CN114752027A - 一种改性树脂及基于其的光刻胶、制备方法和应用 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种改性树脂及基于其的光刻胶、制备方法和应用，属于光刻胶制备技术领域，解决了现有光刻胶耐热性能差的技术问题。本发明公开的改性树脂的制备方法，包含树脂活化、改性溶液制备和改性树脂制备等配置过程，采用对烷氧基硅烷水解过程进行控制，并将水解产物与线性酚醛树脂进行反应，从而保护树脂中的酚羟基，提高树脂的耐热能力；本发明公开的光刻胶的成分包括改性酚醛树脂、感光剂、溶剂、和添加剂，该种改性树脂作为骨架应用到光刻胶中，可以有效提高光刻胶的耐热性。
Description
技术领域
本发明属于光刻胶制备技术领域，具体涉及一种改性树脂及基于其的光刻胶、制备方法和应用。
背景技术
光刻胶是指经过不同波长的曝光光源进行曝光后，在曝光区域可以发生交联或光解，使其在显影液中的物理性能发生变化的混合液体。主要用于电子工业中集成电路和半导体分立器件的微细加工中，同时在平板显示、发光二极管及精密传感器等制作过程中也有广泛的应用。
随着各类电路制造工艺的发展，在制造过程中难免会遇到一些高温环境，比如，高通量单层刻蚀、Al/Cu刻蚀、高温蒸镀等，这就对光刻胶的耐热性提出了更高要求。光刻胶主要由树脂、感光剂、溶剂和添加剂组成，其中树脂为光刻胶结构的骨架，对光刻胶的耐热性有着决定性作用，但目前应用的树脂耐热性能差，使得光刻胶的应用范围受到了限制。
发明内容
为了克服上述现有技术的缺点，本发明的目的在于提供一种改性树脂及基于其的光刻胶、制备方法和应用，用以解决现有光刻胶耐热性能差的技术问题。
为了达到上述目的，本发明采用以下技术方案予以实现：
本发明公开了一种改性树脂的制备方法，用于光刻胶的制备，主要包括以下步骤：
S1：将树脂加入到加热后的溶剂中，搅拌至完全溶解，过滤后得到活化后的树脂溶液；
S2：将烷氧基硅烷、乙醇和纯水混合后，调节pH值，进行反应后得到改性溶液；
S3：将改性溶液加入到活化后的树脂溶液中，搅拌后得到改性树脂。
进一步地，所述溶剂为丙二醇甲醚醋酸酯；所述树脂为线性酚醛树脂，分子量为3000-5000。
进一步地，S1中，加热的温度为80-85℃，搅拌时间为30-60min。
进一步地，S1中，所述树脂和溶剂的用量比为1：(2-2.5)；S2中，所述烷氧基硅烷包括甲基三乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷或二甲基二乙氧基硅烷；反应是在58-62℃下反应2～4h；所述pH值为4.8-5.2；所述烷氧基硅烷、乙醇和纯水的摩尔比为1：(2-2.3)：(0.15-0.2)。
进一步地，S3中，所述改性溶液与活化后的树脂溶液的用量比为1：(10-15)；搅拌是在103-106℃下先搅拌30min～40min，降温至80-85℃，再搅拌6-8h，然后降至室温，得到改性树脂溶液。
本发明还公开了采用上述一种改性树脂的制备方法得到的改性树脂。
本发明还公开了基于上述改性树脂制备得到的一种光刻胶，所述光刻胶的成分包括：10％～15％的改性树脂、2％～3％的感光剂、0.01％～0.32％的添加剂，余量为溶剂。
进一步地，所述感光剂包括四羟基二苯甲酮-重氮萘醌磺酸酯或三羟基二苯甲酮-重氮萘醌磺酸酯；所述四羟基二苯甲酮-重氮萘醌磺酸酯或三羟基二苯甲酮-重氮萘醌磺酸酯的酯化度为78％～83％；所述添加剂为4-氨基吡唑并嘧啶和六甲基二硅氮烷，4-氨基吡唑并嘧啶和六甲基二硅氮烷的质量比为1：(10-15)。
进一步地，所述溶剂为丙二醇甲醚醋酸酯、二丙二醇甲醚醋酸酯和苯甲醇中的一种或多种。
本发明还公开了上述光刻胶的应用，所述光刻胶用于制造液晶面板或半导体器件。
与现有技术相比，本发明具有以下有益效果：
本发明公开了一种改性树脂的制备方法，采用水解后富含大量的羟基的烷氧基硅烷与树脂发生缩聚反应，同时硅氧键的键能比碳碳键要大，具有很高的自由度，可以有效保护树脂中的羟基，改善树脂的柔韧性，进而制备得到改性树脂的耐热性得到大幅度提升；制备方法操作简单，所用试剂绿色经济环保，具有广阔的应用前景。
本发明还公开了采用上述一种改性树脂的制备方法制备得到的改性树脂，由于所述改性树脂中的烷氧基硅烷在水解的过程中会产生大量的羟基，该羟基和酚醛树脂中的羟基会发生缩聚反应，同时硅氧键的键能比碳碳键要大，具有很高的自由度，在酚醛树脂中加入烷氧基硅烷水解产物，可以有效保护酚醛树脂中的羟基，改善酚醛树脂的柔韧性，同时提高了耐热性。
本发明还公开了基于上述改性树脂制备得到的一种光刻胶，主要由改性树脂、感光剂、溶剂和添加剂组成，由于改性树脂的耐热性和柔韧性高，本发明制备的光刻胶具有良好的耐热性，应用范围广。
具体实施方式
为使本领域技术人员可了解本发明的特点及效果，以下谨就说明书及权利要求书中提及的术语及用语进行一般性的说明及定义。除非另有指明，否则文中使用的所有技术及科学上的字词，均为本领域技术人员对于本发明所了解的通常意义，当有冲突情形时，应以本说明书的定义为准。
本文描述和公开的理论或机制，无论是对或错，均不应以任何方式限制本发明的范围，即本发明内容可以在不为任何特定的理论或机制所限制的情况下实施。
本文中，所有以数值范围或百分比范围形式界定的特征如数值、数量、含量与浓度仅是为了简洁及方便。据此，数值范围或百分比范围的描述应视为已涵盖且具体公开所有可能的次级范围及范围内的个别数值(包括整数与分数)。
本文中，若无特别说明，“包含”、“包括”、“含有”、“具有”或类似用语涵盖了“由……组成”和“主要由……组成”的意思，例如“A包含a”涵盖了“A包含a和其他”和“A仅包含a”的意思。
本文中，为使描述简洁，未对各个实施方案或实施例中的各个技术特征的所有可能的组合都进行描述。因此，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，各个实施方案或实施例中的各个技术特征可以进行任意的组合，所有可能的组合都应当认为是本说明书记载的范围。
下面结合具体实施例，进一步阐述本发明。应理解，这些实施例仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围。此外应理解，在阅读了本发明讲授的内容之后，本领域技术人员可以对本发明作各种改动或修改，这些等价形式同样落于本申请所附权利要求书所限定的范围。
下列实施例中使用本领域常规的仪器设备。下列实施例中未注明具体条件的实验方法，通常按照常规条件，或按照制造厂商所建议的条件。下列实施例中使用各种原料，除非另作说明，都使用常规市售产品，其规格为本领域常规规格。在本发明的说明书以及下述实施例中，如没有特别说明，“％”都表示重量百分比，“份”都表示重量份，比例都表示重量比。
实施例1
一种光刻胶的制备方法，包括以下步骤：
S1：将50g丙二醇甲醚醋酸酯加热到80℃，加入25g分子量为3000的线性酚醛树脂，搅拌至完全溶解，继续搅拌30min，过滤，得到活化后的树脂溶液；
S2：依次称取100g甲基三乙氧基硅烷、51.67g乙醇和2.02g纯水于干燥容器中，混合均匀，加入浓度为2.5％的硝酸，调节pH值到4.8，在58℃下进行反应2h，得到改性溶液；
S3：将2.0g改性溶液加入到30g活化后的树脂溶液中，在103℃下搅拌30min，降温至80℃，搅拌6h，将溶液降至室温，得到改性树脂；对改性树脂、进行行固含量测试，结果为32.16％；
S4：将40g改性树脂、2g四羟基二苯甲酮-重氮萘醌磺酸酯(酯化度为78％)、0.01g4-氨基吡唑并嘧啶、0.1g六甲基二硅氮烷、57.89g丙二醇甲醚醋酸酯在室温下进行混合，得到一种光刻胶。
实施例2
一种光刻胶的制备方法，包括以下步骤：
S1：将125g丙二醇甲醚醋酸酯加热到85℃，加入50g分子量为5000的线性酚醛树脂，搅拌至完全溶解，继续搅拌45min，过滤，得到活化后的树脂溶液；
S2：依次称取65g甲基三乙氧基硅烷、33.59g乙醇和1.31g纯水于干燥容器中，混合均匀，加入浓度为2.5％的硝酸，调节pH值到5.2，在62℃下进行反应2h，得到改性溶液；
S3：将10g改性溶液加入到148.5g活化后的树脂溶液中，在106℃下搅拌40min，降温至85℃，搅拌8h，将溶液降至室温，得到改性树脂；对改性树脂进行行固含量测试，结果为30.68％；
S4：将100g改性树脂、6.13g四羟基二苯甲酮-重氮萘醌磺酸酯(酯化度为83％)、0.04g4-氨基吡唑并嘧啶、0.61g六甲基二硅氮烷、97.75g二丙二醇甲醚醋酸酯在室温下进行混合，得到一种光刻胶。
实施例3
一种光刻胶的制备方法，包括以下步骤：
S1：将203g丙二醇甲醚醋酸酯加热到80℃，加入90g分子量为4800的线性酚醛树脂，搅拌至完全溶解，继续搅拌45min，过滤，得到活化后的树脂溶液；
S2：依次称取46g甲基三乙氧基硅烷、23.77g乙醇和0.93g纯水于干燥容器中，混合均匀，加入浓度为2.5％的硝酸，调节pH值到5.0，在60℃下进行反应4h，得到改性溶液；
S3：将9.63g改性溶液加入到278g活化后的树脂溶液中，在106℃下搅拌35min，降温至83℃，搅拌8h，将溶液降至室温，得到改性树脂；对改性树脂进行行固含量测试，结果为31.02％；
S4：将200g改性树脂、15.51g三羟基二苯甲酮-重氮萘醌磺酸酯(酯化度为83％)、0.062g4-氨基吡唑并嘧啶、0.62g六甲基二硅氮烷、404.21g丙二醇甲醚醋酸酯在室温下进行混合，得到一种光刻胶。
实施例4
一种光刻胶的制备方法，包括以下步骤：
S1：将1000g丙二醇甲醚醋酸酯加热到80℃，加入435g(435*2.5＝1087.5，此处加入1000，符合)分子量为3561的线性酚醛树脂，搅拌至完全溶解，继续搅拌45min，过滤，得到活化后的树脂溶液；
S2：依次称取200g甲基三乙氧基硅烷、103.35g乙醇和4.03g纯水于干燥容器中，混合均匀，加入浓度为2.5％的硝酸，调节pH值到5.0，在60℃下进行反应2h，得到改性溶液；
S3：将30g改性溶液加入到300g活化后的树脂溶液中，在105℃下搅拌30min，降温至83℃，搅拌8h，将溶液降至室温，得到改性树脂；对改性树脂进行行固含量测试，结果为32.17％；
S4：将1000g改性树脂、75.06g四羟基二苯甲酮-重氮萘醌磺酸酯(酯化度为83％)、0.049g4-氨基吡唑并嘧啶、0.482g六甲基二硅氮烷、1500g丙二醇甲醚醋酸酯和104.41g苯甲醇在室温下进行混合，得到一种光刻胶。
实施例5
一种光刻胶的制备方法，包括以下步骤：
S1：将1140g丙二醇甲醚醋酸酯加热到80℃，加入516g分子量为4851的线性酚醛树脂，搅拌至完全溶解，继续搅拌45min，过滤，得到活化后的树脂溶液；
S2：依次称取80g甲基三甲氧基硅烷、62.22g乙醇和2.11g纯水于干燥容器中，混合均匀，加入浓度为2.5％的硝酸，调节pH值到5.0，在60℃下进行反应3h，得到改性溶液；
S3：将30g改性溶液加入到1000g活化后的树脂溶液中，在105℃下搅拌30min，降温至80℃，搅拌8h，将溶液降至室温，得到改性树脂；对改性树脂进行行固含量测试，结果为30.17％；
S4：将500g改性树脂、30.17g四羟基二苯甲酮-重氮萘醌磺酸酯(酯化度为80％)、0.302g4-氨基吡唑并嘧啶、3.017g六甲基二硅氮烷、974.16g丙二醇甲醚醋酸酯在室温下进行混合，得到一种光刻胶。
实施例6
一种光刻胶的制备方法，包括以下步骤：
S1：将1562g丙二醇甲醚醋酸酯加热到85℃，加入781g分子量为4231的线性酚醛树脂，搅拌至完全溶解，继续搅拌45min，过滤，得到活化后的树脂溶液；
S2：依次称取100g二甲基二乙氧基硅烷、62.14g乙醇和1.82g纯水于干燥容器中，混合均匀，加入浓度为2.5％的硝酸，调节pH值到4.8，在60℃下进行反应2h，得到改性溶液；
S3：将51.71g改性溶液加入到517.1g活化后的树脂溶液中，在105℃下搅拌30min，降温至83℃，搅拌8h，将溶液降至室温，得到改性树脂；对改性树脂进行行固含量测试，结果为29.97％；
S4：将1800g改性树脂溶液、112.39g四羟基二苯甲酮-重氮萘醌磺酸酯(酯化度为78％)、0.578g4-氨基吡唑并嘧啶、8.67g六甲基二硅氮烷、2600g丙二醇甲醚醋酸酯在室温下进行混合，得到一种光刻胶。
对比例1
与实施例1不同的是，采用不改性的树脂，其余试剂和用量均与实施例1相同，最终得到一种光刻胶。
对比例2
与实施例2不同的是，采用不改性的树脂，其余试剂和用量均与实施例2相同，最终得到一种光刻胶。
对比例3
与实施例3不同的是，采用不改性的树脂，其余试剂和用量均与实施例3相同，最终得到一种光刻胶。
对比例4
与实施例4不同的是，采用不改性的树脂，其余试剂和用量均与实施4相同，最终得到一种光刻胶。
对比例5
与实施例5不同的是，采用不改性的树脂，其余试剂和用量均与实施例5相同，最终得到一种光刻胶。
对比例6
与实施例6不同的是，采用不改性的树脂，其余试剂和用量均与实施例6相同，最终得到一种光刻胶。
表1所示为实施例1-6和对比例1-6制备得到的光刻胶的耐热性测试结果，从表1可以看出，在进行酚醛树脂改性后，光刻胶的耐热性有了显著上升，这就说明改性树脂的软化点得到了提升，这样的光刻胶更适用于对温度要求高的光刻制成。
表1实施例1-6和对比例1-6光刻胶的耐热性
| 实施例1 | 实施例2 | 实施例3 | 实施例4 | 实施例5 | 实施例6 | |
| 耐热性/℃ | 135 | 140 | 135 | 130 | 135 | 130 |
| 对比例1 | 对比例2 | 对比例3 | 对比例4 | 对比例5 | 对比例6 | |
| 耐热性/℃ | 120 | 120 | 115 | 120 | 120 | 115 |
以上内容仅为说明本发明的技术思想，不能以此限定本发明的保护范围，凡是按照本发明提出的技术思想，在技术方案基础上所做的任何改动，均落入本发明权利要求书的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种改性树脂的制备方法，用于光刻胶，其特征在于，包括以下步骤：
S1：将树脂加入到加热后的溶剂中，搅拌至完全溶解，过滤后得到活化后的树脂溶液；
S2：将烷氧基硅烷、乙醇和纯水混合后，调节pH值，进行反应后得到改性溶液；
S3：将改性溶液加入到活化后的树脂溶液中，搅拌后得到改性树脂。
2.根据权利要求1所述的一种改性树脂的制备方法，其特征在于，所述溶剂为丙二醇甲醚醋酸酯；所述树脂为线性酚醛树脂，分子量为3000-5000。
3.根据权利要求1所述的一种改性树脂的制备方法，其特征在于，S1中，加热的温度为80-85℃，搅拌时间为30-60min。
4.根据权利要求1所述的一种改性树脂的制备方法，其特征在于，S1中，所述树脂和溶剂的用量比为1：(2-2.5)；S2中，所述烷氧基硅烷包括甲基三乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷或二甲基二乙氧基硅烷；反应是在58-62℃下反应2～4h；所述pH值为4.8-5.2；所述烷氧基硅烷、乙醇和纯水的摩尔比为1：(2-2.3)：(0.15-0.2)。
5.根据权利要求1所述的一种改性树脂的制备方法，其特征在于，S3中，所述改性溶液与活化后的树脂溶液的用量比为1：(10-15)；搅拌是在103-106℃下先搅拌30min～40min，降温至80-85℃，再搅拌6-8h，然后降至室温，得到改性树脂溶液。
6.采用权利要求1～5中任意一项所述的一种改性树脂的制备方法得到的改性树脂。
7.一种光刻胶，其特征在于，以质量百分比计，所述光刻胶的成分包括：10％～15％权利要求6中所述的改性树脂、2％～3％的感光剂、0.01％～0.32％的添加剂，余量为溶剂。
8.根据权利要求7所述的一种光刻胶，其特征在于，所述感光剂包括四羟基二苯甲酮-重氮萘醌磺酸酯或三羟基二苯甲酮-重氮萘醌磺酸酯；所述四羟基二苯甲酮-重氮萘醌磺酸酯或三羟基二苯甲酮-重氮萘醌磺酸酯的酯化度为78％～83％；所述添加剂为4-氨基吡唑并嘧啶和六甲基二硅氮烷，4-氨基吡唑并嘧啶和六甲基二硅氮烷的质量比为1：(10-15)。
9.根据权利要求7所述的一种光刻胶，其特征在于，所述溶剂为丙二醇甲醚醋酸酯、二丙二醇甲醚醋酸酯和苯甲醇中的一种或多种。
10.权利要求7～9中任意一项所述的一种光刻胶的应用，其特征在于，所述光刻胶用于制造液晶面板或半导体器件。
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| CN (1) | CN114752027A (zh) |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1249824A (zh) * | 1997-03-07 | 2000-04-05 | 克拉里安特国际有限公司 | 包含新的光活性化合物的正性光刻胶 |
| EP1096313A1 (en) * | 1999-11-01 | 2001-05-02 | Kansai Research Institute, Inc. | Active particle, photosensitive resin composition, and process for forming pattern |
| US20030138731A1 (en) * | 2001-12-21 | 2003-07-24 | Treliant Fang | Photoresist formulation for high aspect ratio plating |
| CN107383295A (zh) * | 2016-12-05 | 2017-11-24 | 陕西环珂生物科技有限公司 | 一种改性有机硅酚醛树脂的制备方法 |
| CN112631076A (zh) * | 2020-12-23 | 2021-04-09 | 阜阳申邦新材料技术有限公司 | 一种耐高温正性光刻胶 |
| CN114114835A (zh) * | 2021-12-13 | 2022-03-01 | 陕西彩虹新材料有限公司 | 一种添加剂及包含该添加剂的光刻胶组合物 |
-
2022
- 2022-03-31 CN CN202210355191.8A patent/CN114752027A/zh active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1249824A (zh) * | 1997-03-07 | 2000-04-05 | 克拉里安特国际有限公司 | 包含新的光活性化合物的正性光刻胶 |
| EP1096313A1 (en) * | 1999-11-01 | 2001-05-02 | Kansai Research Institute, Inc. | Active particle, photosensitive resin composition, and process for forming pattern |
| US20030138731A1 (en) * | 2001-12-21 | 2003-07-24 | Treliant Fang | Photoresist formulation for high aspect ratio plating |
| CN107383295A (zh) * | 2016-12-05 | 2017-11-24 | 陕西环珂生物科技有限公司 | 一种改性有机硅酚醛树脂的制备方法 |
| CN112631076A (zh) * | 2020-12-23 | 2021-04-09 | 阜阳申邦新材料技术有限公司 | 一种耐高温正性光刻胶 |
| CN114114835A (zh) * | 2021-12-13 | 2022-03-01 | 陕西彩虹新材料有限公司 | 一种添加剂及包含该添加剂的光刻胶组合物 |
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| YANG, X，等: "Synthesis, Characterization, and Properties of Silicone-Epoxy Resins", JOURNAL OF APPLIED POLYMER SCIENCE * |
| 赵成阳: "双响应可降解光刻胶的制备及应用", 中国优秀硕士学位论文全文数据库工程科技Ⅰ辑 * |
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