中，专利文献1的涂布装置从具有狭缝状喷出口的狭缝模具向能够沿水平方向自由移动的载物台所吸附保持的基板喷出涂布液。
专利文献1：日本特开2017-23990号公报
在这种涂布装置中，在喷出和涂布处理液之前，会使用过滤器用以去除涂布液中含有的异物。因为对于过滤高粘度的处理液的过滤器难以确定恰当的交换时间，所以，例如在使用时间或总流量达到一定值时交换过滤器。因此，如果过滤器的使用时间比本来的寿命短，则过滤器的成本相对变高。另外，如果过滤器的使用时间比本来的寿命长，则不能充分净化处理液，从而可能产生不良涂布。因此，需要一种能够易于把握过滤器的寿命的技术。
另外，新的过滤器一般会预先用清洗液进行清洗。但是，如果向清洗完毕的过滤器通入比清洗液粘度高的处理液，则会有粉尘(颗粒)从过滤器脱离。因此，有时会向过滤器通入高粘度的处理液，进行所谓的老化处理。然而，因为不易把握过滤器是否已形成适于过滤高粘度的处理液的状态，所以，在进行了一定时间的老化处理后的阶段结束老化处理。因此，如果老化处理的时间不充分，则可能因过滤器应用于涂布装置而使得从过滤器脱离的粉尘混入处理液，引发不良涂布。因此，需要一种能够易于把握过滤器的老化程度的技术。
发明内容
本发明的目的在于，提供一种能够恰当地把握适用于高粘度处理液的过滤的过滤器的寿命或老化程度的技术。
为了解决上述课题，第一技术方案是一种供给处理液的供液装置，具备：罐，能够贮存高粘度的处理液；供液口，供给所述处理液；输液配管，连接所述罐和所述供液口；输液部，用于从所述罐经由所述输液配管向所述供液口输送所述处理液；过滤器，配置于所述输液配管，过滤所述处理液；测量部，在比所述过滤器更靠下游侧的位置测量通过了所述过滤器的处理液中的颗粒量。
第二技术方案是根据第一技术方案所述的供液装置，其中，还具备：测量配管，在所述输液配管中的比所述过滤器更靠下游侧的位置与所述输液配管相连接，所述测量部测量所述测量配管内的所述处理液中的颗粒量。
第三技术方案是根据第二技术方案所述的供液装置，其中，还具备：还具备：开关阀，对所述处理液从所述输液配管向所述测量配管的流动进行开闭。
第四技术方案是根据第二或第三技术方案所述的供液装置，其中，所述测量配管的内侧面积小于所述输液配管的内侧面积。
第五技术方案是根据第二至第四技术方案中任一个所述的供液装置，其中，其中，还具备：输液泵，配置于所述输液配管并用于压送处理液。
第六技术方案是根据第五技术方案所述的供液装置，其中，所述测量配管在所述输液配管中的比所述输液泵更靠下游侧的位置与所述输液配管相连接。
第七技术方案是根据第五技术方案所述的供液装置，其中，所述测量配管在所述输液配管中的比所述输液泵更靠上游侧的位置与所述输液配管相连接。
第八技术方案是根据第二至第七技术方案中任一个所述的供液装置，其中，还具备：脱气模块，配置在比所述测量部更靠上游侧的位置，并对所述处理液进行脱气。
第九技术方案是根据第八技术方案的供液装置，其中，所述脱气模块配置在所述测量配管上。
第十技术方案是第一至第九技术方案中任一个所述的供液装置，其中，还具备：判断部，根据所述测量部测出的颗粒量，判断所述过滤器的状态；输出部，将所述判断部输出的判断结果向外部输出。
第十一技术方案是一种涂布装置，用于向对象涂布处理液，所述涂布装置具备：，具备：第一至第十技术方案中任一项所述的供给装置；喷嘴，将从所述供给装置的所述供液口供给的所述处理液喷出。
第十二技术方案是一种老化装置，用高粘度的处理液对过滤器进行处理，所述老化装置具备：第一罐，能够贮存处理液；第二罐，能够贮存处理液；第一输液配管和第二输液配管，并列连接所述第一罐和所述第二罐；第一输液部，用于从所述第一罐经由所述第一输液配管向所述第二罐输送液体；第二输液部，用于从所述第二罐经由所述第二输液配管向所述第一罐输送液体；控制部，使所述第一输液部和所述第二输液部交替地工作；过滤器安装部，安装有过滤器以对流过所述第一输液配管的处理液进行过滤；测量部，测量通过了所述过滤器的所述处理液中的颗粒量。
第十三技术方案是一种供液方法，用于向供给对象供给高粘度的处理液，所述供液方法包括：工序a)，将罐的处理液输送至供给对象；工序b)，用过滤器对通过所述工序a)从所述罐输送至供给对象的所述处理液进行过滤；工序c)，对在所述工序b)中通过了所述过滤器的所述处理液中的颗粒量进行测量。
根据第一技术方案的供液装置，能够根据通过了过滤器的处理液所含有的颗粒量，容易地把握过滤器的寿命或过滤器的老化程度。
根据第二技术方案的供液装置，因为设置在支管上，所以能够抑制对供给配管的影响。
根据第三技术方案的供液装置，能够对从输液配管向测量配管的输液进行开闭。
根据第四技术方案的供液装置，能够以少量处理液测量颗粒量。
根据第五技术方案的供液装置，能够用输液泵将处理液输送至供液口。
根据第六技术方案的供液装置，能够通过输液泵向测量配管供给处理液。
根据第七技术方案的供液装置，能够将向供给对象输送的处理液也输送至测量配管。
根据第八技术方案的供液装置，能够抑制气泡对颗粒量测量的影响。
根据第九技术方案的供液装置，借由比输液配管更靠近测量部的测量配管进行脱气。因此，能够以相比用输液配管进行脱气的情况气泡更少的状态测量颗粒量。
根据第十技术方案的供液装置，将基于处理液中的颗粒量的过滤器状态判断结果向外部输出。因此，操作者能够容易地把握过滤器的状态。
根据第十一技术方案的涂布装置，能够向对象物涂布经供液装置的过滤器过滤后的高粘度的处理液。
根据第十二技术方案的老化装置，基于颗粒量的测量结果，能够容易地判断过滤器的老化。
根据第十三技术方案的供液方法，基于通过了过滤器的处理液所含有的颗粒量，能够容易地把握过滤器的寿命或过滤器的老化程度。
附图说明
图1是表示第一实施方式的涂布装置的构成的图。
图2是表示图1所示脱气模块的结构的剖视图。
图3是图1所示涂布单元的立体图。
图4是表示第一控制部与涂布装置内的各部分之间的连接的框图。
图5是表示第二实施方式的涂布装置的构成的图。
图6是表示第三实施方式的老化装置的构成的图。
图7是图6所示的第一安装部和安装于第一安装部的第一过滤器的剖视图。
附图标记的说明：
1、1A 涂布装置
10 供液单元
11 供给罐
12 第一供液配管
13 脱气罐
14 第二供液配管
15 加压机构
17 测量机构
171 测量配管
172 开关阀
173 脱气模块
174 测量模块
19 供液口
2 老化装置
20 涂布单元
22 狭缝喷嘴
223 喷出口
30 第一控制部
311 显示器
51 第一罐
52 第二罐
54 清漆供给源
61 第一主配管
62 第二主配管
63 第一支管
65 第一安装部
70 加压机构
F1 第一过滤器
F2 第二过滤器
P1 辅助泵
具体实施方式
以下，参考附图说明本发明的实施方式。此外，该实施方式所记载的构成要素完全是举例说明，本发明的范围并不仅限于此。在附图中，为了便于理解，会根据需要夸大或简化各部分的尺寸或数量来进行图示。
＜1.第一实施方式＞
图1是表示第一实施方式的涂布装置1的构成的图。涂布装置1例如应用于成为柔性显示器的基材的聚酰亚胺薄膜的制造工序。在聚酰亚胺薄膜的制造工序中，在涂布装置1中，在玻璃制的载体基板C的上表面上涂布含有聚酰亚胺前驱物(聚酰胺酸)的高粘度的处理液即清漆。然后，在其他装置中，对清漆进行加热、减压、烧结等处理。
如图1所示，本实施方式的涂布装置1具有供液单元10(供液装置)、涂布单元20、第一控制部30。以下，对涂布装置1的各个构成部分进行说明。
供液单元10是一种向供给对象即涂布单元20供给高粘度的处理液的装置。供液单元10具有供给罐11、第一供液配管12、脱气罐13、第二供液配管14、加压机构15、减压机构16和测量机构17。
供给罐11是贮存供给前的清漆的容器。贮存于供给罐11的清漆可以是未使用的清漆，也可以是使用后再生处理过的清漆。如上所述，清漆是高粘度的处理液。清漆的粘度例如是1000～10000cP(1～10Pa·s)左右。在下述说明中，所谓“高粘度”表示大于或等于1000cP(1Pa·s)的粘度。此外，供液单元10供给的高粘度的处理液并不限于包含聚酰亚胺前驱物的清漆，可以是清漆之外的高粘度的处理液。在下述说明中，将靠近供给罐11侧称作上游侧，将供给罐11的相反侧称作下游侧。
供液单元10具有一个供给罐11，但也可以具有多个供给罐11。在该情况下，多个供给罐11可以与第一供液配管12可切换地相连接。
第一供液配管12是连接供给罐11和脱气罐13的配管。第一供液配管12的上游侧的端部与供给罐11相连接。第一供液配管12的下游侧的端部与脱气罐13相连接。另外，在第一供液配管12的路径上设置有第一供液阀V11和第一过滤器F1。若打开第一供液阀V11和后述第一加压阀V21，则供给罐11内的清漆借助从加压机构15供给的气体压力，通过第一供液配管12向脱气罐13输送。此时，清漆被第一过滤器F1过滤。由此，清漆含有的细微的粉尘被第一过滤器F1捕集并去除。
此外，在图1的例子中，供液单元10具有一个第一过滤器F1。但是，供液单元10可以具有多个第一过滤器F1。该情况下，只要在第一供液配管12的路径上并列连接有多个第一过滤器F1即可。
脱气罐13是用于降低清漆中的气体的溶解量的容器。脱气罐13上连接有后述的减压机构16。若打开减压机构16的减压阀V23使减压泵162工作，则脱气罐13的内部空间被减压，脱气罐13内的气压变为低于大气压的负压。由此，脱气罐13内的清漆含有的溶解气体变为气泡。另外，脱气罐13内设置有搅拌机构131。若使搅拌机构131旋转，则脱气罐13内的清漆被搅拌，清漆中的气泡向清漆的液面浮起。浮起的气泡从脱气罐13被吸引到减压机构16，从而被去除。由此，清漆中的气体的溶解量降低。
如此，在本实施方式的涂布装置1中，预先去除涂布前的清漆中含有的溶解气体。由此，在后述工序中加热并烧结涂布于载体基板C的清漆时，能够防止清漆中产生气泡。
此外，在图1的例子中，供液单元10具有一个脱气罐13。但是，供液单元10也可以具有多个脱气罐13。在该情况下，可以在第一供液配管12与第二供液配管14之间可切换地连接多个脱气罐13。
第二供液配管14是连接脱气罐13和涂布单元20的配管。第二供液配管14的上游侧的端部与脱气罐13的下部相连接。第二供液配管14的下游侧的端部与涂布单元20的第三供液配管23相连接。另外，在第二供液配管14上配置有第二供液阀V12、第二过滤器F2、辅助泵P1。
若关闭减压阀V23，打开第二供液阀V12和后述第二加压阀V22，则脱气罐13内的清漆借助从加压机构15供给的气体压力，通过第二供液配管14向涂布单元20的狭缝喷嘴22输送。加压机构15是从供给罐11向供液口19输送高粘度的处理液的输液部的一个例子。另外，通过驱动辅助泵P1来辅助清漆的输液力。辅助泵P1是输液泵的一个例子。
辅助泵P1例如也可以是每次喷出定量液体的定量喷出泵。在该情况下，辅助泵P1每次输送的清漆的量例如可以等同于狭缝喷嘴22向一张载体基板C涂布的清漆的量。另外，辅助泵P1优选所谓隔管泵(tube phragm pump)，所述隔管泵对可收缩的管的外周面施加流体压力，从而喷出管内的处理液。通过使用隔管泵，能够抑制因喷出清漆而在辅助泵P1内产生颗粒。
第二过滤器F2是孔径小于第一过滤器F1(网眼细)的过滤器。流过第二供液配管14的清漆被第二过滤器F2过滤。由此，清漆含有的细微的粉尘被第二过滤器F2捕集并去除。
供液单元10具有一个第二过滤器F2，但也可以具有多个第二过滤器F2。在该情况下，也可以在第二供液配管14的路径上并列连接多个第二过滤器F2。
加压机构15是向供给罐11和脱气罐13供给用于输液的压力的机构。如图1所示，加压机构15具有高压气体供给源151、加压配管152、调节器153、第一加压阀V21和第二加压阀V22。高压气体供给源151填充有高压气体(例如氮气)。加压配管152的上游侧的端部与高压气体供给源151相连接。调节器153设置在加压配管152的路径上。加压配管152的下游侧的端部分支成两条，分别与供给罐11和脱气罐13相连接。第一加压阀V21和第二加压阀V22分别设置在分支后的两条加压配管152上。
由高压气体供给源151供给的气体被调节器153降压调整为高于大气压的规定压力。若关闭第二加压阀V22，打开第一加压阀V21，则该规定压力的气体从加压配管152向供给罐11供给。由此，从供给罐11向第一供液配管12压出清漆。另外，若关闭第一加压阀V21，打开第二加压阀V22，则该规定压力的气体从加压配管152向脱气罐13供给。由此，从脱气罐13向第二供液配管14压出清漆。
减压机构16是用于对脱气罐13的内部减压的机构。如图1所示，减压机构16具有减压配管161、减压泵162和减压阀V23。减压配管161的一端与脱气罐13相连接。减压配管161的另一端与工厂内的排气管道相连接。减压阀V23和减压泵162设置在减压配管161的路径上。若打开减压阀V23，使减压泵162工作，则脱气罐13内的气体通过减压配管161被吸引至排气管道。由此，脱气罐13内的气压降低。
＜测量机构＞
测量机构17是用于测量清漆中的颗粒量的机构。如图1所示，测量机构17具备测量配管171、开关阀172、脱气模块173和测量模块174。
测量配管171连接于第二供液配管14中的比辅助泵P1更位于下游侧的位置。开关阀172设置在测量配管171上。开关阀172打开或关闭测量配管171，从而，控制是否从第二供液配管14向测量模块174输送清漆。第二供液配管14上设置有切换阀18。切换阀18位于第二供液配管14中的比连接测量配管171的位置更位于下游侧的位置。切换阀18控制对供液口19的输液的实施与否。开关阀172和切换阀18根据第一控制部30的控制信号切换打开状态和关闭状态。
脱气模块173是一种去除流过测量配管171的清漆中所存在的气泡(微泡)的装置。脱气模块173设置在测量配管171上，且位于开关阀172与测量模块174之间。
测量模块174配置在脱气模块173的下游侧的位置上。测量模块174测量清漆中含有的微小颗粒量。测量模块174是测量颗粒大小和数量的颗粒计数器。测量模块174构成为：向清漆照射光，用传感器检测因颗粒散射的光，从而，测量颗粒量。另外，测量模块174也可以构成为：向清漆照射光，用传感器检测颗粒引起的遮光，从而，测量颗粒的大小和数量。
测量模块174所测量的颗粒的大小例如是10μm以下，更优选是5μm以下。测量模块174能够按照任何大小的颗粒进行计数。
如果用测量模块174测量颗粒量，则将开关阀172设置为打开状态并将切换阀18设置为关闭状态。然后，清漆借助辅助泵P1的驱动从第二供液配管14流入测量配管171，向脱气模块173输送。并且，经脱气模块173脱气后的清漆向测量模块174输送。
如图1所示，测量配管171的端部与排液管道相连接。清漆通过测量模块174后被输送至排液管道并废弃。此外，可以设置一种配管，用以使通过测量模块174的清漆再次返回第二供液配管14等。
测量配管171的内侧面积小于第二供液配管14的内侧面积。因此，能够减少输送至测量配管171的清漆的量。由此，因为能够以少量清漆测量颗粒量，所以，能够降低清漆的消耗量。另外，在测量模块174以少量清漆来测量颗粒量的情况下，通过减小测量配管171的内侧面积，从而，能够利用测量模块174恰当地测量颗粒量。
图2是表示图1所示脱气模块173的结构的剖视图。脱气模块173是所谓的中空纤维膜脱气模块。如图2所示，脱气模块173具有筒状的箱体41、多个中空纤维膜42和减压机构43。
箱体41具有流入口411、流出口412和两个排气口413。流入口411设置在箱体41的一端，流出口412设置在箱体41的另一端。脱气模块173经由流入口411和流出口412与测量配管171相连接。排气口413设置于箱体41的侧部，与减压机构43相连接。
中空纤维膜42是细筒状的膜。全部中空纤维膜42的一端分别与流入口411流路连接。另外，全部中空纤维膜42的另一端分别与流出口412流路连接。由此，若测量配管171内产生清漆的液流，则从流入口411向中空纤维膜42供给清漆，并从流出口412排出该清漆。
为了用于脱气处理，该中空纤维膜42由不让液体通过而能使气体透过的气体透过膜形成。脱气模块173所使用的中空纤维膜42的内径为0.5mm～3mm。另外，用于脱气模块173的中空纤维膜42的数量是100根～1000根左右。此外，用于脱气模块173的中空纤维膜42的内径和数量能够根据清漆的种类、流量适当变更。
减压机构43包括减压配管431和减压泵432。减压配管431的一端分支成两路，与箱体41的排气口413相连接。另外，减压配管431的另一端与减压泵432相连接。若减压泵432进行驱动，则经由减压配管431和两个排气口413从箱体41内的空间吸引气体。由此，箱体41内的空间的气压降低。即，中空纤维膜42的外部空间的气压降低。此外，图2的例子中有两个排气口413，但排气口413也可以是一个或三个以上。
如此，将中空纤维膜42的外部空间的压力设置为低于中空纤维膜42的内部的压力，从而，能够将通过中空纤维膜42内部的液体中的气泡或溶解于该液体的气体排出至中空纤维膜42的外部空间。由此，能够对中空纤维膜42内的液体脱气。
如图1所示，第二供液配管14的下游侧的端部成为供液口19。供液口19与涂布单元20的第三供液配管23相连接。供液口19向供给对象即涂布单元20供给清漆。
图3是图1所示涂布单元20的立体图。如图1和图3所示，涂布单元20具有载物台21、狭缝喷嘴22、第三供液配管23、喷嘴保持部24和行进机构25。此外，为了便于说明，在下述内容中，将涂布单元20中狭缝喷嘴22的移动方向称作“前后方向”，将与前后方向垂直的水平方向称作“左右方向”。
载物台21是承载并保持载体基板C的大致长方体状的保持台。载物台21例如由一体的石材形成。载物台21的上表面形成为平坦的基板保持面211。在基板保持面211上设置有多个真空吸附孔(省略图示)。若基板保持面211上承载载体基板C，则载体基板C的下表面借由真空吸附孔的吸引力吸附于基板保持面211。由此，载体基板C以水平姿势固定在载物台21上。另外，在载物台21的内部设置有多个升降销(省略图示)。当要从载物台21搬出载体基板C时，多个升降销突出至基板保持面211之上。由此，载体基板C从基板保持面211分离。
狭缝喷嘴22是喷出清漆的喷嘴。狭缝喷嘴22具有沿左右方向延伸的喷嘴主体221。在喷嘴主体221的下端部设置有沿左右方向延伸的狭缝状的喷出口223。喷出口223与载物台21上承载的载体基板C的上表面相向。
第三供液配管23是用于向狭缝喷嘴22供给清漆的配管。第三供液配管23的上游侧的端部与上述供液口19相连接。第三供液配管23的下游侧的端部与狭缝喷嘴22相连接。另外，在第三供液配管23的路径上，设置有主泵P2。若使主泵P2工作，则第二供液配管14所供给的清漆被导入至狭缝喷嘴22的内部。然后，清漆从狭缝喷嘴22的喷出口223朝向载体基板C的上表面喷出。
喷嘴保持部24是用于将狭缝喷嘴22保持在基板保持面211的上方的机构。喷嘴保持部24具有：架桥部241，在载物台21的上方沿左右方向延伸；一对支持部242，支撑架桥部241的两端。另外，喷嘴保持部24具有升降机构243。若使升降机构243工作，则架桥部241的高度发生变化。由此，能够调节狭缝喷嘴22的高度。
行进机构25是用于使狭缝喷嘴22在前后方向移动的机构。行进机构25具有一对轨道251和一对线性马达252。一对轨道251在载物台21的左右的侧部附近沿前后方向延伸。一对轨道251作为在前后方向上限制一对支持部242的移动方向的线性导轨发挥作用。一对线性马达252通过磁性动力使一对支持部242沿着轨道251在前后方向移动。由此，狭缝喷嘴22与喷嘴保持部24一同在前后方向移动。
当进行涂布处理时，涂布单元20在载体基板C的上方，使狭缝喷嘴22在前后方向移动，并且，从喷出口223喷出清漆。由此，向载体基板C的上表面涂布清漆。
图4是表示第一控制部30与涂布装置1内的各部分之间的连接的框图。第一控制部30具有CPU等处理器31、RAM等存储器32以及硬件驱动器等存储部33。第一控制部30分别与升降销、行进机构25、主泵P2等涂布单元20电连接。另外，第一控制部30与供液单元10上设置的阀门、辅助泵P1、减压泵162和移动机构244电连接。第一控制部30将存储部33所存储的计算机程序及数据临时读取至存储器32，处理器31根据该计算机程序和数据进行运算处理，从而，控制涂布装置1内的各部分的工作。由此，对载体基板C进行涂布处理。第一控制部30与显示图像的显示器311和输入设备312电连接。输入设备312是鼠标、键盘或触摸屏。
第一控制部30与上述搅拌机构131、调节器153、减压泵162、第一供液阀V11、第二供液阀V12、第一加压阀V21、第二加压阀V22、辅助泵P1、测量模块174等供液单元10内的各部分电连接。另外，第一控制部30还与上述升降销、主泵P2、升降机构243、线性马达252等涂布单元20内的各部分电连接。
第一控制部30将存储部33所存储的计算机程序、数据临时读取至存储器32，处理器31根据该计算机程序和数据进行运算处理，从而，控制涂布装置1内的各部分的工作。由此，对载体基板C进行涂布处理。
例如，第一控制部30根据测量模块174测出的颗粒量，进行寿命判断处理，判断第二过滤器F2的寿命。具体而言，第一控制部30判断颗粒量是否超过预先设定的阈值。并且，如果第一控制部30通过寿命判断处理判断为颗粒量超过阈值，则判断第二过滤器F2已达到寿命。第一控制部30是判断部的一个例子。
如果第一控制部30通过寿命判断处理判断为第二过滤器F2已达到寿命，则可以使显示器311显示图像。第一控制部30使显示器311显示的图像例如可以是表示第二过滤器F2到寿命的图像，也可以是催促交换第二过滤器F2的图像。通过进行这样的显示，操作者能够把握第二过滤器F2处于应进行交换的状态这一情况。显示器311作为输出第一控制部30的判断结果的输出部发挥作用。此外，输出部并不限于显示器311，例如也可以是显示警告的灯、发出警告声的扬声器、输出印刷物的打印机等。
如果测量模块174针对每种颗粒大小均能测量数量，则可以针对每种颗粒大小预先设定阈值。在该情况下，可以设置：第一控制部30如果对颗粒的所有大小中的一部分大小均判断为颗粒量超过阈值，则判断第二过滤器F2已达到寿命。
＜老化＞
新的第二过滤器F2可能会因通过高粘度的清漆而导致异物从第二过滤器F2脱离。因此，在供液单元10，可以通过向新的第二过滤器F2通入清漆来对第二过滤器F2进行老化处理。在对第二过滤器F2进行老化处理时，可以通过将供液口19与排液管道连接来废弃清漆。另外，可以设置使从供液口19排出的清漆返回至比第二过滤器F2更靠近上游侧的位置，从而，再次通过第二过滤器F2。
在对第二过滤器F2进行老化处理的过程中，第一控制部30使测量模块174测量清漆中的颗粒量。然后，第一控制部30根据测量模块174测出的颗粒量进行老化判断处理。具体而言，第一控制部30判断测量模块174测出的颗粒量是否低于规定的阈值。如果颗粒量低于规定的阈值，则第一控制部30判断老化处理已完成。如果判断为老化处理已完成，则第一控制部30使显示器311显示表示第二过滤器F2的老化处理已完成的图像。通过进行这样的显示，操作者能够把握第二过滤器F2的老化处理已完成这一情况。
＜效果＞
如上所述，在供液单元10中，能够根据颗粒量的测量结果，恰当地判断第二过滤器F2是否到寿命。因此，能够抑制因使用超过寿命的第二过滤器F2而引发产品不良。
另外，在供液单元10中，如果对第二过滤器F2进行老化处理，则能够根据颗粒量来恰当地判断是否应结束老化处理。因此，能够抑制第二过滤器F2被过度老化或者第二过滤器F2的老化不充分。
另外，在供液单元10中，颗粒量的测量由配置在测量配管171上的测量模块174来进行。因此，与将清漆取出至外部来测量颗粒量的情况相比，能够减少测量颗粒量的作业负担。另外，如果将清漆从装置取出至外部，则取出时或测量时，可能会因混入来自外部的颗粒而污染清漆本身，存在测量精度下降的风险，而通过嵌入化能够减少该风险。
＜2.第二实施方式＞
接着，说明第二实施方式。此外，在后面的说明中，对于与已经说明过的要素具有相同作用的要素附以相同标记或添加了字符的标记，并会省略详细说明。
图5是表示第二实施方式的涂布装置1A的构成的图。涂布装置1A具有与图1所示涂布装置1几乎相同的构成。但在涂布装置1A中，测量机构17的测量配管171的上游侧的端部连接于第二供液配管14中第二过滤器F2与辅助泵P1之间的位置。在涂布装置1A中，如果测量颗粒量，则加压机构15对供给罐11加压，从而，第二供液配管14中的清漆被输送至测量配管171。在该情况下，能够向测量配管171输送颗粒量测量所需的清漆，并且，能够由辅助泵P1输送涂布载体基板C所需的量的清漆。因此，能够不中断涂布处理地测量颗粒量。此外，在测量颗粒量的情况下，也可以通过控制开关阀172和切换阀18来停止向狭缝喷嘴22供给清漆。
＜3.第三实施方式＞
图6是表示第三实施方式的老化装置2的构成的图。老化装置2是用于对在涂布装置1的供液单元10安装的第二过滤器F2进行老化处理的装置。如图6所示，老化装置2具有第一罐51、第二罐52、配管部60、加压机构70和第二控制部80。
第一罐51和第二罐52是一种贮存用于对第一过滤器F1和第二过滤器F2进行老化处理的高粘度的清漆的容器。第一罐51与第二罐52互为不同的罐。另外，第一罐51和第二罐52是耐压性的密闭容器，能够承受后述加压机构70的加压。第一罐51经由供给配管53与清漆供给源54相连接。若打开设置在供给配管53的路径上的供给阀V30，则清漆从清漆供给源54通过供给配管53供给至第一罐51。
清漆供给源54所供给的清漆与涂布装置1、1A所使用的清漆是相同的处理液。因此，清漆供给源54所供给的清漆的粘度与涂布装置1中所使用的清漆的粘度相同。此外，可以使用与清漆种类不同的高粘度的处理液来进行老化处理。
配管部60具有第一主配管61、第二主配管62、第一支管63和第二支管64。第一主配管61的一端与第一罐51的下部相连接。第一支管63的一端和第二支管64的一端分别与第一主配管61的另一端相连接。第一支管63的另一端和第二支管64的另一端分别与第二主配管62的一端相连接。第二主配管62的另一端与第二罐52的下部相连接。即，第一支管63和第二支管64在第一罐51与第二罐52之间并列延伸。第一支管63是本发明的第一输液配管的一个例子。第二支管64是本发明的第二输液配管的一个例子。
第一支管63上设置有切换阀V31和切换阀V32。第一支管63在切换阀V31与切换阀V32之间具有第一安装部65，所述第一安装部65能够安装第一过滤器F1。在第二支管64上设置有切换阀V33和切换阀V34。第二支管64在切换阀V33与切换阀V34之间具有第二安装部66，所述第二安装部66能够安装第二过滤器F2。
加压机构70是向第一罐51和第二罐52供给用于输液的压力的机构。如图6所示，加压机构70具有高压气体供给源71、加压配管72、调节器73、切换阀V35和切换阀V36。高压气体供给源71中填充有高压气体(例如氮气)。加压配管72的上游侧的端部与高压气体供给源71相连接。调节器73设置在加压配管72的路径上。加压配管72的下游侧的端部分支为两根，分别与第一罐51和第二罐52相连接。切换阀V35和切换阀V36分别设置在分支后的两根加压配管72上。
高压气体供给源71所供给的气体被调节器73降压调整为高于大气压的规定压力。若关闭切换阀V36，打开切换阀V35，则该规定压力的气体从加压配管72向第一罐51供给。由此，从第一罐51向第一主配管61压出清漆。另外，若关闭切换阀V35，打开切换阀V36，则该规定压力的气体从加压配管72向第二罐52供给。由此，从第二罐52向第二主配管62压出清漆。加压机构70兼具从第一罐51向第二罐52输送清漆的第一输液部的功能和从第二罐52向第一罐51输送清漆的第二输液部的功能。
图7是图6所示的第一安装部65和安装于第一安装部65的第一过滤器F1的剖视图。此外，第一过滤器F1和第一安装部65的结构并不限于图7所示内容，可以具有与图7不同的结构。如图7所示，第一安装部65具有能够连接第一过滤器F1的支架650。
第一过滤器F1具有壳体91、滤芯92和罩93。壳体91是沿上下方向延伸的圆筒状的框体。滤芯92收纳于壳体91的内部。罩93覆盖壳体91的外表面。罩93例如由金属等比壳体91刚度高的材料形成。由此，能够抑制壳体91的变形。
滤芯92具有过滤器主体921和上盖922。过滤器主体921的外形为沿上下方向延伸的圆筒状。过滤器主体921由聚丙烯、聚乙烯、聚四氟乙烯(PTFE)等树脂纤维形成。但过滤器主体921也可以由树脂之外的材料形成。上盖922覆盖过滤器主体921的上部。
在壳体91的底部设置有流入口911和流出口912。流入口911与位于壳体91的内部空间中的、滤芯92的外部空间相连通。流出口912与位于壳体91的内部空间中的、滤芯92的内部空间相连通。
支架650具有流入连接孔651和流出连接孔652。流入连接孔651和流出连接孔652分别是沿上下方向贯穿支架650的贯穿孔。流入连接孔651与上游侧的第一支管63相连接。流出连接孔652与下游侧的第一支管63相连接。另外，若第一过滤器F1安装于第一安装部65，则上述流入口911与流入连接孔651相连接，上述流出口912与流出连接孔652相连接。
因此，若清漆流向第一支管63，则清漆从流入连接孔651经由流入口911导入壳体91的内部。然后，如图7中虚线箭头所示，该清漆通过过滤器主体921。另外，通过过滤器主体921的清漆从过滤器主体921的内侧经由流出口912和流出连接孔652向下游侧的第一支管63流出。
另外，如图7所示，在壳体91的上部连接有第一排气配管94。积存于壳体91的上部的气泡经由第一排气配管94向工厂内的排气管道排出。另外，在滤芯92的上部连接有第二排气配管95。积存于滤芯92的上部的气泡通过第二排气配管95向工厂内的排气管道排出。
关于第二安装部66和第二过滤器F2的结构，因为与第一安装部65和第一过滤器F1的结构等同，所以，省略重复说明。
如图6所示，老化装置2具有测量机构17。与图1所示的测量机构17相同地，测量机构17具备测量配管171、开关阀172、脱气模块173、测量模块174。测量配管171连接于第一支管63中的处于切换阀V31与第一安装部65之间的位置。测量模块174测量处于测量配管171内的清漆中的颗粒量。测量模块174与第二控制部80电连接，并将颗粒量的测量结果发送给第二控制部80。
此外，连接测量配管171的位置也可以在第一支管63中的处于第一安装部65与切换阀V32之间。另外，连接测量配管171的位置还可以在第二支管64中的处于切换阀V33与第二安装部66之间的位置或者处于第二安装部66与切换阀V34之间的位置。进一步，测量配管171也可以是第一主配管61或第二主配管62。
第二控制部80控制老化装置2内各部分的工作。第二控制部80具有CPU等处理器、RAM等存储器、硬件驱动器等存储部。另外，第二控制部80与上述供给阀V30、切换阀V31～V36、开关阀172、调节器73等老化装置2内的各部分电连接。
第二控制部80将存储部所存储的计算机程序及数据临时读取至存储器，处理器根据该计算机程序和数据进行运算处理，从而控制老化装置2内各部分的工作。由此，对第一过滤器F1和第二过滤器F2进行老化处理(清洗处理)。
＜老化装置的工作＞
如果在老化装置2中对第一过滤器F1和第二过滤器F2进行老化处理，则操作者在第一安装部65安装新的第一过滤器F1并在第二安装部66安装新的第二过滤器F2。
在安装了第一过滤器F1和第二过滤器F2的状态下，第二控制部80打开供给阀V30，从而，从清漆供给源54向第一罐51供给清洗用的清漆。若第一罐51内贮存了规定量的清漆，则第二控制部80关闭供给阀V30。
然后，第二控制部80打开切换阀V31、V32、切换阀V35，从而，从加压配管72向第一罐51供给高压气体。由此，第一罐51内的清漆被压出至第一主配管61。然后，如图6中的虚线箭头A1所示，清漆从第一主配管61流过第一支管63和第二主配管62输送至第二罐52。清漆通过第一过滤器F1。因此，如果第一过滤器F1的下游侧的面上有初始粉尘，则该初始粉尘从第一过滤器F1的下游侧的面脱离，与清漆一起流向第二罐52。
接着，第二控制部80关闭切换阀V31、V32、V35并打开切换阀V33，V34，V36。于是，从加压配管72向第二罐52供给高压气体。由此，第二罐52内的清漆被压出至第二主配管62。并且，如图6中的虚线箭头A2所示，清漆从第二主配管62流过第二支管64和第一主配管61输送至第一罐51。清漆通过第二过滤器F2。因此，从第一过滤器F1脱离的粉尘遇到第二过滤器F2的上游侧的面。因为第二过滤器F2的孔径充分小于从第一过滤器F1脱离的粉尘的粒径，所以，粉尘难以通过第二过滤器F2。另外，如果第二过滤器F2的下游侧的面上附着有初始粉尘，则该初始粉尘从第二过滤器F2的下游侧的面脱离，与清漆一起流向第一罐51。
若完成从第二罐52向第一罐51输送清漆，则第二控制部80则再次开始从第一罐51向第二罐52输送清漆。如此，第二控制部80交替地反复执行从第一罐51向第二罐52的输液和从第二罐52向第一罐51的输液。
从第二过滤器F2脱离的粉尘遇到第一过滤器F1的上游侧的面，因为第一过滤器F1的孔径充分小于从第二过滤器F2脱离的粉尘的粒径，所以，粉尘难以通过第一过滤器F1。
在进行老化处理的过程中，第二控制部80使测量机构17的测量模块174定期地测量颗粒量。详细地说，在清漆流向第一支管63的过程中，第二控制部80打开开关阀172，从而，向测量配管171的测量模块174输送流经第一支管63的清漆的一部分。于是，测量模块174测量清漆中的颗粒量，并向第二控制部80发送测量出的颗粒量。
第二控制部80根据测量模块174发送的颗粒量，进行老化判断处理。具体而言，第二控制部80判断测量模块174测出的颗粒量是否低于表示老化处理已完成的阈值。如果第二控制部80判断为颗粒量低于规定的阈值，则判断对第一过滤器F1和第二过滤器F2的老化处理已完成。
如果第二控制部80判断为老化处理已完成，则停止老化装置2的工作。由此，操作者能够从第一安装部65取出老化处理完毕的第一过滤器F1，并从第二安装部66取出老化处理完毕的第二过滤器F2。此外，如果第二控制部80判断为老化处理已完成，则也可以使显示器显示表示老化处理已完成的图像。
＜4.变形例＞
以上，对实施方式进行了说明，但本发明并不限于上述内容，可以有各种变形。
在上述第一至第三实施方式中，可以在脱气模块173不进行脱气的状态(即，减压泵432为关闭的状态)进行运用。通过如此设置，例如能够用测量模块174检测出突发性气泡的产生。另外，在上述第一至第三实施方式中，测量机构17并不必一定具备脱气模块173，可以省略脱气模块173。
在第一和第二实施方式的涂布装置1、1A中，对第二过滤器F2进行了寿命判断或老化判断，也可以对第一过滤器F1进行寿命判断或老化判断。在该情况下，还可以在第一过滤器F1的下游侧设置测量机构17。具体而言，可以在第一供液配管12中的处于第一过滤器F1与脱气罐13之间的位置上连接测量机构17的测量配管171。由此，能够经由测量配管171向测量模块174输送从第一过滤器F1通过的第一供液配管12的清漆。因此，能够测量从第一过滤器F1通过的清漆中的颗粒量。根据如此测量到的颗粒量，第一控制部30可以进行第一过滤器F1的寿命判断或老化判断。
上述说明详细说明了发明，但对所有方面来说均是例示，本发明并不受其限制。应理解为在不脱离本发明的范围的情况下能够设想到未例示的许多变形例。上述各实施方式和各变形例中所说明的各构成只要不相互矛盾即能够适当组合或省略。

Claims (13)

1.一种供液装置，供给处理液，具备：
罐，能够贮存高粘度的处理液；
供液口，供给所述处理液；
输液配管，连接所述罐和所述供液口；
输液部，用于从所述罐经由所述输液配管向所述供液口输送所述处理液；
过滤器，配置于所述输液配管，过滤所述处理液；
测量部，在比所述过滤器更靠下游侧的位置测量通过了所述过滤器的处理液中的颗粒量。
2.根据权利要求1所述的供液装置，其中，
还具备：
测量配管，在所述输液配管中的比所述过滤器更靠下游侧的位置与所述输液配管相连接，
所述测量部测量所述测量配管内的所述处理液中的颗粒量。
3.根据权利要求2所述的供液装置，其中，
还具备：
开关阀，对所述处理液从所述输液配管向所述测量配管的流动进行开闭。
4.根据权利要求2或3所述的供液装置，其中，
所述测量配管的内侧面积小于所述输液配管的内侧面积。
5.根据权利要求2至4中任一项所述的供液装置，其中，
还具备：
输液泵，配置于所述输液配管并用于压送处理液。
6.根据权利要求5所述的供液装置，其中，
所述测量配管在所述输液配管中的比所述输液泵更靠下游侧的位置与所述输液配管相连接。
7.根据权利要求5所述的供液装置，其中，
所述测量配管在所述输液配管中的比所述输液泵更靠上游侧的位置与所述输液配管相连接。
8.根据权利要求2至7中任一项所述的供液装置，其中，
还具备：
脱气模块，配置在比所述测量部更靠上游侧的位置，并对所述处理液进行脱气。
9.根据权利要求8所述的供液装置，其中，
所述脱气模块配置在所述测量配管上。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的供液装置，其中，
还具备：
判断部，根据所述测量部测出的颗粒量，判断所述过滤器的状态；
输出部，将所述判断部输出的判断结果向外部输出。
11.一种涂布装置，用于向对象涂布处理液，具备：
权利要求1至10中任一项所述的供给装置；
喷嘴，将从所述供给装置的所述供液口供给的所述处理液喷出。
12.一种老化装置，用高粘度的处理液对过滤器进行处理，具备：
第一罐，能够贮存处理液；
第二罐，能够贮存处理液；
第一输液配管和第二输液配管，并列连接所述第一罐和所述第二罐；
第一输液部，用于从所述第一罐经由所述第一输液配管向所述第二罐输送液体；
第二输液部，用于从所述第二罐经由所述第二输液配管向所述第一罐输送液体；
控制部，使所述第一输液部和所述第二输液部交替地工作；
过滤器安装部，安装有过滤器以对流过所述第一输液配管的处理液进行过滤；
测量部，测量通过了所述过滤器的所述处理液中的颗粒量。
13.一种供液方法，用于向供给对象供给高粘度的处理液，
所述供液方法包括：
工序a)，将罐的处理液输送至供给对象；
工序b)，用过滤器对通过所述工序a)从所述罐输送至供给对象的所述处理液进行过滤；
工序c)，对在所述工序b)中通过了所述过滤器的所述处理液中的颗粒量进行测量。
CN202111579161.7A 2021-03-03 2021-12-22 供液装置、涂布装置、老化装置及供液方法 Pending CN115025945A (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021-033351 2021-03-03
JP2021033351A JP7309297B2 (ja) 2021-03-03 2021-03-03 給液装置、塗布装置、エージング装置、給液方法、およびエージング方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN115025945A true CN115025945A (zh) 2022-09-09

Family

ID=83118425

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202111579161.7A Pending CN115025945A (zh) 2021-03-03 2021-12-22 供液装置、涂布装置、老化装置及供液方法

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP7309297B2 (zh)
KR (1) KR102649969B1 (zh)
CN (1) CN115025945A (zh)

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1036632A2 (en) * 1999-03-18 2000-09-20 Kabushiki Kaisha Toshiba Method and system of manufacturing slurry for polishing, and method and system of manufacturing semiconductor devices
JP2004281640A (ja) * 2003-03-14 2004-10-07 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置および送液装置
WO2007086459A1 (ja) * 2006-01-25 2007-08-02 Origin Electric Company, Limited 液状物質供給装置及び液状物質供給方法
US20100320127A1 (en) * 2009-02-09 2010-12-23 Mohseni Saeed H Fluid processing
US20120145743A1 (en) * 2009-06-15 2012-06-14 Musashi Engineering, Inc. Device and method for discharging constant amount of high-viscosity material
WO2013161300A1 (ja) * 2012-04-24 2013-10-31 株式会社マイクロジェット 吐出システムおよび吐出システムにより吐出する方法
US20150097900A1 (en) * 2013-10-04 2015-04-09 Canon Kabushiki Kaisha Liquid ejection device and liquid leakage suppression method
JP2016164961A (ja) * 2014-10-30 2016-09-08 キヤノン株式会社 液体吐出装置、ナノインプリント装置、ナノインプリント用液体収容タンク、硬化物パターンの製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、インプリント用モールドの製造方法
WO2017175856A1 (ja) * 2016-04-08 2017-10-12 富士フイルム株式会社 処理液、その製造方法、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法
JP2019169586A (ja) * 2018-03-23 2019-10-03 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 処理液供給装置、基板処理装置および処理液供給方法
JP2020044464A (ja) * 2018-09-14 2020-03-26 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 処理装置、処理システム、および処理方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3280878B2 (ja) * 1997-01-16 2002-05-13 東京エレクトロン株式会社 塗布装置およびそれに用いるパーティクル測定装置
JP3342838B2 (ja) * 1997-09-22 2002-11-11 東京エレクトロン株式会社 処理装置および処理方法
JPH11316185A (ja) * 1998-02-18 1999-11-16 Horiba Ltd 液中微粒子測定システム
JP2004327747A (ja) * 2003-04-25 2004-11-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd 薬液塗布装置
JP4522187B2 (ja) * 2004-08-04 2010-08-11 東京応化工業株式会社 塗布装置および塗布方法
JP5451515B2 (ja) * 2010-05-06 2014-03-26 東京エレクトロン株式会社 薬液供給システム、これを備える基板処理装置、およびこの基板処理装置を備える塗布現像システム
US9656197B2 (en) * 2012-11-12 2017-05-23 Pall Corporation Systems and methods for conditioning a filter assembly
JP6721956B2 (ja) 2015-07-28 2020-07-15 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 塗布装置および塗布方法
JP6804850B2 (ja) * 2016-02-26 2020-12-23 東レ株式会社 塗布装置及び塗布方法

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1036632A2 (en) * 1999-03-18 2000-09-20 Kabushiki Kaisha Toshiba Method and system of manufacturing slurry for polishing, and method and system of manufacturing semiconductor devices
JP2004281640A (ja) * 2003-03-14 2004-10-07 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置および送液装置
WO2007086459A1 (ja) * 2006-01-25 2007-08-02 Origin Electric Company, Limited 液状物質供給装置及び液状物質供給方法
US20100320127A1 (en) * 2009-02-09 2010-12-23 Mohseni Saeed H Fluid processing
US20120145743A1 (en) * 2009-06-15 2012-06-14 Musashi Engineering, Inc. Device and method for discharging constant amount of high-viscosity material
WO2013161300A1 (ja) * 2012-04-24 2013-10-31 株式会社マイクロジェット 吐出システムおよび吐出システムにより吐出する方法
US20150097900A1 (en) * 2013-10-04 2015-04-09 Canon Kabushiki Kaisha Liquid ejection device and liquid leakage suppression method
JP2016164961A (ja) * 2014-10-30 2016-09-08 キヤノン株式会社 液体吐出装置、ナノインプリント装置、ナノインプリント用液体収容タンク、硬化物パターンの製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、インプリント用モールドの製造方法
WO2017175856A1 (ja) * 2016-04-08 2017-10-12 富士フイルム株式会社 処理液、その製造方法、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法
JP2019169586A (ja) * 2018-03-23 2019-10-03 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 処理液供給装置、基板処理装置および処理液供給方法
JP2020044464A (ja) * 2018-09-14 2020-03-26 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 処理装置、処理システム、および処理方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20220124620A (ko) 2022-09-14
JP2022134302A (ja) 2022-09-15
KR102649969B1 (ko) 2024-03-22
JP7309297B2 (ja) 2023-07-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7891762B2 (en) Device for feeding liquid to inkjet heads and device for wiping inkjet heads
EP2857205B1 (en) Liquid ejection device and liquid leakage suppression method
CN107808833B (zh) 处理液供给装置
CN106391358B (zh) 涂布装置及涂布方法
WO2007055102A1 (ja) 塗布装置、分散液移動方法
KR102408661B1 (ko) 처리액 공급 장치
KR101536768B1 (ko) 필터 어셈블리를 상태조절하기 위한 시스템 및 방법
CN102029801A (zh) 喷墨打印机和用于喷墨打印机的过滤器
WO2013042457A1 (ja) インクジェット記録装置
JP2013067032A (ja) インクジェット記録装置のインク供給装置及びインク供給方法
CN111559173B (zh) 液体喷射装置
KR20040081336A (ko) 기판처리장치 및 송액장치
CN115025945A (zh) 供液装置、涂布装置、老化装置及供液方法
KR20150007945A (ko) 에어 벤트 시스템
JP6808696B2 (ja) 供給装置、塗布装置、および供給方法
JP2009195776A (ja) インクジェット記録装置
CN110911307A (zh) 处理装置、处理系统以及处理方法
KR102640701B1 (ko) 에이징 장치, 처리 시스템, 및 에이징 방법
CN113144706B (zh) 老化装置、处理系统和老化方法
JP2018001189A (ja) フラックス塗布装置
JP2015199058A (ja) 塗布装置および塗布方法
JP2023042884A (ja) 給液装置および塗布装置
JP2005043244A (ja) パーティクル測定方法およびパーティクル測定装置
JP2018001188A (ja) フラックス塗布方法、および、フラックス塗布装置
JP2009214299A (ja) 液体検知装置及びこれを備えたインクジェット式液体吐出装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination