JPH093643A - クロム化合物の膜を有する基板の製造方法およびカラーフィルター - Google Patents
クロム化合物の膜を有する基板の製造方法およびカラーフィルターInfo
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- JPH093643A JPH093643A JP14732495A JP14732495A JPH093643A JP H093643 A JPH093643 A JP H093643A JP 14732495 A JP14732495 A JP 14732495A JP 14732495 A JP14732495 A JP 14732495A JP H093643 A JPH093643 A JP H093643A
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- low reflection
- color filter
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】反応性スパッタリング法により、不活性ガスを
使用しない、コスト的に優れた低反射クロム膜を有する
基板の製造方法、および低反射ブラックマスクとするカ
ラーフィルターを提供する。 【構成】反応性スパッタリング法によりクロム酸化物お
よびクロム窒化物の混合物からなるクロム化合物の膜を
有する基板を製造する方法において、ターゲットとして
クロム金属を用い、雰囲気ガスとして酸素ガスの比率4.
5容量％以下、窒素ガスの比率95.5容量％以上の混合ガ
スを用いて反応性スパッタリングを行なう製造方法。ま
た、基板のクロム化合物の膜上に、遮光層としてクロム
金属膜を形成する２層化した低反射クロム膜を有する基
板の製造方法。さらには基板の低反射クロム膜を加工し
て得られる膜を、低反射ブラックマスクとするカラーフ
ィルター。
使用しない、コスト的に優れた低反射クロム膜を有する
基板の製造方法、および低反射ブラックマスクとするカ
ラーフィルターを提供する。 【構成】反応性スパッタリング法によりクロム酸化物お
よびクロム窒化物の混合物からなるクロム化合物の膜を
有する基板を製造する方法において、ターゲットとして
クロム金属を用い、雰囲気ガスとして酸素ガスの比率4.
5容量％以下、窒素ガスの比率95.5容量％以上の混合ガ
スを用いて反応性スパッタリングを行なう製造方法。ま
た、基板のクロム化合物の膜上に、遮光層としてクロム
金属膜を形成する２層化した低反射クロム膜を有する基
板の製造方法。さらには基板の低反射クロム膜を加工し
て得られる膜を、低反射ブラックマスクとするカラーフ
ィルター。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、クロム化合物の膜を有
する基板の製造方法、２層化した低反射クロム膜を有す
る基板の製造方法およびその低反射クロム膜を加工して
得られる膜を低反射ブラックマスクとするカラーフィル
ターに関する。
する基板の製造方法、２層化した低反射クロム膜を有す
る基板の製造方法およびその低反射クロム膜を加工して
得られる膜を低反射ブラックマスクとするカラーフィル
ターに関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示素子に用いられるカラーフィル
ターでは、パネル視認性を向上させるため、その構成要
素の一つであるブラックマスク表面での光反射を低減さ
せることが求められている。フォトマスク素材用の分野
では、例えば、特公平3-73628公報に記載されているよ
うに、基板の上に遮光層としてクロム膜を形成し、次に
このクロム膜の上に反応性スパッタリング法により、ク
ロム酸化物とクロム窒化物の混合膜（反射防止膜）を形
成して、２層の低反射クロム膜を有する基板を製造する
方法において、反応性スパッタリングの雰囲気ガスとし
て酸素ガス比率１〜５容量％、窒素ガス比率１０〜４０
容量％、不活性ガス４５〜８９容量％からなる混合ガス
を用いて行なうことが知られている。しかし、これら従
来の技術においては、反射防止膜であるクロム化合物の
膜を形成する際に不活性ガスを使用し、コスト的に割高
になるという欠点がある。また、これらの技術はフォト
マスク素材用のものであり、液晶表示素子に用いられる
カラーフィルターの素材用に適用しうるかどうか明らか
でない。
ターでは、パネル視認性を向上させるため、その構成要
素の一つであるブラックマスク表面での光反射を低減さ
せることが求められている。フォトマスク素材用の分野
では、例えば、特公平3-73628公報に記載されているよ
うに、基板の上に遮光層としてクロム膜を形成し、次に
このクロム膜の上に反応性スパッタリング法により、ク
ロム酸化物とクロム窒化物の混合膜（反射防止膜）を形
成して、２層の低反射クロム膜を有する基板を製造する
方法において、反応性スパッタリングの雰囲気ガスとし
て酸素ガス比率１〜５容量％、窒素ガス比率１０〜４０
容量％、不活性ガス４５〜８９容量％からなる混合ガス
を用いて行なうことが知られている。しかし、これら従
来の技術においては、反射防止膜であるクロム化合物の
膜を形成する際に不活性ガスを使用し、コスト的に割高
になるという欠点がある。また、これらの技術はフォト
マスク素材用のものであり、液晶表示素子に用いられる
カラーフィルターの素材用に適用しうるかどうか明らか
でない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、反応
性スパッタリング法により、クロム化合物の膜を有する
基板を製造する際に、不活性ガスを使用しない、コスト
的に優れた方法、それを素材とする低反射クロム膜を有
する基板の製造方法、およびその低反射クロム膜を加工
して得られる膜を低反射ブラックマスクとするカラーフ
ィルターを提供することである。
性スパッタリング法により、クロム化合物の膜を有する
基板を製造する際に、不活性ガスを使用しない、コスト
的に優れた方法、それを素材とする低反射クロム膜を有
する基板の製造方法、およびその低反射クロム膜を加工
して得られる膜を低反射ブラックマスクとするカラーフ
ィルターを提供することである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、反射防止
層として、いくつかのクロム化合物の中でクロム酸化物
とクロム窒化物の混合膜に注目し、それを形成する方法
について鋭意検討した結果、一般的に使用される不活性
ガスを使用しないで、良好な特性の膜を得るための酸素
と窒素の混合ガスの最適のガス比率を見出し本発明に到
達した。
層として、いくつかのクロム化合物の中でクロム酸化物
とクロム窒化物の混合膜に注目し、それを形成する方法
について鋭意検討した結果、一般的に使用される不活性
ガスを使用しないで、良好な特性の膜を得るための酸素
と窒素の混合ガスの最適のガス比率を見出し本発明に到
達した。
【０００５】すなわち、本発明は、次のとおりである。 （１）反応性スパッタリング法によりクロム酸化物およ
びクロム窒化物の混合物からなるクロム化合物の膜を有
する基板を製造する方法において、ターゲットとしてク
ロム金属を用い、雰囲気ガスとして酸素ガスの比率4.5
容量％以下、窒素ガスの比率95.5容量％以上の混合ガス
を用いて反応性スパッタリングを行なうことを特徴とす
る製造方法。 （２）上記（１）記載の製造方法で得られる、基板のク
ロム化合物の膜上に、遮光層としてクロム金属膜を形成
することを特徴とする、２層化した低反射クロム膜を有
する基板の製造方法。 （３）上記（２）記載の製造方法で得られる基板の低反
射クロム膜を加工して得られる膜を低反射ブラックマス
クとするカラーフィルター。
びクロム窒化物の混合物からなるクロム化合物の膜を有
する基板を製造する方法において、ターゲットとしてク
ロム金属を用い、雰囲気ガスとして酸素ガスの比率4.5
容量％以下、窒素ガスの比率95.5容量％以上の混合ガス
を用いて反応性スパッタリングを行なうことを特徴とす
る製造方法。 （２）上記（１）記載の製造方法で得られる、基板のク
ロム化合物の膜上に、遮光層としてクロム金属膜を形成
することを特徴とする、２層化した低反射クロム膜を有
する基板の製造方法。 （３）上記（２）記載の製造方法で得られる基板の低反
射クロム膜を加工して得られる膜を低反射ブラックマス
クとするカラーフィルター。
【０００６】以下、本発明を詳細に説明する。本発明に
おいて、反応性スパッタリング法は、公知の方法で行わ
れる。本発明において、使用される基板としては、代表
例としてガラス板があげられる。本発明において、基板
上に、ターゲットとしてクロム金属を用い、雰囲気ガス
として酸素ガスの比率4.5容量％以下、窒素ガスの比率9
5.5容量％以上の混合ガスを用いて反応性スパッタリン
グを行なうことにより、クロム酸化物およびクロム窒化
物の混合物からなるクロム化合物の膜を有する基板を製
造することができる。
おいて、反応性スパッタリング法は、公知の方法で行わ
れる。本発明において、使用される基板としては、代表
例としてガラス板があげられる。本発明において、基板
上に、ターゲットとしてクロム金属を用い、雰囲気ガス
として酸素ガスの比率4.5容量％以下、窒素ガスの比率9
5.5容量％以上の混合ガスを用いて反応性スパッタリン
グを行なうことにより、クロム酸化物およびクロム窒化
物の混合物からなるクロム化合物の膜を有する基板を製
造することができる。
【０００７】第１図は、ターゲットとしてクロム金属を
用い、雰囲気ガスとして酸素ガスと窒素ガスの混合ガス
を用いて反応性スパッタリングを行ない、クロム化合物
の膜を有する基板を製造する場合における、ガス流中の
酸素ガス流量パーセントと、得られる膜の光反射率（ボ
トム値）の関係を示したものである。なお、この場合、
反射率の測定は、クロム化合物の膜（反射防止層）の上
に金属クロム膜（遮光層）を形成したものについて、基
板側から行なった。ここでいうガス流量パーセントと
は、１分間に流入するガス流量の比率をいう。また、こ
の場合のスパッタ圧力は0.4Pa、スパッタパワーは2.2W/
cm2である。第１図から明らかなように、反応性スパッ
タリング法により、クロム化合物の膜を有する基板を製
造する方法において、そこで使用される雰囲気ガスとし
ては、酸素ガス4.5容量％以下、好ましくは0.1 〜4 容
量％、窒素ガス95.5％以上、好ましくは96〜99.9容量％
の混合ガスが好適である。
用い、雰囲気ガスとして酸素ガスと窒素ガスの混合ガス
を用いて反応性スパッタリングを行ない、クロム化合物
の膜を有する基板を製造する場合における、ガス流中の
酸素ガス流量パーセントと、得られる膜の光反射率（ボ
トム値）の関係を示したものである。なお、この場合、
反射率の測定は、クロム化合物の膜（反射防止層）の上
に金属クロム膜（遮光層）を形成したものについて、基
板側から行なった。ここでいうガス流量パーセントと
は、１分間に流入するガス流量の比率をいう。また、こ
の場合のスパッタ圧力は0.4Pa、スパッタパワーは2.2W/
cm2である。第１図から明らかなように、反応性スパッ
タリング法により、クロム化合物の膜を有する基板を製
造する方法において、そこで使用される雰囲気ガスとし
ては、酸素ガス4.5容量％以下、好ましくは0.1 〜4 容
量％、窒素ガス95.5％以上、好ましくは96〜99.9容量％
の混合ガスが好適である。
【０００８】このようにして基板上に形成されるクロム
化合物膜は、クロム酸化物とクロム窒化物の混合物の膜
であり、その膜厚は４００〜５００オングストローム程
度である。この膜は光反射防止性能を有し、液晶表示素
子用等のカラーフィルターの低反射ブラックマスクの反
射防止層の素材として使用しうる。
化合物膜は、クロム酸化物とクロム窒化物の混合物の膜
であり、その膜厚は４００〜５００オングストローム程
度である。この膜は光反射防止性能を有し、液晶表示素
子用等のカラーフィルターの低反射ブラックマスクの反
射防止層の素材として使用しうる。
【０００９】基板上にクロム化合物膜を形成したあと、
次いでその上にスパッタリング法により、膜厚が１００
０〜１５００オングストローム程度である金属クロム膜
からなる遮光層を形成し、２層化した低反射クロム膜を
有する基板を製造する。こうして得られる低反射クロム
膜を有する基板は、液晶表示素子用等のカラーフィルタ
ーの素材として使用しうる。低反射クロム膜を有する基
板を素材として、カラーフィルターを製造する方法の一
例をあげれば、次のとおりである。
次いでその上にスパッタリング法により、膜厚が１００
０〜１５００オングストローム程度である金属クロム膜
からなる遮光層を形成し、２層化した低反射クロム膜を
有する基板を製造する。こうして得られる低反射クロム
膜を有する基板は、液晶表示素子用等のカラーフィルタ
ーの素材として使用しうる。低反射クロム膜を有する基
板を素材として、カラーフィルターを製造する方法の一
例をあげれば、次のとおりである。
【００１０】すなわち、まず、低反射２層クロム膜上に
感光性レジストを塗布し、露光、現像を行うことによっ
て、所定のレジストパターンを形成する。次に、硝酸第
２セリウムアンモニウムを主成分としたエッチング液を
用いて、前記２層クロム膜をエッチングし、ブラックマ
スクを形成する。ブラックマスクとは、各画素の周囲を
枠状に覆う膜である。次に、赤色のレジストを塗布後、
露光、現像を行って赤色画素の形成を行う。青、緑の画
素についても同様の手法で形成する。最後にITO膜を形
成することによって、カラーフィルターを完成させる。
感光性レジストを塗布し、露光、現像を行うことによっ
て、所定のレジストパターンを形成する。次に、硝酸第
２セリウムアンモニウムを主成分としたエッチング液を
用いて、前記２層クロム膜をエッチングし、ブラックマ
スクを形成する。ブラックマスクとは、各画素の周囲を
枠状に覆う膜である。次に、赤色のレジストを塗布後、
露光、現像を行って赤色画素の形成を行う。青、緑の画
素についても同様の手法で形成する。最後にITO膜を形
成することによって、カラーフィルターを完成させる。
【００ｌ１】
【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れに限定されるものではない。 実施例１ ガラス基板を、スパッタリング装置内に装着し、1.0×1
0-4Paまで排気した後、流量パーセント比がO2:N2＝1:99
である酸素ガスおよび窒素ガスの混合ガスを0.4Paまで
導入した。スパッタパワーを2.2W/cm2にして、クロム金
属をターゲットとしてスパッタリングを行い、クロム酸
化物とクロム窒化物の混合物からなる膜厚５００オング
ストロームの反射防止層を得た。その後再び1.0×10-4P
aまで排気した後、アルゴンガスを0.1Paまで導入した。
そしてスパッタパワーを5W/cm2に調製してクロム金属を
ターゲットとしてスパッタリングを行い、クロム金属か
らなる膜厚１２００オングストロームの遮光層を形成し
た。このようにして作製した低反射２層クロム膜の反射
率は第２図（a）に示すように、低反射率であった。反
射率は、ガラス基板側より、ミノルタＣＭ−２００２分
光測色計を用いて測定した。
れに限定されるものではない。 実施例１ ガラス基板を、スパッタリング装置内に装着し、1.0×1
0-4Paまで排気した後、流量パーセント比がO2:N2＝1:99
である酸素ガスおよび窒素ガスの混合ガスを0.4Paまで
導入した。スパッタパワーを2.2W/cm2にして、クロム金
属をターゲットとしてスパッタリングを行い、クロム酸
化物とクロム窒化物の混合物からなる膜厚５００オング
ストロームの反射防止層を得た。その後再び1.0×10-4P
aまで排気した後、アルゴンガスを0.1Paまで導入した。
そしてスパッタパワーを5W/cm2に調製してクロム金属を
ターゲットとしてスパッタリングを行い、クロム金属か
らなる膜厚１２００オングストロームの遮光層を形成し
た。このようにして作製した低反射２層クロム膜の反射
率は第２図（a）に示すように、低反射率であった。反
射率は、ガラス基板側より、ミノルタＣＭ−２００２分
光測色計を用いて測定した。
【００１１】比較例 酸素ガスおよび窒素ガスの混合ガスの流量パーセント比
をO2:N2＝35:65とした以外は、実施例１と同様にして、
膜厚５００オングストロームの反射防止層および膜厚１
２００オングストロームの遮光層を形成した。このよう
にして作製した低反射２層クロム膜の反射率は第２図
（b）に示すように高く、悪かった。
をO2:N2＝35:65とした以外は、実施例１と同様にして、
膜厚５００オングストロームの反射防止層および膜厚１
２００オングストロームの遮光層を形成した。このよう
にして作製した低反射２層クロム膜の反射率は第２図
（b）に示すように高く、悪かった。
【００１２】
【発明の効果】本発明によれば、基板上にクロム化合物
膜（反射防止層）を形成時に、不活性ガスを使用する必
要がなく、低コストで低反射率な膜を作製することがで
きる。また、スパッタリング装置についてもガス配管を
１本削減できるため、コストを削減できる。
膜（反射防止層）を形成時に、不活性ガスを使用する必
要がなく、低コストで低反射率な膜を作製することがで
きる。また、スパッタリング装置についてもガス配管を
１本削減できるため、コストを削減できる。
【図１】ガラス基板上に反応性スパッタリングにより、
クロム酸化物とクロム窒化物の混合物からなるクロム化
合物の膜（反射防止層）を製造する際の、酸素流量パー
セントと、得られる膜の光反射率の関係を示した図であ
る。なお、この場合、反射率の測定は、クロム化合物の
膜（反射防止層）の上に金属クロム膜（遮光層）を形成
したものについて行なった。
クロム酸化物とクロム窒化物の混合物からなるクロム化
合物の膜（反射防止層）を製造する際の、酸素流量パー
セントと、得られる膜の光反射率の関係を示した図であ
る。なお、この場合、反射率の測定は、クロム化合物の
膜（反射防止層）の上に金属クロム膜（遮光層）を形成
したものについて行なった。
【図２】反射率の波長依存性を示すグラフである。
a：反射防止層形成時のガス流量パーセント比がO2:N2＝
1:99の場合 b：反射防止層形成時のガス流量パーセント比がO2:N2＝
35:65の場合
1:99の場合 b：反射防止層形成時のガス流量パーセント比がO2:N2＝
35:65の場合
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０２Ｂ 1/11 Ｇ０２Ｂ 5/20 １０１ 5/20 １０１ Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５０５ Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５０５ Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ
Claims (3)
- 【請求項１】反応性スパッタリング法により、クロム酸
化物およびクロム窒化物の混合物からなるクロム化合物
の膜を有する基板を製造する方法において、ターゲット
としてクロム金属を用い、雰囲気ガスとして酸素ガスの
比率4.5容量％以下、窒素ガスの比率95.5容量％以上の
混合ガスを用いて反応性スパッタリングを行なうことを
特徴とする製造方法。 - 【請求項２】請求項１記載の製造方法で得られる、基板
のクロム化合物の膜上に、遮光層としてクロム金属膜を
形成することを特徴とする、２層化した低反射クロム膜
を有する基板の製造方法。 - 【請求項３】請求項２記載の製造方法で得られる基板の
低反射クロム膜を加工して得られる膜を、低反射ブラッ
クマスクとするカラーフィルター。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14732495A JPH093643A (ja) | 1995-06-14 | 1995-06-14 | クロム化合物の膜を有する基板の製造方法およびカラーフィルター |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14732495A JPH093643A (ja) | 1995-06-14 | 1995-06-14 | クロム化合物の膜を有する基板の製造方法およびカラーフィルター |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH093643A true JPH093643A (ja) | 1997-01-07 |
Family
ID=15427614
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14732495A Pending JPH093643A (ja) | 1995-06-14 | 1995-06-14 | クロム化合物の膜を有する基板の製造方法およびカラーフィルター |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH093643A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5215698B1 (ja) * | 1974-10-03 | 1977-05-02 | ||
| CN113789502A (zh) * | 2021-09-10 | 2021-12-14 | 芜湖长信科技股份有限公司 | 一种电子显示屏镀膜方法 |
-
1995
- 1995-06-14 JP JP14732495A patent/JPH093643A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5215698B1 (ja) * | 1974-10-03 | 1977-05-02 | ||
| CN113789502A (zh) * | 2021-09-10 | 2021-12-14 | 芜湖长信科技股份有限公司 | 一种电子显示屏镀膜方法 |
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