CN113366660A - 用于发光装置的紫外线吸收密封剂和包括该紫外线吸收密封剂的发光装置 - Google Patents
用于发光装置的紫外线吸收密封剂和包括该紫外线吸收密封剂的发光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN113366660A CN113366660A CN202080011262.1A CN202080011262A CN113366660A CN 113366660 A CN113366660 A CN 113366660A CN 202080011262 A CN202080011262 A CN 202080011262A CN 113366660 A CN113366660 A CN 113366660A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- formula
- emitting device
- light emitting
- ultraviolet absorbing
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000565 sealant Substances 0.000 title claims abstract description 80
- SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N Indole Chemical compound C1=CC=C2NC=CC2=C1 SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 83
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 71
- PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N indole Natural products CC1=CC=CC2=C1C=CN2 PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 43
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine Natural products C1=CC=C2CC=NC2=C1 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 43
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 39
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims description 24
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M acrylate group Chemical group C(C=C)(=O)[O-] NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 15
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 14
- -1 alkyl radical Chemical class 0.000 claims description 9
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 claims description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 6
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 6
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 claims description 5
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 claims description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 5
- 229920001651 Cyanoacrylate Polymers 0.000 claims description 4
- MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N Methyl cyanoacrylate Chemical compound COC(=O)C(=C)C#N MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 4
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 4
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 4
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 4
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-M salicylate Chemical compound OC1=CC=CC=C1C([O-])=O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 229960001860 salicylate Drugs 0.000 claims description 4
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 claims description 4
- PQJZHMCWDKOPQG-UHFFFAOYSA-N 2-anilino-2-oxoacetic acid Chemical compound OC(=O)C(=O)NC1=CC=CC=C1 PQJZHMCWDKOPQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 3
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 claims description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 claims description 2
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 claims description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 2
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 claims description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 claims 1
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 claims 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 abstract description 8
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 abstract description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 15
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 8
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 5
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- ANEJEEOZPSVNPX-UHFFFAOYSA-N (4-hydroxycyclohexyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCC(O)CC1 ANEJEEOZPSVNPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFOFBPRPOAWWPA-UHFFFAOYSA-N 6-hydroxyhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCCCO XFOFBPRPOAWWPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- COHMJXKDEBTIPS-UHFFFAOYSA-N (1-chloro-2-hydroxypropyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(O)C(Cl)OC(=O)C(C)=C COHMJXKDEBTIPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJUPYZYXKQSFRJ-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxy-3-phenoxybutyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(OC1=CC=CC=C1)C(O)COC(=O)C(C)=C BJUPYZYXKQSFRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)C(CN1CC2=C(CC1)NN=N2)=O HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLQFXOWPTQTLDP-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCO OLQFXOWPTQTLDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXGYYDRIMBPOMN-UHFFFAOYSA-N 2-(hydroxymethoxy)ethoxymethanol Chemical compound OCOCCOCO BXGYYDRIMBPOMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVTQDSGGHBWVTR-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]-3-phenylmethoxypyrazol-1-yl]-1-morpholin-4-ylethanone Chemical compound C(C1=CC=CC=C1)OC1=NN(C=C1C=1C=NC(=NC=1)NC1CC2=CC=CC=C2C1)CC(=O)N1CCOCC1 HVTQDSGGHBWVTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JQMFQLVAJGZSQS-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-N-(2-oxo-3H-1,3-benzoxazol-6-yl)acetamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)CC(=O)NC1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1 JQMFQLVAJGZSQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXZBYIWNGKSFOJ-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[5-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrazin-2-yl]pyrazol-1-yl]-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC=1N=CC(=NC=1)C=1C=NN(C=1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=N2 VXZBYIWNGKSFOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWFYPPSBLUWMFQ-UHFFFAOYSA-N 2-[5-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]-1,3,4-oxadiazol-2-yl]-1-(1,4,6,7-tetrahydropyrazolo[4,3-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1=NN=C(O1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=C2 AWFYPPSBLUWMFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEVADDDOVGMCSI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxybutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCC(O)COC(=O)C(C)=C IEVADDDOVGMCSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl methacrylate Chemical compound CC(O)COC(=O)C(C)=C VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]propan-1-one Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)CCC(=O)N1CCN(CC1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKXAYLPDMSGWEV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCO YKXAYLPDMSGWEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000033999 Device damage Diseases 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKYBYDHXWVHEJW-UHFFFAOYSA-N N-[1-oxo-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propan-2-yl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(C(C)NC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 MKYBYDHXWVHEJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KAOQCJIKVJCWDU-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CCC(CO)CC1 KAOQCJIKVJCWDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N drometrizole Chemical compound CC1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- ZZSKMNCIAKKVRB-UHFFFAOYSA-N morpholin-4-yl-(2-nitrophenyl)methanone Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1C(=O)N1CCOCC1 ZZSKMNCIAKKVRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTWUXYZHDFCGSV-UHFFFAOYSA-N n,n'-diphenyloxamide Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(=O)C(=O)NC1=CC=CC=C1 FTWUXYZHDFCGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUAMTGJKVDWJEQ-UHFFFAOYSA-N octabenzone Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 QUAMTGJKVDWJEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTLDLKLSNZMTTA-UHFFFAOYSA-N octahydro-1h-4,7-methanoindene-1,5-diyldimethanol Chemical compound C1C2C3C(CO)CCC3C1C(CO)C2 OTLDLKLSNZMTTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/52—Encapsulations
- H01L33/56—Materials, e.g. epoxy or silicone resin
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3467—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having more than two nitrogen atoms in the ring
- C08K5/3477—Six-membered rings
- C08K5/3492—Triazines
- C08K5/34926—Triazines also containing heterocyclic groups other than triazine groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/48—Stabilisers against degradation by oxygen, light or heat
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K50/844—Encapsulations
Abstract
本发明涉及一种用于发光装置的紫外线吸收密封剂以及包括该紫外线吸收密封剂的发光装置,所述紫外线吸收密封剂通过应用具有紫外线阻挡功能并因此具有优异的耐热和耐光可靠性的吲哚类化合物作为密封剂,可以改善发光装置的物理性质和寿命特性。
Description
技术领域
本申请要求基于2019年1月28日提交的韩国专利申请No.10-2019-0010387的优先权的权益,其全部内容通过引用并入本说明书中。
本发明涉及一种用于防止发光装置劣化的密封剂,并且更具体地,涉及用于发光装置的紫外线吸收密封剂以及包括该紫外线吸收密封剂的发光装置,所述紫外线吸收密封剂通过应用具有紫外线阻挡功能的吲哚类化合物作为密封剂,可以改善发光装置的物理性质和寿命特性。
背景技术
发光装置,特别是有机发光装置(OLED)是一种发射装置,由于它具有宽视角和良好的对比度以及快速响应时间、亮度、良好的操作电压和响应速度特性以及可能的多种颜色的优势被广泛应用在多种领域中。
然而,如果将这种有机发光装置暴露于氧气、湿气以及紫外光中,由于存在物理性质和寿命因劣化现象而下降的问题,因此必须将密封构件引入装置中以保护有机发光装置免受氧气、湿气以及紫外线的损害。特别是,由于发光装置在使用过程中暴露于光中,因此也应当具有耐光性和耐热性。
在这方面,在本领域中,通过使用UV吸收剂诸如二苯甲酮类吸收剂、苯并三唑类吸收剂、三唑类吸收剂、三嗪类吸收剂、水杨酸酯类吸收剂、氰基丙烯酸酯类吸收剂、草酰苯胺类吸收剂、受阻胺类吸收剂以及金属络盐类吸收剂(光稳定剂)来防止装置受到UV损害已经进行了研究,并且目前,已经出版了大量的文献。
然而,由于这些UV吸收剂主要吸收仅在260nm至380nm区域中的UV,因此存在它们不能阻挡超出上述区域的区域(例如380nm至430nm)中的UV的问题。因此,需要开发一种能够阻挡甚至在260nm至380nm以上区域中的UV的吸收从而完全防止UV损害的用于发光装置的密封剂。
发明内容
技术问题
因此,本发明的一个目的是提供一种用于发光装置的紫外线吸收密封剂以及包括该紫外线吸收密封剂的发光装置,所述紫外线吸收密封剂通过应用具有紫外线阻挡功能并且因此具有优异的耐热和耐光可靠性的吲哚类化合物作为密封剂,可以改善发光装置的物理性质以及寿命特性。
技术方案
为了实现上述目的,本发明提供一种用于发光装置的紫外线吸收密封剂,其特征在于包含由下面式1表示的吲哚类衍生化合物,并且具有下面等式1的初始透射率和下面等式2的耐光/耐热透射率。
[式1]
[等式1]
[等式2]
在式1中,R1和R4至R7各自独立地是选自氢、羟基、卤素、具有1至5个碳原子的烷基和具有1至5个碳原子的烷氧基中的任意一个,R2和R3各自独立地是具有4至10个碳原子的直链、支链或环状烃基,该烃基具有或不具有1至3个氮原子和氧原子中的至少一种原子,并且在等式1和等式2中,T0是相关波长下的初始透射率,T1是在暴露于光之后在相关波长下的透射率。
另外,本发明提供一种包括所述用于发光装置的紫外线吸收密封剂的发光装置。
有益效果
根据本发明的用于发光装置的紫外线吸收密封剂以及包括该紫外线吸收密封剂的发光装置通过应用吲哚类化合物作为密封剂,具有改善发光装置的物理性质以及寿命特性的优势,其中所述吲哚类化合物具有紫外线阻挡功能,由此产生优异的耐热和耐光可靠性。
具体实施方式
下文中,将详细描述本发明。
根据本发明的用于发光装置的紫外线吸收封装材料的特征在于包含由下面式1表示的吲哚类衍生化合物,并且具有下面等式1的初始透射率和下面等式2的耐光/耐热透射率。
[式1]
[等式1]
[等式2]
在式1中,R1和R4至R7各自独立地是选自氢、羟基、卤素、具有1至5个碳原子的烷基和具有1至5个碳原子的烷氧基中的任意一个,R2和R3各自独立地是具有4至10个碳原子的直链、支链或环状烃基,该烃基具有或不具有1至3个氮原子和氧原子中的任意一种原子,并且在等式1和等式2中,T0是相关波长下的初始透射率,T1是在暴露于光之后在相关波长下的透射率。
如上所述,迄今为止,已经使用诸如二苯甲酮类化合物、苯并三唑类化合物、三唑类化合物、三嗪类化合物、水杨酸酯类化合物、氰基丙烯酸酯类化合物、草酰苯胺类化合物、受阻胺类化合物以及金属络盐类化合物(光稳定剂)的UV吸收剂来阻挡发光装置的UV吸收。然而,由于这些UV吸收剂主要吸收仅在260nm至380nm区域中的UV,因此存在不能阻挡超出上述区域的区域(例如400nm至430nm)中的UV的问题。因此,本发明的申请人已发明了一种通过阻挡甚至在260nm至380nm以上的UV区域中的吸收能够完全防止UV损害的用于发光装置的密封剂。
选择405nm作为等式1和等式2中的测量波长的原因是在400nm附近具有降低可靠性的性质(黄化装置损害等)并且因此应当阻挡相关部分,并且为了维持RGB白平衡并且提高透射率,在430nm以上的蓝色波长范围中的透射率应该高。即,由于吸收影响可靠性的400nm附近的光重要,并且为了确保430nm以上的透射率,如上所述选择405nm作为测量波长。
在式1中,R1和R4至R7各自独立地是选自氢、羟基、卤素、具有1至5个碳原子的烷基以及具有1至5个碳原子的烷氧基中的任意一个。R1优选是具有1至5个碳原子的烷基,更优选是甲基,且R4至R7优选是氢。
另外,在式1中,R2和R3各自独立地是具有4至10个碳原子的直链、支链或环状烃基,该烃基具有或不具有1至3个氮原子和氧原子中的任意一种原子。优选地,R2和R3各自独立地是苯基、或包含氰基(-CN基团)、烷基、烷氧基、羰基、羧基、羟基、酰胺基、酯基、醚基、丙烯酸酯基以及卤素中的至少一个的饱和或不饱和(或可聚合基团)烃基。
在式1中,R2和R3的具体实例包括 以及(在以上实例中,曲线表示连接部分),并且除了这些以外,可以应用满足上述条件的任何取代基而没有特别地限制。此外,R2和R3可以彼此相同或不同,但是优选彼此不同地应用。例如,如果R2和R3中的任一个为苯基,则另一个可以是其它示出的取代基中的任一个。
因此,作为应用上述取代基的根据本发明的吲哚类衍生化合物,可以示例由式1a至式1j表示的化合物以及它们的异构体。
[式1a]
[式1b]
[式1c]
[式1d]
[式1e]
[式1f]
[式1g]
[式1h]
[式1i]
[式1j]
同时,除了所述吲哚类化合物以外,根据本发明的用于发光装置的紫外线吸收密封剂还可以包含诸如二苯甲酮类化合物、三唑类化合物、苯并三唑类化合物、三嗪类化合物、水杨酸酯类化合物、氰基丙烯酸酯类化合物、草酰苯胺类化合物、受阻胺类化合物以及金属络盐类化合物(光稳定剂)中的至少一种UV吸收剂。因此,如果除了所述吲哚类化合物以外还另外包含单独的UV吸收剂,则基于100重量份的所述吲哚类化合物,另外的UV吸收剂的含量可以是0.05重量份至5重量份。如果基于100重量份的所述吲哚类化合物,另外的UV吸收剂的含量小于0.05重量份,则阻挡效果会不明显。如果基于100重量份的所述吲哚类化合物,另外的UV吸收剂的含量超过5重量份,则会发生粗液的粘度增加和沉淀现象,并且粗液的长期稳定性会下降。
同时,除了上述(包含吲哚类化合物)UV吸收剂之外,根据本发明的用于发光装置的紫外线吸收密封剂还可以包含单官能丙烯酸酯单体、多官能丙烯酸酯单体以及反应引发剂。
所述单官能丙烯酸酯单体包含一个丙烯酸酯官能团,并且可以示例为,但是不限于,甲基丙烯酸苄基酯、甲基丙烯酸2-羟乙酯、甲基丙烯酸4-羟丁酯、甲基丙烯酸2-羟丙酯、甲基丙烯酸2-羟丁酯、甲基丙烯酸6-羟己酯、1,4-环己烷二甲醇单甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸1-氯-2-羟丙酯、二乙二醇单甲基丙烯酸酯、1,6-己二醇单甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸2-羟基-3-苯氧基丙酯、甲基丙烯酸4-羟基环己酯、甲基丙烯酸2-羟基-3-苯氧基丁酯、甲基丙烯酸4-羟基环己酯以及包含它们中的两种以上的混合物。
所述多官能丙烯酸酯单体可以包含两个以上的丙烯酸酯官能团,同时可以包含多环脂环骨架或多环芳香骨架,并且可以示例为,但是不限于,二季戊四醇六丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、异冰片基二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、二环戊烯基二甲醇二(甲基)丙烯酸酯以及包含它们中的两种以上的混合物。
另外,所述反应引发剂可以示例为,但不限于,二苯基(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦、具有与其相同或相似性质的反应起始剂(即,光吸收波长范围为365nm至400nm)、以及包含它们中的两种以上的混合物。
同时,将描述关于构成所述密封剂的每个组分的含量。基于密封剂的总重量,UV吸收剂(包括吲哚类化合物)的含量可以是0.5重量%至9重量%,优选为1重量%至7重量%,单官能丙烯酸酯单体的含量可以是3重量%至95重量%,优选为40重量%至80重量%,多官能丙烯酸酯单体的含量可以是3重量%至95重量%,优选为15重量%至60重量%,并且引发剂的含量可以是0.1重量%至5重量%,优选为1重量%至3重量%。然而,这些含量中的每一个含量仅是对于本发明的优化并且不限于上述数值范围。如果可以实现本发明的目的,则对构成密封剂的每一组分的含量没有特别地限制。
另外,根据本发明的用于发光装置的紫外线吸收密封剂还可以包含选自抗氧化剂、热稳定剂、表面活性剂、流平剂以及消泡剂中的一种或更多种添加剂。在此情况下,可以没有限制性地使用添加剂,只要添加剂不抑制吲哚类化合物的效果的实现即可。
同时,根据本发明的用于发光装置的紫外线吸收密封剂在紫外光(特别是在405nm至430nm的波长范围中的UV)以及光或热的条件下的耐热/耐光可靠性优异,由此防止降低发光装置的物理性质,并且最终改善发光装置的寿命特性。如上所述的本发明的用于发光装置的紫外线吸收密封剂具有下面等式1的初始透射率和等式2的耐光/耐热透射率。
[等式1]
[等式2]
在等式1和等式2中,T0是相关波长下的初始透射率,T1是在暴露于光之后在相关波长下的透射率。
本发明的用于发光装置的紫外线吸收密封剂应当基本上满足上述等式1(如果在405nm下的透射率小于20%,则全部落入等式1的范围内),并且在耐光/耐热可靠性(耐光性、耐热性)之后,应同时满足等式2(在可靠性之后,当在405nm下变化很大时,耐光/耐热透射率超过10%)。
此处,用于发光装置的紫外线吸收密封剂在405nm至430nm的波长下的UV初始透射率可以是,例如,60%至100%,优选为80%至95%,如等式1所示。
另外,例如,耐光透射率(耐光性)可以根据KS C IEC 61646标准通过UV处理实验(280nm至400nm)根据暴露于阳光下的情况测量在暴露于光前后透射率的变化来测试下降的程度来确认。此时,耐光性可以应用2500W氙弧灯通过所述标准在60℃、15kwh/m2下暴露于光的条件下来测量,并且在此条件下,耐光性应当满足10%以下,如等式2所示,并且优选可以为7%以下。此时,未能满足10%以下表示405nm的阻挡性能因暴露于光而降低,使得装置的寿命会缩短。
另外,耐热透射率(耐热性)可以,例如,在120℃的温度下加热500小时至1,000小时的条件下测量,并且在此条件下,耐热性如等式2所示可以为10%以下,优选为7%以下。同时,在等式2中,术语耐光/耐热透射率用于方便描述,且表示耐光透射率和耐热透射率应用于同一等式中。
同时,本发明提供一种包括如上所述的用于发光装置的紫外线吸收密封剂的发光装置。即,根据本发明的紫外线吸收密封剂适用于常规发光装置如发光装置(LED)和有机发光装置(OLED),并且考虑到装置的寿命除了因氧气及湿气的损害以外还受到来自外部的光的损害而下降的事实,优选应用于有机发光装置。另外,除了密封剂以外,发光装置及有机发光装置的基本构造符合它们的常规基本构造。
另外,将简要描述包括所述紫外线吸收密封剂的发光装置的制造方法。首先,将用于发光装置的紫外线吸收密封剂通过诸如闪蒸、喷墨印刷或旋涂的涂布方法涂布在LED或OLED上,经UV固化,随后模制成薄片等,接合至基板上,以及热固化以制造包括密封剂的发光装置。
下文中,提供优选实施例以帮助理解本发明,但是以下实施例仅为说明本发明。对本领域的技术人员显而易见的是,可以在本发明的范围和精神内进行各种改变和修改,并且这些改变和修改在所附权利要求的范围内。
实施例1:制造紫外线吸收密封剂
向配备有搅拌器的三颈烧瓶中,加入56.87重量%的甲基丙烯酸苄基酯单体、37.92重量%的作为多官能丙烯酸酯单体的三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、2.84重量%的作为引发剂的二苯基(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦以及2.37重量%的由式1a表示的吲哚类衍生化合物,随后在氮气气氛和50℃的温度下以550rpm搅拌5小时。在使用旋涂机(ACE-200,DongAh Trade Corp)以880rpm的速度在玻璃基板上施用通过搅拌获得的化合物23秒之后,所述化合物在25℃的温度下用395nm的波长通过LED固化机在氮气气氛下以1,500mJ/cm2的光量固化,制造厚度为8μm的用于发光装置的紫外线吸收密封剂。
[式1a]
实施例2:制造紫外线吸收密封剂
除了将式1a的吲哚类衍生化合物改变为由式1b表示的吲哚类衍生化合物之外,以与实施例1相同的方式制造用于发光装置的紫外线吸收密封剂。
[式1b]
实施例3:制造紫外线吸收密封剂
除了将式1a的吲哚类衍生化合物改变为由式1c表示的吲哚类衍生化合物之外,以与实施例1相同的方式制造用于发光装置的紫外线吸收密封剂。
[式1c]
实施例4:制造紫外线吸收密封剂
除了将式1a的吲哚类衍生化合物改变为由式1d表示的吲哚类衍生化合物之外,以与实施例1相同的方式制造用于发光装置的紫外线吸收密封剂。
[式1d]
实施例5:制造紫外线吸收密封剂
除了将式1a的吲哚类衍生化合物改变为由式1e表示的吲哚类衍生化合物之外,以与实施例1相同的方式制造用于发光装置的紫外线吸收密封剂。
[式1e]
实施例6:制造紫外线吸收密封剂
除了将式1a的吲哚类衍生化合物改变为由式1f表示的吲哚类衍生化合物之外,以与实施例1相同的方式制造用于发光装置的紫外线吸收密封剂。
[式1f]
实施例7:制造紫外线吸收密封剂
除了将式1a的吲哚类衍生化合物改变为由式1g表示的吲哚类衍生化合物之外,以与实施例1相同的方式制造用于发光装置的紫外线吸收密封剂。
[式1g]
实施例8:制造紫外线吸收密封剂
除了将式1a的吲哚类衍生化合物改变为由式1h表示的吲哚类衍生化合物之外,以与实施例1相同的方式制造用于发光装置的紫外线吸收密封剂。
[式1h]
实施例9:制造紫外线吸收密封剂
除了将式1a的吲哚类衍生化合物改变为由式1i表示的吲哚类衍生化合物之外,以与实施例1相同的方式制造用于发光装置的紫外线吸收密封剂。
[式1i]
实施例10:制造紫外线吸收密封剂
除了将式1a的吲哚类衍生化合物改变为由式1j表示的吲哚类衍生化合物之外,以与实施例1相同的方式制造用于发光装置的紫外线吸收密封剂。
[式1j]
比较例1:制造密封剂
除了将式1a的吲哚类衍生化合物改变为三嗪类UV吸收剂(BASF Tinuvin-460)之外,以与实施例1相同的方式制造用于发光装置的密封剂。
比较例2:制造密封剂
除了将式1a的吲哚类衍生化合物改变为苯并三唑类UV吸收剂(BASF Tinuvin-P)之外,以与实施例1相同的方式制造用于发光装置的密封剂。
比较例3:制造密封剂
除了将式1a的吲哚类衍生化合物改变为二苯甲酮类UV吸收剂(BASF Chimassorb-81)之外,以与实施例1相同的方式制造用于发光装置的密封剂。
实验例1:评价用于有机发光装置的密封剂的初始透射率
使用紫外-可见光光谱仪(Evolution 600)在透射模式下在300nm至800nm下测量在实施例1至实施例10以及比较例1至比较例3中制备的密封剂的试样的透射率,并将结果示于下面表1中。
[表1]
初始透射率(%) | |
实施例1 | 89.3 |
实施例2 | 83.0 |
实施例3 | 76.2 |
实施例4 | 89.2 |
实施例5 | 92.4 |
实施例6 | 65.4 |
实施例7 | 91.3 |
实施例8 | 88.2 |
实施例9 | 89.3 |
实施例10 | 90.2 |
比较例1 | 2.9 |
比较例2 | 0.9 |
比较例3 | 1.3 |
作为由实施例1至实施例10以及比较例1至比较例3制备的密封剂的初始透射率的评价结果,可以确认,与比较例1至比较例3的密封剂相比,应用本发明的吲哚类衍生化合物的实施例1至实施例10的密封剂具有显著优异的初始透射率,由此可见如果将本发明的吲哚类衍生化合物应用于密封剂,则其阻挡400nm附近的光。
实验例2:评价用于有机发光装置的密封剂的耐光透射率
使用耐光测试仪(Daesong Labtech,Korea)根据KS C IEC 61646标准(280nm至400nm)通过UV处理试验,当将由实施例1至实施例10以及比较例1至比较例3制备的密封剂暴露于日光中时,测量暴露之前及之后的透射率的变化来测量劣化程度。此时,通过使用2500W氙弧灯根据所述标准在60℃的温度和15kwh/m2的光量下暴露于光中来评价每一封装材料的耐光透射率,并且将结果示于下面表2中。
实验例3:评价用于有机发光装置的密封剂的耐热透射率
对于由实施例1至实施例10以及比较例1至比较例3制备的密封剂,通过使用高温烘箱(JEIO Tech,韩国)在空气中在120℃下加热500小时来评价每一密封剂的耐热透射率,并且将结果示于下面表2中。
[表2]
耐光透射率(%) | 耐热透射率(%) | |
实施例1 | 4 | 3 |
实施例2 | 9 | 4 |
实施例3 | 9 | 2 |
实施例4 | 7 | 3 |
实施例5 | 2 | 1 |
实施例6 | 10 | 4 |
实施例7 | 2 | 1 |
实施例8 | 4 | 2 |
实施例9 | 4 | 2 |
实施例10 | 4 | 3 |
比较例1 | -1 | 1 |
比较例2 | -2 | 2 |
比较例3 | -1 | -1 |
通过在实验例2和实验例3中评价由实施例1至实施例10和比较例1至比较例3制备的密封剂的耐光性及耐热性的结果,确认应用本发明的吲哚类衍生化合物的实施例1至实施例10的密封剂甚至在耐热/耐光之后在短波长即405nm至430nm下也具有优异的光阻挡效果。
Claims (10)
2.根据权利要求1所述的用于发光装置的紫外线吸收密封剂,其中,在式1中,R1是具有1至5个碳原子的烷基,R2和R3各自独立地是包含选自苯基、氰基、烷基、烷氧基、羰基、羧基、羟基、酰胺基、酯基、醚基、丙烯酸酯基以及卤素中的至少一个的饱和或不饱和烃基,并且R4至R7是氢。
5.根据权利要求1所述的用于发光装置的紫外线吸收密封剂,其中,所述紫外线吸收密封剂在405nm至430nm的波长下的UV初始透射率为80%至95%。
6.根据权利要求1所述的用于发光装置的紫外线吸收密封剂,其中,所述紫外线吸收密封剂的耐光透射率和耐热透射率为7%以下。
7.根据权利要求1所述的用于发光装置的紫外线吸收密封剂,其中,所述紫外线吸收密封剂还包含选自二苯甲酮类化合物、三唑类化合物、苯并三唑类化合物、三嗪类化合物、水杨酸酯类化合物、氰基丙烯酸酯类化合物、草酰苯胺类化合物、受阻胺类化合物以及金属络盐类化合物中的至少一种UV吸收剂。
8.根据权利要求1所述的用于发光装置的紫外线吸收密封剂,其中,所述紫外线吸收密封剂还包含选自抗氧化剂、热稳定剂、表面活性剂、流平剂以及消泡剂中的一种或更多种添加剂。
9.根据权利要求1所述的用于发光装置的紫外线吸收密封剂,其中,所述发光装置是LED或OLED。
10.一种发光装置,包括权利要求1所述的用于发光装置的紫外线吸收密封剂。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020190010387A KR102113537B1 (ko) | 2019-01-28 | 2019-01-28 | 발광 소자용 자외선 흡수 봉지재 및 이를 포함하는 발광 소자 |
KR10-2019-0010387 | 2019-01-28 | ||
PCT/KR2020/000923 WO2020159130A1 (ko) | 2019-01-28 | 2020-01-20 | 발광 소자용 자외선 흡수 봉지재 및 이를 포함하는 발광 소자 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN113366660A true CN113366660A (zh) | 2021-09-07 |
Family
ID=70910281
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202080011262.1A Pending CN113366660A (zh) | 2019-01-28 | 2020-01-20 | 用于发光装置的紫外线吸收密封剂和包括该紫外线吸收密封剂的发光装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7232340B2 (zh) |
KR (1) | KR102113537B1 (zh) |
CN (1) | CN113366660A (zh) |
TW (1) | TWI734358B (zh) |
WO (1) | WO2020159130A1 (zh) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102322016B1 (ko) * | 2016-06-01 | 2021-11-09 | 삼성디스플레이 주식회사 | 디스플레이 장치 및 그 제조방법 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5296519A (en) * | 1990-09-25 | 1994-03-22 | Orient Chemical Industries, Ltd. | Indole compound and use of the same |
JP2012164540A (ja) * | 2011-02-08 | 2012-08-30 | Toray Ind Inc | ガラスペーストおよびプラズマディスプレイパネル用部材の製造方法 |
CN104364681A (zh) * | 2012-06-25 | 2015-02-18 | Jsr株式会社 | 固体摄影组件用光学滤波器及其用途 |
CN108474968A (zh) * | 2016-09-30 | 2018-08-31 | 豪雅镜片泰国有限公司 | 眼镜镜片的制造方法、及眼镜镜片 |
CN108885372A (zh) * | 2016-03-18 | 2018-11-23 | 三星Sdi株式会社 | 用于发光显示器的偏光板及含有其的发光显示器 |
WO2019004046A1 (ja) * | 2017-06-27 | 2019-01-03 | 住友化学株式会社 | 粘着剤組成物及び粘着剤層付フィルム |
KR20190003927A (ko) * | 2017-06-30 | 2019-01-10 | 덕산네오룩스 주식회사 | 유기발광소자 봉지용 조성물 및 이를 포함하는 유기발광 표시장치 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08315778A (ja) * | 1995-05-23 | 1996-11-29 | Showa Techno Kooto Kk | 蛍光灯管被覆材料 |
JP2007073279A (ja) * | 2005-09-06 | 2007-03-22 | Toray Ind Inc | プラズマディスプレイ部材の誘電体層形成用ペーストおよびそれを用いたプラズマディスプレイパネル用部材の製造方法 |
JP5430073B2 (ja) * | 2007-03-30 | 2014-02-26 | ユー・ディー・シー アイルランド リミテッド | 有機電界発光素子 |
MX2010007972A (es) * | 2008-01-23 | 2010-09-30 | Sekisui Chemical Co Ltd | Pelicula intercapas para vidrio laminado, y vidrio laminado. |
JP2012017272A (ja) * | 2010-07-06 | 2012-01-26 | Canon Inc | 新規有機化合物およびそれを有する有機発光素子 |
JP6777401B2 (ja) * | 2016-02-12 | 2020-10-28 | 住友化学株式会社 | 光学フィルム |
JP6753118B2 (ja) * | 2016-04-06 | 2020-09-09 | 東レ株式会社 | 光学フィルム |
JP6705699B2 (ja) * | 2016-05-25 | 2020-06-03 | 住友化学株式会社 | 光吸収性組成物 |
KR102008185B1 (ko) * | 2017-01-13 | 2019-08-07 | 삼성에스디아이 주식회사 | 발광표시장치용 편광판 및 이를 포함하는 발광표시장치 |
JP6918102B2 (ja) * | 2017-05-19 | 2021-08-11 | 三井化学株式会社 | ポリカーボネート樹脂レンズ、およびポリカーボネート樹脂組成物 |
-
2019
- 2019-01-28 KR KR1020190010387A patent/KR102113537B1/ko active IP Right Grant
-
2020
- 2020-01-20 JP JP2021541686A patent/JP7232340B2/ja active Active
- 2020-01-20 WO PCT/KR2020/000923 patent/WO2020159130A1/ko active Application Filing
- 2020-01-20 CN CN202080011262.1A patent/CN113366660A/zh active Pending
- 2020-01-22 TW TW109102330A patent/TWI734358B/zh active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5296519A (en) * | 1990-09-25 | 1994-03-22 | Orient Chemical Industries, Ltd. | Indole compound and use of the same |
JP2012164540A (ja) * | 2011-02-08 | 2012-08-30 | Toray Ind Inc | ガラスペーストおよびプラズマディスプレイパネル用部材の製造方法 |
CN104364681A (zh) * | 2012-06-25 | 2015-02-18 | Jsr株式会社 | 固体摄影组件用光学滤波器及其用途 |
CN108885372A (zh) * | 2016-03-18 | 2018-11-23 | 三星Sdi株式会社 | 用于发光显示器的偏光板及含有其的发光显示器 |
CN108474968A (zh) * | 2016-09-30 | 2018-08-31 | 豪雅镜片泰国有限公司 | 眼镜镜片的制造方法、及眼镜镜片 |
WO2019004046A1 (ja) * | 2017-06-27 | 2019-01-03 | 住友化学株式会社 | 粘着剤組成物及び粘着剤層付フィルム |
KR20190003927A (ko) * | 2017-06-30 | 2019-01-10 | 덕산네오룩스 주식회사 | 유기발광소자 봉지용 조성물 및 이를 포함하는 유기발광 표시장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW202030179A (zh) | 2020-08-16 |
JP7232340B2 (ja) | 2023-03-02 |
KR102113537B1 (ko) | 2020-05-21 |
JP2022517673A (ja) | 2022-03-09 |
WO2020159130A1 (ko) | 2020-08-06 |
TWI734358B (zh) | 2021-07-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101871549B1 (ko) | 디스플레이 밀봉재용 조성물, 이를 포함하는 유기보호층, 및 이를 포함하는 디스플레이 장치 | |
KR101712700B1 (ko) | 유기발광소자 봉지용 조성물 및 이를 사용한 유기발광소자 표시장치 | |
CN109251584B (zh) | 一种具有高耐热性和高透光率的油墨组合物及用途 | |
EP3006512B1 (en) | Radiation curable paint composition and molded product comprising cured coating layer formed therefrom | |
KR102326487B1 (ko) | 코팅 조성물 및 그것을 사용한 경질 코팅 필름 | |
TW201404850A (zh) | 光硬化型光透明黏、接著劑組成物及包含該組成物之黏、接著片 | |
KR102554567B1 (ko) | 광경화성 조성물 및 이로부터 형성된 광경화 막 | |
KR20170132639A (ko) | 유기발광소자 봉지용 조성물 및 이로부터 제조된 유기발광소자 표시장치 | |
KR102097311B1 (ko) | 에너지선 경화형 수지 조성물 및 이것을 이용한 내후성 하드 코팅 필름 | |
KR101798450B1 (ko) | 광경화성 조성물 및 이로부터 형성된 광경화 막 | |
KR20130110018A (ko) | 사다리형 실세스퀴옥산 고분자를 포함하는 광학필름용 수지 조성물 | |
CN113366660A (zh) | 用于发光装置的紫外线吸收密封剂和包括该紫外线吸收密封剂的发光装置 | |
JP6981163B2 (ja) | 硬化性組成物 | |
TWI510509B (zh) | 光可固化組成物及包含該組成物之光學元件 | |
TWI576663B (zh) | 光固化性組成物以及含有該組成物的封裝裝置 | |
KR20180053177A (ko) | 유기발광소자 봉지용 조성물 및 이로부터 제조된 유기발광소자 표시장치 | |
KR102335294B1 (ko) | 표시 소자용 밀봉제 | |
US9383489B2 (en) | Inkjet composition for forming transparent film and preparation method thereof | |
KR102311851B1 (ko) | 광경화성 조성물 및 이로부터 형성된 광경화 막 | |
KR20070087852A (ko) | 대전방지 하드코팅 조성물, 이의 코팅 방법 및 이를 이용한대전방지 투명패널 | |
CN115305020A (zh) | 一种可紫外光固化封装薄膜用胶水及其使用方法 | |
KR101867979B1 (ko) | 배리어필름 제조용 조성물, 이를 포함하는 배리어필름 및 광학필름 | |
JP2017045646A (ja) | 表示素子用封止剤 | |
TWI705086B (zh) | 抗靜電劑、含抗靜電劑之組合物、塗膜之製造方法、抗靜電劑之製造方法、光擴散膜、光擴散膜之製造方法、用於塗膜之抗靜電劑之用途及用於光擴散膜之抗靜電劑之用途 | |
KR101423618B1 (ko) | 도광판 미세 패턴 형성용 광경화형 임프린팅 조성물 및 그 임프린팅 도광판과, 이를 포함하는 백라이트 유니트 및 디스플레이 장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination |