CN112313290B - 滤色器用红色颜料组合物 - Google Patents
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Abstract
公开了一种颜料组合物,其包含:(a)下式的颜料:其中Ar1为亚苯基或C2‑C6亚杂芳基,Ar2为C6‑C10芳基或C2‑C6杂芳基;和(b)下式的颜料衍生物:(PM–C X1)(II),其中P1为着色剂发色团的残基,X1为包含脂族羧酰胺基团、脂族磺酰胺基团、羧酸基团或其盐的基团,和m为1、2、3或4。该颜料组合物适用于着色有机材料,尤其是用于滤色器应用的光敏抗蚀剂配制剂,具有高对比率。
Description
本发明涉及一种颜料组合物,其包含芳硫基取代的二酮基吡咯并吡咯颜料和至少一种包含极性基团的颜料衍生物,并且涉及芳硫基取代的二酮基吡咯并吡咯颜料衍生物。该颜料组合物适用于着色有机材料,尤其是用于滤色器应用的光敏抗蚀剂配制剂。
背景技术
在滤色器的情况下,符合相关标准的色调和高对比率是必要的。然而,通常难以实现所需的色点和良好的对比率,尤其是当滤色器要在200℃或更高的温度下固化时。所述温度的应用通常不利地影响期望的对比率。
通过测定透过置于两个偏振器之间的透明基底上的着色涂层在照射后的光强度来测量对比率(CR)。对比率是平行和垂直偏振器的光强度之比。
C.I.(颜色指数)颜料红177是在用于滤色器应用的光敏树脂组合物中广泛使用的蓝红色蒽醌颜料。然而,颜料红177的着色力低,即需要相对厚的层以获得所需的饱和度。
WO-A-04/007604公开了基于二酮基吡咯并吡咯发色团的另一种蓝红色颜料,其中描述了一种苯硫基取代的二酮基吡咯并吡咯颜料,其在PVC中提供透明的着蓝色的红色着色。具体地,WO-A-04/007604公开了一种用苯硫基取代的二酮基吡咯并吡咯颜料和另外三种颜料衍生物-磺化二酮基吡咯并吡咯衍生物、二氢喹吖啶酮衍生物和22’000(黄色颜料衍生物)生产的滤色器。描述了具有高色点透射率的滤色器。
WO-A-05/040284公开了通过使0.50mol 4-苯硫基苄腈和0.005mol 4-十八烷硫代苄腈反应制备的颜料混合物。据描述,该颜料混合物在PVC中显示透明的、着色强的红色着色。
然而,基于苯硫基取代的二酮基吡咯并吡咯颜料的颜料组合物不满足滤色器应用所需的所有要求,例如高色彩饱和度、精确色点、高透射率、高对比率、热稳定性、加工容易性,如高分散性和高分散稳定性。
因此,一直需要一种能适当克服上述缺点的红色颜料组合物。
因此,本发明的目的是提供一种用于制备滤色器的颜料组合物,当在加工阶段(从施加分散体到完全硬化)期间经受热处理时,该颜料组合物表现出改善的色彩性能,特别是高对比率。
此外,本发明的目的是提供一种用于制备滤色器的颜料组合物,其易于加工和/或易于获得。
此外,本发明的目的是提供一种适合在颜料组合物(尤其是包含二酮基吡咯并吡咯颜料)中作为生长抑制剂和/或增效剂的颜料衍生物。
发明概述
现已发现,基于硫代芳基取代的二酮基吡咯并吡咯颜料的颜料组合物满足所需的特性。
因此,在第一方面,本发明涉及一种颜料组合物,其包含:
(a)下式的颜料:
Ar1在每次出现时选自亚苯基或C2-C6亚杂芳基,所述亚苯基或亚杂芳基未被取代或被R1取代;
Ar2在每次出现时选自C6-C10芳基或C2-C6杂芳基,所述芳基或杂芳基未被取代或被R2和/或R3取代;
R1在每次出现时选自Cl、Br、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、CF3或CN;
R2和R3彼此独立地且在每次出现时选自Cl、Br、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、CF3或CN;或
两个相邻R2和R3与它们所连接的芳基或杂芳基环一起形成芳族或杂芳族5或6元环,所述芳族或杂芳族环未被取代或被R4取代,
R4为Cl或C1-C4烷基;和
(b)下式的颜料衍生物:
(P1)–(X1)m (II),其中
P1为着色剂发色团的残基,
X1为包含脂族羧酰胺基团、脂族磺酰胺基团、羧酸基团或其盐的基团,和m为1、2、3或4。
在另一方面,本发明涉及一种制备所述颜料组合物的方法以及所述颜料组合物用于着色光敏抗蚀剂配制剂的用途,所述光敏抗蚀剂配制剂用于制造滤色器、印刷油墨、液体油墨、涂料组合物、油漆、塑料、膜或纤维。
在又一方面,本发明涉及一种颜料分散体以及包含所述颜料组合物的光敏抗蚀剂配制剂和通过使用该光敏抗蚀剂配制剂制造的滤色器。
在再一方面,本发明涉及芳硫基取代的二酮基吡咯并吡咯颜料衍生物。
发明详述
本文用于P1、P2或P3的术语“着色剂发色团的残基”是指通过夺取氢(优选从芳族氢中)而衍生自着色剂发色团的残基。着色剂发色团P1、P2或P3可以被取代。
着色剂发色团的残基可以衍生自二酮基吡咯并吡咯、喹吖啶酮、二氢喹吖啶酮、喹吖啶酮醌、蒽醌、蒽酮、氨基蒽醌、苯并咪唑酮、喹酞酮、双偶氮、偶氮、异吲哚啉(isoinoline)、异吲哚啉酮、苝或紫环酮(perinone),优选二酮基吡咯并吡咯、喹吖啶酮、二氢喹吖啶酮、喹吖啶酮醌、蒽醌、氨基蒽醌或苝。
烷基如C1-C18烷基、C1-C4烷基、C1-C6烷基、C4-C25烷基或C8-C22烷基可在直链或支链(可能的情况下)的碳原子的给定限制内。实例为甲基(Me)、乙基(Et)、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基、叔丁基、正戊基、2-戊基、3-戊基、2,2-二甲基丙基、正己基、1-甲基己基、正庚基、异庚基、1,1,3,3-四甲基丁基、1-甲基庚基、3-甲基庚基、正辛基、2-乙基己基、正壬基、正癸基、正十一烷基、正十二烷基、正十三烷基、正十四烷基、正十五烷基、正十六烷基、正十七烷基、正十八烷基、正二十烷基、正二十一烷基、正二十二烷基(二十二烷基)、正二十四烷基(二十四烷基)、正二十五烷基和上述正烷基的结构异构体。
亚烷基如C1-C4亚烷基、C1-C6亚烷基可通过自以上定义的烷基的任何末端碳原子夺取一个氢原子而衍生自所述烷基。
芳烷基如C7-C25芳烷基或C12-C22芳烷基可在碳原子的给定限制内,例如苄基、2-苄基-2-丙基、β-苯基-乙基(苯乙基)、α,α-二甲基苄基、ω-苯基丁基、ω,ω-二甲基-ω-苯基-丁基、ω-苯基-十二烷基,其中脂族与芳族烃基均可未被取代或被取代。优选实例为苄基、苯乙基、α,α-二甲基苄基、ω-苯基-丁基、ω-苯基-十二烷基和ω-苯基-十八烷基。
烷芳基如C7-C25烷芳基或C12-C22烷芳基可在碳原子的给定限制内,例如被C1-C19烷基对位或间位取代的苯基。
芳基如C6-C10芳基或C6-C12芳基可在碳原子的给定限制内,苯基、1-萘基、2-萘基或联苯基。
杂芳基可以是C2-C6杂芳基或C2-C5杂芳基,即具有5-7个环原子的环,其中氮、氧或硫是可能的杂原子。实例是噻吩基、呋喃基、吡咯基、咪唑基、吡唑基、噻唑基、噁唑基、吡啶基、三嗪基或嘧啶基。
亚杂芳基如C2-C6亚杂芳基可通过从杂芳基的任何环碳原子上夺取氢原子而衍生自上述定义的杂芳基。
卤素(Hal)表示I、Br、Cl或F,优选在烷基上的F或Cl和在芳基上的Cl或Br。
芳族或杂芳族环,优选5或6元环,例如R2和R3与它们所连接的芳基环或杂芳基环形成的5或6元环的实例为苯并稠合环或吡啶。
由G和R5或者R6和R7形成的5或6元环的实例为具有3-6个碳原子和任选地选自O、S或NR8的一个额外杂原子的杂环烷烃或杂环烯烃。
着色剂发色团的残基可以通过从发色团的任何碳或氮原子夺取氢原子而衍生自着色剂发色团。
术语“被取代”意指“被取代一次或多次”,即1-3次,可能的话,1或2次,更优选1次。若取代基在一个基团中出现不止一次,则其在每次出现时可不同。
式(I)的颜料优选由以下基团表征:
Ar1优选为1,4-亚苯基或C3-C5亚杂芳基,所述亚苯基可以被R1取代,R1选自Cl、CH3、C2H5、OCH3或OC2H5,更优选选自Cl、CH3或OCH3。
C3-C5亚杂芳基可以包含1、2或3个氮原子。C3-C5亚杂芳基的实例可以为吡啶-2,5-二基、吡啶-3,6-二基和嘧啶-2,5-二基。
更优选地,Ar1为1,4-亚苯基,其未被取代或被Cl、CH3、OCH3取代,或吡啶-2,5-二基,最优选1,4-亚苯基。
Ar2优选为苯基或1-萘基或2-萘基,所述基团未被取代或被R2和/或R3取代,其中R2和R3彼此独立地为Cl、CH3或OCH3。
Ar2还可以为杂芳基,例如2-噻唑、2-咪唑、2-苯并噻唑或2-苯并咪唑。
所述杂芳基可以被一个或多个Cl或CH3取代。更优选地,Ar2为苯基,被Cl、CH3或OCH3对位取代的苯基,或2-苯并噻唑。
因此,优选如下式(I)的颜料,其中
Ar1在每次出现时选自1,4-亚苯基或C3-C5亚杂芳基,所述亚苯基未被取代或被R1取代;
Ar2在每次出现时选自苯基或C3-C5杂芳基,所述苯基或杂芳基未被取代或被R2和/或R3取代;
R1选自Cl、CH3或OCH3;
R2和R3彼此独立地且在每次出现时选自Cl、CH3或OCH3;或
R2和R3与它们所连接的芳基或杂芳基环一起形成芳族或杂芳族5或6元环。
因此,更优选如下式(I)的颜料,其中
Ar1彼此独立地为1,4-亚苯基;被Cl、CH3、OCH3取代的1,4-亚苯基;或吡啶-2,5-二基,优选1,4-亚苯基;和
Ar2彼此独立地为苯基;被Cl、CH3或OCH3对位取代的苯基;2-苯并噻唑或6-甲基-2-苯并噻唑;优选苯基或被Cl、CH3或OCH3对位取代的苯基。
特别地,两个Ar1基团是相同的,并且两个Ar2基团是相同的。
式(I)颜料的合适实例是:
其中R2为Cl、CH3或OCH3;和
优选式(P1)–(X1)m(II)的颜料衍生物,其中P1为选自如下的着色剂发色团的残基:二酮基吡咯并吡咯、喹吖啶酮、二氢喹吖啶酮、喹吖啶酮醌、氨基蒽醌和苝,优选选自3,6-二苯基-2,5-二氢吡咯并[3,4-c]吡咯-1,4-二酮、喹吖啶酮、6,13-二氢喹吖啶酮、喹吖啶酮醌、4,4’-二氨基-1,1’-双蒽醌、苝四羧酸二酐和苝四羧酸二酰亚胺。发色团可以未被取代或被取代。
P1的取代基为着色剂发色团的常规取代基,例如卤素、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、CF3、CN、SC1-C4烷基、Ar3、OAr3或SAr3,尤其是Cl、Br、甲基、乙基、叔丁基、苯基、OAr3或SAr3。
优选地,P1为如下物质的残基:3,6-二苯基-2,5-二氢吡咯并[3,4-c]吡咯-1,4-二酮、喹吖啶酮、6,13-二氢喹吖啶酮或4,4’-二氨基-1,1’-双蒽醌发色团,其未被取代或被取代,优选未被取代或被Cl、Br、甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、叔丁基、苯基、OAr3或SAr3取代,更优选未被取代或被Cl、Br、甲基、乙基、叔丁基、苯基、苯氧基或S-苯基取代。
取代基X1可以为式–A1–D–G(III)的极性基团或式–A2–E(IV)的基团,其中A1和A2可以为连接至着色剂发色团P1的直接共价键或C1-C4亚烷基的连接基团。
因此,优选如下颜料组合物,其中颜料衍生物具有式(II),其中X1为下式的基团:
–A1–D–G (III),或
–A2–E (IV),其中
A1和A2彼此独立地为直接键或C1-C4亚烷基;
D为–NH-CO-、-NH-SO2-、-CO-NR5-或–SO2-NR5-;
G为–(C1-C6亚烷基)–NR6R7或–(C1-C6亚烷基)–NH–NR6R7,所述C1-C6亚烷基可以被-NH-间隔;
R5为H;
或者G和R5与连接的氮一起形成5或6元环,所述5或6元环未被取代或被C1-C4烷基取代和/或被NR8、O或S间隔;
R6和R7彼此独立地为H或C1-C4烷基;
或者R6和R7与连接的氮一起形成5或6元环,所述5或6元环未被取代或被C1-C4烷基取代和/或被NR8、O或S间隔;
R8为H或C1-C4烷基;和
E为被CO2H或其盐取代的C6-C12芳基。
优选地,X1为下式的基团:–A1–D–G(III),其中
A1为直接键或C1-C4亚烷基,优选直接键或亚甲基;
D为–NH-CO-、-CO-NR5-或–SO2-NR5-;
G为–(C1-C6亚烷基)–NR6R7或–(C1-C6亚烷基)–NH–NR6R7,所述C1-C6亚烷基可以被-NH-间隔;
R5为H;
或者G和R5与连接的氮一起形成5或6元环,所述5或6元环未被取代或被C1-C4烷基取代和/或被NR8、O或S间隔;
R6和R7彼此独立地为H或C1-C4烷基;
或者R6和R7与连接的氮一起形成5或6元环,所述5或6元环未被取代或被C1-C4烷基取代和/或被NR8、O或S间隔;和
R8为H或C1-C4烷基。
在优选的方面,式(P1)–(X1)m (II)的颜料衍生物为下式的二酮基吡咯并吡咯衍生物:
m为1或2,优选1;
m’和m”彼此独立地为1或2;
r为0、1或2;
R9在每次出现时选自Cl、Br、CF3、CN、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、SC1-C4烷基、Ar3、OAr3或SAr3;
Ar3为C6-C10芳基或C2-C6杂芳基,所述芳基或杂芳基未被取代或被R10和/或R11;
R10和R11彼此独立地为Cl、Br、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、CF3或CN;或
R10和R11与它们所连接的芳基或杂芳基环一起形成芳族或杂芳族5或6元环,所述芳族或杂芳族环未被取代或被Cl或C1-C4烷基;
X1为下式的基团:–A1–D–G(III);
A1为直接键或C1-C4亚烷基;
D为–NH-CO-、-CO-NR5-或–SO2-NR5-;
G为–(C1-C6亚烷基)–NR6R7或–(C1-C6亚烷基)–NH–NR6R7,所述C1-C6亚烷基可以被-NH-间隔;
R5为H;
或者G和R5与连接的氮一起形成5或6元环,所述5或6元环未被取代或被C1-C4烷基取代和/或被NR8、O或S间隔;
R6和R7彼此独立地为H或C1-C4烷基;
或者R6和R7与连接的氮一起形成5或6元环,所述5或6元环未被取代或被C1-C4烷基取代和/或被NR8、O或S间隔;
R8为H或C1-C4烷基;
Ar6在每次出现时选自亚苯基或C2-C6亚杂芳基,所述亚苯基或亚杂芳基未被取代或被R22取代;
R22为Cl、Br、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、CF3或CN;
Ar7在每次出现时选自C6-C10芳基或C2-C6杂芳基,所述芳基或杂芳基未被取代或被R23和/或R24取代;
R23和R24彼此独立地为Cl、Br、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、CF3或CN;或
R23和R24与它们所连接的芳基或杂芳基环一起形成芳族或杂芳族5或6元环,所述芳族或杂芳族环未被取代或被Cl或C1-C4烷基取代;
Z2为SO3H或其盐;
t为1-4的数,优选1-3的数;
u为0-3的数,优选0-2的数;和
条件是t+u为1-4。
更优选地,颜料衍生物具有式(IIa)或式(XII)。尤其地,颜料衍生物具有式(IIa),其中R9为对位取代的。
合适的颜料衍生物具有式(II),优选式(IIa)、(IIb)或(XII),更优选式(IIa),其中
X1为下式的基团:–A1–D–G (III);
A1为直接键或亚甲基;
D为–NH-CO-、-CO-NR5-或–SO2-NR5-;
G为–(C1-C4亚烷基)–NR6R7,所述C1-C4亚烷基可以被-NH-间隔;
R5为H;
或者G和R5与连接的氮一起形成6元环,所述6元环可以被C1-C4烷基取代和/或被NR8、O或S间隔;
R6和R7彼此独立地为H或C1-C4烷基;
或者R6和R7与连接的氮一起形成5或6元环,所述环可以被C1-C4烷基取代和/或被NR8、O或S间隔;和
R8为H或C1-C4烷基。
优选地,G为–(C1-C4亚烷基)–NR6R7,所述C1-C4亚烷基可以被-NH-间隔;
R6和R7彼此独立地为H或C1-C4烷基;
或者R6和R7与连接的氮一起形成6元环,所述6元环可以被C1-C4烷基取代和/或被NR8、O或S间隔;和
R8为H或C1-C4烷基。
式–A1–D–G (III)的优选基团例如为-SO2NH(CH2)3N(CH3)2、-SO2NH(CH2)3N(C2H5)2、SO2NH(CH2)3N(nC4H9)2、-CONH(CH2)3N(CH3)2、-CONH(CH2)3N(C2H5)2、-CONH(CH2)3N(nC4H9)2、
在优选的方面,式(P1)–(X1)m(II)的颜料衍生物为下式的二酮基吡咯并吡咯衍生物:
m为1或2,优选1;
r为0、1或2,优选0或1;
R9在每次出现时选自Cl、Br、CF3、CN、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、SC1-C4烷基、Ar3、OAr3或SAr3;
Ar3为C6-C10芳基或C2-C6杂芳基,所述芳基或杂芳基未被取代或被R10和/或R11取代;
R10和R11彼此独立地为Cl、Br、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、CF3或CN;或
R10和R11与它们所连接的芳基或杂芳基环一起形成芳族或杂芳族5或6元环,所述芳族或杂芳族环未被取代或被Cl或C1-C4烷基取代;
X1为下式的基团:-A1-D-G(III),其中
A1为直接键或亚甲基;
D为-NHCO-、-CO-NR5-或–SO2-NR5-;
G为–(C1-C4亚烷基)–NR6R7,所述C1-C4亚烷基可以被-NH-间隔;
R5为H;
或者G和R5与连接的氮一起形成6元环,所述6元环可以被C1-C4烷基取代和/或被NR8、O或S间隔;
R6和R7彼此独立地为H或C1-C4烷基;
或者R6和R7与连接的氮一起形成6元环,所述6元环可以被C1-C4烷基取代和/或被NR8、O或S间隔;和
R8为H或C1-C4烷基。
更优选下式(IIa)的颜料衍生物,其中
r为1;
R9为对位取代的,尤其是被R9对位取代,其为Cl、Br、Me、OMe、苯基、苯氧基或SAr3;
A1为直接键;
D为-CO-NR5-或–SO2-NR5-;和
Ar3为苯基;被Cl、CH3或OCH3对位取代的苯基;2-苯并噻唑或6-甲基-2-苯并噻唑,优选苯基或被Cl、CH3或OCH3对位取代的苯基。
在另一优选的方面,式(P1)–(X1)m (II)的颜料衍生物为下式的二酮基吡咯并吡咯衍生物:
X1为下式的基团:–A1–D–G (III);
A1为直接键或亚甲基,尤其是直接键;
D为–NH-CO-、-CO-NR5-或–SO2-NR5-,尤其是–SO2-NR5-;
G为–(C1-C4亚烷基)–NR6R7,所述C1-C4亚烷基可以被-NH-间隔;
R5为H;
或者G和R5与连接的氮一起形成6元环,所述6元环可以被C1-C4烷基取代和/或被NR8、O或S间隔;
R6和R7彼此独立地为H或C1-C4烷基;
或者R6和R7与连接的氮一起形成6元环,所述6元环可以被C1-C4烷基取代和/或被NR8、O或S间隔;
R8为H或C1-C4烷基;
Ar6在每次出现时选自1,4-亚苯基或C3-C5亚杂芳基,所述亚苯基未被取代或被R22取代;
Ar7在每次出现时选自苯基或C3-C5杂芳基,所述苯基或杂芳基未被取代或被R23和/或R24取代;
R22在每次出现时选自Cl、CH3或OCH3;
R23和R24彼此独立地且在每次出现时选自Cl、CH3或OCH3;或
R23和R24与它们所连接的芳基或杂芳基环一起形成芳族或杂芳族5或6元环,所述芳族或杂芳族环未被取代或被Cl或C1-C4烷基取代;
Z3为SO3H或其盐;
t为1-4,优选1-3,更优选1-2的数;
u为0-3,优选0-2,更优选0的数;
条件是t+u为1-4。
形成式(XII)的颜料衍生物的盐的抗衡阳离子可以是金属阳离子,例如碱金属或半碱土金属阳离子、铵或取代的铵。取代的铵阳离子的实例为+N(CH3)2(C18H37)2、+NH(CH3)2(C18H37)、+N(CH3)2(C12H25)2、+NH(CH3)2(C12H25)、+N(CH3)2(C10H21)2、+NH(CH3)2(C10H21)、+N(CH3)2(C8H17)2、+NH(CH3)2(C8H17)、+NH(C8H17)3、+NH(C10H21)3、+NH(C12H25)3和+NH(C18H35)3。
通常式(XII)的颜料衍生物由具有不同取代度的混合物组成,因此数值t、u和t+u也可以取分数值。所述数值也可小于1;因此,颜料制剂实际上可在颜料衍生物的制备过程中产生。
更优选下式(XII)的颜料衍生物,其中
X1为下式的基团:–A1–D–G (III);
A1为直接键;
D为-CO-NR5-或–SO2-NR5-,优选–SO2-NR5-;
Ar6在每次出现时选自1,4-亚苯基;被Cl、CH3、OCH3取代的1,4-亚苯基;或吡啶-2,5-二基,优选1,4-亚苯基;和
Ar7在每次出现时选自苯基;被Cl、CH3或OCH3对位取代的苯基;2-苯并噻唑或6-甲基-2-苯并噻唑,优选苯基或被Cl、CH3或OCH3对位取代的苯基。
最优选下式(XII)的颜料衍生物,其中两个Ar6基团是相同的,并且两个Ar7基团是相同的。
尤其地,Ar7被X1对位取代且u为0。
尤其优选包含如下物质的颜料组合物:
(a)式(I)的颜料,和
(b)式(XII)的颜料衍生物,其中
Ar1和Ar6是相同的,并且Ar2和Ar7是相同的。
进一步优选下式的颜料衍生物:
m为1或2,优选1;
X1为包含脂族羧酰胺基团或脂族磺酰胺基团的基团,优选式-A1-D-G(III)的基团;
Ar3为C6-C10芳基或C2-C6杂芳基,所述芳基或杂芳基未被取代或被R10和/或R11取代;
R10和R11彼此独立地为Cl、Br、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、CF3或CN;或
R10和R11与它们所连接的芳基或杂芳基环一起形成芳族或杂芳族5或6元环,所述芳族或杂芳族环未被取代或被Cl或C1-C4烷基取代;
Ar5为亚苯基或C2-C6亚杂芳基,所述亚苯基或亚杂芳基未被取代或被R21取代;和
R21为Cl、Br、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、CF3或CN。
基团X1,优选式-A1-D-G (III)的基团,可以在间位或对位,优选在间位。
因此,进一步优选下式的颜料衍生物:
X1为下式的基团:-A1-D-G (III),
A1为直接键或亚甲基,优选直接键;
D为-NHCO-、-CO-NR5-或–SO2-NR5-,优选-CO-NR5-或–SO2-NR5-;
G为–(C1-C4亚烷基)–NR6R7,所述C1-C4亚烷基可以被-NH-间隔;
R5为H;
或者G和R5与连接的氮一起形成6元环,所述6元环可以被C1-C4烷基取代和/或被NR8、O或S间隔;
R6和R7彼此独立地为H或C1-C4烷基;
或者R6和R7与连接的氮一起形成5或6元环,所述环可以被C1-C4烷基取代和/或被NR8、O或S间隔;
R8为H或C1-C4烷基;
Ar3为C6-C10芳基或C2-C6杂芳基,所述芳基或杂芳基未被取代或被R10和/或R11取代;
R10和R11彼此独立地为Cl、Br、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、CF3或CN;或
R10和R11与它们所连接的芳基或杂芳基环一起形成芳族或杂芳族5或6元环,所述芳族或杂芳族环未被取代或被Cl或C1-C4烷基取代;
Ar5为1-4-亚苯基或C2-C6亚杂芳基,所述亚苯基或亚杂芳基未被取代或被R21取代;和
R21为Cl、Br、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、CF3或CN。
更优选式(XIa)的颜料衍生物,其中
Ar5为1,4-亚苯基;被Cl、CH3、OCH3取代的1,4-亚苯基;或吡啶-2,5-二基,优选1,4-亚苯基;和
Ar3为苯基;被Cl、CH3或OCH3对位取代的苯基;2-苯并噻唑或6-甲基-2-苯并噻唑,优选苯基或被Cl、CH3或OCH3对位取代的苯基。
尤其优选下式的颜料衍生物:
A1为直接键或亚甲基,优选直接键;
D为-NHCO-、-CO-NR5-或–SO2-NR5-,优选-CO-NR5-或–SO2-NR5-;
G为–(C1-C4亚烷基)–NR6R7,所述C1-C4亚烷基可以被-NH-间隔;
R5为H;
R6和R7彼此独立地为H或C1-C4烷基;
或者R6和R7与连接的氮一起形成5或6元环,所述环可以被C1-C4烷基取代和/或被NR8、O或S间隔;和
R8为H或C1-C4烷基。
式(XIa)或(XIb)的颜料衍生物的合适实例为如下化合物,其中基团-A1-D-G选自-SO2NH(CH2)3N(CH3)2、-SO2NH(CH2)3N(C2H5)2、-CONH(CH2)3N(CH3)2、-SO2NH(CH2)3N(nC4H9)2、-CONH(CH2)3N(C2H5)2、-CONH(CH2)3N(nC4H9)2、
尤其优选包含如下物质的颜料组合物:
(a)式(I)的颜料,和
(b)式(XIa)的颜料衍生物,其中
Ar1和Ar3是相同的,并且Ar2和Ar5是相同的;和
Ar1为1,4-亚苯基;被Cl、CH3、OCH3取代的1,4-亚苯基;或吡啶-2,5-二基,优选1,4-亚苯基;和
Ar2为苯基;被Cl、CH3或OCH3对位取代的苯基;2-苯并噻唑或6-甲基-2-苯并噻唑,优选苯基或被Cl、CH3或OCH3对位取代的苯基。
式(IIa)或(IIb)的颜料衍生物的合适实例是例如在JP-A-2000-273346、JP-A-H03-26767、EP-A-2495288中描述或在WO-A-09/144115中作为着色剂(V)的那些。颜料衍生物可以通过本领域已知的方法制备,例如类似于JP-A-2000-273346、JP-A-H03-26767中描述的方法或在WO-A-09/144115中作为着色剂(V)。例如,不对称二酮基吡咯并吡咯可以通过4-乙氧羰基-5-苯基吡咯-2-酮制备,其可以根据C.Morton等人,Tetrahedron 2002,58,5547-5565制备,其中可引入各取代基。然后,这些可以通过本领域已知的常规方法被置换或进一步反应。
有几种制备式(XII)的二酮基吡咯并吡咯颜料衍生物的合成路线。例如,式(I)的颜料可以与发烟硫酸反应进行磺化以制备磺化颜料衍生物,然后使磺化颜料衍生物与氯化剂反应以制备氯磺化颜料衍生物。然后,氯磺化颜料衍生物与合适的胺化合物反应,得到磺酰胺取代的颜料衍生物,例如如EP-A-2495288中所述。同样,式(XII)的颜料衍生物可与氯硫酸反应,随后与合适的胺化合物反应,如果需要,使游离磺酸与铵盐或金属盐反应,例如如WO-A-02/064680中所述。类似地,式(XII)的颜料衍生物可以通过常规的氯甲基化,然后与合适的胺化合物反应来制备,例如如JP-A-2000-273346中所述。
另一优选的式(II)的颜料衍生物为下式的喹吖啶酮衍生物:
合适的式(IId)的颜料衍生物例如为下式的颜料衍生物:
形成式(IIe)的颜料衍生物的盐的抗衡阳离子可以是金属阳离子,例如碱金属或半碱土金属阳离子、铵或取代的铵。取代的铵阳离子的实例是+N(CH3)2(C18H37)2、+NH(CH3)2(C18H37)、+N(CH3)2(C12H25)2、+NH(CH3)2(C12H25)、+N(CH3)2(C10H21)2、+NH(CH3)2(C10H21)、+N(CH3)2(C8H17)2、+NH(CH3)2(C8H17)、+NH(C8H17)3、+NH(C10H21)3、+NH(C12H25)3和+NH(C18H35)3。
合适的式(IId)的颜料衍生物的实例为WO-A-2007/060254或WO-A-2007/060259中描述的那些。
颜料组合物可以含有一种或多种式(II)和/或(XII)的颜料衍生物,尤其是一种或多种式(IIa)和/或(XII)的颜料衍生物。还优选颜料组合物含有式(IIa)的颜料衍生物与式(IId)的颜料衍生物的组合。特别地,颜料组合物含有式(IIa)或(XI)的颜料衍生物。
颜料组合物可以进一步包含(c)不同于式(II)的颜料衍生物的颜料衍生物。
因此,在优选的方面,颜料组合物包含:
(c)下式的颜料衍生物:(P2)–(Y)n (V),其中
P2为着色剂发色团的残基;和
Y为选自如下的基团:OC4-C25烷基、SC4-C25烷基、OC7-C25芳烷基、SC7-C25芳烷基、OC7-C25烷芳基、SC7-C25烷芳基或NR12R13;
R12和R13彼此独立地为H、C4-C25烷基、C7-C25芳烷基或C7-C25烷芳基、条件是R12和R13的碳原子之和至少为8;Y中的烷基可以被O、S、NR14或亚苯基间隔;
R14为H或C1-C4烷基;和
n为1、2、3或4,优选1或2。
优选下式的颜料衍生物:(P2)–(Y)n(V),其中P2为选自如下的着色剂发色团的残基:二酮基吡咯并吡咯、喹吖啶酮、二氢喹吖啶酮、喹吖啶酮醌、氨基蒽醌和苝,优选选自3,6-二苯基-2,5-二氢吡咯并[3,4-c]吡咯-1,4-二酮、喹吖啶酮、6,13-二氢喹吖啶酮、喹吖啶酮醌、4,4’-二氨基-1,1’-双蒽醌、苝四羧酸二酐和苝四羧酸二酰亚胺。发色团可以未被取代或被取代。合适的取代基与如对P1所定义是相同的。
优选地,P2为如下物质的残基:3,6-二苯基-2,5-二氢吡咯并[3,4-c]吡咯-1,4-二酮、喹吖啶酮、6,13-二氢喹吖啶酮或4,4’-二氨基-1,1’-双蒽醌发色团,更优选如下物质的残基:3,6-二苯基-2,5-二氢吡咯并[3,4-c]吡咯-1,4-二酮,其未被取代或被取代,优选未被取代或被Cl、Br、甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、叔丁基、苯基、OAr4或SAr4取代,更优选未被取代或被Cl、Br、甲基、乙基、叔丁基、苯基、苯氧基或S-苯基取代。
基团Y优选包含至少8个碳原子的基团,例如OC8-C22烷基、SC8-C22烷基、OC12-C22芳烷基、SC12-C22芳烷基、OC12-C22烷芳基、SC12-C22烷芳基或NR12R13,其中
R12和R13彼此独立地为H、C8-C22烷基、C12-C22芳烷基或C12-C22烷芳基;和
Y中的各烷基可以被O、S、NR14或亚苯基,优选亚苯基间隔;和R14为H或C1-C4烷基,优选H或CH3。
基团Y可以存在至多4次,优选1或2次,即n为1或2。优选地,各Y可以相同或可以不同,优选各Y相同。
n为1或2,优选1;
n’和n”彼此独立地为1或2;
s为0、1或2,优选0或1;和
R15在每次出现时选自Cl、Br、CF3、CN、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、SC1-C4烷基、Ar4、OAr4或SAr4;
Ar4为C6-C10芳基或C2-C6杂芳基,所述芳基或杂芳基未被取代或被R16和/或R17取代;
R16和R17彼此独立地为Cl、Br、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、CF3或CN;或
R16和R17与它们所连接的芳基或杂芳基环一起形成芳族或杂芳族5或6元环,所述芳族或杂芳族环未被取代或被Cl或C1-C4烷基取代;
Y为OC8-C22烷基、SC8-C22烷基、OC12-C22芳烷基、SC12-C22芳烷基、OC12-C22烷芳基、SC12-C22烷芳基或NR12R13,其中
R12和R13彼此独立地为H、C8-C22烷基、C12-C22芳烷基或C12-C22烷芳基;和
Y中的各烷基可以被O、S、NR14或亚苯基,优选亚苯基间隔;和R14为H或C1-C4烷基,优选H或CH3。
在另一优选的方面,式(P2)–(Y)n(V)的颜料衍生物为下式的二酮基吡咯并吡咯衍生物:
n为1;
s为0、1或2,优选0或1;
R15在每次出现时为Cl、Br、CF3、CN、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、SC1-C4烷基、Ar4、OAr4或SAr4;
Ar4为C6-C10芳基或C2-C6杂芳基,所述芳基或杂芳基未被取代或被R16和/或R17取代;
R16和R17彼此独立地为Cl、Br、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、CF3或CN;或
R16和R17与它们所连接的芳基或杂芳基环一起形成芳族或杂芳族5或6元环,所述芳族或杂芳族环未被取代或被Cl或C1-C4烷基取代;
Y选自OC8-C22烷基、SC8-C22烷基、OC12-C22芳烷基、SC12-C22芳烷基、OC12-C22烷芳基、SC12-C22烷芳基或NR12R13,
R12和R13彼此独立地为H、C8-C22烷基、C12-C22芳烷基或C12-C22烷芳基;Y中的各烷基可以被O、S、NR14或亚苯基间隔;和
R14为H或C1-C4烷基。
更优选下式(Va)的颜料衍生物,其中
n为1;
s为1;
R15为对位取代的,尤其是被R9对位取代,其中R9为Cl、Br、Me、OMe、苯基、苯氧基或SAr4;和
Ar4为苯基;被Cl、CH3或OCH3对位取代的苯基;2-苯并噻唑或6-甲基-2-苯并噻唑,优选苯基或被Cl、CH3或OCH3对位取代的苯基。
进一步优选下式的颜料衍生物:
n为1或2,优选1;
Y为选自如下的基团:OC4-C25烷基、SC4-C25烷基、OC7-C25芳烷基、SC7-C25芳烷基、OC7-C25烷芳基、SC7-C25烷芳基或NR12R13;
R12和R13彼此独立地为H、C4-C25烷基、C7-C25芳烷基或C7-C25烷芳基、条件是R12和R13的碳原子之和至少为8;Y中的烷基可以被O、S、NR14或亚苯基间隔;
R14为H或C1-C4烷基;
Ar8为亚苯基或C2-C6亚杂芳基,所述亚苯基或亚杂芳基未被取代或被R27取代;和
R27为Cl、Br、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、CF3或CN;
Ar4为C6-C10芳基或C2-C6杂芳基,所述芳基或杂芳基未被取代或被R16和/或R17取代;
R16和R17彼此独立地为Cl、Br、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、CF3或CN;或
R16和R17与它们所连接的芳基或杂芳基环一起形成芳族或杂芳族5或6元环,所述芳族或杂芳族环未被取代或被Cl或C1-C4烷基取代。
基团Y可以在间位或对位,优选在对位。
特别地,基团Y包含直链烷基。
因此,进一步优选下式的颜料衍生物:
Y为OC8-C22烷基、SC8-C22烷基、OC12-C22芳烷基、SC12-C22芳烷基、OC12-C22烷芳基、SC12-C22烷芳基或NR12R13;
R12和R13彼此独立地为H、C8-C22烷基、C12-C22芳烷基或C12-C22烷芳基;和
Y中的各烷基可以被O、S、NR14或亚苯基,优选亚苯基间隔;和R14为H或C1-C4烷基,优选H或CH3;
Ar8为亚苯基或C2-C6亚杂芳基,所述亚苯基或亚杂芳基未被取代或被R27取代;
R27为Cl、Br、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、CF3或CN;
Ar4为C6-C10芳基或C2-C6杂芳基,所述芳基或杂芳基未被取代或被R16和/或R17取代;
R16和R17彼此独立地为Cl、Br、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、CF3或CN;或
R16和R17与它们所连接的芳基或杂芳基环一起形成芳族或杂芳族环,所述芳族或杂芳族环未被取代或被Cl或C1-C4烷基取代。
更优选下式的颜料衍生物:(Vc)或(Vd),其中
Ar8为1,4-亚苯基;被Cl、CH3、OCH3取代的1,4-亚苯基;或吡啶-2,5-二基,优选1,4-亚苯基;和
Ar4为苯基;被Cl、CH3或OCH3对位取代的苯基;2-苯并噻唑或6-甲基-2-苯并噻唑,优选苯基或被Cl、CH3或OCH3对位取代的苯基。
尤其优选下式的颜料衍生物:
Y为OC8-C22烷基、SC8-C22烷基、OC12-C22芳烷基、SC12-C22芳烷基、OC12-C22烷芳基或SC12-C22烷芳基、
Y中的各烷基可以被O、S、NR14或亚苯基,优选亚苯基间隔;和R14为H或C1-C4烷基,优选H或CH3。
合适的式(V)颜料衍生物的实例为WO-A-2005/040283中描述的那些。
特别优选的颜料组合物包含:
a)式(I)的颜料,其中
Ar1在每次出现时选自1,4-亚苯基或C3-C5亚杂芳基,所述亚苯基未被取代或被R1取代;
Ar2在每次出现时选自苯基或杂芳基,所述苯基或杂芳基未被取代或被R2和/或R3取代;
R1为Cl、CH3或OCH3;
R2和R3彼此独立地为Cl、CH3或OCH3;或
R2和R3与它们所连接的芳基或杂芳基环一起形成芳族或杂芳族5或6元环;和
b)下式的颜料衍生物:(XI),优选式(XIa),其中
m为1或2,优选1;
X1为下式的基团:-A1-D-G (III);
A1为直接键或亚甲基,优选直接键;
D为-NHCO-、-CO-NR5-或–SO2-NR5-,优选-CO-NR5-或–SO2-NR5-;
G为–(C1-C4亚烷基)–NR6R7,所述C1-C4亚烷基可以被-NH-间隔;
R5为H;
或者G和R5与连接的氮一起形成6元环,所述6元环可以被C1-C4烷基取代和/或被NR8、O或S间隔;
R6和R7彼此独立地为H或C1-C4烷基;
或者R6和R7与连接的氮一起形成5或6元环,所述环可以被C1-C4烷基取代和/或被NR8、O或S间隔;
R8为H或C1-C4烷基;
Ar3为C6-C10芳基或C2-C6杂芳基,所述芳基或杂芳基未被取代或被R10和/或R11取代;
R10和R11彼此独立地为Cl、Br、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、CF3或CN;或
R10和R11与它们所连接的芳基或杂芳基环一起形成芳族或杂芳族环,所述芳族或杂芳族环未被取代或被Cl或C1-C4烷基取代;
Ar5为亚苯基或C2-C6亚杂芳基,所述亚苯基或亚杂芳基未被取代或被R21取代;和
R21为Cl、Br、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、CF3或CN;和
c)任选地下式的颜料衍生物:(Vc),优选式(Vd),其中
n为1或2,优选1;
Y为选自如下的基团:OC4-C25烷基、SC4-C25烷基、OC7-C25芳烷基、SC7-C25芳烷基、OC7-C25烷芳基、SC7-C25烷芳基或NR12R13;
R12和R13彼此独立地为H、C4-C25烷基、C7-C25芳烷基或C7-C25烷芳基、条件是R12和R13的碳原子之和至少为8;Y中的烷基可以被O、S、NR14或亚苯基间隔;
R14为H或C1-C4烷基;
Ar8为亚苯基或C2-C6亚杂芳基,所述亚苯基或亚杂芳基未被取代或被R27取代;和
R27为Cl、Br、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、CF3或CN;
Ar4为C6-C10芳基或C2-C6杂芳基,所述芳基或杂芳基未被取代或被R16和/或R17取代;
R16和R17彼此独立地为Cl、Br、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、CF3或CN;或
R16和R17与它们所连接的芳基或杂芳基环一起形成芳族或杂芳族5或6元环,所述芳族或杂芳族环未被取代或被Cl或C1-C4烷基取代。
尤其优选包含如下物质的颜料组合物:
(a)式(I)的颜料,和
(b)式(XIa),优选式(XIb)的颜料衍生物,和
(c)任选地式(Vc),优选式(Vd)的颜料衍生物,
其中
Ar1、Ar3和Ar4是相同的,并且Ar2、Ar5和Ar8是相同的;和
Ar1为1,4-亚苯基;被Cl、CH3、OCH3取代的1,4-亚苯基;或吡啶-2,5-二基;优选1,4-亚苯基;和
Ar2为苯基;被Cl、CH3或OCH3对位取代的苯基;2-苯并噻唑或6-甲基-2-苯并噻唑;优选苯基或被Cl、CH3或OCH3对位取代的苯基。
本发明颜料组合物通常包含颜料(a),其量为至少65重量%,基于颜料组合物的总重量,优选70-80重量%。
本发明颜料组合物通常包含式(II)的颜料衍生物(b),其量为约3-35重量%,基于颜料组合物的总重量,优选5-20重量%。
如果存在的话,本发明颜料组合物可以包含式(V)的颜料衍生物(c),其量为约0.1-10重量%,基于颜料组合物的总重量,优选0.5-7重量%,更优选0.5-5重量%。
优选地,本发明颜料组合物包含颜料(a),其量为70-80重量%,式(II)的颜料衍生物(b),其量为5-20重量%,和如果存在的话,式(V)的颜料衍生物(c),其量为0.5-7重量%,基于颜料组合物的总重量。
颜料组合物可以进一步包含不同于式(II)的颜料衍生物和式(V)的颜料衍生物的颜料衍生物(d)。
因此,在优选的方面,颜料组合物进一步包含:
(d)下式的颜料衍生物:(Z2)p-(P3)–(A3–Z1)q (VI),其中
P3为着色剂发色团的残基,
A3为C1-C6亚烷基;
Z1为含N的5元杂环,优选杂芳族环;和
Z2为SO3H或其盐,或CO2H或其盐,
p为0-2的数;和
q为1或2的数。
优选式(Z2)p-(P3)–(A3–Z1)q(VI)的颜料衍生物,其中P3为选自如下的着色剂发色团的残基:二酮基吡咯并吡咯、喹吖啶酮、二氢喹吖啶酮、喹吖啶酮醌、氨基蒽醌和苝,优选选自3,6-二苯基-2,5-二氢吡咯并[3,4-c]吡咯-1,4-二酮、喹吖啶酮、6,13-二氢喹吖啶酮、喹吖啶酮醌、4,4’-二氨基-1,1’-双蒽醌、苝四羧酸二酐和苝四羧酸二酰亚胺。发色团可以未被取代或被取代。合适的取代基与如对P1所定义是相同的。
优选地,P3为如下物质的残基:3,6-二苯基-2,5-二氢吡咯并[3,4-c]吡咯-1,4-二酮、喹吖啶酮或4,4’-二氨基-1,1’-双蒽醌发色团,所述发色团未被取代或被取代,更优选为如下物质的残基:3,6-二苯基-2,5-二氢吡咯并[3,4-c]吡咯-1,4-二酮或喹吖啶酮。
优选地,P3为如下物质的残基:二酮基吡咯并吡咯或喹吖啶酮发色团。
基团Z1为具有1、2或3个氮原子的含N的5元杂环,优选杂芳族环。
R18、R19和R20彼此独立地且在每次出现时选自H、卤素、C1-C18烷基;被卤素、OC1-C6烷基或二(C1-C6烷基)氨基取代的C1-C18烷基;C6-C12芳基;或被或C1-C18烷基、卤素、硝基或OC1-C6烷基取代的C6-C12芳基;R18、R19和R20中两个相邻基团与它们所连接的杂芳基环一起形成5-7元脂环族、芳族或杂芳族环,优选5-6元脂环族、芳族或杂芳族环。
优选颜料衍生物(d),其中Z1为下式的基团:(VIIa)、(VIId)、(VIIe)和/或(VIIi)。更优选地,基团Z1为下式的基团:(VIIe)或(VIIi)。
优选地,R18、R19和R20彼此独立地且在每次出现时选自H、Cl、C1-C4烷基;被Cl、OMe、OEt或二(C1-C4烷基)氨基取代的C1-C4烷基;C6-C12芳基;或被或C1-C4烷基、Cl、硝基或OMe或OEt取代的C6-C12芳基;R18、R19和R20中两个相邻基团与它们所连接的杂芳基环一起形成5-6元脂环族、芳族或杂芳族环,优选苯并稠合环。
如果Z2为磺酸基团或羧酸基团的盐,合适的抗衡阳离子可以是金属阳离子,例如碱金属或半碱土金属阳离子、铵或取代的铵。取代的铵阳离子的实例是+N(CH3)2(C18H37)2、+NH(CH3)2(C18H37)、+N(CH3)2(C12H25)2、+NH(CH3)2(C12H25)、+N(CH3)2(C10H21)2、+NH(CH3)2(C10H21)、+N(CH3)2(C8H17)2、+NH(CH3)2(C8H17)、+NH(C8H17)3、+NH(C10H21)3、+NH(C12H25)3和+NH(C18H35)3。
Z2优选为磺酸基团或其盐。
本发明的颜料组合物可以包含式(VI)的颜料衍生物(d),其量为约3-30重量%,基于颜料组合物的总重量,优选5-20重量%。
颜料组合物可以通过混合组分(a)、组分(b)和任选地组分(c)和组分(d)而制备。或者,颜料组合物可以在式(I)的颜料合成期间制备,条件是颜料衍生物(b)和任选的颜料衍生物(c)衍生自二酮基吡咯并吡咯发色团的残基,本文指定为混合合成。
式(II)的颜料衍生物(b)可以在式(I)的颜料合成期间添加和/或可以作为颜料增效剂与式(I)的颜料(a)共混和/或可以作为颜料增效剂在制备颜料分散体期间添加。在式(II)的颜料衍生物(b)可以在式(I)的颜料(a)合成期间添加的情况下,式(II)的颜料衍生物(b)的量为3-12重量%,优选5-9重量%。
或者,式(II)的颜料衍生物(b)可以在式(I)的颜料合成期间制备,条件是颜料衍生物(b)衍生自二酮基吡咯并吡咯发色团的残基。
式(V)的颜料衍生物(c)可以在式(I)的颜料合成期间添加,其量为0.1-10重量%,优选0.5-7重量%,更优选0.5-5重量%。
或者,式(V)的颜料衍生物(c)可以在式(I)的颜料合成期间制备,条件是颜料衍生物(c)衍生自二酮基吡咯并吡咯发色团的残基。
式(VI)的颜料衍生物(d)可以在式(I)的颜料合成期间添加和/或可以作为颜料增效剂与式(a)的颜料干混和/或可以作为颜料增效剂在制备颜料分散体期间添加。
优选颜料衍生物(b)和(c),如果存在的话,在式(I)的颜料合成期间制备。
因此,在另一方面,本发明涉及一种制备如本文其他方面所限定的颜料组合物的方法,其中P1和P2为二酮基吡咯并吡咯发色团的残基,所述方法包括使琥珀酸二酯与式NC–Ar1–S–Ar2(VIII)的化合物、式的化合物和任选地式的化合物反应,
其中
Ar1为亚苯基或C2-C6亚杂芳基,所述亚苯基或亚杂芳基未被取代或被R1取代;
Ar2为C6-C10芳基或C2-C6杂芳基,所述芳基或杂芳基未被取代或被R2和/或R3取代;
R1为Cl、Br、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、CF3或CN;
R2和R3彼此独立地为Cl、Br、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、CF3或CN;或
R2和R3与它们所连接的芳基或杂芳基环一起形成芳族或杂芳族环,所述芳族或杂芳族环未被取代或被R4取代,
R4为Cl或C1-C4烷基;
m为1或2,优选1;
n为1或2,优选1;
X1为包含脂族羧酰胺基团或脂族磺酰胺基团的基团;
Y为选自如下的基团:OC4-C25烷基、SC4-C25烷基、OC7-C25芳烷基、SC7-C25芳烷基、OC7-C25烷芳基、SC7-C25烷芳基或NR12R13;
R12和R13彼此独立地为H、C4-C25烷基、C7-C25芳烷基或C7-C25烷芳基、条件是R12和R13的碳原子之和至少为8;Y中的烷基可以被O、S、NR14或亚苯基间隔;和
R14为H或C1-C4烷基。
二酮基吡咯并吡咯颜料的合成是本领域技术人员已知的。DPP着色剂可例如根据公开于Bull.Soc.Chim.Belg.97(8-9),1988,615,EP-A-0061426,EP-A-0094911,EP-A-0098808,EP-A-0184982,EP-A-0232222或EP-A-0302018中的反应方案和方法合成。
该反应通常通过使1mol琥珀酸二酯与约1.7-1.95当量,尤其是1.75和1.9当量的式(VIII)和(IX)以及任选地(X)的腈在有机溶剂中在碱存在下在升高温度下反应形成颜料碱金属盐,然后在水和/或醇和任选地酸中水解该颜料碱金属盐来进行。
水解后获得的混合物通常在特定温度(熟化温度,例如-15℃至50℃,优选-10℃至40℃)下处理数小时,例如10-30小时,优选15-25小时,以获得颜料组合物。
基于合成中所用腈的总量,式(VIII)的腈的量可为约0.85-约0.99mol%,优选约0.87-约0.99mol%。基于合成中所用腈的总量,式(IX)的腈的量可为约0.01-约0.15mol%,优选约0.01-0.13mol%。如果存在的话,基于合成中使用的腈总量,式(X)的腈的量为约0.01-约0.10mol%,优选约0.01-约0.08mol%。
任选地,所述方法可在如上文所限定的式(Z2)p-(P3)–(A3–Z1)q(VI)的颜料衍生物(d)存在下进行。
在颜料衍生物(d)在合成反应期间添加的情况下,其量可以为约0.01-约0.3重量%,基于合成后得到的(a)和(b)和(c)(如果存在的话)的颜料组合物的理论重量。
合适的二琥珀酸酯可以是琥珀酸二烷基、琥珀酸二芳基酯或琥珀酸单烷基-单芳基酯,优选琥珀酸二烷基酯如琥珀酸二异丙酯、琥珀酸二叔丁酯、琥珀酸二叔戊酯等。二琥珀酸酯与式(VIII)和(IX)以及任选地(X)的腈的反应通常在有机溶剂,优选在醇中,例如在仲或叔醇如叔丁醇或叔戊醇中进行。腈在有机溶剂中的总浓度通常为0.5-5mol/l。合适的碱特别是碱金属醇盐,如异丙醇钠或钾、仲丁醇钠或钾、叔丁醇钠或钾或者叔戊醇钠或钾。碱通常通过使适当的醇与碱金属、金属氢化物或碱金属氨化物反应而原位制备。碱的用量通常超过2mol,最高为4mol。反应可以通过60-140℃、优选80-120℃的温度进行。在合成期间添加颜料衍生物(b)、(c)和/或(d)的情况下,其通常在水解之前添加。缩合产物的水解可以用水、醇(如甲醇或乙醇)或酸(如乙酸或硫酸)进行。在水解的过程中,本发明的颜料组合物沉淀,并可通过过滤分离。
通常,在合成过程中形成式(I)的颜料的碱金属盐和如果存在的话式(II)和(V)的颜料衍生物的碱金属盐。碱金属盐通过质子化沉淀,任选地在颜料衍生物(d)存在下。在该方法中,优选通过加入水、羟基化合物、酸式盐和/或酸来调节pH至<10,尤其是<7,极尤其是<5的最终值。
优选地,一种或多种芳腈,所述芳腈不同于式(IX)的腈和式(X)的腈,更优选一种芳腈,可包括在式(I)颜料的合成中。合适的实例是苄腈、4-苯基-苄腈、4-氯-苄腈、1,3-和1,4-二氰基苯。腈通常进一步导致起附加生长抑制剂作用的其他二酮基吡咯并吡咯组分,如本领域已知的,例如如US-A-5738719中所述。基于合成中所用腈的总量,附加腈的量可以为约0.01-约0.10mol%,优选约0.01-约0.08mol%。
根据本发明方法获得的(a)和(b)和任选的(c)的颜料组合物通常具有平均粒度≤100nm,优选10-100nm,更优选10-80nm,尤其是10-30nm。颜料组合物优选具有片状形式,例如,具有2.5-7nm的平均颗粒高度和20-50nm的平均颗粒长度。颗粒的平均纵横比通常为至少2.5,更优选至少5。
粒度被理解为颗粒的等效直径,其可以例如通过Joyce-碟式离心机或通过动态激光辐射散射来测定。透射电子显微术(TEM)图像的评价也常常是足够的。粒径的平均应基于重量进行(即,绘制相同当量直径的颗粒的总重量对所有大小相当的颗粒的当量直径的图,平均粒径是所得重量分布的算术平均值-参见可从Malvern Instruments获得的Alan Rawle博士的“粒度分析的基本原理”)。
粒度也可通过合适的精加工方法来调节,例如通过本身已知的机械或化学方法,如干或湿磨、与盐捏合或用酸处理(再沉淀或“酸糊化”)、碱(例如EP-A-0707049中所述)和/或极性溶剂(奥斯特瓦尔德熟化或重结晶)。也可同时或顺序地组合多个这些方法,例如如EP-A-1194485中所述。
在另一方面,本发明涉及可通过如上文所限定的方法获得的如上文所限定的颜料组合物。
因此,本发明涉及包含如下物质的颜料组合物:
(a)下式的颜料:
Ar1为亚苯基或C2-C6亚杂芳基,所述亚苯基或亚杂芳基未被取代或被R1取代;
Ar2为C6-C10芳基或C2-C6杂芳基,所述芳基或杂芳基未被取代或被R2和/或R3取代;
R1为Cl、Br、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、CF3或CN;
R2和R3彼此独立地为Cl、Br、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、CF3或CN;或
R2和R3与它们所连接的芳基或杂芳基环一起形成芳族或杂芳族5或6元环,所述芳族或杂芳族环未被取代或被R4取代,
R4为Cl或C1-C4烷基;和
(b)下式的颜料衍生物:
(P1)–(X1)m (II),其中
P1为着色剂发色团的残基,
X1为包含脂族羧酰胺基团、脂族磺酰胺基团、羧酸基团或其盐的基团,和m为1或2;和
(c)任选地下式的颜料衍生物:(P2)–(Y)n (V),其中
P2为如下物质的残基:二酮基吡咯并吡咯发色团;和
Y为选自如下的基团:OC4-C25烷基、SC4-C25烷基、OC7-C25芳烷基、SC7-C25芳烷基、OC7-C25烷芳基、SC7-C25烷芳基或NR12R13;
R12和R13彼此独立地为H、C4-C25烷基、C7-C25芳烷基或C7-C25烷芳基、条件是R12和R13的碳原子之和至少为8;Y中的烷基可以被O、S、NR14或亚苯基间隔;
R14为H或C1-C4烷基;和
n为1或2;
本发明的颜料组合物可以用聚合物分散剂适当地分散以形成颜料分散体。
因此,在另一方面,本发明涉及一种颜料分散体,其包含如本文任何方面所定义的颜料组合物和聚合物分散剂。还可以加入两种或更多种聚合物分散剂。
合适的聚合物分散剂改进颜料分散且减少所述分散体内微粒间的吸引。改进的分散意谓具有较窄粒度分布的小平均粒度(或在较短研磨时间内实现粒度减小)。分散体比通过常规方式产生的分散体对絮凝及凝聚显著更稳定。适合的聚合物分散剂具有包含聚合链及锚定基团的两组分结构。这些组分的特定组合使其为有效的。
聚合物分散剂可以是统计(例如无规)、交替、梯度、接枝或嵌段共聚物。通常加入聚合物分散剂,基于颜料(a)和任选地其他颜料,其量为1-50重量%,优选至多35重量%。
合适的聚合物分散剂共聚物例如为阳离子共聚物、阴离子共聚物、两性共聚物或非离子共聚物。
共聚物可具有例如衍自可聚合或可缩聚的酸、酯、二醇、腈、酰胺、酰亚胺、烯烃、环氧化物或吖丙啶,如丙烯酸或甲基丙烯酸或其酯、酰胺或腈、对苯二甲酸酯、己内酰胺、乙烯、丙烯、异丁烯、苯乙烯、环氧乙烷或乙烯亚胺的重复单元。优选为接枝和嵌段共聚物。
作为阳离子、阴离子、两性或非离子共聚物,例如可使用以如下商品名获得的那些:111、160、161、162、163、164、166、170、171、182、2000、2001、2070、2150、2163;PX 4300、PX 4310、PX 4320、PX 4330、PX 4340、PX 4350、PA 4400、PA 4401、PA 4402、PA 4403、PA 4450、PX 4700、PX 4701、PX 4731、PX 4732,Ultra 4585,24000、32550,PB-821、PB-822、PB-823及其组合。
聚合物分散剂通常影响颜料分散体的粘度。因此,优选使用导致颜料分散体具有低粘度的聚合物分散剂,例如两性或特别是阳离子共聚物。
聚合物分散剂可优选用于分散体制备工艺。如上所述,颜料衍生物(b)和任选的颜料衍生物(d)可在分散体制备方法中作为颜料增效剂加入。
优选地,颜料衍生物(b)在式(I)的颜料合成期间制备,并在分散体制备方法之前通过与式(I)的颜料共混而另外作为颜料增效剂加入。
优选地,颜料衍生物(d)作为颜料增效剂与式(I)的颜料和颜料衍生物(b)和(c)(如果存在的话)的组合物共混。或者,颜料衍生物(d)可以在分散体制备过程中作为颜料增效剂加入。
在分散体混合方法期间,可以将除(b)和(d)的颜料衍生物以外的任何合适的颜料增效剂加入到包含如本文所定义的颜料组合物的颜料分散体中。或者,这种合适的颜料增效剂也可在分散体制备方法之前与颜料组合物共混。如上所述,还可以在精加工工艺中添加这种颜料增效剂。
合适的颜料增效剂可以是任何极性颜料衍生物,优选具有酸性或碱性基团。实例可以是磺化颜料衍生物,含有环状磺酰胺基团的颜料衍生物,如式的基团,或含邻苯二甲酰亚胺基团的颜料衍生物。合适的颜料衍生物可以含有一个或多个基团,所述基团可以相同或者可以不同。颜料增效剂可以衍生自选自如下着色剂发色团的残基:二酮基吡咯并吡咯、喹吖啶酮、二氢喹吖啶酮、喹吖啶酮醌、氨基蒽醌、喹酞酮和苝,优选选自3,6-二苯基-2,5-二氢吡咯并[3,4-c]吡咯-1,4-二酮、喹吖啶酮、6,13-二氢喹吖啶酮、喹吖啶酮醌、4,4’-二氨基-1,1’-双蒽醌、苝四羧酸二酐、苝四羧酸二酰亚胺和N-[2-(4,5,6,7-四氯-2,3-二氢-1,3-二氧代-1H-茚基)-8-喹啉]邻苯二甲酰亚胺(颜料黄138)。该类颜料增效剂的合适实例是本领域已知的,例如如EP-A-1026207、US-3386843、GB-2238550、WO-A-02/10288、WO-A-02/064680或WO-A-02/00643中所述。
颜料分散体可通过多种方法制备。例如,颜料组合物、溶剂、聚合物分散剂和任选地另一颜料增效剂可经由分散步骤以预定量分散。分散步骤可使用涂料调节器、砂磨机、球磨机、辊磨机、石磨机、喷磨机或均化器进行。如何存在的话,也可添加其他着色剂。如何需要的话,其他合适添加剂或待用于最后应用的组合物的粘合剂树脂可在分散步骤期间存在。粘合剂树脂可部分或完全地添加。分散时间可对应于所用设备适当地调整。分散温度可例如自0℃或0℃以上、室温或高达100℃变化。
本发明的颜料组合物或颜料分散体可以用于各种应用中,例如用于将任何天然或合成来源的有机材料着色,例如用于制造滤色器的光敏抗蚀剂配制剂、印刷油墨、液体油墨、涂料组合物、油漆、塑料、膜或纤维。
因此,在另一方面,本发明涉及如本文任何方面所限定的颜料组合物用于使光敏抗蚀剂配制剂着色的用途,所述光敏抗蚀剂配制剂用于制造滤色器、印刷油墨、液体油墨、涂料组合物、油漆、塑料、膜或纤维。
基于待着色的有机材料,颜料组合物通常以0.01-30重量%的量使用。在用于滤色器中的情况下,也可以使用更高的量。
优选地,颜料组合物或颜料分散体用于着色制造滤色器用光敏抗蚀剂配制剂,尤其是用于显示器件领域中的元件。
因此,在另一方面,本发明涉及一种光敏抗蚀剂组合物,其包含如本文任何方面所限定的颜料分散体、树脂、光聚合引发剂、烯属不饱和单体和溶剂。
本发明的颜料分散体、光敏抗蚀剂配制剂或滤色器还可以包含一种或多种其他着色剂如颜料和/或染料,尤其是二酮基吡咯并吡咯颜料、喹吖啶酮颜料、蒽醌颜料、苝颜料、偶氮颜料、异吲哚啉颜料、异吲哚啉酮颜料、双偶氮缩合颜料或其混合物。
合适的颜料例如为C.I.颜料红242、254、255,DPP颜料,基于3,6-二(4’-溴苯基)-2,5-二氢吡咯并[3,4-c]吡咯-1,4-二酮或3,6-二(4′-氰基苯基)-2,5-二氢吡咯并[3,4-c]吡咯-1,4-二酮,颜料红177,C.I.颜料黄93、95、128、138、139、150、180、185、213;或C.I.颜料橙16、71、73。合适的染料可以为黄色、橙色或红色染料,如C.I.溶剂黄25、88、89,C.I.溶剂橙54、99或C.I.溶剂红125、130、160、225。合适的染料例如可以Red 330、363、365,Orasol Orange 272、251,Orasol Yellow 152或Red 350 FA获得。
可存在其他着色剂,其量为≤50重量%,优选≤30重量%,更优选0.1-20重量%,基于颜料(a)的总重量。
粘合剂树脂没有特别限制。粘合剂树脂的实例包括热塑性树脂、热固性树脂或光敏树脂。优选地,粘合剂树脂为具有酸性基团如羧基或羟基的碱溶性树脂。该类树脂的实例包括环氧丙烯酸酯树脂、清漆型酚醛树脂、聚乙烯基酚树脂、丙烯酸类树脂、含有羧基的环氧树脂及含有羧基的氨基甲酸酯树脂或其混合物。实例例如公开于WO-A-08/101841第18页第28行-第25页第21行或WO-A-2006/037728中。优选粘合剂为碱溶性丙烯酸类树脂。
优选粘合剂树脂为含有羧基的聚合物、尤其具有至少一个羧基的烯属不饱和单体(以下称为“含有羧基的不饱和单体”)与一种或多种其他可共聚的烯属不饱和单体(以下称为“其他不饱和单体”)的共聚物(以下称为“含有羧基的共聚物”)。
含有羧基的共聚物中含有羧基的不饱和单体的比例一般为基于粘合剂的总重量5-50重量%,优选10-40重量%,更优选10-30重量%。一般而言,另一不饱和单体以基于共聚物的总重量约10-约90重量%,优选20-85重量%,更优选50-85重量%,尤其60-80重量%存在于共聚物中。
含有羧基的共聚物尤其为以下两种的共聚物:(1)包含丙烯酸及/或甲基丙烯酸作为主要组分,且在一些情况下为丁二酸的单(2-丙烯酰氧基乙基)酯及/或丁二酸的单(2-甲基丙烯酰氧基乙基)酯的含有羧基的不饱和单体;与(2)至少一种选自由苯乙烯、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸2-羟乙酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸苄基酯、(甲基)丙烯酸苯酯、单(甲基)丙烯酸甘油酯、N-苯基马来酰亚胺、聚苯乙烯大分子单体及聚(甲基)丙烯酸甲酯大分子单体组成的群的单体。
树脂的共聚物可为无规共聚物或嵌段共聚物。(共)聚合物通常具有500-1,000,000g/mol,优选1,000-500,000,更优选3,000-100,000的通过凝胶渗透层析(GPC:四氢呋喃作为溶剂)测量的根据聚苯乙烯的重均分子量(以下称为“重均分子量”Mw)。重均分子量与数均分子量的比率优选为1-5,更优选为1.5-4。
可以存在树脂,其量为约10-200重量%,优选20-125重量%,基于包含颜料(a)和(b)和(c)(如何存在的话)的颜料组合物的总重量。
本发明光敏抗蚀剂配制剂包括一种或多种光敏引发剂。抗蚀剂通常包含光敏引发剂及可聚合交联单体(负自由基聚合)、使聚合物自身交联的物质(例如光酸产生剂等)或在化学上改变聚合物在某些显影介质中的溶解性的物质。
合适光敏引发剂的实例为例如具有双咪唑环的化合物、基于安息香的化合物、基于苯乙酮的化合物、基于二苯甲酮的化合物、缩酮化合物、基于α-二酮的化合物、基于多核醌的化合物、基于呫吨酮的化合物或基于三嗪的化合物(如例如WO-A-08/101841中公开)及其他基于肟酯的化合物,例如EP-A-1095313、WO-A-2006/018405、WO-A-2007/071797、WO-A-2007/071497、WO-A-2007/062963、WO-A-2005/080337、JP-A-2010/049238、WO-A-2008/078678、JP-A-2008/151967、JP-A-2010/015025、JP-A-2010/049238、WO-A-2009/019173及WO-A-2011/152066中所述。光敏引发剂可与由聚合化合物构成的敏化剂、固化促进剂、光交联剂或光敏剂组合使用。
光敏引发剂的总量优选为基于抗蚀剂组合物的总固体含量0.01-10重量%,更优选为0.05-8重量%,最优选为1-5重量%。
烯属不饱和单体可为在分子中具有一个或多个烯属不饱和键的化合物,包括相应低聚物。典型实例包括不饱和羧酸与多羟基化合物的酯、含有(甲基)丙烯酰氧基的磷酸酯、羟基(甲基)丙烯酸酯化合物与聚异氰酸酯化合物的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯酸或羟基(甲基)丙烯酸酯化合物与多环氧基化合物的环氧(甲基)丙烯酸酯。
优选化合物为例如WO-A-2006/037728和WO-A-2007/113107中描述的聚丙烯酸酯单体。实例为聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五-/六丙烯酸酯、三(丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯、甘油1,3-二甘油酯二丙烯酸酯、乙二醇二甘油酯二丙烯酸酯、聚(乙二醇)二甘油酯二丙烯酸酯、1,3-丙二醇二甘油酯二丙烯酸酯、聚(丙二醇)二甘油酯二丙烯酸酯等。不饱和单体可单独或以任何所需混合物使用。
烯属不饱和单体的总量优选为基于抗蚀剂组合物的总固体含量5-70重量%,更优选为5-50重量%,最优选为7-30重量%。
另外,颜料分散体或抗蚀剂配制剂可包含本领域中已知的各种适合添加剂。实例为聚合加速剂、交联剂、粘着改进剂、有机羧酸或酸酐、表面活性剂、热聚合抑制剂、敏化染料、塑化剂、质地改进剂、储存稳定剂等。
光敏抗蚀剂配制剂中所含的各组分在溶剂中溶解或分散后使用。优选地,可使用如上文所述的颜料分散体。一般而言,分散体与其他组分混合,且使混合物均质化。各组分可完全溶解或可均匀分散在溶剂中。溶剂可为水性或非水性的,优选为非水性的。优选通过例如离心分离、烧结过滤器或膜过滤器从光敏抗蚀剂配制剂中除去5μm或更大,优选1μm或更大,更优选0.5μm或更大的颗粒,和混合粉尘。
自溶解性、颜料分散性及涂布特性的观点来看,合适溶剂的实例为乙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单乙醚乙酸酯、二甘醇二甲醚、环己酮、2-庚酮、3-庚酮、2-羟基丙酸乙酯、丙酸3-甲基-3-甲氧基丁酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸异丁酯、乙酸正戊酯、乙酸异戊酯、丙酸正丁酯、丁酸乙酯、丁酸异丙酯、丁酸正丁酯及乙基丙酮酸优选。该类溶剂可单独或以任何组合使用。如γ-丁内酯的高沸点溶剂也可与上述溶剂组合使用。
抗蚀剂组合物中溶剂的量一般为基于光敏抗蚀剂配制剂的总重量60-90重量%。
本发明的光敏抗蚀剂组合物可以用于制造滤色器,其适用于显示装置,尤其是LCD装置或OLED装置。
本发明的颜料组合物优选可用作滤色器用着色剂,例如电视屏幕、液晶显示器(LCD)、电荷耦合器件(CCD)或有机发光二极管(OLED)。此外,颜料组合物可以用作电子墨水(“e-墨水”)或电子纸(“e-纸”)用着色剂。
本发明的颜料组合物的红色色调特别适用于红-绿-蓝(R,G,B)滤色器组。这三种颜色被并排设置为分离的彩色区段,并且在从后面照明时产生全彩色图像。在形成滤色器区段之前,可在基底上形成黑色矩阵。颜料组合物通常存在于红色滤色器区段中。
用于制成彩色滤色器的制造工艺为人熟知且可基于光刻、喷墨印刷、套版印刷、凹版印刷、凸版印刷、网版印刷、压印、连续反转印刷及/或电沉积,例如如WO-A-2006/37728中所述。基底可以是透明的或反射性的。
可以使用任何适于形成滤色器的透明基底,例如,玻璃基底如石英玻璃、硼硅酸盐玻璃、铝硅酸盐玻璃,或塑料基底,如聚碳酸酯、聚酯如聚对苯二甲酸乙二醇酯、芳族聚酰胺、聚酰胺酰亚胺、聚酰亚胺、聚醚砜、聚甲基丙烯酸甲酯等。
合适的反射性基底可以是硅或如上所述的透明基底,其具有铝、银/铜/钯合金等的薄膜。
通常,通过将如上文所定义的光敏抗蚀剂配制剂涂布在基底上,随后干燥、曝光、显影和任选地后烘烤以形成膜来制造滤色器。
在各滤色器区段通过光刻方法形成的情况下,将呈溶剂显影型或碱显影型有色抗蚀剂配制剂形式制备的光敏抗蚀剂配制剂涂布于透明或反射性基底上达干燥时为0.5-10μm的厚度。然后,经由具有待提供于涂层上的预定图案的掩模以接触或非接触状态,在干燥涂层上进行紫外线曝光。然后,通过将所述涂层浸渍于溶剂或碱性显影液中或通过用例如喷雾器将显影液喷至涂层上而移除未固化的部分。对于其他色彩,重复类似操作以制备滤色器。光刻方法可制备具有比由印刷方法制备的更高精度的滤色器。
作为碱性显影液,可使用例如碳酸钠或氢氧化钠的水溶液。也可使用有机碱,如二甲基苄基胺或三乙醇胺。可将消泡剂或表面活性剂添加至所述显影液中。优选水性显影液。
此外,也可在将水溶性或碱溶性树脂(如聚乙烯醇或水溶性丙烯酸系树脂)涂布于经涂布且干燥的有色抗蚀剂上,并干燥所涂布的树脂以形成阻止由氧所引起的聚合抑制作用的膜而提高对紫外线曝光的敏感性之后,进行紫外线曝光。
滤色器也可以通过电沉积法、转印法等制造。该电沉积方法包括通过使用形成在透明基底上的透明导电膜的胶体颗粒的电泳,在透明导电膜上电沉积形成各个滤色器区段的步骤。该转印方法包括在可除去的转印基片的表面上预先形成滤色器层,然后将所述滤色器层转印到所需的透明基底上的步骤。
干燥之后滤色器区段的厚度通常为0.2-10μm,优选0.5-5.0μm,更优选1-3.0μm。
在另一优选的方面,本发明涉及具有红色滤色器区段的滤色器,其中红色滤色器区段包含式(I)的颜料和式(II)的颜料衍生物:
在230℃下热处理15分钟后,红色滤色器区段具有如下色度坐标(x,y):y≥0.285,当x=0.6500时,使用C光源根据1931CIE XYZ比色系统计算;透光度Y≥12.5,
且在区段表面的法线方向的对比率CR≥3900,
其中最大亮度为30,000。
尤其地,0.285≤y≤0.3。
更优选地,本发明涉及具有红色滤色器区段的滤色器,其中红色滤色器区段包含:
(a)式(I)的颜料,
(b)至少一种式(II)的极性颜料衍生物,
和
(c)下式的颜料衍生物:(P2)–(Y)n (V),
在230℃下热处理15分钟后,红色滤色器区段具有如下色度坐标(x,y):y≥0.285,当x=0.6500时,使用C光源根据1931 CIE XYZ比色系统计算;透光度Y≥12.5,
且在区段表面的法线方向的对比率CR≥s3900,
其中最大亮度为30,000;
在270℃下1小时后,对比率CR’为对比率CR的至少80%。
有利地,对比率CR≥6500,优选CR≥7000,更优选CR≥7500,最优选CR≥8000。
尤其优选的式(II)的颜料衍生物为式(XI)和/或(XII)的颜料衍生物,最优选式(XIa)的颜料衍生物。
在另一方面,本发明涉及下式的颜料衍生物:
m为1或2;
X1为包含脂族羧酰胺基团或脂族磺酰胺基团的基团;
Ar3为C6-C10芳基或C2-C6杂芳基,所述芳基或杂芳基未被取代或被R10和/或R11取代;
R10和R11彼此独立地为Cl、Br、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、CF3或CN;或
R10和R11与它们所连接的芳基或杂芳基环一起形成芳族或杂芳族5或6元环,所述芳族或杂芳族环未被取代或被Cl或C1-C4烷基取代;
Ar5为亚苯基或C2-C6亚杂芳基,所述亚苯基或亚杂芳基未被取代或被R21取代;
R21为Cl、Br、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、CF3或CN;
Ar6在每次出现时选自亚苯基或C2-C6亚杂芳基,所述亚苯基或亚杂芳基未被取代或被R22取代;
R22为Cl、Br、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、CF3或CN;
Ar7在每次出现时选自C6-C10芳基或C2-C6杂芳基,所述芳基或杂芳基未被取代或被R23和/或R24取代;
R23和R24彼此独立地为Cl、Br、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、CF3或CN;或
R23和R24与它们所连接的芳基或杂芳基环一起形成芳族或杂芳族5或6元环,所述芳族或杂芳族环未被取代或被Cl或C1-C4烷基取代;
Z2为SO3H或其盐;
t为1-4的数;
u为0-3的数;和
条件是t+u为1-4。
在式(XI)的颜料衍生物中,基团X1,优选式-A1-D-G(III)的基团可以在间位或对位,优选在间位。
因此,优选下式的颜料衍生物:
X1为下式的基团:-A1-D-G (III),
A1为直接键或亚甲基,优选直接键;
D为-NHCO-、-CO-NR5-或–SO2-NR5-,优选-NHCO-、-CO-NR5-或–SO2-NR5-;
G为–(C1-C4亚烷基)–NR6R7,所述C1-C4亚烷基可以被-NH-间隔;
R5为H;
或者G和R5与连接的氮一起形成5或6元环,所述6元环可以被C1-C4烷基取代和/或被NR8、O或S间隔;
R6和R7彼此独立地为H或C1-C4烷基;
或者R6和R7与连接的氮一起形成5或6元环,所述环可以被C1-C4烷基取代和/或被NR8、O或S间隔;
R8为H或C1-C4烷基;
Ar5和Ar6彼此独立地为1,4-亚苯基;被Cl、CH3、OCH3取代的1,4-亚苯基;或吡啶-2,5-二基,优选1,4-亚苯基;和
Ar3和Ar7彼此独立地为苯基;被Cl、CH3或OCH3对位取代的苯基;2-苯并噻唑或6-甲基-2-苯并噻唑,优选苯基或被Cl、CH3或OCH3对位取代的苯基;
Z2为SO3H或其盐;
t为1-3的数;
u为0-2,优选0-1的数;更优选0;和
条件是t+u为1-3。
尤其优选下式的颜料衍生物:
A为直接键或亚甲基,优选直接键;
D为-NHCO-、-CO-NR5-或–SO2-NR5-,优选-CO-NR5-或–SO2-NR5-;
G为–(C1-C4亚烷基)–NR6R7,所述C1-C4亚烷基可以被-NH-间隔;
R5为H;
R6和R7彼此独立地为H或C1-C4烷基;
或者R6和R7与连接的氮一起形成5或6元环,所述环可以被C1-C4烷基取代和/或被NR8、O或S间隔;和
R8为H或C1-C4烷基。
式(XIa)或式(XIb)的颜料衍生物的合适实例为如下化合物,其中基团-A1-D-G选自-SO2NH(CH2)3N(CH3)2、-SO2NH(CH2)3N(C2H5)2、-CONH(CH2)3N(CH3)2、-SO2NH(CH2)3N(nC4H9)2、-CONH(CH2)3N(C2H5)2、-CONH(CH2)3N(nC4H9)2、
优选-SO2NH(CH2)3N(CH3)2、-SO2NH(CH2)3N(C2H5)2、-CONH(CH2)3N(CH3)2、-SO2NH(CH2)3N(nC4H9)2、-CONH(CH2)3N(C2H5)2或-CONH(CH2)3N(nC4H9)2
式(XI)和(XII)的颜料衍生物特别适合用作生长抑制剂,优选与红色和橙色颜料结合,特别是与二酮基吡咯并吡咯颜料结合。式(XI)的颜料衍生物尤其在用作生长抑制剂的二酮基吡咯并吡咯颜料,尤其是式(I)的颜料的混合合成过程中形成。
此外,式(XI)和(XII)的颜料衍生物适合用作颜料增效剂,优选与红色和橙色颜料结合,尤其与二酮基吡咯并吡咯颜料结合。颜料衍生物可以在颜料的分散体制备过程之前或期间加入。
此外,通式(XI)的颜料衍生物适合在任何需要颜色的应用中用作红色着色剂。
本发明的颜料组合物提供了用于滤色器中所需的红色光谱中的色调。在此,它们提供了高对比率,并且还满足了其他要求,例如高热稳定性、陡峭和窄的吸收带、高色彩饱和度和亮度。特别地,与通常在滤色器应用中用作蓝红色颜料的颜料红177相比,它们在450-550nm之间显示较低的透射率,这导致较高的色彩饱和度。
有利地,它们在经受约230℃的热处理之后提供高对比率。尤其是当存在颜料衍生物(c)时,即使在270℃的温度下,热稳定性也是优异的。
本发明的滤色器在热处理后也提供具有高透射率的高饱和蓝红色点。因此,可以提供宽色域。
光敏抗蚀剂配制剂容易加工,尤其是它们显示出高分散性。此外,它们显示出高流变行为,如高分散稳定性和高重结晶稳定性,尤其是当颜料衍生物(b)在式(I)颜料的合成过程中形成时。
上文提到的颜料的定义和优选情形以任何组合应用以及以任何组合应用于本发明的其他方面。
现在将参考以下实施例更详细地解释本发明。这些实施例不应被解释为限制。除非另有说明,“%”总是按重量计的%(重量%)。
实施例
对比率:用对比率测量装置(CT-1,最大亮度30,000:1,Tsubosaka Electric有限公司)测量对比率。
制造滤色器的一般方法
将如下配制剂放入30ml的玻璃瓶中:
1g实施例2-19和21-25以及对比例1-4的颜料组合物(包括增效剂)
0.5g的Efka PX 4700(80重量%;丙烯酸系嵌段共聚物的溶剂型分散剂)
7.3g丙二醇单甲醚乙酸酯(PGMEA)
2.43g粘合剂(甲基丙烯酸苄酯和甲基丙烯酸羟乙酯6:1的共聚物,分子量MW=~32kDa,在PGMEA中为38%)
将该配制剂(抗蚀剂)以500-1000rpm的旋转速度旋涂在玻璃基底上,在热板上于80℃干燥5分钟,用LED灯(365nm,+/-10mJ/cm2,10-20s)曝光,并在热板上于230℃烘烤1小时。测量所获得的红色滤色器区段的对比率。
为了测定热稳定性,在270℃下再热处理一小时后测量对比率。
实施例1:N-[3-(二乙基氨基)丙基]-3-[3,6-二氧代-1-(4-苯硫基-苯基)-2,5-二氢吡咯并[3,4-c]吡咯-4-基]苯甲酰胺的合成
在氮气氛下,将47.8g类似于WO-A-09/144115中实施例1010制备的3-[1-(4-氯苯基)-3,6-二氧代-2,5-二氢吡咯并[3,4-c]吡咯-4-基]-N-[3-(二乙基氨基)丙基]苯甲酰胺和34.6g碳酸钾加入600ml N,N-二甲基乙酰胺中,并在80℃油浴中加热。达到60℃后,在30分钟内滴加11.0g苯硫酚。将反应混合物在75℃下搅拌过夜,直到苯硫酚在酸化斑点试验中不再闻到为止。冷却后,将反应混合物在5分钟内加入800g冰和1.5L水的混合物中,并搅拌1小时。过滤红色沉淀物,用1升水洗涤,然后用1升甲醇洗涤,再用1升水洗涤。将所得红色滤饼在60℃和200毫巴下干燥过夜,得到52.5g红色结晶粉末,其包含式(XIe)的化合物作为主要组分:
1H-NMR(400MHz,D2SO4):8.40(1H,bs,HAr);8.38(1H,bd,HAr);8.09(1H,bs,HAr);8.07(2H,bs,HAr);8.40(1H,bs,HAr);8.01-7.99(2H,m,HAr);7.93(1H,bt,HAr);7.78(2H,bd,HAr);7.40(2H,bd,HAr);3.84(2H,m,CH 2-NH-CO);3.20(6H,m,(CH2N);2.21(2H,m,CH2-CH2 -CH2);1.31(6H,t,CH3)。
MALDI-ToF(m/z,负模式):553.2((M+1)-,43%);552.2(M-,77%);552.2((M-1)-,100%);475.4((M-77)-,36%);394.5((M-158)-,16%);318.6((M-234)-,16%)。
MALDI-ToF(m/z,正模式):576.3((M+24)+,13%);554.5(M+2)+,44%);481.5((M-71)+,48%);424.0((M-128)+,32%);396((M-156)+,39%);112.9((M-440)+,67%);86.8((M-465)+,67%)。
实施例2
根据WO-A-2004/00764的实施例1b制备实施例2。将0.765g所得颜料与0.135g实施例1的化合物干混。
x | y | Y | 对比率 |
0.6500 | 0.2959 | 13.89 | 4000 |
实施例3
根据WO-A-2005/040284的实施例6制备实施例3。将0.765g所得颜料与0.135g实施例1的化合物干混。
x | y | Y | 对比率 | 在270℃下1小时之后的热稳定性 |
0.6500 | 0.2961 | 13.89 | 4200 | 90.5% |
实施例4
在130℃和回流下,在惰性气体(N2)下,使97.0g叔戊醇与12.1g(0.53mol)钠反应。在3-4小时内向所得溶液中加入38.5g叔戊醇、39g琥珀酸二叔戊酯、55.2g(261.25mmol)4-(苯硫基)苄腈和3.57g(13.75mmol)下式化合物类似于WO-A-2009/144115的实施例1004制备)的加热至60℃的混合物,同时将内部温度降低到90℃。将所得悬浮液搅拌另外18小时,然后计量加入1174g冰/水、214g甲醇和31g硫酸(96%)的混合物中,该混合物预先制备并冷却到-10至-15℃,同时将最终温度保持在-5℃以下。使用30g叔戊醇冲洗起始反应器,并也转移到反应混合物中。在-5℃下搅拌2小时后,将混合物加热至10℃并进一步搅拌18小时。过滤所得悬浮液,用甲醇和水洗涤滤饼,直到洗涤液无色和无盐(电导率<100μS),然后通过冻干干燥,得到细的蓝色调红色粉末(>90%产率)。该产物主要由式(Ia)化合物和式(XIe)化合物组成。
将0.765g所得颜料与0.135g实施例1的化合物干混。
x | y | Y | 对比率 |
0.6500 | 0.2954 | 14.15 | 8500 |
实施例5
重复实施例4,不同之处在于将所得颜料粉末与EP-A-0485337实施例2中所得产物(颜料衍生物(d))而不是实施例1的化合物干混。
x | y | Y | 对比率 |
0.6500 | 0.2913 | 12.62 | 6600 |
实施例6
在130℃和回流下,在惰性气体(N2)下,使97.0g叔戊醇与12.1g(0.53mol)钠反应。在3-4小时内向所得溶液中加入38.5g叔戊醇、39g琥珀酸二叔戊酯、52.29g(247.5mmol)4-(苯硫基)苄腈、3.57g(13.75mmol)式(IXa)化合物和1.76g(13.75mmol)1,3-二氰基苯的加热至60℃的混合物,同时将内部温度降低到90℃。将所得悬浮液搅拌另外18小时,然后计量加入1174g冰/水、214g甲醇和31g硫酸(96%)的混合物中,该混合物预先制备并冷却到-10至-15℃,同时将最终温度保持在-5℃以下。使用30g叔戊醇冲洗起始反应器,并也转移到反应混合物中。在-5℃下搅拌2小时后,将混合物加热至30℃并进一步搅拌18小时。过滤所得悬浮液,用甲醇和水洗涤滤饼,直到洗涤液无色和无盐(电导率<100μS),然后通过冻干干燥,得到细的蓝色调红色粉末(>90%产率)。该产物主要由式(Ia)化合物和式(XIe)化合物组成。
将0.765g所得颜料粉末与0.135g实施例1的化合物干混。
实施例7
在130℃和回流下,在惰性气体(N2)下,使97.0g叔戊醇与12.1g(0.53mol)钠反应。在3-4小时内向所得溶液中加入38.5g叔戊醇、39g琥珀酸二叔戊酯、52.29g(247.5mmol)4-(苯硫基)苄腈、3.57g(13.75mmol)式(IXa)化合物和1.76g(13.75mmol)1,3-二氰基苯的加热至60℃的混合物,同时将内部温度降低到90℃。将所得悬浮液搅拌另外18小时,然后计量加入1174g冰/水和214g甲醇的混合物中,该混合物预先制备并冷却到-10至-15℃,同时将最终温度保持在-5℃以下。使用30g叔戊醇冲洗起始反应器,并也转移到反应混合物中。在-5℃下搅拌2小时后,将混合物加热至20℃并进一步搅拌18小时。过滤所得悬浮液,用甲醇和水洗涤滤饼,直到洗涤液无色和无盐(电导率<100μS),然后通过冻干干燥,得到细的蓝色调红色粉末(>90%产率)。该产物主要由式(Ia)化合物和式(XIe)化合物组成。
将0.765g所得颜料粉末与0.135g实施例1的化合物干混。
x | y | Y | 对比率 |
0.6500 | 0.2956 | 14.03 | 8400 |
实施例8
重复实施例7,不同之处在于将所得颜料粉末与EP-A-0485337实施例2中所得产物(颜料衍生物(d))而不是实施例1的化合物干混。
x | y | Y | 对比率 |
0.6500 | 0.2935 | 13.46 | 8400 |
实施例9
在130℃(浴温)和回流下,在惰性气体(N2)下,使97.0g叔戊醇与12.1g(0.53mol)钠反应。在3-4小时内向所得溶液中加入38.5g叔戊醇、39g琥珀酸二叔戊酯、52.29g(247.5mmol)4-(苯硫基)苄腈、5.71g(22mmol)式(IXa)化合物和2.0g(5.5mmol)4-正十八烷基硫代苄腈的加热至60℃的混合物,同时将内部温度降低到90℃。将所得悬浮液搅拌另外18小时,然后计量加入1174g冰/水、214g甲醇和31g硫酸(96%)的混合物中,该混合物预先制备并冷却到-10至-15℃,同时最终温度不超过-5℃。使用30g叔戊醇冲洗起始反应器,并也转移到反应混合物中。在-5℃下搅拌2小时后,将反应混合物加热至30℃并进一步搅拌总共18小时。过滤所得悬浮液,用甲醇和水洗涤滤饼,直到洗涤液无色和无盐(电导率<100μS),然后通过冻干干燥,得到细的蓝色调红色粉末(>90%产率)。该产物主要由式(Ia)化合物、式(XIe)化合物和式(Vh)化合物组成。
将0.765g所得颜料粉末与EP-A-0485337实施例2中所得产物(颜料衍生物(d))干混。
x | y | Y | 对比率 | 在270℃下1小时之后的热稳定性 |
0.6500 | 0.2938 | 13.87 | 8500 | 91.8% |
实施例10
重复实施例9,不同之处在于使用54.62g(258.5mmol)4-(苯硫基)苄腈、3.57g(13.75mmol)式(IXa)化合物和1.0g(2.75mmol)4-正十八烷基硫代苄腈(作为第三腈)和水解后熟化温度为20℃(产率>90%)。该产物主要由式(Ia)化合物、式(XIe)化合物和式(Vh)化合物组成。
x | y | Y | 对比率 | 在270℃下1小时之后的热稳定性 |
0.6500 | 0.2959 | 14.36 | 8000 | 90.2% |
实施例11
重复实施例9,不同之处在于使用52.29g(247.5mmol)4-(苯硫基)苄腈、3.57g(13.75mmol)式(IXa)化合物和5.0g(13.75mmol)4-正十八烷基硫代苄腈(作为第三腈)和水解后熟化温度为0℃(产率>90%)。该产物主要由式(Ia)化合物、式(XIe)化合物和式(Vh)化合物组成。
x | y | Y | 对比率 | 在270℃下1小时之后的热稳定性 |
0.6500 | 0.2966 | 14.51 | 7900 | 96% |
实施例12
在130℃(浴温)和回流下,在惰性气体(N2)下,使97.0g叔戊醇与12.1g(0.53mol)钠反应。在3-4小时内向所得溶液中加入38.5g叔戊醇、39g琥珀酸二叔戊酯、51.13g(242mmol)4-(苯硫基)苄腈、5.71g(22mmol)式(IXa)化合物、0.70g(5.5mmol)1,3-二氰基苯和2.0g(5.5mmol)4-正十八烷基硫代苄腈的加热至60℃的混合物,同时将内部温度降低到90℃。将所得悬浮液搅拌另外18小时,然后计量加入1174g冰/水、214g甲醇和31g硫酸(96%)的混合物中,该混合物预先制备并冷却到-10至-15℃,同时最终温度不超过-5℃。使用30g叔戊醇冲洗起始反应器,并也转移到反应混合物中。在-5℃下搅拌2小时后,将反应混合物加热至30℃并进一步搅拌总共18小时。过滤所得悬浮液,用甲醇和水洗涤滤饼,直到洗涤液无色和无盐(电导率<100μS),然后通过冻干干燥,得到细的蓝色调红色粉末(>90%产率)。该产物主要由式(Ia)化合物、式(XIe)化合物和式(Vh)化合物组成。
将0.765g所得颜料粉末与0.135g实施例1的化合物干混。
x | y | Y | 对比率 | 在270℃下1小时之后的热稳定性 |
0.6500 | 0.2964 | 14.26 | 10200 | 92.2% |
实施例13
重复实施例12,不同之处在于将所得颜料粉末与EP-A-0485337实施例2中所得产物(颜料衍生物(d))而不是实施例1的化合物干混。
x | y | Y | 对比率 | 在270℃下1小时之后的热稳定性 |
0.6500 | 0.2930 | 14.68 | 9900 | 96% |
实施例14
在130℃(浴温)和回流下,在惰性气体(N2)下,使97.0g叔戊醇与12.1g(0.53mol)钠反应。在3-4小时内向所得溶液中加入38.5g叔戊醇、39g琥珀酸二叔戊酯、51.13g(242mmol)4-(苯硫基)苄腈、5.71g(22mmol)式(IXa)化合物、0.70g(5.5mmol)1,4-二氰基苯和2.0g(5.5mmol)4-正十八烷基硫代苄腈的加热至60℃的混合物,同时将内部温度降低到90℃。将所得悬浮液搅拌另外18小时,然后计量加入1174g冰/水、214g甲醇和31g硫酸(96%)的混合物中,该混合物预先制备并冷却到-10至-15℃,同时最终温度不超过-5℃。使用30g叔戊醇冲洗起始反应器,并也转移到反应混合物中。在-5℃下搅拌2小时后,将反应混合物加热至30℃并进一步搅拌总共18小时。过滤所得悬浮液,用甲醇和水洗涤滤饼,直到洗涤液无色和无盐(电导率<100μS),然后通过冻干干燥,得到细的蓝色调红色粉末(>90%产率)。该产物主要由式(Ia)化合物、式(XIe)化合物和式(Vh)化合物组成。
将0.765g所得颜料粉末与0.135g实施例1的化合物干混。
x | y | Y | 对比率 | 在270℃下1小时之后的热稳定性 |
0.6500 | 0.2949 | 13.02 | 9500 | 94.7% |
实施例15
重复实施例14,不同之处在于将0.765g所得颜料粉末与0.135g EP-A-0485337实施例2中所得产物(颜料衍生物(d))而不是实施例1的化合物干混。
x | y | Y | 对比率 | 在270℃下1小时之后的热稳定性 |
0.6500 | 0.2908 | 12.18 | 9500 | 80.2% |
实施例16
在130℃(浴温)和回流下,在惰性气体(N2)下,使97.0g叔戊醇与12.1g(0.53mol)钠反应。在3-4小时内向所得溶液中加入38.5g叔戊醇、39g琥珀酸二叔戊酯、55.78g(264mmol)4-(苯硫基)苄腈、0.70g(5.5mmol)1,3-二氰基苯和2.0g(5.5mmol)4-正十八烷基硫代苄腈的加热至60℃的混合物,同时将内部温度降低到90℃。将所得悬浮液搅拌另外18小时。然后,加入6.9g根据WO-A-2007060254实施例QAD 3制备的产物,并将所得混合物计量加入1174g冰/水、214g甲醇和31g硫酸(96%)的混合物中,该混合物预先制备并冷却到-10至-15℃,同时最终温度不超过-5℃。使用30g叔戊醇冲洗起始反应器,并也转移到反应混合物中。在-5℃下搅拌2小时后,将反应混合物加热至30℃并进一步搅拌总共18小时。过滤所得悬浮液,用甲醇和水洗涤滤饼,直到洗涤液无色和无盐(电导率<100μS),然后通过冻干干燥,得到细的蓝色调红色粉末(>90%产率)。该产物主要由式(Ia)化合物、式(XIe)化合物和式(Vh)化合物组成。
将0.765g所得颜料粉末与EP-A-0485337实施例2中所得产物(颜料衍生物(d))干混。
x | y | Y | 对比率 | 在270℃下1小时之后的热稳定性 |
0.6500 | 0.2993 | 13.00 | 8100 | 96% |
实施例17
重复实施例12,不同之处在于使用52.88g(250.25mmol)4-(苯硫基)苄腈、4.99g(19.25mmol)式(IXa)化合物、0.35g(2.75mmol)1,3-二氰基苯和1.0g(2.75mmol)4-正十八烷基硫代苄腈。
将0.765g所得颜料粉末与0.135g实施例1的化合物干混。
x | y | Y | 对比率 | 在270℃下1小时之后的热稳定性 |
0.6500 | 0.2969 | 14.42 | 9400 | 95.7% |
实施例18
重复实施例17,不同之处在于将0.765g所得颜料粉末与0.135g EP-A-0485337实施例2中所得产物(颜料衍生物(d))而不是实施例1的化合物干混。
x | y | Y | 对比率 | 在270℃下1小时之后的热稳定性 |
0.6500 | 0.2936 | 13.83 | 8600 | 90.7% |
实施例19
重复实施例18,不同之处在于熟化温度为40℃(产率>90%)。
将0.765g所得颜料粉末与0.101g EP-A-0485337实施例2中所得产物(颜料衍生物(d))和0.034g根据GB-A-2238550实施例1b制备的产物干混。
x | y | Y | 对比率 | 在270℃下1小时之后的热稳定性 |
0.6500 | 0.2952 | 14.15 | 7400 | 94.6% |
实施例20
在冰冷却下,将30.1g根据WO-A-2004/00764实施例1b制备的式(I)颜料加入171ml氯磺酸中。然后,将混合物加热至80℃,并向其中滴加23.6g亚硫酰氯。冷却后,将混合物搅拌15小时。将该混合物滴加到800g冰和400g水的混合物中,同时保持温度≤5℃。过滤得到的悬浮液,在搅拌下将残余物加入到85g冰、85g水和18.4g N,N-二乙基-1,3-丙二胺的混合物中。将所得悬浮液加热至50℃,保持2小时,过滤,用水洗涤并干燥。得到式(XII)的红色固体产物(产率92%),其中t为约1.6(ca.1.6),根据1H NMR。
1H-NMR(400MHz,D2SO4):8.32-7.48(18H,m,HAr);6.08(bs,NH);3.61(ca.1.6x2H,m,NHCH 2);3.24(ca.1.6x6H,m,(CH 2 N);2.24(ca.1.6x2H,m,CH2-CH2 -CH2);1.35(ca.1.6x6H,t,CH3)
实施例21
重复实施例12,不同之处在于用乙酸(100%)进行水解,熟化温度为25℃(产率>90%)。
将0.765g所得颜料粉末与0.135g根据实施例20制备的产物干混。
x | y | Y | 对比率 | 在270℃下1小时之后的热稳定性 |
0.6500 | 0.2966 | 14.03 | 8100 | 86.4% |
实施例22
在130℃(浴温)和回流下,在惰性气体(N2)下,使97.0g叔戊醇与12.1g(0.53mol)钠反应。在3-4小时内向所得溶液中加入38.5g叔戊醇、39g琥珀酸二叔戊酯、52.88g(250.25mmol)4-(苯硫基)苄腈、3.57g(13.75mmol)式(IXa)化合物、0.70g(5.5mmol)1,3-二氰基苯和2.0g(5.5mmol)4-正十八烷基硫代苄腈的加热至60℃的混合物,同时将内部温度降低到90℃。将所得悬浮液搅拌另外18小时。然后,加入6.9g EP-A-0485337实施例2中所得产物,并将所得混合物计量加入1174g冰/水、214g甲醇和31g硫酸(96%)的混合物中,该混合物预先制备并冷却到-10至-15℃,同时最终温度不超过-5℃。使用30g叔戊醇冲洗起始反应器,并也转移到反应混合物中。在-5℃下搅拌2小时后,将反应混合物加热至30℃并进一步搅拌总共18小时。过滤所得悬浮液,用甲醇和水洗涤滤饼,直到洗涤液无色和无盐(电导率<100μS),然后通过冻干干燥,得到细的蓝色调红色粉末(>90%产率)。该产物主要由式(Ia)化合物、式(XIe)化合物、式(Vh)化合物和EP-A-0485337实施例2中所得产物组成。
将0.765g所得颜料粉末与EP-A-0485337实施例2中所得产物(颜料衍生物(d))干混。
x | y | Y | 对比率 | 在270℃下1小时之后的热稳定性 |
0.6500 | 0.2930 | 13.52 | 9200 | 94.5% |
实施例23
重复实施例22,不同之处在于将0.765g所得颜料粉末与0.135g实施例1的化合物(而不是EP-A-0485337实施例2中所得产物)干混。
x | y | Y | 对比率 | 在270℃下1小时之后的热稳定性 |
0.6500 | 0.2930 | 13.52 | 8800 | 96.5% |
实施例24
重复实施例22,不同之处在于使用51.13g(241mmol)4-(苯硫基)苄腈、5.71g(22mmol)式(IXa)化合物、0.70g(5.5mmol)1,3-二氰基苯、2.0g(5.5mmol)4-正十八烷基硫代苄腈和6.9g EP-A-0485337实施例2中所得产物。
x | y | Y | 对比率 | 在270℃下1小时之后的热稳定性 |
0.6500 | 0.2928 | 13.48 | 9300 | 94.6% |
实施例25
重复实施例24,不同之处在于将0.765g所得颜料粉末与0.09g EP-A-0485337实施例2中所得产物和0.045g根据WO-A-02/00643实施例1制备的产物干混。
x | y | Y | 对比率 | 在270℃下1小时之后的热稳定性 |
0.6500 | 0.2928 | 13.48 | 9200 | 88% |
测试由实施例3、4、14、16、17和23制备的滤色器抗蚀剂组合物的储存稳定性(分散稳定性)。在40℃下储存一周后,抗蚀剂配制剂没有显著改变它们的粘度行为。
对比例1
类似于US 4,579,949实施例48制备对比例1,不同之处在于用WO-A-2004/007604实施例1a的产物代替等量的苄腈。
将0.765g所得颜料粉末与EP-A-0485337实施例2中所得产物(颜料衍生物(d))干混。
对比例2
根据WO-A-2005/040284实施例6制备对比例2。
将0.765g所得颜料粉末与EP-A-0485337实施例2中所得产物(颜料衍生物(d))干混。
对比例3
根据WO-A-2005/040284实施例6B制备对比例3。
将0.765g所得颜料粉末与EP-A-0485337实施例2中所得产物(颜料衍生物(d))干混。
对比例4
在130℃(浴温)和回流下,在惰性气体(N2)下,使97.0g叔戊醇与12.1g(0.53mol)钠反应。在3-4小时内向所得溶液中加入38.5g叔戊醇、39g琥珀酸二叔戊酯、52.29g(247.5mmol)4-(苯硫基)苄腈和10.0g(27.5mmol)4-正十八烷基硫代苄腈的加热至60℃的混合物,同时将内部温度降低到90℃。将所得悬浮液搅拌另外18小时。将悬浮液计量加入1174g冰/水、214g甲醇的混合物中,同时最终温度不超过-5℃。使用30g叔戊醇冲洗起始反应器,并也转移到反应混合物中。在-5℃下搅拌2小时后,将混合物加热至10℃并进一步搅拌总共18小时。过滤所得悬浮液,用甲醇和水洗涤滤饼,直到洗涤液无色和无盐(电导率<100μS),然后通过冻干干燥,得到细的蓝色调红色粉末(>90%产率)。该产物主要由式(Ia)化合物和式(Vh)化合物组成。
将0.765g所得颜料粉末与EP-A-0485337实施例2中所得产物(颜料衍生物(d))干混。
对比例 | x | y | Y | 对比率 |
1 | 0.6500 | 0.2927 | 13.31 | 2000 |
2 | 0.6500 | 0.2927 | 12.93 | 3800 |
3 | 0.6500 | 0.2928 | 13.67 | 1800 |
4 | 0.6500 | 0.2933 | 13.88 | 1200 |
Claims (19)
1.一种颜料组合物,其包含:
(a)下式的颜料:
Ar1在每次出现时选自亚苯基或C2-C6亚杂芳基,所述亚苯基或亚杂芳基未被取代或被R1取代;
Ar2在每次出现时选自C6-C10芳基或C2-C6杂芳基,所述芳基或杂芳基未被取代或被R2和/或R3取代;
R1为Cl、Br、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、CF3或CN;
R2和R3彼此独立地为Cl、Br、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、CF3或CN;或R2和R3与它们所连接的芳基或杂芳基环一起形成芳族或杂芳族5或6元环,所述芳族或杂芳族环未被取代或被R4取代,R4为Cl或C1-C4烷基;和
(b)下式的颜料衍生物:
(P1)–(X1)m (II),其中
P1为二酮基吡咯并吡咯发色团的残基,
X1为包含脂族羧酰胺基团、脂族磺酰胺基团、羧酸基团或其盐的基团,和m为1、2、3或4。
2.根据权利要求1的颜料组合物,其中颜料衍生物具有式(II),其中X1为下式的基团:
–A1–D–G(III),或
–A2–E (IV),其中
A1和A2彼此独立地为直接键或C1-C4亚烷基;
D为–NH-CO-、-NH-SO2-、-CO-NR5-或–SO2-NR5-;
G为–(C1-C6亚烷基)–NR6R7或–(C1-C6亚烷基)–NH–NR6R7,所述C1-C6亚烷基可以被-NH-间隔;
R5为H;
或者G和R5与连接的氮一起形成5或6元环,所述5或6元环未被取代或被C1-C4烷基取代和/或被NR8、O或S间隔;
R6和R7彼此独立地为H或C1-C4烷基;
或者R6和R7与连接的氮一起形成5或6元环,所述5或6元环未被取代或被C1-C4烷基取代和/或被NR8、O或S间隔;
R8为H或C1-C4烷基;和
E为被CO2H或其盐取代的C6-C12芳基。
3.根据权利要求1的颜料组合物,其中式(P1)–(X1)m(II)的颜料衍生物为下式的二酮基吡咯并吡咯衍生物:
m为1或2;
r为0、1或2;
R9在每次出现时选自Cl、Br、CF3、CN、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、SC1-C4烷基、Ar3、OAr3或SAr3;
Ar3为C6-C10芳基或C2-C6杂芳基,所述芳基或杂芳基未被取代或被R10和/或R11取代;
R10和R11彼此独立地为Cl、Br、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、CF3或CN;或
R10和R11与它们所连接的芳基或杂芳基环一起形成芳族或杂芳族环,所述芳族或杂芳族环未被取代或被Cl或C1-C4烷基取代;
X1为下式的基团:-A1-D-G(III),其中
A1为直接键或亚甲基;
D为–NH-CO-、-CO-NR5-或–SO2-NR5-;
G为–(C1-C4亚烷基)–NR6R7,所述C1-C4亚烷基可以被-NH-间隔;
R5为H;
或者G和R5与连接的氮一起形成6元环,所述6元环可以被C1-C4烷基取代和/或被NR8、O或S间隔;
R6和R7彼此独立地为H或C1-C4烷基;
或者R6和R7与连接的氮一起形成6元环,所述6元环可以被C1-C4烷基取代和/或被NR8、O或S间隔;和
R8为H或C1-C4烷基。
4.根据权利要求2的颜料组合物,其中式(P1)–(X1)m(II)的颜料衍生物为下式的二酮基吡咯并吡咯衍生物:
m为1或2;
r为0、1或2;
R9在每次出现时选自Cl、Br、CF3、CN、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、SC1-C4烷基、Ar3、OAr3或SAr3;
Ar3为C6-C10芳基或C2-C6杂芳基,所述芳基或杂芳基未被取代或被R10和/或R11取代;
R10和R11彼此独立地为Cl、Br、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、CF3或CN;或
R10和R11与它们所连接的芳基或杂芳基环一起形成芳族或杂芳族环,所述芳族或杂芳族环未被取代或被Cl或C1-C4烷基取代;
X1为下式的基团:-A1-D-G(III),其中
A1为直接键或亚甲基;
D为–NH-CO-、-CO-NR5-或–SO2-NR5-;
G为–(C1-C4亚烷基)–NR6R7,所述C1-C4亚烷基可以被-NH-间隔;
R5为H;
或者G和R5与连接的氮一起形成6元环,所述6元环可以被C1-C4烷基取代和/或被NR8、O或S间隔;
R6和R7彼此独立地为H或C1-C4烷基;
或者R6和R7与连接的氮一起形成6元环,所述6元环可以被C1-C4烷基取代和/或被NR8、O或S间隔;和
R8为H或C1-C4烷基。
5.根据权利要求1-4中任一项的颜料组合物,其中颜料组合物进一步包含:
(c)下式的颜料衍生物:(P2)–(Y)n(V),其中
P2为二酮基吡咯并吡咯发色团的残基;和
Y为选自如下的基团:OC4-C25烷基、SC4-C25烷基、OC7-C25芳烷基、SC7-C25芳烷基、OC7-C25烷芳基、SC7-C25烷芳基或NR12R13;
R12和R13彼此独立地为H、C4-C25烷基、C7-C25芳烷基或C7-C25烷芳基、条件是R12和R13的碳原子之和至少为8;Y中的烷基可以被O、S、NR14或亚苯基间隔;
R14为H或C1-C4烷基;和
n为1、2、3或4。
6.根据权利要求1-4中任一项的颜料组合物,其中式(P2)–(Y)n(V)的颜料衍生物为下式的二酮基吡咯并吡咯衍生物:
n为1;
s为0、1或2;
R15在每次出现时为Cl、Br、CF3、CN、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、SC1-C4烷基、Ar4、OAr4或SAr4;
Ar4为C6-C10芳基或C2-C6杂芳基,所述芳基或杂芳基未被取代或被R16和/或R17取代;
R16和R17彼此独立地为Cl、Br、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、CF3或CN;或
R16和R17与它们所连接的芳基或杂芳基环一起形成芳族或杂芳族5或6元环,所述芳族或杂芳族环未被取代或被Cl或C1-C4烷基取代;
Y选自OC8-C22烷基、SC8-C22烷基、OC12-C22芳烷基、SC12-C22芳烷基、OC12-C22烷芳基、SC12-C22烷芳基或NR12R13,
R12和R13彼此独立地为H、C8-C22烷基、C12-C22芳烷基或C12-C22烷芳基;Y中的各烷基可以被O、S、NR14或亚苯基间隔;和
R14为H或C1-C4烷基。
7.根据权利要求5的颜料组合物,其中式(P2)–(Y)n(V)的颜料衍生物为下式的二酮基吡咯并吡咯衍生物:
n为1;
s为0、1或2;
R15在每次出现时为Cl、Br、CF3、CN、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、SC1-C4烷基、Ar4、OAr4或SAr4;
Ar4为C6-C10芳基或C2-C6杂芳基,所述芳基或杂芳基未被取代或被R16和/或R17取代;
R16和R17彼此独立地为Cl、Br、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、CF3或CN;或
R16和R17与它们所连接的芳基或杂芳基环一起形成芳族或杂芳族5或6元环,所述芳族或杂芳族环未被取代或被Cl或C1-C4烷基取代;
Y选自OC8-C22烷基、SC8-C22烷基、OC12-C22芳烷基、SC12-C22芳烷基、OC12-C22烷芳基、SC12-C22烷芳基或NR12R13,
R12和R13彼此独立地为H、C8-C22烷基、C12-C22芳烷基或C12-C22烷芳基;Y中的各烷基可以被O、S、NR14或亚苯基间隔;和
R14为H或C1-C4烷基。
8.根据权利要求1-4中任一项的颜料组合物,其中颜料(a)的量为至少65重量%并且颜料衍生物(b)的量为3-35重量%,基于颜料组合物的总重量。
9.根据权利要求7的颜料组合物,其中颜料(a)的量为至少65重量%并且颜料衍生物(b)的量为3-35重量%,基于颜料组合物的总重量。
10.根据权利要求1-4中任一项的颜料组合物,其中颜料组合物进一步包含:
(d)下式的颜料衍生物:(Z2)p-(P3)–(A3–Z1)q (VI),其中P3为二酮基吡咯并吡咯发色团的残基,
A3为C1-C6亚烷基;
Z1为含N的5元杂环;和
Z2为SO3H或其盐,或CO2H或其盐,
p为0-2的数;和
q为1或2的数。
11.根据权利要求9的颜料组合物,其中颜料组合物进一步包含:
(d)下式的颜料衍生物:(Z2)p-(P3)–(A3–Z1)q (VI),其中P3为二酮基吡咯并吡咯发色团的残基,
A3为C1-C6亚烷基;
Z1为含N的5元杂环;和
Z2为SO3H或其盐,或CO2H或其盐,
p为0-2的数;和
q为1或2的数。
13.根据权利要求10的颜料组合物,其中Z1为杂芳族环。
Ar1为亚苯基或C2-C6亚杂芳基,所述亚苯基或亚杂芳基未被取代或被R1取代;
Ar2为C6-C10芳基或C2-C6杂芳基,所述芳基或杂芳基未被取代或被R2和/或R3取代;
R1为Cl、Br、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、CF3或CN;
R2和R3彼此独立地为Cl、Br、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、CF3或CN;或R2和R3与它们所连接的芳基或杂芳基环一起形成芳族或杂芳族5或6元环,所述芳族或杂芳族环未被取代或被R4取代,
R4为Cl或C1-C4烷基;
X1为包含脂族羧酰胺基团或脂族磺酰胺基团的基团;
Y为选自如下的基团:OC4-C25烷基、SC4-C25烷基、OC7-C25芳烷基、SC7-C25芳烷基、OC7-C25烷芳基、SC7-C25烷芳基或NR12R13;
R12和R13彼此独立地为H、C4-C25烷基、C7-C25芳烷基或C7-C25烷芳基、条件是R12和R13的碳原子之和至少为8;Y中的烷基可以被O、S、NR14或亚苯基间隔;和
R14为H或C1-C4烷基。
15.一种颜料分散体,其包含如权利要求1-13中任一项所限定或可根据权利要求14获得的颜料组合物和聚合物分散剂。
16.一种光敏抗蚀剂配制剂,其包含如权利要求15所限定的颜料分散体、树脂、光聚合引发剂、烯属不饱和单体和溶剂。
17.一种滤色器,其包含如权利要求1-13中任一项所限定或可根据权利要求14获得的颜料组合物。
18.如权利要求1-13中任一项所限定或可根据权利要求14获得的颜料组合物用于着色光敏抗蚀剂配制剂的用途,所述光敏抗蚀剂配制剂用于制造滤色器、印刷油墨、液体油墨、涂料组合物、油漆、塑料、膜或纤维。
19.下式的颜料衍生物:
m为1或2;
X1为包含脂族羧酰胺基团或脂族磺酰胺基团的基团;
Ar3为C6-C10芳基或C2-C6杂芳基,所述芳基或杂芳基未被取代或被R10和/或R11取代;
R10和R11彼此独立地为Cl、Br、C1-C4烷基、OC1-C4烷基、CF3或CN;或
R10和R11与它们所连接的芳基或杂芳基环一起形成芳族或杂芳族5或6元环,所述芳族或杂芳族环未被取代或被Cl或C1-C4烷基取代;
Ar5为亚苯基或C2-C6亚杂芳基,所述亚苯基或亚杂芳基未被取代或被R21取代;
X1为下式的基团:–A1–D–G(III);
A1为直接键或亚甲基;
D为–NH-CO-、-CO-NR5-或–SO2-NR5-;
G为–(C1-C4亚烷基)–NR6R7,所述C1-C4亚烷基可以被-NH-间隔;
R5为H;
或者G和R5与连接的氮一起形成6元环,所述6元环可以被C1-C4烷基取代和/或被NR8、O或S间隔;
R6和R7彼此独立地为H或C1-C4烷基;
或者R6和R7与连接的氮一起形成6元环,所述6元环可以被C1-C4烷基取代和/或被NR8、O或S间隔;
R8为H或C1-C4烷基;
Ar6在每次出现时选自1,4-亚苯基或C3-C5亚杂芳基,所述亚苯基未被取代或被R22取代;
Ar7在每次出现时选自苯基或C3-C5杂芳基,所述苯基或杂芳基未被取代或被R23和/或R24取代;
R22在每次出现时选自Cl、CH3或OCH3;
R23和R24彼此独立地且在每次出现时选自Cl、CH3或OCH3;或
R23和R24与它们所连接的芳基或杂芳基环一起形成芳族或杂芳族5或6元环,所述芳族或杂芳族环未被取代或被Cl或C1-C4烷基取代;
Z3为SO3H或其盐;
t为1-4的数;
u为0-3的数;
条件是t+u为1-4。
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Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1297450A (zh) * | 1998-04-22 | 2001-05-30 | 西巴特殊化学品控股有限公司 | 烷硫基-和/或芳硫基-取代的二酮-二芳基-吡咯并吡咯的制备 |
WO2005040284A1 (en) * | 2003-10-23 | 2005-05-06 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Heat-stable diketopyrrolopyrrole pigment mixtures |
KR20100088095A (ko) * | 2009-01-29 | 2010-08-06 | 후지필름 가부시키가이샤 | 색소 재료 및 색소 분산물 |
CN102046731A (zh) * | 2008-05-28 | 2011-05-04 | 巴斯夫欧洲公司 | 改进的红色滤色片组合物 |
JP2013182230A (ja) * | 2012-03-05 | 2013-09-12 | Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd | カラーフィルタ用顔料組成物、着色組成物、およびカラーフィルタ |
JP2017190295A (ja) * | 2016-04-13 | 2017-10-19 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 化合物、該化合物を含む顔料分散剤、着色組成物およびカラーフィルタ |
Family Cites Families (40)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3386843A (en) | 1963-10-01 | 1968-06-04 | Du Pont | Quinacridone pigments |
EP0061426B1 (de) | 1981-03-20 | 1985-02-13 | Ciba-Geigy Ag | Verfahren zum Färben von hochmolekularem organischem Material und neue polycyclische Pigmente |
EP0094911B1 (de) | 1982-05-17 | 1986-09-10 | Ciba-Geigy Ag | Herstellung von Pyrrolo-(3,4-c)-pyrrolen |
DE3367931D1 (en) | 1982-07-08 | 1987-01-15 | Ciba Geigy Ag | Preparation of 1,4-diketopyrrolo-(3,4-c)-pyrroles |
DE3581512D1 (de) | 1984-11-07 | 1991-02-28 | Ciba Geigy Ag | Verfahren zur herstellung von pyrrolo-(3,4-c)-pyrrolen und neue pyrrolo-(3,4-c)-pyrrole. |
DE3781564D1 (de) | 1986-01-31 | 1992-10-15 | Ciba Geigy Ag | Verfahren zur herstellung von bromierten pyrrolo-(3,4-c)-pyrrolen. |
US4931566A (en) | 1987-07-31 | 1990-06-05 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the preparation of pyrrolo[3,4-c]pyrroles |
JP2584515B2 (ja) | 1989-06-23 | 1997-02-26 | 東洋インキ製造株式会社 | 顔料分散剤および顔料組成物 |
KR0143777B1 (ko) | 1989-11-28 | 1998-07-01 | 월터 클리웨인, 한스-피터 위트린 | 디케토피롤로피롤을 기재로 하는 물질의 조성물 |
ES2071280T3 (es) * | 1990-11-08 | 1995-06-16 | Ciba Geigy Ag | Derivados de pigmento conteniendo pirazol. |
TW434296B (en) | 1994-10-12 | 2001-05-16 | Ciba Sc Holding Ag | Process for the preparation of diaryldiketopyrrolopyrrole pigments |
EP0748851B1 (de) | 1995-06-15 | 2001-05-09 | Ciba SC Holding AG | Pigmentzusammensetzungen aus Diketopyrrolopyrrolen |
MY121423A (en) | 1998-06-26 | 2006-01-28 | Ciba Sc Holding Ag | Photopolymerizable thermosetting resin compositions |
EP1026207B1 (en) | 1999-02-02 | 2006-02-22 | Ciba SC Holding AG | Pigment particle growth and/or crystal phase directors |
JP2000273346A (ja) | 1999-03-23 | 2000-10-03 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 顔料分散剤およびそれを用いた顔料組成物 |
JP4025545B2 (ja) | 1999-07-09 | 2007-12-19 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 改善された色特性を有する顔料及びその製造方法 |
DE10030780A1 (de) | 2000-06-29 | 2002-01-10 | Basf Ag | Kristallisationsmodifikation auf der Basis von Chinophthalonderivaten |
TW593567B (en) | 2000-07-31 | 2004-06-21 | Ciba Sc Holding Ag | Dispersant compositions improving the heat stability of transparent pigments |
DE10106147A1 (de) | 2001-02-10 | 2002-08-14 | Clariant Gmbh | Saure Pigmentdispergatoren und Pigmentzubereitungen |
WO2004000764A2 (en) | 2002-06-24 | 2003-12-31 | Vivoquest, Inc. | BENZO(b)FURAN DIMERS |
WO2004007604A1 (en) | 2002-07-17 | 2004-01-22 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | High-molecular-weight polymeric material comprising diketopyrrolopyrrole pigments |
GB0324584D0 (en) | 2003-10-21 | 2003-11-26 | Dystar Textilfarben Gmbh & Co | Disperse azo dyestuffs |
KR100897224B1 (ko) | 2004-02-23 | 2009-05-14 | 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 | 옥심 에스테르 화합물, 광중합성 조성물 및 이것을 사용한컬러 필터 |
DE602005003960T2 (de) | 2004-08-18 | 2008-10-16 | Ciba Holding Inc. | Oximester-Photoinitiatoren |
CN102127085B (zh) | 2004-10-01 | 2012-09-26 | 西巴特殊化学品控股有限公司 | 嘧啶并[5,4-g]蝶啶作为遮光组分在滤色器着色剂组合物中的应用 |
DE602005012843D1 (de) | 2005-11-28 | 2009-04-02 | Agfa Graphics Nv | Nichtwässerige Chinakridondispersionen unter Verwendung von Dispersionssynergisten |
JP5680274B2 (ja) | 2005-12-01 | 2015-03-04 | チバ ホールディング インコーポレーテッドCiba Holding Inc. | オキシムエステル光開始剤 |
WO2007071797A1 (es) | 2005-12-19 | 2007-06-28 | Uralita Sistemas De Tuberias, S.A. | Sistema distribuido de transmisión bidireccional de ondas guiadas y/o radiadas |
JP5117397B2 (ja) | 2005-12-20 | 2013-01-16 | チバ ホールディング インコーポレーテッド | オキシムエステル光開始剤 |
WO2007113107A1 (en) | 2006-03-30 | 2007-10-11 | Ciba Holding Inc. | Photosensitive resist composition for color filters for use in electronic paper display devices |
JP2008151967A (ja) | 2006-12-15 | 2008-07-03 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物、スペーサーとその製法および液晶表示素子 |
CN101528694B (zh) | 2006-12-27 | 2012-03-07 | 株式会社艾迪科 | 肟酯化合物和含有该化合物的光聚合引发剂 |
WO2008101841A1 (en) | 2007-02-23 | 2008-08-28 | Basf Se | Transparent colourants and colourant compositions, and their use |
JP2009040762A (ja) | 2007-08-09 | 2009-02-26 | Ciba Holding Inc | オキシムエステル光開始剤 |
JP2010015025A (ja) | 2008-07-04 | 2010-01-21 | Adeka Corp | 特定の光重合開始剤を含有する感光性組成物 |
JP5685803B2 (ja) | 2008-07-24 | 2015-03-18 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物および液晶表示素子用スペーサーとその製造法 |
TWI481614B (zh) | 2009-10-28 | 2015-04-21 | Toyo Ink Mfg Co | 二酮吡咯并吡咯顔料分散劑、使用其之顏料組成物、著色組成物及彩色濾光片 |
JP4914972B2 (ja) | 2010-06-04 | 2012-04-11 | ダイトーケミックス株式会社 | オキシムエステル化合物、オキシムエステル化合物の製造方法、光重合開始剤および感光性組成物 |
KR20130049194A (ko) * | 2010-07-29 | 2013-05-13 | 도판 인사츠 가부시키가이샤 | 액정 표시 장치용 컬러 필터 기판 및 액정 표시 장치 |
JP7019235B2 (ja) * | 2018-03-02 | 2022-02-15 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | カラーフィルタ用顔料組成物、カラーフィルタ用着色組成物、およびカラーフィルタ |
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1297450A (zh) * | 1998-04-22 | 2001-05-30 | 西巴特殊化学品控股有限公司 | 烷硫基-和/或芳硫基-取代的二酮-二芳基-吡咯并吡咯的制备 |
WO2005040284A1 (en) * | 2003-10-23 | 2005-05-06 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Heat-stable diketopyrrolopyrrole pigment mixtures |
CN1871309A (zh) * | 2003-10-23 | 2006-11-29 | 西巴特殊化学品控股有限公司 | 热稳定的二酮基吡咯并吡咯颜料混合物 |
CN102046731A (zh) * | 2008-05-28 | 2011-05-04 | 巴斯夫欧洲公司 | 改进的红色滤色片组合物 |
KR20100088095A (ko) * | 2009-01-29 | 2010-08-06 | 후지필름 가부시키가이샤 | 색소 재료 및 색소 분산물 |
JP2013182230A (ja) * | 2012-03-05 | 2013-09-12 | Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd | カラーフィルタ用顔料組成物、着色組成物、およびカラーフィルタ |
JP2017190295A (ja) * | 2016-04-13 | 2017-10-19 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 化合物、該化合物を含む顔料分散剤、着色組成物およびカラーフィルタ |
Also Published As
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---|---|
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