CN1135732A - 温度控制的激光烧结 - Google Patents

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Abstract

一种温度控制的激光烧结系统，包括通过一个聚焦镜(26)和一组扫描镜(32，34)被聚焦到一个烧结床(38)上的一束激光束。辐射自烧结床(38)的热发射(114)被成像到扫描镜和一个分色分束器(110)，该分束器反射这些辐射，但使激光束(12)波长的光通过。辐射(118)被聚焦到一个光学检测器(126)上，该检测器提供一个信号到线路(128)上给功率控制电路(104)。该功率控制电路(104)控制一个调制器(100)，该调制器调制激光光束(112)的功率以将热辐射发射(从而将在烧结部位的温度)维持在一个基本恒定的水平。

Description

温度控制的激光烧结
相关申请的相互参考
共有术决的美国专利申请序列号No(UTC Docket No R-3753)，题为“多光束激光烧结的专利申请”与本申请同时递交，该申请包含与本申请现在公开的内容相关的主题。
技术领域
本发明涉及激光烧结，且更具体地，涉及温度控制的激光烧结。
背景技术
众所周知，立体平版印刷术(Sterolithogiaphy)能够进行产品模或产品本身的快速原型成型(prototyping)。立体平版印刷方法，如所知的那样，使用一种紫外激光扫描并选择地聚合一种单体(即，固化一种液状塑料)，从而从一个预先确定的零件模型逐层，逐线地构筑出一个原型(prototype)。具体地，激光被聚焦在一个液体树脂池的一部分从而造成激光焦点接触(即，入射到)液体的地方的液体聚合(或固化)。这种技术使一个零件能够被快速生产出来，否则，如通过铸模方法要花费较长的时间。
同样众所周知，采用一种红外激光束完成选择性的粉末激光烧结从而进行快速原型成型。如所知的那样，烧结是一种采用激光加热将一种粉末状材料的温度提高到其软化点的方法，由此造成在加热区域中的粉末微粒熔合在一起。烧结所需的温度水平取决于被烧结的材料；但是，温度越高，烧结越快。例如，铁粉在1500℃时熔化，但是，如果在1000℃的温度下保持足够的时间，也可被烧结。
在烧结过程中，一束处于基本恒定功率水平的激光束被入射到一个粉末床上，通过激光束沿横跨粉末层的连续直线反复扫描直到整个层都被扫描过，零件的一个水平层就被制做出来了。在粉末要烧结的地方，激光被打开，否则激光是关闭的。当一层完成后，烧结床的表面被下降，在前面的粉末上又铺上另一层粉末，然后对后一层进行扫描。这个过程重复到零件被制做完成为止。
然而，激光烧结的一个问题是当采用一个恒定功率激光时，材料的部分过热和过分熔化(在粉末中造成沟槽)，且，在其它区域，粉末不能完全熔合在一起。这种不均匀的烧结能造成零件变形，零件尺寸不精确，以及零件不均匀的刚性或强度。
这样，就要求设计出一种烧结系统，该系统能避免现有烧结方法的缺陷并且能提供一个均匀烧结的零件。
发明的公开
本发明的目的包括提供一种能均匀烧结一种粉末的激光烧结系统。
根据本发明，一种激光烧结粉末的装置，包括一束入射到粉末表面上的一个烧结部位的激光束以及在邻近烧结部位的一个检测点上检测粉末温度的检测装置。
进一步根据本发明，提供了激光控制装置，该装置响应一个来自检测装置表征温度的检测信号，用于控制所述激光光束的功率。
进一步根据本发明，激光控制装置包括控制激光束功率，从而将温度维持在一个基本恒定的水平的装置。进一步仍根据本发明，检测装置检测来自检测点的辐射热发射。
进一步根据本发明，提供了扫描装置用于使激光束在整个粉末上扫描，并提供了光学装置用于引导辐射热发射通过扫描装置到达检测装置。
本发明显示出相对现有技术的一个显著的改进，这是通过发现在各激光部位的温度上升受到附近烧结材料存在的影响，因为附近烧结区域的热传导率和光反射率发生改变。本发明的通过监测在烧结部位(即激光入射到粉末床上的地方)的红外热辐射来提供烧结部位的温度控制，并且连续调节激光功率来维持一个基本恒定的辐射发射，由此提供一个基本恒定的烧结温度。本发明在各烧结部位提供了基本一致的烧结，这是通过对在激光区域中的粉末进行足够的加热来获得粉末的熔合而得到的，但不是加热到使粉末过热从而造成过分熔化并生成沟槽。同样，对于移动扫描反射烧结系统，本发明使用相同的扫描反射镜来将热辐射投影(或成像)到一个光学检测器上，由此提供了温度测量而不需要附加的移动镜和伴随而来所要求的同步。
根据对下面附图中说明的示例性实施例进行的详细描述，本发明的前述和其他目的、特征及优点将变得更加明显。
附图简述
图1为一种现有技术烧结系统的一个概略性方框图。
图2为一种根据本发明的，带有激光功率热反馈控制的一个烧结系统的一个概略性方框图。
图3为一种根据本发明的，用于激光功率热控制的控制系统的一个概略性方框图。
图4为现有技术的一种开环的激光功率相对于时间和热发射相对于时间的曲线图。
图5为根据本发明的一种激光功率的闭环热发射控制中，激光功率相对于时间和热发射相对于时间的曲线图。
图6为现有技术的一种开环结构中采用硅化铝(aluminum Silicate)粉末时，激光功率相对于时间和热发射相对于时间的曲线图。
图7为根据本发明的一种激光功率的闭环热发射控制中，激光功率相对于时间和热辐射相对于时间的曲线图。
图8为根据本发明的，在多个不同的功率条件下，对于以氩气覆盖的铁粉，检测器信号相对于扫描速度的曲线图。
图9为根据本发明的，在多种不同覆盖气体的条件下，每瓦光学功率的温度上升相对于扫描速度的曲线图，图中同时表示出理论值和测量值。
图10为根据本发明的一个x-y坐标定位系统的侧视图，该系统具有一个热发射传感器。
图11为根据本发明的，图10所示的一个x-y坐标定位系统的俯视图，图中表示出热发射传感器。
实施本发明的最佳方式：
参见图1，一种现有技术的温度控制烧结系统包括一个激光器10，该激光器提供一束输出光束12给一个快门14，该快门由一个来自烧结控制电路17(后面讨论)的线路16上的信号来控制。快门14是一个已知的装置，它具有一个开启和一个关闭状态。在开启状态，光12通过快门14并在离开快门14后成为光束18。在关闭状态，没有光从快门14输出。在线路16上的信号提供一个开启/关闭信号给快门14来控制其状态。
光18入射到一个聚焦透镜26，该透镜提供一束聚焦光束28，光束28入射到一对扫描镜32，34上。镜32，34反射聚焦光束28并提供一束被定向控制的聚焦光束36，该光束36聚焦到烧结粉末床38的表面上。
扫描镜32，34引导输出聚焦光束36到粉末床38上的扫描横线上从而有选择地烧结所要求的部位。
扫描镜32，34分别由电流计的驱动器40，42来驱动，比如通用扫描公司(General Scanning Inc)生产的G325DT型，这些驱动器分别响应来自烧结控制电路17的在线路44，46上的驱动信号驱动扫描镜32，34。驱动器40，42还分别提供在线路48，50上的位置反馈信号给烧结控制电路17。线路44，46，48，50集合在一起用线路52来表示，并且与烧结控制电路17相连。
烧结过程发生在一个腔60中，该腔中具有一种预先确定的气体或者真空。在腔60中是一个容纳粉末64的容器62，粉末64在预定的部位上被烧结从而生产出一个预先确定形状的零件63。容器62具有一个可移动的底部，包括一个用来确定容器62深度的活塞66。当一层粉末被烧结后，活塞66被降低并且一个滚子68滚压更多的粉末64到整个粉末床38上以供烧结。活塞66由一个马达70来控制，该马达由来自烧结控制电路17的线路72上的一个电信号来控制。
聚焦光束36入射到床38上的点74上。来自激光束的热量造成粉末微粒64熔化(或烧结)，因为温度被来自激光36的能量升高了(如前面所讨论的)。
烧结控制电路17提供了线路16上的输出信号来驱动快门14，提供线路72上的输出信号来驱动马达70，而马达70则驱动活塞66，及提供线路44，46上的输出信号分别驱动扫描镜32，34。
烧结控制电路17将聚焦光束36定位在粉末床38上并且控制聚焦光束36在整个粉末床38上的扫描。并且，烧结控制电路17在适当的时间开启或关闭快门，这样在一次扫描中烧结预先确定的部分，从而生产一个给定的零件。
烧结控制电路17可以为一台数字计算机，具有对烧结零件逐层、逐次扫描的方案，并通过快门14确定激光束应该被开启或关闭的时间。许多不同的技术可以用于烧结控制电路17并且被使用的任何种类的控制电路不会影响本发明。烧结控制电路17在本领域是众所周知的，下面将不作进一步的讨论。
我们已经发现，熔化在聚焦光束区域中的粉末所需的激光功率取决于前一层粉末被烧结的过程。具体地，如果下面粉末已经被烧结，其热导率将高于未被烧结的粉末的热导度。因此，如果下面的和附近的粉末未烧结过，将上层粉末提高到合适的温度从而产生烧结所需的激光功率将更大。同样，如果激光束处在正在被扫描和烧结的区域中，温度仍在上一次扫描的情况上被提高，由此要求较少的激光功率来达到合适的烧结温度。再进一步，激光束附近的烧结过的材料会反射激光束的一部分，该被反射部分比初始粉末所反射的要多，这同样会影响激光对粉末的加热。
现在参见图2，根据上面提及的发现，我们还发现，基于来自激光焦点区域的辐射热发射的激光功率的闭环控制提供了基本均匀的烧结。
具体地，该系统与图1中的现有技术系统再加上下列附加元件非常类似。激光器10和快门处于与图1中相同的一种结构中。具体地，激光器为一台CO2激光器，波长约为10.6微米，功率大约为100瓦，直径约为8mm。如果需要有充足的加热产生烧结，其他激光器、波长、功率和直径也可以被使用。来自快门14的输出光18入射到一个光电调制器上，该调制器位于快门14和聚焦透镜26之间，并且由来自功率控制电路104(后面讨论)在线路102上的一个信号来控制。调制器100是一个已知设备，它调制入射光18的光学功率并提供一束输出光束106，该光束106的光学功率被调制成为线路102上信号的一个函数。
光106入射到聚焦透镜26上并由其提供一束调制聚焦光束108通过分色分束器110入射到扫描镜32，34上，该分束器只通过具有激光波长的光。扫描镜32，34提供一束被定向控制的聚焦调制光束112，该光束112以与前面图1中所讨论的相同的方式聚焦到烧结粉末床38的表面上。扫描镜32，34由来自烧结控制电路17的线路52上的信号来控制，如前面讨论的那样。烧结控制电路17还以与图1中同样的方式控制快门14和马达70。
在烧结床38的点74上对粉末的加热造成热辐射(或发射)向外径向发射，其中一部分由点划线114来表示。热发射是覆盖一个宽的波长范围的，包括比如1至1.8微米波长的近红外(IR)以及可见光区域。来自烧结床38的点74的热发射114入射到扫描镜32，34上。扫描镜32，34提供一束反射光束116给分色分束器110，该分束器反射具有辐射发射波长的光，光束反射后成为一束发散光束118。
光束118入射到一个聚焦透镜120上，该透镜120提供一束聚焦光(辐射)122通过一个孔径124到达一个光学红外传感器的光检测器126。透镜120将粉末床的表面38成像到位于孔124的一个平面上。光检测器126必须能测量热发射114波长范围内的功率，比如，一种能检测1至1.8微米范围内辐射的锗检测器。如果需要，孔124可以被去除，然而，它防止了来自烧结床38上附近点的辐射成像到光学检测器126上并由此歪曲辐射的读数。
光检测器126提供了线路128上的一个电信号给功率控制电路104。功率控制电路104提供了线路102上的一个电信号来调节激光信号106的功率以及相应的聚焦光束112的功率。具体地，功率控制电路104提供了线路102上的一个电信号，以将来自烧结粉末的热发射幅度维持在一个基本恒定的水平。
现参见图3，功率控制电路104的控制系统方框图以及被控制的装置如下所述。功率控制电路104包括一个参考电压VRcf(毫伏)，该电压被输送给一个加法器150的正输入端。在线路151上提供了一个滤波反馈信号给加法器150的一个负输入端。加法器150的输出被提供到线路152上给已知的比如，一种比例增益和偏置补偿器154。控制补偿器154可以是一个简单的增益和偏置，或者一个简单的积分器，或者可以是按需要的更复杂装置来产生所要求的系统响应。
来自补偿器154的输出信号被提供到线路102上并且驱动调制器100(图1)，而调制器又调制激光的光学功率。为说明起见，激光器10和调制器100被表示一个单个方框156中，该方框表示从来自功率控制电路104的毫伏到来自激光光束112的光学功率的转换函数。光学功率入射到粉末床38(图1)上，为说明起见，粉末床38被表示成一个方框158(图3)，代表从输入光子到输出热辐射的粉末床38的热转换函数。
热辐射由检测器126来检测，检测器126提供一个在线路128上的以毫伏计的反馈信号给一个低通滤波器160，该滤波器在功率控制电路104中，具有一个截止频率如1KHZ。滤波器160滤去了来自检测器126的反馈信号上的任何高频噪声并提供了一个滤波后的反馈信号到线路151上。如果需要，其他滤波器或截止频率也可以使用。滤波器160的输出被馈给线路151上加法器150的负输入端，由此提供负反馈。
功率控制电路104包括已知的电气元件，如运算放大器和晶体管，来提供图3的方框图中所表示的功能。然而，全部功率控制104的部件可以被取代由一台数字计算机的软件来进行。
现参见图4，当烧结在一种开环结构中进行时，如图1的现有技术中一样，激光功率维持基本恒定，如曲线200所示，来自烧结部位的热辐射在第一次扫描经过粉末床上的初始粉末时最初是相当不稳定的，低功率电平203表示在扫描之间的间隔中激光是关闭的。
就相邻于第一次扫描的第二次通过粉末床的扫描而言，如曲线204所示，热辐射显著下降，这样，对于同样的激光功率，在激光烧结部位74的温度要低得多。对第三次扫描而言，如曲线206所示，由于来自第二次扫描的不良烧结，其热发射比第二次扫描204的热发射稍有上升。然而，这仍比在原始粉末上进行的第一次扫描202要低得多。注意到在所有三次扫描中，激光功率200维持基本相同。同样，在这些扫描中，在扫描的整个长度上都是被烧结的(即，激光是开启的)；然而，在许多应用中，在整个扫描过程中的许多点，激光是要被关闭的，从而制造出被生产零件的所要求形状。扫描的时间刻度大约为9秒/每次扫描；然而，如果需要，也可以采用其它的扫描速率。
检测器126(图2)设计成使它对激光波长(比如10.6微米)不敏感，从而避免由于光学反射产生的显著信号。另外，可以在光学检测器126的前面加一个光学滤波器(末示出)来滤除激光波长从而避免散现的噪声和由于反射产生的反馈信号。
现参见图5，在本发明的闭环方式中，来自传感器126(图2)的电气热发射信号220、222、224在三次扫描中的每一次中都是基本恒定的，及激光功率从第一次扫描226变到第二次扫描228，再到第三次扫描230，以调整被烧结表面的热传导率和光反射率的变化。结果，来自表面的热辐射被维持基本恒定，因此，烧结过程被维持在一个基本恒定的温度下。低功率电平231表示在扫描之间激光关闭(或处于非常低的功率下)时的情况。
就图4和图5中的扫描而言，采用的粉末是钨/铜混合物。另外，三次连续的扫描部分重叠。每次扫描在焦点74处的直径大约为0.012英寸，重叠大约为0.002英寸。在图4和图5中用于探测的检测器种类是锗型的。
现在参见图6，所示为采用如图1中的现有技术一样的一种开环结构进行烧结的一个单次扫描的情况。开启的(ON)激光功率由图形240来表示，而相应的热辐射由图形242来表示。该图表示当使用现有技术的结构时，在开启的激光功率240是基本恒定的，热辐射242是不规则的。
现参见图7，当在本发明的闭环操作中时，扫描期间的热辐射由图形244表示，是基本恒定的，由图形246表示的开启的激光功率被调节从而保持相应的热辐射244基本恒定。图6和图7的实验是用硅化铝(aluminum Sililate)粉末来进行的，光检测器126是一个锗检测器。
现参见图8，所示为在氩气覆盖时，在不同的激光功率和不同的扫描速度下记录下来的检测器信号的大小。我们已经发现，在许多不同种覆盖气体的条件下采用铁粉，针对图8中的曲线所示的所有激光功率和所有的扫描速度，烧结大约在15毫伏时发生。一些再次熔化的铁(比如，熔化后再硬化的铁粉)的存在表示在一个检测器输出信号电压为15毫伏时的温度大约对应为1500℃，即铁的熔点。
现参见图9，确定一给定激光功率(ΔT/p)的温度上升将取决于腔60(图1)中存在的气体，因为粉末在彼此之间具有小的腔气体气囊。这样，在一个给定的扫描速度的一个给定的激光功率的情况下，一种具有更高热导率的气体的温度上升更小。同样，当扫描速度增加时，每瓦光学功率的温升下降。图9中的曲线表示出腔气体为氦气、氩气和真空时的一族曲线，图中同时表示出理论数据/(虚线和实线)和测量数据(方块、圆圈和三角形)。
图9的曲线是从图8中所示类型的数据中导出的，假设一个15毫伏的检测器信号对应于1500℃。实验数据与理论曲线之间的相符合说明检测器确实是在测量热发射，而不是什么其他现象。辐射的幅度与波长的相关性也与热发射的情况相一致。这已经被许多种材料所证实。同样，图9中的理论曲线是基于相似物质的公开数据导出的，从而获得粉末的热导率(kth)与覆盖气体在一起的综合值。
尽管本发明已被表示，通过将热辐射向后通过扫描镜成像到一个光学检测器上，来检测通过扫描镜的热辐射，应该理解，任何测量在粉末床上烧结点位置上的聚焦光束焦点处的温度的技术都是可接受的。
例如，参见图10和11，取代采用可变倾角(pitch)扫描镜，一种x-y绘图仪型的方案可以被用来确定坐标并用激光束来扫描。在这种情况下，方向性的光学元件被设置在一个可滑动的构架300上，该构架安装在一个导轨302上，该导轨302使得构架可以沿图10和11中的箭头303所示的x方向移动。同样，导轨302可沿图11中的箭头304所示y方向移动。
一束来自一个激光光源的准直光束305入射到一个转向镜(或平镜)306上并提供一束被反射的光束307，该光束沿支承导轨302的上面传播。光束307入射到一个聚焦透镜308上，该透镜提供一束聚焦光束310给一个转向镜312。镜312提供了一束被反射的聚焦光束314到烧结床38的表面上的一个焦点315上(如图1所示)。
一个与可移动构架相连接的检测器架316具有一个辐射检测器317和一个聚焦透镜318，该透镜对准聚焦激光束314的焦点315。检测器317检测来自由透镜318成像的点315的辐射热发射320。另外，可以使用一个孔径(未示出)，如图2中所示，以防止来自烧结床38表面上的其他点的辐射被检测到。
一个烧结控制电路(未示出)，通过确定构架300和导轨302的位置，控制光束在烧结平台38上的位置，这一点在本领域是众所周知的。另外，一个功率控制电路(未示出)，与图2中的情况类似，与前面讨论过的内容基本上是相同的并提供相同的功能，即，它监控在线路128上的来自检测器317的检测信号并提供一个功率控制信号来控制聚焦激光光束314的功率。检测器也可以与前面结合图2所讨论的内容相同。
另外，取代使用移动反射镜的方式，烧结平台本身也可以沿一个或多个水平方向移动。
本发明可以与任何类型的烧结材料，比如，塑料，蜡，金属，陶瓷等一起使用。另外可以使用二种或多种材料的粉末组分，比如，金属-青铜。进一步，取代使用一束会聚(聚焦)光束作为光束36来进行烧结，假如功率水平足够高并且光束直径足够小从而能够提供烧结，一束准直光束也可以被使用。
即使调制器100，快门14和激光器10在图2中被表示成分离的元件，应该可以理解，这些元件的全部或部分可以容纳在一个单个的激光器包装中，该包装提供功率水平控制和/或快速开/关的光束控制。
另外，取代检测正好在激光焦点的温度，检测器可以检测要么在焦点前、后点，要么在焦点两侧的点的温度，来帮助预测或者换句话说确定激光光束的合适功率，从而提供所要求的烧结。
进一步，尽管本发明已被描述成基于热辐射来检测温度，应该可以理解，取代或者除了检测热辐射以外，其他与温度有关的参数也可以被检测，比如，一种等离子(覆盖气体的激光受激光原子态，在能量衰减时辐射发射)或者一种羽烟(从由于加热或开花(florescene)从灼热的粉末表面蒸发的物质/或发射出的颗粒状物质)。
尽管已经结合示范性的实施例对本发明作了描述和说明，应该可以理解，对那些熟悉本领域的技术人员而言，在不偏离本发明的精神和范围的前提下，可以进行前述的和其它的改变、省略和增加。
权利要求书
按照条约第19条的修改
1、一种粉末激光烧结装置，包括：
一束入射到粉末表面的烧结部位的激光光束；及
在跟踪邻近所述烧结部位的一个可移动检测点检测所述粉末温度的检测装置。
2、如权利要求1的装置，还包括响应来自所述检测装置的表征所述温度的一个检测信号，用来控制所述激光束的功率的激光控制装置。
3、如权利要求2的装置，其中所述的激光控制装置包括控制所述激光束功率，从而将所述的温度维持在一个基本恒定的水平的控制装置。
4、如权利要求1的装置，其中所述的检测装置检测来自所述检测点的辐射热发射。
5、如权利要求4的装置，还包括将所述的辐射热发射引导到所述检测装置的光学装置。
6、如权利要求4的装置，还包括：
扫描经过所述粉末上的所述激光束的扫描装置；及
引导所述辐射热发射通过所述扫描装置到达所述检测装置的光学装置。
7、如权利要求1的装置，其中所述的激光控制装置包括响应所述的检测装置，用来提供一个表征所述激光束的所要求功率的功率控制信号的信号处理装置。
8、如权利要求7的装置，其中所述激光控制装置包括响应所述的功率控制信号，用来控制所述激光束的功率的调制器装置。
9、如权利要求1的装置，还包括将所述的激光束聚焦到所述粉末表面的聚焦装置。
10、如权利要求1的装置，其中所述的粉末包括铁粉。
11、一种激光烧结方法，包括以下步骤：
将一束激光束引导到一个待被烧结的粉末表面上；及
在一个可移动的检测点上检测所述粉末的温度，该检测点跟踪在所述的烧结部位的附近。
12、如权利要求11的方法，还包括响应所述的温度从而调节所述激光功率的步骤。
13、如权利要求12的方法，其中所述的调节所述激光功率的步骤包括调节所述激光光束的功率从而将所述温度维持在一个基本恒定的水平。
14、如权利要求11的方法，其中所述的检测温度的步骤包括检测来自所述检测点的辐射热发射。
15、如权利要求14的方法，还包括将所述的辐射热发射引导到所述检测装置的步骤。
16、如权利要求14的方法，还包括下列步骤：
扫描在所述粉末上经过的所述激光光束；及
将所述的辐射热发射引导到所述检测装置。
17、如权利要求11的方法，还包括一个将所述的激光束聚焦到所述粉末的所述表面上的步骤。

Claims (17)

1、一种粉末激光烧结装置，包括：
一束入射到粉末表面的烧结部位的激光光束；及
在邻近所述烧结部位的一个检测点检测所述粉末温度的检测装置。
2、如权利要求1的装置，还包括响应来自所述检测装置的表征所述温度的一个检测信号，用来控制所述激光束的功率的激光控制装置。
3、如权利要求2的装置，其中所述的激光控制装置包括控制所述激光束功率，从而将所述的温度维持在一个基本恒定的水平的控制装置。
4、如权利要求1的装置，其中所述的检测装置检测来自所述检测点的辐射热发射。
5、如权利要求4的装置，还包括将所述的辐射热发射引导到所述检测装置的光学装置。
6、如权利要求4的装置，还包括：
扫描经过所述粉末上的所述激光束的扫描装置；及
引导所述辐射热发射通过所述扫描装置到达所述检测装置的光学装置。
7、如权利要求1的装置，其中所述的激光控制装置包括响应所述的检测装置，用来提供一个表征所述激光束的所要求功率的功率控制信号的信号处理装置。
8、如权利要求7的装置，其中所述激光控制装置包括响应所述的功率控制信号，用来控制所述激光束的功率的调制器装置。
9、如权利要求1的装置，还包括将所述的激光束聚焦到所述粉末表面的聚焦装置。
10、如权利要求1的装置，其中所述的粉末包括铁粉。
11、一种激光烧结方法，包括以下步骤：
将一束激光束引导到一个待被烧结的粉末表面上；及
在一个可移动的检测点上检测所述粉末的温度，该检测点跟踪在所述的烧结部位的附近。
12、如权利要求11的方法，还包括响应所述的温度从而调节所述激光功率的步骤。
13、如权利要求12的方法，其中所述的调节所述激光功率的步骤包括调节所述激光光束的功率从而将所述温度维持在一个基本恒定的水平。
14、如权利要求11的方法，其中所述的检测温度的步骤包括检测来自所述检测点的辐射热发射。
15、如权利要求14的方法，还包括将所述的辐射热发射引导到所述检测装置的步骤。
16、如权利要求14的方法，还包括下列步骤：
扫描在所述粉末上经过的所述激光光束；及
将所述的辐射热发射引导到所述检测装置。
17、如权利要求11的方法，还包括一个将所述的激光束聚焦到所述粉末的所述表面上的步骤。
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