CN113277835A - 定位工装和平面靶材的烧结方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种定位工装和平面靶材的烧结方法。其中,定位工装包括:基座;定位板,定位板与基座滑动相连,定位板被配置为适于装配靶材生坯;其中,当靶材生坯大小发生变化时,定位板相对基座滑动并夹紧靶材生坯。本发明通过定位板与基座的相对移动代替了定位板与靶材之间的相对移动,平衡靶材与收缩时产生的摩擦力,从而抵消掉靶材在发生形变时与定位板产生的摩擦力,避免靶材在发生形变时由于靶材与摩擦力导致的靶材开裂或者变形,提高了利用该定位工装烧结的靶材的良品率。

Description

定位工装和平面靶材的烧结方法
技术领域
本发明涉及技术领域,具体而言,涉及一种定位工装和一种平面靶材的烧结方法。
背景技术
陶瓷靶材是一类非常重要的真空镀膜材料,例如ZnO、AZO、GZO、IZO、IGZO、ITO、TiO2、Nb2O5等。陶瓷靶材是一种或多种氧化物粉末经过混合、造粒、成型、烧结而成的陶瓷材料。经过多年的发展,目前,陶瓷靶材的生产虽然大量借鉴了传统陶瓷的制备工艺,但是仍然存在烧结致密度不够、开裂、孔洞等问题,其烧结工艺还有很大的提升空间。
传统的工艺在进行平面陶瓷靶材烧结时,生坯的摆放主要是将生坯平放在氧化铝等承烧板上,然后一起放进烧结炉中进行烧结,由于靶材的长度较短、质量轻、烧结收缩时的摩擦阻力小,因此满足了以往短节距靶材的生产要求。但是,随着靶材的长度逐渐要求加长,使靶材的重量显著增加,收缩时的摩擦阻力较大,导致靶材由于开裂而无法生产大尺寸的平面靶材,影响了良品率和取材率。
发明内容
本发明旨在至少解决现有技术或相关技术中存在的技术问题之一。
为此,本发明的第一方面提供了一种定位工装。
本发明的第二方面提供了一种平面靶材的烧结方法。
为了实现上述目的,根据本发明的第一方面的技术方案,提供了一种定位工装,包括:基座;定位板,定位板与基座滑动相连,定位板被配置为适于装配靶材生坯;其中,当靶材生坯大小发生变化时,定位板相对基座滑动并夹紧靶材生坯。
在该技术方案中,定位工装包括基座和定位板,定位板能够相对基座滑动,基座与定位板之间设置有滑移面,滑移面的摩擦力较小。定位板用于对靶材的装配和定位,在烧结靶材时,将靶材固定在定位板上进行加工。当靶材装配到定位板上烧结时,靶材在烧结过程中会发生形变,导致靶材的尺寸发生变化,当靶材的尺寸发生变化时,定位板可以随着靶材的尺寸变化而相对基座移动,定位板与基座之间的摩擦力小于定位板与靶材之间的摩擦力。即通过定位板与基座的相对移动代替了定位板与靶材之间的相对移动,平衡靶材与收缩时产生的摩擦力,从而抵消掉靶材在发生形变时与定位板产生的摩擦力,避免靶材在发生形变时由于靶材与摩擦力导致的靶材开裂或者变形,提高了利用该定位工装烧结的靶材的良品率。
可以理解的是,上述定位工装适用于对大尺寸的平面靶材,将定位板上表面设置为水平面,能够使大尺寸的平面靶材可以完整的装配到定位板上,并且在烧结的过程中,避免由于靶材发生形变导致的靶材从定位板上脱落的情况的发生。
在上述任一技术方案中,基座设有第一导向斜面;定位板设有第二导向斜面,第一导向斜面与第二导向斜面相接触,第二导向斜面相对第一导向斜面滑动。
在该技术方案中,基座和定位板上分别设置有第一导向斜面和第二导向斜面,第一导向斜面与第二导向斜面作为基座和定位板之间的接触面,使和定位板之间的接触面为斜面,第二导向斜面相对第一导向斜面滑动,通过第一导向斜面和第二导向斜面使定位板可以相对基座滑动,使定位板能够相对基座滑动。
在上述任一技术方案中,基座包括:至少两个支撑组件,支撑组件包括:定位柱;承托板,承托板与定位柱相连,第一导向斜面设于承托板。
在该技术方案中,基座包括至少两个包括定位柱和承托板的支撑组件,承托板与定位柱相连,第一导向斜面设置在承托板的上表面。基座与定位板的接触面即为定位板与承托板之间的接触面,定位柱用于对承托板的至支撑,通过调整定位柱的位置可以对至少两个承托板之间的间距进行调节,实现了对该定位工装能够装配的靶材的尺寸进行调节。
可以理解的是,基座包括至少两个支撑组件,两个支撑组件之间存在间隙,即至少两个承托板之间存在间隙,承托板用于对定位板的承托和支撑,通过调整至少两个承托板之间的间隙大小可以调节承托板可以承托最大的定位板的尺寸。定位柱起到对承托板支撑的作用,每个承托板上至少设置一个定位柱,定位柱的一端与承托板固定相连,定位柱的另一端与地面相接处,或者定位柱的另一端与其他工装可以拆卸相连,实现通过调节定位柱的位置对承托板之间的间隙大小进行调节。
在上述任一技术方案中,至少两个支撑组件均匀分布于以垂线为轴的同一个分度圆上,每个支撑组件上均与一个定位板相接触。
在该技术方案中,至少两个支撑组件环形分布在同一分度圆上,并且至少两个支撑组件处于同一水平面上,保证至少两个支撑组件承载的定位板的上表面为水平面,利于放置和定位靶材。支撑组件的数量与定位板的数量相同,且定位板与支撑组件的设置方式相同,使至少两个定位板为相对设置的关系,实现了至少两个定位板可以对靶材进行稳定支撑的作用。
在上述任一技术方案中,定位板包括:围挡,围挡设于定位板远离垂线的一端,围挡适于与靶材生坯相接触。
在该技术方案中,定位板上还设置有围挡,围挡设置在定位板远离垂线的一端,即围挡处于定位板的外缘处,实现利用围挡对定位板上设置的靶材固定的作用,避免靶材相对定位板产生水平方向的移动,第一步加强定位板与靶材安装的稳定性。
在上述任一技术方案中,承托板自远离垂线至垂线的方向上的厚度逐渐减小;定位板自远离垂线至垂线的方向上的厚度逐渐增大。
在该技术方案中,至少两个承托板呈环形分布,至少两个承托板相对端为厚度较小的一端,至少两个定位板相对端为厚度较大的一端,即承托板上的第一导向斜面和定位板上的第二导向斜面配合使用时,使至少两个定位板能够向内移动,从而对放置在定位板上的靶材加紧固定。
可以理解的是,当靶材放置在至少两个定位板上,至少两个定位板在第一导向斜面和第二导向斜面的。
在上述任一技术方案中,还包括:第一导向斜面与垂线之间的夹角等于第二导向斜面与垂线之间的夹角;第一导向斜面与垂线之间的夹角的取值范围为82°至60°。
在该技术方案中,第一导向斜面与垂线之间的夹角和第二导向斜面与垂线之间的夹角相等,使第一导向斜面与第二导向斜面相装配时,可以使承托板的下表面与定位板的上表面相平行,并且将定位板的上表面和承托板的下表面设置与水平面相平行,使用于装配靶材的定位板与水平面相平行,使靶材在重力作用下平稳的固定在定位板的上表面,进一步加强了定位板对靶材的固定效果,第一导向斜面和第二导向斜面与垂线的夹角的取值范围在82°至60°之间,既保证了在重力作用下定位板能够相对承托板滑动从而对设置在定位板上的靶材起到向内的夹持作用,并且在靶材受热产生形变的情况下,靶材与定位板之间的摩擦力可以带动定位板相对承托板移动,避免了靶材与定位板之间的摩擦力导致靶材的开裂,从而提高了良品率。
在上述任一技术方案中,定位板上表面铺设有氧化铝粉;和/或定位板与基座之间铺设有氧化铝粉。
在该技术方案中,在定位板的上表面铺设有氧化铝粉,氧化铝粉能够降低定位板与靶材之间的摩擦力,使靶材在发生形变时不会由于靶材与定位板所产生的摩擦力导致靶材开裂。定位板与基座之间设置的氧化铝粉能够降低定位板与基座之间的摩擦力,保证了定位板能够相对基座滑动。
可以理解的是,靶材在烧结的过程中会收缩,靶材与定位板之间的摩擦力较小,在收缩过程中,靶材不会由于摩擦力而导致开裂。靶材收缩的过程中,至少两个定位板受到重力以及第一导向斜面和第二导向斜面的作用会向内滑动夹紧靶材,避免靶材与定位板之间松动。通过在靶材与定位板之间,以及定位板与靶材之间设置降低摩擦力的氧化铝粉,使靶材不会由于与定位板的摩擦力导致开裂和损坏。
根据本发明的第二方面的技术方案,提供了一种平面靶材的烧结方法,包括:将造粒粉体至成型盒中进行模压,再通过冷等静压形成靶材生坯;将靶材生坯装配于如上述任一技术方案中的定位工装,将靶材生坯在氧气氛围内于1560℃烧结,形成平面靶材毛坯。
在该技术方案中,将造粒粉体投入闭合模腔内加热加压进行模压,模压完成后在进行冷等静压形成等待烧结的靶材生坯,然后将靶材生坯固定在实施例一中的固定工装中,利用固定工装将靶材生坯夹紧固定,在氧气氛围内以1560℃的温度对靶材生坯进行烧结,形成平面靶材毛坯。
可以理解的是,在对靶材生坯进行烧结时,靶材生坯会收缩,靶材生坯在收缩的过程中会带动定位工装的定位板相对基座滑动,平衡了靶材生坯在烧结过程中收缩产生的与定位板之间的摩擦力,避免靶材生坯受到摩擦力的影响而导致的开裂变形的问题,从而提高了烧结成的平面靶材毛坯的良品率。
在上述任一技术方案中,造粒粉体为三氧化二铟和二氧化锡的混合造粒粉体。在该实施例中,制备平面靶材毛坯的原材料为成分比为90:10wt%的三氧化二铟和二氧化锡的混合造粒粉体。
可以理解的是,其中,三氧化二铟和二氧化锡的成分比为90:10wt%、或93:7wt%或95:5wt%或97:3wt%。
本发明的附加方面和优点将在下面的描述部分中给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本发明的实践了解到。
附图说明
本发明的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解,其中:
图1示出了根据本发明的一个实施例的定位工装的结构示意图;
图2示出了根据本发明的一个实施例的平面靶材的烧结方法的流程示意图;
图3示出了根据本发明的一个具体实施例的平面靶材的烧结方法的流程示意图;
图4示出了根据本发明的另一个具体实施例的平面靶材的烧结方法的流程示意图;
图5示出了根据本发明的再一个具体实施例的平面靶材的烧结方法的流程示意图;
图6示出了根据本发明的又一个具体实施例的平面靶材的烧结方法的流程示意图;
图7示出了根据本发明的又一个具体实施例的平面靶材的烧结方法的流程示意图。
其中,图1中的附图标记与部件名称之间的对应关系为:
100定位板,110围挡,200基座,220承托板,240定位柱,300靶材,L垂线。
具体实施方式
为了能够更清楚地理解本发明的上述目的、特征和优点,下面结合附图和具体实施方式对本发明进行进一步的详细描述。需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明,但是,本发明还可以采用其他不同于在此描述的其他方式来实施,因此,本发明的保护范围并不受下面公开的具体实施例的限制。
下面参照图1至图7描述根据本发明一个实施例的定位工装和平面靶材的烧结方法。
实施例一:
如图1所示,本发明的一个实施例中,提供一种定位工装,包括:基座200;定位板100,定位板100与基座200滑动相连,定位板100被配置为适于装配靶材300生坯;其中,当靶材300生坯大小发生变化时,定位板100相对基座200滑动并夹紧靶材300。
在该实施例中,定位工装包括基座200和定位板100,定位板100能够相对基座200滑动,基座200与定位板100之间设置有滑移面,滑移面的摩擦力较小。定位板100用于对靶材300的装配和定位,在烧结靶材300时,将靶材300固定在定位板100上进行加工。当靶材300装配到定位板100上烧结时,靶材300在烧结过程中会发生形变,导致靶材300的尺寸发生变化,当靶材300的尺寸发生变化时,定位板100可以随着靶材300的尺寸变化而相对基座200移动,定位板100与基座200之间的摩擦力小于定位板100与靶材300之间的摩擦力。即通过定位板100与基座200的相对移动代替了定位板100与靶材300之间的相对移动,平衡靶材300与收缩时产生的摩擦力,从而抵消掉靶材300在发生形变时与定位板100产生的摩擦力,避免靶材300在发生形变时由于靶材300与摩擦力导致的靶材300开裂或者变形,提高了利用该定位工装烧结的靶材300的良品率。
可以理解的是,上述定位工装适用于对大尺寸的平面靶材300,将定位板100上表面设置为水平面,能够使大尺寸的平面靶材300可以完整的装配到定位板100上,并且在烧结的过程中,避免由于靶材300发生形变导致的靶材300从定位板100上脱落的情况的发生。
在上述任一实施例中,基座200设有第一导向斜面;定位板100设有第二导向斜面,第一导向斜面与第二导向斜面相接触,第二导向斜面相对第一导向斜面滑动。
在该实施例中,基座200和定位板100上分别设置有第一导向斜面和第二导向斜面,第一导向斜面与第二导向斜面作为基座200和定位板100之间的接触面,使基座200和定位板100之间的接触面为斜面,第二导向斜面相对第一导向斜面滑动,通过第一导向斜面和第二导向斜面使定位板100可以相对基座200滑动,使定位板100能够相对基座200滑动。
在上述任一实施例中,基座200设有第一导向斜面;定位板100设有第二导向斜面,第一导向斜面与第二导向斜面相接触,第二导向斜面相对第一导向斜面滑动。
在该实施例中,基座200和定位板100上分别设置有第一导向斜面和第二导向斜面,第一导向斜面与第二导向斜面作为基座200和定位板100之间的接触面,使基座200和定位板100之间的接触面为斜面,第二导向斜面相对第一导向斜面滑动,通过第一导向斜面和第二导向斜面使定位板100可以相对基座200滑动,使定位板100能够相对基座200滑动。
可以理解的是,基座200包括至少两个支撑组件,两个支撑组件之间存在间隙,即至少两个承托板220之间存在间隙,承托板220用于对定位板100的承托和支撑,通过调整至少两个承托板220之间的间隙大小可以调节承托板220可以承托最大的定位板100的尺寸。定位柱240起到对承托板220支撑的作用,每个承托板220上至少设置一个定位柱240,定位柱240的一端与承托板220固定相连,定位柱240的另一端与地面相接处,或者定位柱240的另一端与其他工装可以拆卸相连,实现通过调节定位柱240的位置对承托板220之间的间隙大小进行调节。
在上述任一实施例中,至少两个支撑组件均匀分布于以垂线L为轴的同一个分度圆上,每个支撑组件上均与一个定位板100相接触。
在该实施例中,至少两个支撑组件环形分布在同一分度圆上,并且至少两个支撑组件处于同一水平面上,保证至少两个支撑组件承载的定位板100的上表面为水平面,利于放置和定位靶材300。支撑组件的数量与定位板100的数量相同,且定位板100与支撑组件的设置方式相同,使至少两个定位板100为相对设置的关系,实现了至少两个定位板100可以对靶材300进行稳定支撑的作用。
在上述任一实施例中,定位板100包括:围挡110,围挡110设于定位板100远离垂线L的一端,围挡110适于与靶材300生坯相接触。
在该实施例中,定位板100上还设置有围挡110,围挡110设置在定位板100远离垂线L的一端,即围挡110处于定位板100的外缘处,实现利用围挡110对定位板100上设置的靶材300固定的作用,避免靶材300相对定位板100产生水平方向的移动,第一步加强定位板100与靶材300安装的稳定性。
在上述任一实施例中,承托板220自远离垂线L至垂线L的方向上的厚度逐渐减小;定位板100自远离垂线L至垂线L的方向上的厚度逐渐增大。
在该实施例中,至少两个承托板220呈环形分布,至少两个承托板220相对端为厚度较小的一端,至少两个定位板100相对端为厚度较大的一端,即承托板220上的第一导向斜面和定位板100上的第二导向斜面配合使用时,使至少两个定位板100能够向内移动,从而对放置在定位板100上的靶材300加紧固定。
可以理解的是,当靶材300放置在至少两个定位板100上,至少两个定位板100在第一导向斜面和第二导向斜面的。
在上述任一实施例中,第一导向斜面与垂线L之间的夹角等于第二导向斜面与垂线L之间的夹角;第一导向斜面与垂线L之间的夹角的取值范围为82°至60°。
在该实施例中,第一导向斜面与垂线L之间的夹角和第二导向斜面与垂线L之间的夹角相等,使第一导向斜面与第二导向斜面相装配时,可以使承托板220的下表面与定位板100的上表面相平行,并且将定位板100的上表面和承托板220的下表面设置与水平面相平行,使用于装配靶材300的定位板100与水平面相平行,使靶材300在重力作用下平稳的固定在定位板100的上表面,进一步加强了定位板100对靶材300的固定效果,第一导向斜面和第二导向斜面与垂线L的夹角的取值范围在82°至60°之间,既保证了在重力作用下定位板100能够相对承托板220滑动从而对设置在定位板100上的靶材300起到向内的夹持作用,并且在靶材300受热产生形变的情况下,靶材300与定位板100之间的摩擦力可以带动定位板100相对承托板220移动,避免了靶材300与定位板100之间的摩擦力导致靶材300的开裂,从而提高了良品率。
在上述任一实施例中,定位板100上表面铺设有氧化铝粉;和/或定位板100与基座200之间铺设有氧化铝粉。
在该实施例中,在定位板100的上表面铺设有氧化铝粉,氧化铝粉能够降低定位板100与靶材300之间的摩擦力,使靶材300在发生形变时不会由于靶材300与定位板100所产生的摩擦力导致靶材300开裂。定位板100与基座200之间设置的氧化铝粉能够降低定位板100与基座200之间的摩擦力,保证了定位板100能够相对基座200滑动。
可以理解的是,靶材300在烧结的过程中会收缩,靶材300与定位板100之间的摩擦力较小,在收缩过程中,靶材300不会由于摩擦力而导致开裂。靶材300收缩的过程中,至少两个定位板100受到重力以及第一导向斜面和第二导向斜面的作用会向内滑动夹紧靶材300,避免靶材300与定位板100之间松动。通过在靶材300与定位板100之间,以及定位板100与靶材300之间设置降低摩擦力的氧化铝粉,使靶材300不会由于与定位板100的摩擦力导致开裂和损坏。
实施例二:
如图1所示,本发明的一个具体实施例中,提供一种定位工装,包括:定位板100、承托板220和定位柱240。
承托板220的上表面与水平面倾角为5-30°,定位板100下表面与承托板220上表面角度相同。使组合后承托板220下表面与定位板100上表面平行。
承托板220由4个定位柱240进行限位,防止承托板220移动。
定位工装可以根据不同长度的靶材来调节定位柱240位置即可,不需要再重新制作承烧板。
定位板100两侧设有围挡110来卡住平面陶瓷靶材。
定位工装沿与靶材300长度方向垂直。
靶材包含ZnO(氧化锌)、AZO(锌铝靶材)、GZO(镓锌靶材)、IZO(铟锌靶材)、IGZO(镓铟锌靶材)、ITO(铟锌靶材)、TiO2(二氧化钛靶材)、Nb2O5(五氧化二铌靶材)。
本发明在平面陶瓷靶材成型后,将加工好的靶材素坯放置在由两块定位板100组成的平面上进行烧结。
定位板100下表面与承托板220上表面分别形成有第一导向斜面和第二导向斜面,第一导向斜面和第二导向斜面的角度相等。两个导向斜面之间会产生一个水平方向的分力,利用定位板100的沿来传递给平面陶瓷靶材。来平衡烧结收缩的摩擦力。使靶材不会因为摩擦力太大而导致烧结开裂。
可以选择的是,第一导向斜面和第二导向斜面与水平面的倾角为5°至30°,优选为8°至15°。
可以选择的是,在承托板220上表面与定位板100下表面之间铺有氧化铝粉,来减少导向斜面的摩擦力。否则导向斜面的角度需要变大浪费烧结空间及承烧板成本。
可以选择的是,在定位板100上表面铺有一层氧化铝粉,使其靶材不容易与承烧板粘连,同样减少摩擦力,有利于靶材宽度方向的收缩。
可以选择的是,氧化铝粉纯度大于99%。
可以选择的是,氧化铝粉的粒度为16至80目。
可以选择的是,承烧板材质为氧化铝,纯度大于99%。
可以选择的是,述所旋转陶瓷靶材为AZO靶材ITO靶材。
可以选择的是,本发明设计的承烧板和烧结方法适用于大尺寸的平面陶瓷靶材的烧结。
实施例三:
如图2所示,本发明的一个实施例中,提供一种平面靶材的烧结方法,包括:
步骤S102,将造粒粉体至成型盒中进行模压,再通过冷等静压形成靶材生坯;
步骤S104,将靶材生坯装配于定位工装,将靶材生坯在氧气氛围内于1560℃烧结,形成平面靶材毛坯。
其中,造粒粉体为三氧化二铟和二氧化锡的混合造粒粉体,三氧化二铟和二氧化锡的成分比为90:10wt%(wt%为重量含量百分数)。
在该实施例中,将造粒粉体投入闭合模腔内加热加压进行模压,模压完成后在进行冷等静压形成等待烧结的靶材生坯,然后将靶材生坯固定在实施例一中的固定工装中,利用固定工装将靶材生坯夹紧固定,在氧气氛围内以1560的温度对靶材生坯进行烧结,形成平面靶材毛坯,其中,三氧化二铟和二氧化锡的成分比为90:10wt%、或93:7wt%或95:5wt%或97:3wt%。
可以理解的是,在对靶材生坯进行烧结时,靶材生坯会收缩,靶材生坯在收缩的过程中会带动定位工装的定位板相对基座滑动,平衡了靶材生坯在烧结过程中收缩产生的与定位板之间的摩擦力,避免靶材生坯受到摩擦力的影响而导致的开裂变形的问题,从而提高了烧结成的平面靶材毛坯的良品率。
实施例四:
如图3所示,本发明的一个具体实施例中,提供一种平面靶材的烧结方法,包括:
步骤S202,In2O3/SnO2成分比为90:10wt%的ITO造粒粉体,先经过模压,再经过230MPa冷等静压获得尺寸为1300mm×300mm×12mm靶材生坯;
步骤S204,ITO生坯在空气气氛下于1550℃烧结30h,得到黑色的ITO平面靶材毛坯。
其中,第一导向斜面和第二导向斜面角度为8°(与水平面的夹角),基座的上表面和上定位板的下表面之间铺有氧化铝粉,氧化铝粉纯度99%,粒度16um,In2O3和SnO2为三氧化二铟和二氧化锡。
在该实施例中,通过将平面陶瓷靶材生坯置于存在第二导向斜面的定位板上进行烧结,促进靶材的充分烧结,第一导向斜面和第二导向斜面的倾斜角为8°,可极大的降低靶材生坯在烧结时因收缩导致与承烧板的摩擦力,有利于靶材致密化及防止靶材开裂的缺陷,极大的提高了靶材的良率及取材率。
可以理解的是,ITO造粒粉体中,三氧化二铟和二氧化锡的成分比可以为90:10wt%、或93:7wt%或95:5wt%或97:3wt%。
实施例五:
如图4所示,本发明的另一个具体实施例中,提供一种平面靶材的烧结方法,包括:
步骤S302,In2O3/SnO2成分比为90:10wt%的ITO造粒粉体,先经过模压,再经过230MPa冷等静压获得尺寸为1200mm×300mm×12mm靶材生坯;
步骤S304,ITO生坯在空气气氛下于1550℃烧结30h,得到黑色的ITO平面靶材毛坯。
其中,第一导向斜面和第二导向斜面角度为10°(与水平面的夹角),基座的上表面和上定位板的下表面之间铺有氧化铝粉,氧化铝粉纯度99.5%,粒度32um。
在该实施例中,通过将平面陶瓷靶材生坯置于存在第二导向斜面的定位板上进行烧结,促进靶材的充分烧结,第一导向斜面和第二导向斜面的倾斜角为10°,可极大的降低靶材生坯在烧结时因收缩导致与承烧板的摩擦力,有利于靶材致密化及防止靶材开裂的缺陷,极大的提高了靶材的良率及取材率。
可以理解的是,ITO造粒粉体中,三氧化二铟和二氧化锡的成分比可以为90:10wt%、或93:7wt%或95:5wt%或97:3wt%。
实施例六:
如图5所示,本发明的再一个具体实施例中,提供一种平面靶材的烧结方法,包括:
步骤S402,In2O3/SnO2成分比为90:10wt%的ITO造粒粉体,先经过模压,再经过230MPa冷等静压获得尺寸为1500mm×300mm×12mm靶材生坯;
步骤S404,ITO生坯在空气气氛下于1550℃烧结30h,得到黑色的ITO平面靶材毛坯。
其中,第一导向斜面和第二导向斜面角度为12°(与水平面的夹角),基座的上表面和上定位板的下表面之间铺有氧化铝粉,氧化铝粉纯度99.5%,粒度60um。
在该实施例中,通过将平面陶瓷靶材生坯置于存在第二导向斜面的定位板上进行烧结,促进靶材的充分烧结,第一导向斜面和第二导向斜面的倾斜角为12°,可极大的降低靶材生坯在烧结时因收缩导致与承烧板的摩擦力,有利于靶材致密化及防止靶材开裂的缺陷,极大的提高了靶材的良率及取材率。
可以理解的是,ITO造粒粉体中,三氧化二铟和二氧化锡的成分比可以为90:10wt%、或93:7wt%或95:5wt%或97:3wt%。
实施例七:
如图6所示,本发明的又一个具体实施例中,提供一种平面靶材的烧结方法,包括:
步骤S502,In2O3/SnO2成分比为90:10wt%的ITO造粒粉体,先经过模压,再经过230MPa冷等静压获得尺寸为1500mm×300mm×12mm靶材生坯;
步骤S504,ITO生坯在空气气氛下于1550℃烧结30h,得到黑色的ITO平面靶材毛坯。
其中,第一导向斜面和第二导向斜面角度为8°(与水平面的夹角),基座的上表面和上定位板的下表面之间铺有氧化铝粉,氧化铝粉纯度99%,粒度16um。
在该实施例中,通过将平面陶瓷靶材生坯置于存在第二导向斜面的定位板上进行烧结,促进靶材的充分烧结,第一导向斜面和第二导向斜面的倾斜角为8°,可极大的降低靶材生坯在烧结时因收缩导致与承烧板的摩擦力,有利于靶材致密化及防止靶材开裂的缺陷,极大的提高了靶材的良率及取材率。
可以理解的是,ITO造粒粉体中,三氧化二铟和二氧化锡的成分比可以为90:10wt%、或93:7wt%或95:5wt%或97:3wt%。
实施例八:
如图7所示,本发明的又一个具体实施例中,提供一种平面靶材的烧结方法,包括:
步骤S602,ZnO/Al2O3成分比为98:2wt%的AZO造粒粉体,先经过模压,再经过220MPa冷等静压获得尺寸为1500mm×300mm×12mm靶材生坯;
步骤S604,AZO生坯在空气气氛下于1410℃烧结20h,得到黑色的ITO平面靶材毛坯。
其中,第一导向斜面和第二导向斜面角度为10°(与水平面的夹角),基座的上表面和上定位板的下表面之间铺有氧化铝粉,氧化铝粉纯度99%,粒度32um,ZnO和Al2O3为氧化锌和三氧化二铝。
在该实施例中,通过将平面陶瓷靶材生坯置于存在第二导向斜面的定位板上进行烧结,促进靶材的充分烧结,第一导向斜面和第二导向斜面的倾斜角为12°,可极大的降低靶材生坯在烧结时因收缩导致与承烧板的摩擦力,有利于靶材致密化及防止靶材开裂的缺陷,极大的提高了靶材的良率及取材率。
可以理解的是,AZO造粒粉体中的ZnO/Al2O3成分比还可以为99:1wt%。
在本发明中,术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述的目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性;术语“多个”则指两个或两个以上,除非另有明确的限定。术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语均应做广义理解,例如,“连接”可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;“相连”可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
本发明的描述中,需要理解的是,术语“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或单元必须具有特定的方向、以特定的方位构造和操作,因此,不能理解为对本发明的限制。
在本说明书的描述中,术语“一个实施例”、“一个实施例”、“具体实施例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或实例。而且,描述的具体特征、结构、材料或特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
以上仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种定位工装,其特征在于,包括:
基座;
定位板,所述定位板与所述基座滑动相连,所述定位板被配置为适于装配靶材生坯;
其中,当所述靶材生坯大小发生变化时,所述定位板相对所述基座滑动并夹紧所述靶材。
2.根据权利要求1所述的定位工装,其特征在于,
所述基座设有第一导向斜面;
所述定位板设有第二导向斜面,所述第一导向斜面与所述第二导向斜面相接触,所述第二导向斜面相对所述第一导向斜面滑动。
3.根据权利要求2所述的定位工装,其特征在于,所述基座包括:
至少两个支撑组件,所述支撑组件包括:
定位柱;
承托板,所述承托板与所述定位柱相连,所述第一导向斜面设于所述承托板。
4.根据权利要求3所述的定位工装,其特征在于,:
所述至少两个支撑组件均匀分布于以垂线为轴的同一个分度圆上,每个所述支撑组件上均与一个定位板相接触。
5.根据权利要求4所述的定位工装,其特征在于,所述定位板包括:
围挡,所述围挡设于所述定位板远离所述垂线的一端,所述围挡适于与所述靶材生坯相接触。
6.根据权利要求5所述的定位工装,其特征在于,
所述承托板自远离所述垂线至所述垂线的方向上的厚度逐渐减小;
所述定位板自远离所述垂线至所述垂线的方向上的厚度逐渐增大。
7.根据权利要求6所述的定位工装,其特征在于,还包括:
所述第一导向斜面与所述垂线之间的夹角等于所述第二导向斜面与所述垂线之间的夹角;
所述第一导向斜面与所述垂线之间的夹角的取值范围为82°至60°。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的定位工装,其特征在于,包括:
所述定位板上表面铺设有氧化铝粉;和/或
所述定位板与所述基座之间铺设有氧化铝粉。
9.一种平面靶材的烧结方法,其特征在于,
将造粒粉体至成型盒中进行模压,再通过冷等静压形成靶材生坯;
将所述靶材生坯装配于如上述权利要求1至8中任一项中所述的定位工装,将所述靶材生坯在氧气氛围内于1560℃烧结,形成平面靶材毛坯。
10.根据权利要求9所述的平面靶材的烧结方法,其特征在于,
所述造粒粉体为三氧化二铟和二氧化锡的混合造粒粉体。
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Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05296670A (ja) * 1992-04-13 1993-11-09 Mitsubishi Materials Corp 焼成用治具及びそれを用いた焼成方法
JP2006151749A (ja) * 2004-11-29 2006-06-15 Kyocera Corp 筒状長尺成形体用焼成セッター及び筒状長尺成形体の焼成方法
US20090224441A1 (en) * 2008-03-04 2009-09-10 Pcc Airfoils, Inc. Supporting ceramic articles during firing
JP2009227564A (ja) * 2008-02-29 2009-10-08 Inax Corp ガラス基板の熱処理用セッター、その製造方法及びガラス基板の熱処理方法
WO2012133525A1 (ja) * 2011-03-30 2012-10-04 京セラ株式会社 焼成用部材およびこれを用いた焼成用容器ならびに正極材料の製造方法
CN105546996A (zh) * 2015-12-11 2016-05-04 上海卡贝尼精密陶瓷有限公司 超长陶瓷棒坯料烧结成瓷过程防止坯件断裂的方法
WO2016136088A1 (ja) * 2015-02-25 2016-09-01 三井金属鉱業株式会社 円筒形ターゲット材の製造方法、円筒形スパッタリングターゲットおよび焼成用治具
CN106830949A (zh) * 2017-02-17 2017-06-13 骊住美标卫生洁具制造(上海)有限公司 一种陶瓷烧制方法
TW201800366A (zh) * 2016-06-29 2018-01-01 丸十股份有限公司 陶瓷成形體的燒製輔助具
CN207643891U (zh) * 2017-12-19 2018-07-24 天津鑫嘉隆印刷有限公司 一种减震印刷机
CN110307732A (zh) * 2019-06-21 2019-10-08 向少军 一种多点限位式发动机陶瓷叶片煅烧支撑架
CN211575892U (zh) * 2020-02-20 2020-09-25 广州市尤特新材料有限公司 定位工装

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05296670A (ja) * 1992-04-13 1993-11-09 Mitsubishi Materials Corp 焼成用治具及びそれを用いた焼成方法
JP2006151749A (ja) * 2004-11-29 2006-06-15 Kyocera Corp 筒状長尺成形体用焼成セッター及び筒状長尺成形体の焼成方法
JP2009227564A (ja) * 2008-02-29 2009-10-08 Inax Corp ガラス基板の熱処理用セッター、その製造方法及びガラス基板の熱処理方法
US20090224441A1 (en) * 2008-03-04 2009-09-10 Pcc Airfoils, Inc. Supporting ceramic articles during firing
WO2012133525A1 (ja) * 2011-03-30 2012-10-04 京セラ株式会社 焼成用部材およびこれを用いた焼成用容器ならびに正極材料の製造方法
WO2016136088A1 (ja) * 2015-02-25 2016-09-01 三井金属鉱業株式会社 円筒形ターゲット材の製造方法、円筒形スパッタリングターゲットおよび焼成用治具
CN105546996A (zh) * 2015-12-11 2016-05-04 上海卡贝尼精密陶瓷有限公司 超长陶瓷棒坯料烧结成瓷过程防止坯件断裂的方法
TW201800366A (zh) * 2016-06-29 2018-01-01 丸十股份有限公司 陶瓷成形體的燒製輔助具
CN106830949A (zh) * 2017-02-17 2017-06-13 骊住美标卫生洁具制造(上海)有限公司 一种陶瓷烧制方法
CN207643891U (zh) * 2017-12-19 2018-07-24 天津鑫嘉隆印刷有限公司 一种减震印刷机
CN110307732A (zh) * 2019-06-21 2019-10-08 向少军 一种多点限位式发动机陶瓷叶片煅烧支撑架
CN211575892U (zh) * 2020-02-20 2020-09-25 广州市尤特新材料有限公司 定位工装

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