CN112262465A - 保管架 - Google Patents

保管架 Download PDF

Info

Publication number
CN112262465A
CN112262465A CN201980038913.3A CN201980038913A CN112262465A CN 112262465 A CN112262465 A CN 112262465A CN 201980038913 A CN201980038913 A CN 201980038913A CN 112262465 A CN112262465 A CN 112262465A
Authority
CN
China
Prior art keywords
shelf
supply
pipe
storage rack
supply pipe
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201980038913.3A
Other languages
English (en)
Other versions
CN112262465B (zh
Inventor
椿达雄
大西真司
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Machinery Ltd
Original Assignee
Murata Machinery Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Murata Machinery Ltd filed Critical Murata Machinery Ltd
Publication of CN112262465A publication Critical patent/CN112262465A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN112262465B publication Critical patent/CN112262465B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/6735—Closed carriers
    • H01L21/67389—Closed carriers characterised by atmosphere control
    • H01L21/67393—Closed carriers characterised by atmosphere control characterised by the presence of atmosphere modifying elements inside or attached to the closed carrierl
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G1/00—Storing articles, individually or in orderly arrangement, in warehouses or magazines
    • B65G1/02—Storage devices
    • B65G1/14—Stack holders or separators
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67763—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
    • H01L21/67769—Storage means
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G1/00—Storing articles, individually or in orderly arrangement, in warehouses or magazines
    • B65G1/02—Storage devices
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G2201/00—Indexing codes relating to handling devices, e.g. conveyors, characterised by the type of product or load being conveyed or handled
    • B65G2201/02—Articles
    • B65G2201/0297—Wafer cassette

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Warehouses Or Storage Devices (AREA)
  • Centrifugal Separators (AREA)
  • Valve-Gear Or Valve Arrangements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

保管架(1)具备主体框架(10)和经由弹性体(9)安装于主体框架(10)的搁板(20)，用于对收纳被收纳物的FOUP进行保管，其中，该保管架(1)具备：供给喷嘴(31)，该供给喷嘴设置于搁板(20)，向FOUP供给气体；和供给管(33)，该供给管(33)具有与供给喷嘴(31)连通的一端(33a)和与主管(50)连通的另一端(33b)，该主管(50)支承于主体框架(10)，并且与向FOUP供给的气体的供给源连接。供给管(33)在从一端(33a)到另一端(33b)之间的至少一部分具备具有挠性的挠性部。

Description

保管架
技术领域
本发明的一个方面涉及保管架。
背景技术
公知有保管架，该保管架保管对在半导体制造装置或液晶制造装置等中被处理的晶圆进行收容的FOUP(前开式晶圆传送盒，Front-Opening Unified Pod)和对半导体制造装置或液晶制造装置等中使用的标线片进行收容的标线片盒等容器。保管架以从空中搬送车的轨道或天花板等被支承部悬挂的状态设置，或以立设于地面的状态设置。在这样的保管架中，有时由于空中搬送车或地上搬送车的行驶而传递振动。例如，在专利文献1中公开有一种保管架，该保管架具备载置容器的搁板(载置部)和支承该搁板的主体框架(框部)，上述搁板经由弹性体支承于主体框架。在该保管架中，能够降低向搁板传递的振动的影响。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本专利第6061020号公报
发明内容
为了维持被收纳物的清洁度，存在想要在上述的保管架设置向容器供给非活性气体或清洁干燥空气等吹扫气体的吹扫设备的情况。然而，在将吹扫设备设置于搁板的情况下，搁板的防振有可能被向容器供给吹扫气体的供给管阻碍，或有可能经由供给管向搁板传递振动。
因此，本发明的一个方面的目的在于提供一种即使是在搁板设置有吹扫设备的情况下、也能够抑制振动向容器传递的保管架。
本发明的一个方面的保管架具备主体框架和经由弹性体安装于主体框架的搁板，用于对收纳被收纳物的容器进行保管，其中，该保管架具备：供给喷嘴，该供给喷嘴设置于搁板，向容器供给气体；和供给管，该供给管具有与供给喷嘴连通的一端和与主管连通的另一端，该主管由与搁板分体的支承部支承，并且与向容器供给的气体的供给源连接，供给管在从一端到另一端之间的至少一部分具备具有挠性的挠性部。
在该结构的保管架中，与设置于搁板的供给喷嘴连接的供给管的全长方向上的至少一部分具有挠性。由此，供给管能够容许搁板与主体框架之间的相对的移动，因此，能够抑制搁板的防振被阻碍或振动经由供给管向搁板传递。其结果，即使是在吹扫设备设置于搁板的情况下，也能够抑制振动向容器传递。
在本发明的一个方面的保管架中，也可以是，支承部是主体框架。由此，即使是主管固定于主体框架的结构的保管架，也能够抑制振动向容器传递。
在本发明的一个方面的保管架中，也可以是，搁板在俯视时具有矩形形状，供给喷嘴配置于搁板的一个角部，供给管的另一端配置于搁板的相当于一个角部的对角的另一角部。在该结构中，一端和另一端的位置在与搁板的一边平行的第一方向和平行于与该一边正交的边的第二方向这两个方向上彼此错开，因此，能够使基座部件与搁板之间的第一方向和第二方向上的相对的移动变容易。
在本发明的一个方面的保管架中，也可以是，供给管的一端的轴向与另一端的轴向彼此正交，并且，在一端与另一端之间具有曲线部。在该结构中，供给管能够使搁板在第一方向和第二方向中的任一方向上的移动都更加容易。
在本发明的一个方面的保管架中，也可以是，所述供给管沿着水平方向配置，具有曲线部。在该结构中，即使是在主体框架与经由弹性体配置于主体框架上方的搁板之间的间隔较窄的情况下，也能够将供给管配置于主体框架与搁板之间。换言之，能够抑制保管架的铅垂方向上的尺寸增大。
在本发明的一个方面的保管架中，也可以是，还具备过滤器，该过滤器支承于主体框架，并且设置于主管与供给管的另一端之间。在该结构中，能够在向供给管供给气体的最终端处净化气体，因此，能够向容器供给更优质的气体。
发明效果
根据本发明的一个方面，即使是在吹扫设备设置于搁板的情况下，也能够抑制振动向容器传递。
附图说明
图1是表示一实施方式的保管架的立体图。
图2是表示从斜上方观察搁板时的立体图。
图3是表示从斜下方观察搁板时的立体图。
图4是表示从上方观察搁板时的俯视图。
图5是从上方观察变形例1的搁板时的俯视图。
图6是从上方观察变形例2的搁板时的俯视图。
具体实施方式
以下，参照附图详细地说明本发明的一个方面的优选的一实施方式。此外，在附图的说明中，对同一要素标注同一附图标记，并省略重复的说明。“X方向”、“Y方向”以及“Z方向”这些用语基于图示的方向，是为了方便说明。图2和图4使搁板20透明化而示出，图3使基座部件7透明化而示出。
图1所示的保管架1例如设置于半导体制造工厂的半导体搬送系统。保管架1暂时保管标线片盒或FOUP(未图示)等容器(被收纳物)。保管架1具备主体框架10、搁板20、主管50以及吹扫设备30。主体框架10经由弹性体9支承搁板20。在弹性体9的例子中包含橡胶材料、硅胶材料、聚氨酯凝胶以及金属弹簧等。主体框架10具有悬挂部件3a～3d、连结部件5a、5b以及基座部件7。
悬挂部件3a～3d是在上下方向(Z方向)上延伸的柱部件，设置有多根(在本实施方式中是四根)。悬挂部件3a～3d以在X方向和Y方向上隔开规定间隔的方式相对配置。悬挂部件3a～3d安装于空中搬送车的轨道、支承该轨道的支承部件、以及天花板中的任一个。在悬挂部件3a、3b的下端侧横架有在X方向上延伸的围栏部件6。在悬挂部件3c、3d的下端侧横架有在X方向上延伸的围栏部件6。围栏部件6、6防止FOUP的落下。此外，在图1中，为了方便说明，省略了横架于悬挂部件3a、3b的围栏部件一方的图示。
连结部件5a是在Y方向上延伸的部件，连结悬挂部件3a的下端部和悬挂部件3c的下端部。连结部件5b是在Y方向上延伸的部件，连结悬挂部件3b的下端部和悬挂部件3d的下端部。基座部件7是在X方向上延伸的板状部件，架设于多个连结部件5a、5b。
搁板20是在从Z方向观察的俯视时呈大致矩形形状的板状部件，供FOUP载置。搁板20由配置在基座部件7的上表面7a的弹性体9支承。搁板20具有供FOUP载置的载置面21a和与载置面21a相反的一侧的下表面21b(参照图2)。在搁板20设置有销P1、P2、P3和在后段中详细论述的供给喷嘴31。销P1～P3从搁板20的载置面21a向上方突出。销P1～P3配置于与设置在FOUP底部的定位孔(未图示)相对应的位置。另外，在搁板20的载置面21a设置有负载传感器SW。
主管50与向吹扫设备30供给的气体的供给源连接。向吹扫设备30供给的气体的例子包含氮气和干燥空气等。主管50是由不锈钢等金属或氟树脂等树脂形成的管部件。主管50由固定于基座部件7的配管支承托架11支承。主管50具有分支部51。在分支部51连接有构成吹扫设备30的第二配管41。
如图2～图4所示，吹扫设备30具有供给喷嘴31、供给管33、过滤器部35、第一配管37、MFC(质量流量控制器，Mass Flow Controller)39以及第二配管41。供给喷嘴31是向FOUP的内部供给气体的喷嘴，具有向FOUP供给气体的喷嘴部31a和与供给管33连接的连接部31b。喷嘴部31a从搁板20的载置面21a向上方突出，通过将FOUP载置于喷嘴部31a，从而与设置于FOUP底面的导入孔连接。连接部31b设置于搁板20的下表面21b。供给喷嘴31配置于搁板20的一个角部C1。
供给管33具有与供给喷嘴31连通的一端33a和与主管50连通的另一端33b，该主管50由基座部件(与搁板20分体的支承部)7支承，并且与向FOUP供给的气体的供给源连接。在本实施方式中，另一端33b经由过滤器部35、第一配管37、MFC39以及第二配管41而与主管50连通。供给管33是由例如氟树脂等树脂形成的管部件，在全长方向上整体上具有挠性。供给管33能够在一端33a与另一端33b之间在未被支承部件支承的状态下维持在水平方向上延伸的状态。
供给管33的一端33a的轴向d1与另一端33b的轴向d2彼此正交，并且，在一端33a与另一端33b之间具有曲线部33c。该曲线部33c也是供给管33的挠性部。曲线部33c的半径R的例子是200mm～250mm。具有挠性的供给管33在一端33a与供给喷嘴31连接、另一端33b与过滤器部35连接的状态下，以上述的半径R成为能取得的最大曲率半径的方式弯曲。
过滤器部35是收容有将在过滤器部35通过的气体所含有的异物去除的过滤器的部件，去除从气体的供给源经由主管50供给的气体所含有的异物。供给管33的另一端33b与过滤器部35连接。过滤器部35通过适当的部件固定于基座部件7。过滤器部35配置于搁板20的相当于一个角部C1的对角的另一角部C2。
第一配管37是将过滤器部35与MFC39之间连接的管部件。第一配管37是由不锈钢等金属形成的管部件。第一配管37除了其与过滤器部35和MFC39的连接部以外，未支承于任一处。
MFC39是计量从主管50供给的气体的流量、并且进行流量的控制的设备。MFC39由未图示的控制器控制。控制器在由设置于搁板20的负载传感器SW检测到FOUP时，以向FOUP供给规定流量的气体的方式控制MFC39，在由设置于搁板20的负载传感器SW未检测到FOUP时，以不向FOUP供给气体的方式控制MFC39。MFC39以适当的方法固定于基座部件7的下表面7b。
第二配管41是将MFC39与分支部51之间连接的管部件。第二配管41是由不锈钢等金属或氟树脂等树脂形成的管部件。
接着，对上述实施方式的保管架1的作用效果进行说明。在上述实施方式的保管架1中，与设置于搁板20的供给喷嘴31连接的供给管33变形。由此，供给管33能够容许搁板20与主体框架10之间的相对的移动(X方向、Y方向、以及Z方向上的移动)，因此，能够抑制搁板20的防振被阻碍或者振动经由供给管33向搁板20传递。其结果，即使是在搁板20设置有吹扫设备30的情况下，也能够抑制振动向FOUP传递。
在上述实施方式的保管架1中，即使是主管50固定于主体框架10的结构的保管架1，也能够抑制振动向FOUP传递。
在上述实施方式的保管架1中，供给管33的一端33a和另一端33b的位置在与搁板20的一边平行的X方向和平行于与该一边正交的边的Y方向这两个方向上彼此错开。由此，供给管33能够使基座部件7与搁板20之间的X方向和Y方向上的相对的移动变容易。
在上述实施方式的保管架1中，供给管33的一端33a的轴向d1与另一端33b的轴向d2彼此正交，并且，在一端33a与另一端33b之间具有曲线部33c。在该结构中，供给管33能够使搁板20在X方向和Y方向中的任一个方向上的移动(变形)都更加容易。
在上述实施方式的保管架1中，供给管33具有沿着水平方向(XY平面)配置的曲线部33c。在该结构中，即使是在基座部件7与经由弹性体9配置于基座部件7上方的搁板20之间的间隔较窄的情况下，也能够将供给管33配置于基座部件7与搁板20之间。其结果，能够抑制保管架1的铅垂方向上的尺寸增大。另外，能够提高每单位面积的FOUP的堆积能力。
在上述实施方式的保管架1中，具备过滤器部35，该过滤器部35支承于基座部件7，并且设置于主管50与供给管33的另一端33b之间，因此，能够在向供给管33供给气体的最终端(供给管33的另一端33b)处净化气体。由此，能够向FOUP供给更优质的气体。
以上，对一实施方式进行了说明，但本发明的一个方面并不限于上述实施方式，在不脱离发明的主旨的范围内能够进行各种改变。
＜变形例1＞
在上述实施方式中，列举在一个搁板20设置有一个供给喷嘴31的结构的保管架1为例而进行了说明，但也可以是在一个搁板20设置有多个供给喷嘴和多个供给管的结构的保管架1。例如，如图5所示，也可以是，在变形例1的保管架1的搁板20设置有三个供给喷嘴31、131、231和向该三个供给喷嘴31、131、231分别供给气体的三个供给管33、133、233。在从Z方向观察的俯视时，三个供给管33、133、233以在俯视时不重叠的方式配置。
在变形例1的保管架1的吹扫设备130中，在MFC39的下游侧设置有分支部101，分支部101的一方经由金属管102与过滤器部35连接，在分支部101的另一方经由金属管103、分支部105、金属管106、金属管107分别连接有过滤器部135和过滤器部235。过滤器部35、135、235通过适当的方法固定于基座部件7。
供给管33的一端33a与供给喷嘴31连接，另一端33b与过滤器部35连接。供给管133的一端133a与供给喷嘴131连接，另一端133b与过滤器部135连接。供给管233的一端233a与供给喷嘴231连通，另一端233b与过滤器部235连接。供给管233的一端233a经由弯角形接头108和金属管109与供给喷嘴31连接。弯角形接头108固定于搁板20。供给管33、133、233由树脂性的挠性管形成。
在上述变形例1的保管架1中，与设置于搁板20的供给喷嘴31、231分别连接的供给管33、233变形。另外，供给管33、233分别具有曲线部31c、231c。由此，供给管33、233容许搁板20与主体框架10之间的相对的移动。另外，与设置于搁板20的供给喷嘴131连接的金属管109与弯角形接头108连接。并且，与该弯角形接头108连接的供给管233变形。另外，供给管233具有曲线部233c。利用这些供给管33、133、233的连接结构，能够抑制搁板20的防振被阻碍或振动经由供给管33、133、233向搁板20传递。其结果，即使是在搁板20设置有吹扫设备的情况下，也能够抑制振动向FOUP传递。
在上述变形例1的保管架1中，在从Z方向观察的俯视时，三个供给管33、133、233以在俯视时不重叠的方式配置，因此，能够抑制保管架1的Z方向(铅垂方向)的尺寸增大。另外，在上述变形例1的保管架1中，具有曲线部33c的供给管33和具有曲线部133c、233c的供给管133、233配置成以弯曲成凹状的状态彼此相对。由此，能够使多个供给管33、133、233以可挠曲的状态配置于在俯视时有限的空间中。
＜变形例2＞
在上述变形例1中，列举如下例子而进行了说明：在配置三个供给喷嘴31、131、231的情况下，设置与三个供给喷嘴31、131、231分别连接的挠性的供给管33、133、233，但并不限定于此。例如，如图6所示，也可以是，在变形例2的保管架1的搁板20设置有三个供给喷嘴31、131、231、向供给喷嘴31供给气体的供给管33、以及向两个供给喷嘴131、231供给气体的供给管133。在从Z方向观察的俯视时，两个供给管33、133以在俯视时不重叠的方式配置。
在变形例2的吹扫设备230中，在MFC39的下游侧设置有分支部101，分支部101的一方经由金属管102与过滤器部35连接，在分支部101的另一方经由金属管103连接有过滤器部135。过滤器部35、135通过适当的方法固定于基座部件7。
供给管33的一端33a与供给喷嘴31连接，另一端33b与过滤器部35连接。供给管133的一端133a与供给喷嘴131、231分别连通，另一端133b与过滤器部135连接。供给管133的一端133a与固定于搁板20的分支部208连接。分支部208的一方经由金属管210与供给喷嘴131连接，分支部208的另一方经由金属管209与供给喷嘴231连接。供给管33、133由树脂性的挠性管形成。
在上述变形例2的保管架1中，与设置于搁板20的供给喷嘴31连接的供给管33变形。另外，供给管33具有曲线部33c。由此，供给管33容许搁板20与主体框架10之间的相对的移动。另外，与设置于搁板20的供给喷嘴131、231分别连接的金属管209、210与分支部208连接。并且，与该分支部208连接的供给管133变形。另外，供给管133具有曲线部133c。利用这些供给管33、133的连接结构，能够抑制搁板20的防振被阻碍或振动经由供给管33、133向搁板20传递。其结果，即使是在搁板20设置有吹扫设备的情况下，也能够抑制振动向FOUP传递。
在上述变形例2的保管架1中，在从Z方向观察的俯视时，两个供给管33、133以在俯视时不重叠的方式配置，因此，能够抑制保管架1的Z方向(铅垂方向)的尺寸增大。另外，在上述变形例2的保管架1中，具有曲线部33c的供给管33和具有曲线部133c的供给管133配置成，以弯曲成凹状的状态彼此相对。由此，能够将多个供给管33、133以弯曲的状态配置于在俯视时有限的空间中。
＜其他变形例＞
在上述实施方式中，列举将供给管33的一端33a与供给喷嘴31的连接部31b直接连接的例子进行了说明，但也可以经由弯曲成任意角度(例如90度)的弯角形接头连接。由此，也能够应对以挠性的供给管33无法应对的配置。
在上述实施方式和变形例中，列举过滤器部35配置于供给管33的另一端33b侧的结构、即供给管33介于过滤器部35与供给喷嘴31之间的结构为例进行了说明，但并不限定于此。例如，也可以是过滤器部35配置于供给管33的一端33a侧的结构、即过滤器部35介于供给管33与供给喷嘴31之间的结构。
在上述实施方式和变形例中，列举供给管33、133、233以弯曲的状态配置在水平面内的例子进行了说明，但也可以是，例如，供给管33、133、233以弯曲的状态配置于延直面内。换言之，供给管33、133、233以向下方松弛的状态配置。
在上述实施方式和变形例中，列举主管50由固定于基座部件7的配管支承托架11支承的例子进行了说明，但也可以是，例如，支承于空中搬送车行驶的行驶轨道、支承于安装在无尘室等的天花板等上的支承部件、或者直接支承于天花板。
在上述实施方式和变形例中，列举保管架1从天花板悬挂的结构为例进行了说明，但也可以是设置于地面的结构。即，也可以是主体框架10从地面立设的结构。
在上述实施方式和变形例中，列举供给管33、133、233的整个全长具有挠性的例子进行了说明，但也可以是仅全长的一部分具有挠性。另外，也可以采用由树脂或金属形成的波纹管等来替代树脂性的供给管33、133、233。
附图标记说明
1：保管架，3a、3b、3c、3d：悬挂部件，5a、5b：连结部件，6：围栏部件，7：基座部件，10：主体框架，20：搁板，21a：载置面，30、130、230：吹扫设备，31、131、231：供给喷嘴，31a：喷嘴部，31b：连接部，33、133、233：供给管，33a、133a、233a：一端，33b、133b、233b：另一端，33c、133c、233c：曲线部，35、135、235：过滤器部，50：主管，51：分支部，C1、C2：角部，d1：轴向，d2：轴向，P1、P2、P3：销。

Claims (6)

1.一种保管架，其具备主体框架和经由弹性体安装于所述主体框架的搁板，用于对收纳被收纳物的容器进行保管，其中，
该保管架具备：
供给喷嘴，该供给喷嘴设置于所述搁板，向所述容器供给气体；和
供给管，该供给管具有与所述供给喷嘴连通的一端和与主管连通的另一端，该主管由与所述搁板分体的支承部支承，并且与向所述容器供给的气体的供给源连接，
所述供给管在从所述一端到所述另一端之间的至少一部分具备具有挠性的挠性部。
2.根据权利要求1所述的保管架，其中，
所述支承部是所述主体框架。
3.根据权利要求1或2所述的保管架，其中，
所述搁板在俯视时具有矩形形状，
所述供给喷嘴配置于所述搁板的一个角部，
所述供给管的另一端配置于所述搁板的相当于一个角部的对角的另一角部。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的保管架，其中，
所述供给管的所述一端的轴向与所述另一端的轴向彼此正交，并且，在所述一端与所述另一端之间具有曲线部。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的保管架，其中，
所述供给管沿着水平方向配置。
6.根据权利要求1或2所述的保管架，其中，
该保管架还具备过滤器，该过滤器支承于所述主体框架，并且设置于所述主管与所述供给管的另一端之间。
CN201980038913.3A 2018-06-15 2019-03-22 保管架 Active CN112262465B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018-114816 2018-06-15
JP2018114816 2018-06-15
PCT/JP2019/012222 WO2019239672A1 (ja) 2018-06-15 2019-03-22 保管棚

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN112262465A true CN112262465A (zh) 2021-01-22
CN112262465B CN112262465B (zh) 2024-03-26

Family

ID=68842876

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201980038913.3A Active CN112262465B (zh) 2018-06-15 2019-03-22 保管架

Country Status (9)

Country Link
US (1) US11990356B2 (zh)
EP (1) EP3809454B1 (zh)
JP (1) JP6984748B2 (zh)
KR (1) KR102453738B1 (zh)
CN (1) CN112262465B (zh)
IL (1) IL279318A (zh)
SG (1) SG11202012260RA (zh)
TW (1) TWI816810B (zh)
WO (1) WO2019239672A1 (zh)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7529039B2 (ja) 2020-11-12 2024-08-06 村田機械株式会社 保管棚
JP7311063B2 (ja) * 2021-02-24 2023-07-19 村田機械株式会社 パージ装置

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6641348B1 (en) * 1998-03-27 2003-11-04 Brooks Automation Gmbh Docking station for substrate transport containers
JP2009277687A (ja) * 2008-05-12 2009-11-26 Shin Etsu Polymer Co Ltd バルブ機構及び基板収納容器
JP2010182747A (ja) * 2009-02-03 2010-08-19 Dan Takuma:Kk 保管システムおよび保管方法
CN101826446A (zh) * 2009-03-04 2010-09-08 东京毅力科创株式会社 成膜装置和成膜方法
CN102376529A (zh) * 2010-08-20 2012-03-14 株式会社大福 容器保管设备
TW201506331A (zh) * 2013-06-26 2015-02-16 Daifuku Kk 物品保管設備
JP2015142104A (ja) * 2014-01-30 2015-08-03 村田機械株式会社 パージ装置、パージストッカ、及び容器
CN104956473A (zh) * 2013-02-12 2015-09-30 村田机械株式会社 保管架
JP2016141565A (ja) * 2015-02-05 2016-08-08 村田機械株式会社 パージ機能を備えた装置前自動倉庫とパージ方法
TW201641387A (zh) * 2015-03-19 2016-12-01 Sinfonia Technology Co Ltd 門開閉裝置、搬送裝置、分類裝置、及收納容器的連結方法
WO2017022330A1 (ja) * 2015-08-04 2017-02-09 村田機械株式会社 パージ装置、パージストッカ、及びパージガスの供給方法
US20170278736A1 (en) * 2014-09-25 2017-09-28 Murata Machinery, Ltd. Purging device and purging method
JP2017227216A (ja) * 2016-06-21 2017-12-28 株式会社荏原製作所 給水装置

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0548052Y2 (zh) * 1987-12-10 1993-12-20
DE69205571T2 (de) 1992-08-04 1996-06-13 Ibm Unter Druck stehende Koppelsysteme zum Transferieren von einem Halbleiterwafer zwischen einem tragbaren abdichtbaren unter druckstehenden Behälter und einer Bearbeitungsanlage.
JP4413376B2 (ja) * 2000-05-29 2010-02-10 全協化成工業株式会社 ウェハー保管装置
US7930061B2 (en) * 2002-08-31 2011-04-19 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for loading and unloading substrate carriers on moving conveyors using feedback
JP2005166952A (ja) * 2003-12-02 2005-06-23 Asyst Shinko Inc 保管庫
JP5557061B2 (ja) 2012-01-04 2014-07-23 株式会社ダイフク 物品保管設備
JP5716968B2 (ja) * 2012-01-04 2015-05-13 株式会社ダイフク 物品保管設備
WO2014174606A1 (ja) * 2013-04-24 2014-10-30 株式会社日立システムズ コンテナ型データセンター
JP2015126203A (ja) 2013-12-27 2015-07-06 東京エレクトロン株式会社 基板受け渡し装置及び基板受け渡し方法
CN105900226A (zh) * 2014-02-27 2016-08-24 村田机械株式会社 净化装置及净化方法
JP2016050684A (ja) * 2014-08-29 2016-04-11 シャープ株式会社 空気調和機および圧縮機
JP6455404B2 (ja) * 2015-11-17 2019-01-23 株式会社ダイフク 容器搬送設備
KR101852323B1 (ko) * 2016-07-05 2018-04-26 로체 시스템즈(주) 퍼지 모듈 지그 및 이를 포함한 퍼지 모듈
JP6817757B2 (ja) * 2016-09-16 2021-01-20 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置及び基板移送方法
JP7090513B2 (ja) * 2018-09-06 2022-06-24 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置及びパージ方法

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6641348B1 (en) * 1998-03-27 2003-11-04 Brooks Automation Gmbh Docking station for substrate transport containers
JP2009277687A (ja) * 2008-05-12 2009-11-26 Shin Etsu Polymer Co Ltd バルブ機構及び基板収納容器
JP2010182747A (ja) * 2009-02-03 2010-08-19 Dan Takuma:Kk 保管システムおよび保管方法
CN101826446A (zh) * 2009-03-04 2010-09-08 东京毅力科创株式会社 成膜装置和成膜方法
CN102376529A (zh) * 2010-08-20 2012-03-14 株式会社大福 容器保管设备
CN104956473A (zh) * 2013-02-12 2015-09-30 村田机械株式会社 保管架
TW201506331A (zh) * 2013-06-26 2015-02-16 Daifuku Kk 物品保管設備
JP2015142104A (ja) * 2014-01-30 2015-08-03 村田機械株式会社 パージ装置、パージストッカ、及び容器
US20170278736A1 (en) * 2014-09-25 2017-09-28 Murata Machinery, Ltd. Purging device and purging method
JP2016141565A (ja) * 2015-02-05 2016-08-08 村田機械株式会社 パージ機能を備えた装置前自動倉庫とパージ方法
TW201641387A (zh) * 2015-03-19 2016-12-01 Sinfonia Technology Co Ltd 門開閉裝置、搬送裝置、分類裝置、及收納容器的連結方法
WO2017022330A1 (ja) * 2015-08-04 2017-02-09 村田機械株式会社 パージ装置、パージストッカ、及びパージガスの供給方法
JP2017227216A (ja) * 2016-06-21 2017-12-28 株式会社荏原製作所 給水装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR20210016607A (ko) 2021-02-16
SG11202012260RA (en) 2021-01-28
EP3809454B1 (en) 2023-05-03
TW202002134A (zh) 2020-01-01
JP6984748B2 (ja) 2021-12-22
KR102453738B1 (ko) 2022-10-12
US11990356B2 (en) 2024-05-21
US20210257239A1 (en) 2021-08-19
JPWO2019239672A1 (ja) 2021-04-22
CN112262465B (zh) 2024-03-26
TWI816810B (zh) 2023-10-01
WO2019239672A1 (ja) 2019-12-19
EP3809454A1 (en) 2021-04-21
EP3809454A4 (en) 2022-02-23
IL279318A (en) 2021-01-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11631603B2 (en) Storage shelf, and method for installing storage shelf
CN112262465B (zh) 保管架
US9359135B2 (en) Storage shelf
US20040231146A1 (en) Intermediate product manufacturing apparatus, and intermediate product manufacturing method
JPWO2018211898A1 (ja) 保管システム
US7182201B2 (en) Wafer carrying apparatus and wafer carrying method
JP6540221B2 (ja) パージ装置及びパージストッカ
JP7231106B2 (ja) 保管棚
KR101893818B1 (ko) 이송 장치
WO2022158174A1 (ja) パージ装置及び搬送システム
JP4481741B2 (ja) 搬送台車
KR20110029705A (ko) 기판 이송장치
TWI850598B (zh) 保管架
JP7529039B2 (ja) 保管棚
KR20230060625A (ko) 웨이퍼 보관 장치
KR102434385B1 (ko) 수납 선반
KR20200036963A (ko) 반송 장치
JP2021088996A (ja) 防振装置
JP2004331319A (ja) 浮上搬送装置
TW202410275A (zh) 塗佈裝置
KR200392654Y1 (ko) 패널 진공 흡착장치
JP4396418B2 (ja) 充填装置
CN116868325A (zh) 清洗装置
JP2006179688A (ja) 枚葉搬送用トレイおよびトレイ搬送システム
KR20220040554A (ko) 물품 반송 시스템

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant