CN113789502A - 一种电子显示屏镀膜方法 - Google Patents

一种电子显示屏镀膜方法 Download PDF

Info

Publication number
CN113789502A
CN113789502A CN202111062026.5A CN202111062026A CN113789502A CN 113789502 A CN113789502 A CN 113789502A CN 202111062026 A CN202111062026 A CN 202111062026A CN 113789502 A CN113789502 A CN 113789502A
Authority
CN
China
Prior art keywords
display screen
electronic display
coating
coating method
glass layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202111062026.5A
Other languages
English (en)
Inventor
吕如军
何晏兵
许沭华
朱常青
秦家春
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Wuhu Token Sciences Co Ltd
Original Assignee
Wuhu Token Sciences Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Wuhu Token Sciences Co Ltd filed Critical Wuhu Token Sciences Co Ltd
Priority to CN202111062026.5A priority Critical patent/CN113789502A/zh
Publication of CN113789502A publication Critical patent/CN113789502A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
    • C23C14/0036—Reactive sputtering
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
    • C23C14/021—Cleaning or etching treatments
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0641—Nitrides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08—Oxides
    • C23C14/083—Oxides of refractory metals or yttrium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/58—After-treatment

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明提供一种应用于电子显示屏技术领域的电子显示屏镀膜方法，所述的电子显示屏镀膜方法的镀膜步骤为：通过镀膜清洗机清洗玻璃层；镀膜方式采用磁控溅射，磁控溅射是等离子体的真空沉积技术，在真空条件下实现等离子体放电，利用电磁场控制带电粒子的运动，轰击被镀材料，在玻璃层上沉积所需要的薄膜，镀膜靶材选用旋转铬靶，靶位配置两对旋转铬靶实现CrO2层和CrN层在玻璃层上的连续镀膜，本发明所述的电子显示屏镀膜方法，能够有效调整显示屏的可视区域的反射率、透过率、色差，使得触摸显示屏的可视区与丝印边框颜色呈现一致，有效解决显示屏在息屏状态下的色差问题，提升视觉效果，提高显示屏整体性能。

Description

一种电子显示屏镀膜方法
技术领域
本发明属于电子显示屏技术领域，更具体地说，是涉及一种电子显示屏镀膜方法。
背景技术
随着电子产品的多元化发展，显示屏越来越朝着大尺寸、多屏化、高清化、交互性、多形态化的方向发展，对于显示的性能要求也有更高的要求，包括高对比度、低反射率、宽视角、高亮度、触控以及快速响应等等。除此之外，显示屏细节、结构的新颖设计，也能对提高产品竞争力起到意想不到的作用。因此，能够打造新颖、醒目、美观且具有科技感的显示效果的“一体黑”技术将会成为趋势之一。然而，现有大多丝印显示屏的油墨区与视窗区通常是不同颜色的，显示屏在息屏状态下，显示区与边缘油墨区有明显的色差界限，视觉效果较差。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是：针对现有技术的不足，提供一种能够有效调整显示屏的可视区域的反射率、透过率、色差，从而使得触摸显示屏的可视区与丝印边框颜色呈现一致，从而有效解决显示屏在息屏状态下的色差问题，提升视觉效果的电子显示屏镀膜方法。
要解决以上所述的技术问题，本发明采取的技术方案为：
本发明为一种电子显示屏镀膜方法，所述的电子显示屏镀膜方法的镀膜步骤为：
S1.通过镀膜清洗机清洗玻璃层；
S2.镀膜方式采用磁控溅射，磁控溅射是等离子体的真空沉积技术，在真空条件下实现等离子体放电，利用电磁场控制带电粒子的运动，轰击被镀材料，从而在玻璃层上沉积所需要的薄膜，镀膜靶材选用旋转铬靶，靶位配置两对旋转铬靶实现CrO2层和CrN层在玻璃层上的连续镀膜；
S3.镀膜工艺时，真空度控制在1pa以下，温度控制在200±50℃，并在铬靶位通入90±30Sccm的溅射气体Ar和110±50Sccm的反应气体O2，200±50Sccm的反应气体N2以保证一体黑效果。
所述的镀膜的均匀性通过控制膜层溅射和沉积的均匀性实现，其中通过控制靶材磁场的均匀性达到获得均匀的溅射率，通过控制靶材两侧阳极罩的开口距离获得均匀的沉积率。
所述的光学标准为，550nm反射率10±3％。
所述的透过率60±3％，反射色度a值-1±2，反射色度b值-3±2。
所述的通过镀膜清洗机清洗玻璃层时，使用纯水、碱水通过传动、毛刷、高压喷淋和风刀来去除原材上的脏污。
所述的通过镀膜清洗机清洗玻璃层时，清洗机速度4±2m/min,碱水的PH值要求11±1。
所述的毛刷转速300±50r/min，喷淋压力35±5psi，风刀压力5±2kpa。
采用本发明的技术方案，能得到以下的有益效果：
本发明所述的电子显示屏镀膜方法，原材清洗→磁控溅射镀膜→切割CNC→丝印→包装出货，主要难点在于镀膜膜厚控制、光学标准、均匀性控制。本发明的方法，通过磁控溅射技术在玻璃基材上镀膜来调整可视区域的反射率、透过率、色差，从而使触摸显示屏可视区与丝印边框颜色呈现一致。本发明所述的电子显示屏镀膜方法，步骤简单，能够有效调整显示屏的可视区域的反射率、透过率、色差，使得触摸显示屏的可视区与丝印边框颜色呈现一致，从而有效解决显示屏在息屏状态下的色差问题，提升视觉效果，提高显示屏整体性能。
附图说明
下面对本说明书各附图所表达的内容及图中的标记作出简要的说明：
图1为本发明所述的电子显示屏的结构示意图；
附图中标记分别为：1、玻璃层(基板)；2、CrO2层；3、CrN层。
具体实施方式
下面对照附图，通过对实施例的描述，对本发明的具体实施方式如所涉及的各构件的形状、构造、各部分之间的相互位置及连接关系、各部分的作用及工作原理等作进一步的详细说明：
如附图1所示，本发明为一种电子显示屏镀膜方法，所述的电子显示屏镀膜方法的镀膜步骤为：S1.通过镀膜清洗机清洗玻璃层1；S2.镀膜方式采用磁控溅射，磁控溅射是等离子体的真空沉积技术，在真空条件下实现等离子体放电，利用电磁场控制带电粒子的运动，轰击被镀材料，从而在玻璃层1上沉积所需要的薄膜，镀膜靶材选用旋转铬靶，靶位配置两对旋转铬靶实现CrO2层2和CrN层3在玻璃层1上的连续镀膜；S3.镀膜工艺时，真空度控制在1pa以下，温度控制在200±50℃，并在铬靶位通入90±30Sccm的溅射气体Ar和110±50Sccm的反应气体O2，200±50Sccm的反应气体N2以保证一体黑效果。本发明的方法，原材清洗→磁控溅射镀膜→切割CNC→丝印→包装出货，主要难点在于镀膜膜厚控制、光学标准、均匀性控制。本发明的方法，通过磁控溅射技术在玻璃基材上镀膜来调整可视区域的反射率、透过率、色差，从而使触摸显示屏可视区与丝印边框颜色呈现一致。本发明所述的电子显示屏镀膜方法，步骤简单，能够有效调整显示屏的可视区域的反射率、透过率、色差，从而使得触摸显示屏的可视区与丝印边框颜色呈现一致，从而有效解决显示屏在息屏状态下的色差问题，解决现有问题，提升视觉效果，提高显示屏整体性能。
所述的镀膜的均匀性通过控制膜层溅射和沉积的均匀性实现，其中通过控制靶材磁场的均匀性达到获得均匀的溅射率，通过控制靶材两侧阳极罩的开口距离获得均匀的沉积率。
所述的光学标准为，550nm反射率10±3％。所述的透过率60±3％，反射色度a值-1±2，反射色度b值-3±2。
所述的通过镀膜清洗机清洗玻璃层1时，使用纯水、碱水通过传动、毛刷、高压喷淋和风刀来去除原材上的脏污。
所述的通过镀膜清洗机清洗玻璃层1时，清洗机速度4±2m/min,碱水的PH值要求11±1。所述的毛刷转速300±50r/min，喷淋压力35±5psi，风刀压力5±2kpa。
本发明所述的电子显示屏镀膜方法，1)原材清洗通过镀膜清洗机清洗基板，使用纯水、碱水通过传动、毛刷、高压喷淋和风刀来去除原材上的脏污，其中清洗机速度4±2m/min,碱水的PH值要求11±1，毛刷转速300±50r/min，喷淋压力35±5psi，风刀压力5±2kpa；2)镀膜方式采用磁控溅射，磁控溅射是等离子体的真空沉积技术，在真空条件下实现等离子体放电，利用电磁场控制带电粒子的运动，轰击被镀材料，从而在基片上沉积所需要的薄膜，镀膜靶材选用旋转铬靶，靶位配置为2对旋转铬靶来实现CrO2+CrN连续镀膜，如附图1；3)镀膜工艺：真空度控制在1pa以下，温度控制在200±50℃，并在铬靶位通入90±30Sccm的溅射气体Ar和110±50Sccm的反应气体O2，200±50Sccm的反应气体N2以保证一体黑效果；4)镀膜的均匀性是通过控制膜层溅射和沉积的均匀性，其中通过控制靶材磁场的均匀性来达到获得均匀的溅射率，通过控制靶材两侧阳极罩的开口距离来获得均匀的沉积率；制定相应的光学标准，即550nm反射率10±3％，透过率60±3％，反射色度a值-1±2，反射色度b值-3±2。
本发明所述的电子显示屏镀膜方法，原材清洗→磁控溅射镀膜→切割CNC→丝印→包装出货，主要难点在于镀膜膜厚控制、光学标准、均匀性控制。本发明的方法，通过磁控溅射技术在玻璃基材上镀膜来调整可视区域的反射率、透过率、色差，从而使触摸显示屏可视区与丝印边框颜色呈现一致。本发明所述的电子显示屏镀膜方法，步骤简单，能够有效调整显示屏的可视区域的反射率、透过率、色差，使得触摸显示屏的可视区与丝印边框颜色呈现一致，从而有效解决显示屏在息屏状态下的色差问题，提升视觉效果，提高显示屏整体性能。
上面结合附图对本发明进行了示例性的描述，显然本发明具体的实现并不受上述方式的限制，只要采用了本发明的方法构思和技术方案进行的各种改进，或未经改进将本发明的构思和技术方案直接应用于其他场合的，均在本发明的保护范围内。

Claims (7)

1.一种电子显示屏镀膜方法，其特征在于：所述的电子显示屏镀膜方法的镀膜步骤为：
S1.通过镀膜清洗机清洗玻璃层(1)；
S2.镀膜方式采用磁控溅射，磁控溅射是等离子体的真空沉积技术，在真空条件下实现等离子体放电，利用电磁场控制带电粒子的运动，轰击被镀材料，从而在玻璃层(1)上沉积所需要的薄膜，镀膜靶材选用旋转铬靶，靶位配置两对旋转铬靶实现CrO2层(2)和CrN层(3)在玻璃层(1)上的连续镀膜；
S3.镀膜工艺时，真空度控制在1pa以下，温度控制在200±50℃，并在铬靶位通入90±30Sccm的溅射气体Ar和110±50Sccm的反应气体O2，200±50Sccm的反应气体N2以保证一体黑效果。
2.根据权利要求1所述的电子显示屏镀膜方法，其特征在于：所述的镀膜的均匀性通过控制膜层溅射和沉积的均匀性实现，其中通过控制靶材磁场的均匀性达到获得均匀的溅射率，通过控制靶材两侧阳极罩的开口距离获得均匀的沉积率。
3.根据权利要求1或2所述的电子显示屏镀膜方法，其特征在于：所述的光学标准为，550nm反射率10±3％。
4.根据权利要求3所述的电子显示屏镀膜方法，其特征在于：所述的透过率60±3％，反射色度a值-1±2，反射色度b值-3±2。
5.根据权利要求4所述的电子显示屏镀膜方法，其特征在于：所述的通过镀膜清洗机清洗玻璃层(1)时，使用纯水、碱水通过传动、毛刷、高压喷淋和风刀来去除原材上的脏污。
6.根据权利要求1或2所述的电子显示屏镀膜方法，其特征在于：所述的通过镀膜清洗机清洗玻璃层(1)时，清洗机速度4±2m/min,碱水的PH值要求11±1。
7.根据权利要求6所述的电子显示屏镀膜方法，其特征在于：所述的毛刷转速300±50r/min，喷淋压力35±5psi，风刀压力5±2kpa。
CN202111062026.5A 2021-09-10 2021-09-10 一种电子显示屏镀膜方法 Pending CN113789502A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202111062026.5A CN113789502A (zh) 2021-09-10 2021-09-10 一种电子显示屏镀膜方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202111062026.5A CN113789502A (zh) 2021-09-10 2021-09-10 一种电子显示屏镀膜方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN113789502A true CN113789502A (zh) 2021-12-14

Family

ID=79182967

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202111062026.5A Pending CN113789502A (zh) 2021-09-10 2021-09-10 一种电子显示屏镀膜方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN113789502A (zh)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH093643A (ja) * 1995-06-14 1997-01-07 Sumitomo Chem Co Ltd クロム化合物の膜を有する基板の製造方法およびカラーフィルター
JPH0920978A (ja) * 1995-06-30 1997-01-21 Sumitomo Chem Co Ltd クロム化合物の膜を有する基板の製造方法および低反射ブラックマスクを有するカラーフィルター
JPH1114806A (ja) * 1997-04-30 1999-01-22 S T I Technol Kk ブラックマスク及びその製造方法及びこれを用いたカラーフィルター並びに液晶ディスプレイ
CN113066942A (zh) * 2021-03-19 2021-07-02 芜湖长信科技股份有限公司 一种oled的imito结构及oled消影镀膜方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH093643A (ja) * 1995-06-14 1997-01-07 Sumitomo Chem Co Ltd クロム化合物の膜を有する基板の製造方法およびカラーフィルター
JPH0920978A (ja) * 1995-06-30 1997-01-21 Sumitomo Chem Co Ltd クロム化合物の膜を有する基板の製造方法および低反射ブラックマスクを有するカラーフィルター
JPH1114806A (ja) * 1997-04-30 1999-01-22 S T I Technol Kk ブラックマスク及びその製造方法及びこれを用いたカラーフィルター並びに液晶ディスプレイ
CN113066942A (zh) * 2021-03-19 2021-07-02 芜湖长信科技股份有限公司 一种oled的imito结构及oled消影镀膜方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101628492B (zh) 一种镀膜材料及其制备方法
CN101475317A (zh) 触摸屏用高透过率导电玻璃及其生产工艺
CN103699286A (zh) 一种电容触摸屏的消隐制作方法
US20090051860A1 (en) Blank, black matrix, and color filter
CN109624579A (zh) 装饰膜片的制备方法、装饰膜片、电池后盖以及电子设备
CN201343569Y (zh) 连续式平面磁控溅射镀膜设备
CN109023273B (zh) 一种镀膜设备及镀膜方法
CN101670743A (zh) 一种双色基板及其制备方法
JPH08190091A (ja) 液晶ディスプレイ用薄膜基板及びこの薄膜基板を使用した液晶ディスプレイ並びに液晶ディスプレイ用薄膜基板の作成装置
KR20110034889A (ko) 진공증착법을 이용한 터치스크린 패널용 데코레이션 제조방법
US10655209B2 (en) Electromagnetic shield
CN113789502A (zh) 一种电子显示屏镀膜方法
CN105084773A (zh) 增透型消影azo导电玻璃及其制造方法以及触控装置
CN110499490B (zh) 一种减反射盖板及其制备方法
CN108277470A (zh) 一种pvd涂装工艺
WO2023005136A1 (zh) 中灰镜及其制备方法、制备装置
CN110484862A (zh) 复合涂层Logo及其制备方法与包含其的陶瓷盖板和电子设备
CN114921752A (zh) 一种复合板材提高亮度的加工工艺
CN209103708U (zh) 一种非导镜面显示面板
AU7609101A (en) Plastic optical devices having antireflection film and mechanism for equalizing thickness of antireflection film
CN101458355B (zh) 一种cf显示面板以及加工方法
CN112209626A (zh) 一种高阻膜及其制备方法与应用
CN106048526B (zh) 氮化锌膜、触摸屏盖板及膜的制备方法、应用
CN110396672A (zh) 一种实现渐变色的离子溅射镀膜方法及装置
CN102917089A (zh) 显示屏的面板及加工方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination