CN110783381B - 显示面板及其制作方法和显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明实施例公开了显示面板及其制作方法和显示装置，显示面板至少包括第一显示区，第一显示区包括：第一基底；位于第一基底一侧的第一电极，以及位于第一电极远离第一基底一侧的第一像素限定层，第一像素限定层包括第一像素开口，第一像素开口内包括第一发光层；位于第一发光层远离第一基底一侧的第二电极；第一显示区还包括第一隔离柱和第二隔离柱，第一隔离柱用于隔断相邻第二电极，第二隔离柱的高度大于第一隔离柱的高度，使得掩模版不会与隔断第二电极的第一隔离柱接触，进而防止第一隔离柱坍塌变形，保证第一隔离柱对第二电极的良好隔断作用，进而保证显示面板的良好显示效果。

Description

显示面板及其制作方法和显示装置

技术领域

本发明实施例涉及显示技术领域，尤其涉及显示面板及其制作方法和显示装置。

背景技术

随着显示终端的快速发展，用户对屏幕占比的要求越来越高，使得显示终端的全面屏显示受到业界越来越多的关注。现有技术中的全面屏多为开槽或开孔的方式，如苹果的刘海屏等，均是在摄像头、传感器等元件对应的显示屏区域开槽或开孔。在实现拍照功能时，外部光线通过显示屏上的槽或孔射入显示屏下方的摄像头，从而实现拍照。但是，不论是刘海屏还是打孔屏，均不是真正的全面屏，因此，业界急需研发出真正的全面屏。

发明内容

基于此，有必要针对上述问题，有必要提供一种基于全面屏的显示面板及其制作方法和显示装置。

第一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，至少包括第一显示区，第一显示区具有第一子像素，第一显示区包括：

第一基底，第一基底为透光基底；位于第一基底一侧的第一电极，以及位于第一电极远离第一基底一侧的第一像素限定层，第一像素限定层包括第一像素开口，第一像素开口内包括第一发光层；位于第一发光层远离第一基底一侧的第二电极；第一子像素包括第一电极、第一发光层和第二电极；

第一显示区还包括第一隔离柱和第二隔离柱，第一隔离柱和第二隔离柱设置于第一像素限定层远离第一基底的一侧，第一隔离柱用于隔断相邻第二电极、或第一隔离柱和第二隔离柱共同用于隔断相邻第二电极，第二隔离柱的高度大于第一隔离柱的高度。

可选的，第一隔离柱的厚度大于或等于1.2微米且小于或等于1.5微米；第二隔离柱的厚度大于或等于1.6微米且小于或等于1.8微米。

可选的，第一隔离柱包括支撑部和隔断部，支撑部位于隔断部与第一像素限定层之间，且在第一隔离柱靠近相邻第一像素开口边缘的至少一侧，隔断部凸出支撑部；

优选地，第一隔离柱呈倒梯形或T字形。

可选的，第一子像素为被动驱动方式发光；各第一电极沿第一方向延伸，各第二电极沿第二方向延伸，第一方向与第二方向相交；第一隔离柱沿第二方向延伸，且第一隔离柱设置于相邻两第二电极之间。

可选的，第二隔离柱设置于部分相邻两第一子像素之间；

可选的，第二隔离柱呈正梯形、T字形、倒梯形或矩形；

可选的，第二隔离柱呈块状。

可选的，显示面板还包括第二显示区，第二显示区具有第二子像素，第二显示区包括：

第二基底，位于第二基底一侧的第三电极，以及位于第三电极远离第二基底一侧的第二像素限定层，第二像素限定层包括第二像素开口，所书第二像素开口内包括第二发光层，第二发光层远离第二基底的一侧包括第四电极；第二子像素包括第三电极、第四电极以及第三电极和第四电极之间的第二发光层；

优选地，第二子像素为主动驱动方式发光；

优选地，第三电极为块状结构，第四电极为面电极；

优选地，第二显示区完全或部分围绕第一显示区；

优选地，第二基底和第一基底相拼接，或者第二基底和第一基底为一体结构；

优选地，第一显示区和第二显示区的部分膜层位于同一层，其中，第一显示区和第二显示区的部分膜层位于同一层满足以下至少一种情况：第一电极和第三电极位于同一层，第一像素限定层和第二像素限定层位于同一层，第一发光层和第二发光层位于同一层，第二电极和第四电极位于同一层；

优选地，第一显示区为透明显示区；

优选地，透明显示区的透光率大于70％；

优选地，第一电极为透明电极，透明电极的材料包括铟锡氧化物、铟锌氧化物、掺杂银的铟锡氧化物及掺杂银的铟锌氧化物中的至少一种；

优选地，显示面板还包括至少位于第二显示区的偏光片，偏光片位于第二电极远离第二基底的一侧。

第二方面，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括：

设备本体，具有器件区；

以及第一方面提供的显示面板，显示面板覆盖在设备本体上；

其中，器件区位于显示面板的第一显示区下方，且器件区中设置有透过第一显示区发射或者采集光线的感光器件。

第三方面，本发明实施例还提供了一种显示面板的制作方法，包括：

提供第一基底，第一基底为透光基底；

在透光基底一侧依次形成第一电极和第一像素限定层，第一像素限定层包括第一像素开口；

在第一像素限定层远离透光基底的一侧形成隔离柱材料层；

图形化隔离柱材料层，形成第一隔离柱和第二隔离柱，其中，第二隔离柱的高度大于第一隔离柱的高度；

在第一像素开口内形成第一发光层；

蒸镀导电材料层，导电材料层由第一隔离柱隔断形成第二电极。

可选的，图形化隔离柱材料层，形成第一隔离柱和第二隔离柱，包括：

采用透光程度不同的掩膜版对隔离柱材料层进行一次光刻，形成第一隔离柱和第二隔离柱；

或者分别采用不同掩模板对隔离柱材料层进行两次光刻，分别形成第一隔离柱和第二隔离柱。

可选的，在第一像素限定层远离透光基底的一侧形成隔离柱材料层之前，还包括：

整面沉积一层牺牲层；

图形化牺牲层，保留第一隔离柱周围的牺牲层，并在在对应第一隔离柱的牺牲层位置处上形成第一凹槽；

优选地，第一像素限定层远离透光基底的一侧形成隔离柱材料层，包括：

整面形成隔离柱材料层，其中，隔离材料层完全填充第一凹槽；

优选地，在图形化隔离柱材料层，形成第一隔离柱和第二隔离柱之后，还包括：

去除剩余牺牲层；

优选地，去除剩余牺牲层，包括：

采用湿法刻蚀去除牺牲层；

优选地，牺牲层的材料为氧化铟锡(ITO)或铟镓锌氧化物(IGZO)，湿法刻蚀的刻蚀液包括草酸；

优选地，牺牲层的材料为钼或钛，湿法刻蚀的刻蚀液包括硝酸、醋酸和磷酸的混合液。

本发明实施例提供了显示面板及其制作方法和显示装置，通过设置第一显示区包括第一隔离柱和第二隔离柱，第一隔离柱和第二隔离柱设置于第一像素限定层远离第一基底的一侧，第一隔离柱用于隔断相邻第二电极、或第一隔离柱和第二隔离柱共同用于隔断相邻第二电极，第二隔离柱的高度大于第二隔离柱的高度，使得第二隔离柱对掩模版形成支撑，进而使得掩模版不会与隔断第二电极的第一隔离柱接触，进而防止第一隔离柱坍塌变形，保证第一隔离柱对第二电极的良好隔断作用，进而保证显示面板的良好显示效果。

附图说明

图1是本发明实施例提供的一种显示面板的俯视图；

图2是沿图1中剖面线A-A’剖切得到的剖视图；

图3是图2的局部放大图；

图4是本发明实施例提供的另一种显示面板的剖视图；

图5是本发明实施例提供另一种显示面板的剖视图；

图6是本发明实施例提供的另一种显示面板的俯视图；

图7是本发明实施例提供的另一种显示面板的俯视图；

图8是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；

图9是本发明实施例提供的另一种显示面板的剖视图；

图10是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图；

图11是本发明实施例提供的一种显示面板的制作方法的流程图；

图12是本发明实施例提供的制作显示面板时的一种中间结构图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。

正如背景技术中所述，现有技术中不论是刘海屏还是打孔屏，均无法实现真正的全面屏。经发明人研究发现，若要实现全面屏，需要将显示面板直接覆盖在摄像头等感光器件上，这就要求位于摄像头等感光器件上方的显示面板具有高透光率，故透明显示面板是实现全面屏的一种方式。透明显示面板通常包括多个发光器件，且发光器件包括阳极、阴极以及阳极和阴极之间的发光层，为避免阴极之间连通防止发生短路，需要在显示面板中设置隔断结构将阴极进行隔断。但是在形成发光层时，该隔断结构可能会与形成发光层时用到的掩模版产生接触和摩擦，使得隔断结构坍塌，造成隔断结构无法有效隔断阴极，影响显示效果。

基于上述原因，本发明实施例提供一种显示面板，图1是本发明实施例提供的一种显示面板的俯视图，图2是沿图1中剖面线A-A’剖切得到的剖视图，图3是图2的局部放大图，参考图1、图2和图3，该显示面板至少包括第一显示区1a，第一显示区1a具有第一子像素170,第一显示区1a包括：

第一基底110，第一基底110为透光基底；位于第一基底110一侧的第一电极120，以及位于第一电极120远离第一基底110一侧的第一像素限定层130，第一像素限定层130包括第一像素开口131，第一像素开口131内包括第一发光层140；位于第一发光层140远离第一基底110一侧的第二电极150；第一子像素170包括第一电极120、第一发光层140和第二电极150；

第一显示区1a还包括第一隔离柱161和第二隔离柱162，第一隔离柱161和第二隔离柱162设置于第一像素限定层130远离第一基底110的一侧，第一隔离柱161用于隔断相邻的第二电极150、或第一隔离柱161和第二隔离柱162共同用于隔断相邻的第二电极，第二隔离柱162的高度a2大于第一隔离柱161的高度a2。

具体的，第一基底110可以为显示装置提供缓冲、保护或支撑等作用。第一基底110可以是柔性基底，柔性基底的材料可以是聚酰亚胺(PI)材料。第一基底110也可以为硬质基底，硬质基底的材料可以是玻璃等透光材料。

其中，第一电极120可以为阳极与阴极二者中的一个，第二电极150为另一个。第一电极120和第二电极150的材料可采用透光材料，例如铟锡氧化物(ITO)、铟锌氧化物(ITO)、掺杂银的铟锡氧化物及掺杂银的铟锌氧化物中的至少一种。第一发光层140可以为有机发光层，其中，有机发光层可以只包括单层结构，例如只包括发光材料层；有机发光层还可以包括多层结构，例如第一电极120为阳极，第二电极150为阴极时，有机发光层可以包括自第一电极120至第二电极150依次设置的空穴注入层、空穴传输层、发光材料层、电子注入层、电子传输层等功能膜层。参考图2，第一发光层140可以包括红色发光层141、绿色发光层142和蓝色发光层143，且红色发光层141、绿色发光层142和蓝色发光层143交替分布。其它可选方案中，第一发光层140还可以红色发光层、绿色发光层、蓝色发光层和黄色发光层，且红色发光层、绿色发光层、蓝色发光层和黄色发光层交替分布；另外，第一发光层140也可只包括单色的发光层，本发明实施例在此不做具体限定。

参考图2，第一子像素170包括第一电极120、第二电极150以及第一电极120和第二电极150之间的第一发光层140，第一子像素170的第一电极120和第二电极150之间施加驱动电压时，第一子像素170发光，第一显示区1a执行显示功能；各第一子像素170的第一电极120与第二电极150之间未施加驱动电压时，第一显示区1a执行透光功能，用于位于其下方的感光器件的感光，进而可实现全面屏显示。

第一子像素170的发光可以为主动驱动方式(AM)或被动驱动方式(PM)。当为主动驱动方式时，第一子像素170的第一电极120与第二电极150可以均为电极块，或其中一个为电极块，另一个为整面的面电极。当为被动驱动方式时，第一电极120与第二电极150可以均为电极条，第一子像素170阵列排布，第一电极120和第二电极150分别沿第一子像素170列方向y和第一子像素170行方向x延伸，第一子像素170位于第一电极120和第二电极150的交叉点。

图1和图2所示显示面板为被动驱动方式发光。图1和图2中，位于一列(列所在方向为图1中y方向)的各个第一子像素170的第一电极120可以连接在一起，位于一行(行所在方向为图1中x方向)的各个第一子像素170的第二电极150可以连接在一起。参考图2，显示面板中还包括第一隔离柱161，第一隔离柱161设置于像素限定层远离第一基底110的一侧，用来隔断相邻的第二电极150，进而使得相邻的第二电极150之间无法导通，防止第二电极150联结发生短路。

参考图2和图3，本实施例提供的显示面板，还包括第二隔离柱162，且第二隔离柱162的高度a2大于第一隔离柱161的高度a1，具体的，第一隔离柱161的高度a1是指显示面板厚度方向上，即图2中z方向上，第一隔离柱161的尺寸；第二隔离柱162的高度a2是指显示面板厚度方向上，即图2中z方向上，第二隔离柱162的尺寸。形成第一发光层140时，例如第一发光层140为有机发光层，可采用蒸镀方式形成第一发光层140，蒸镀过程中需要使用掩模版，掩模版上包括掩模图案，该掩模图案可以是与第一像素开口131形状相适应的开口，且掩模板上的开口可略大于第一像素开口131，进而使得蒸镀第一发光层时，第一发光层140形成在第一像素开口131内。并且可选的，第一发光层131包括多种颜色的发光层时，不同颜色的发光层可分别进行蒸镀。第二隔离柱的162的高度大于第一隔离柱161的高度a1，可以使得第二隔离柱162对掩模版形成支撑，进而使得掩模版不会与隔断第二电极150的第一隔离柱161接触，进而防止第一隔离柱161坍塌变形，保证第一隔离柱161对第二电极150的良好隔断作用，进而避免第二电极160相互连接造成短路引起的显示面板工作异常，保证显示面板的良好显示效果。

此外，第二隔离柱162也可以和第一隔离柱161共同用来隔断相邻的第二电极150，进而使得相邻的第二电极150之间无法导通，防止第二电极150联结发生短路。第二隔离柱162既可以起到支撑掩模版，进而使得掩模版不会与隔断第二电极150的第一隔离柱161接触，进而防止第一隔离柱161坍塌变形，同时进一步隔断相邻的第二电极150，进而使得相邻的第二电极150之间无法导通，防止第二电极150联结发生短路。

本发明实施例提供的显示面板，通过设置第一显示区包括第一隔离柱和第二隔离柱，第一隔离柱和第二隔离柱设置于第一像素限定层远离第一基底的一侧，第一隔离柱用于隔断相邻第二电极，第二隔离柱的高度大于第二隔离柱的高度，使得第二隔离柱对掩模版形成支撑，进而使得掩模版不会与隔断第二电极的第一隔离柱接触，进而防止第一隔离柱坍塌变形，保证第一隔离柱对第二电极的良好隔断作用，进而保证显示面板的良好显示效果。

在上述技术方案的基础上，可选的，第一隔离柱161的厚度(高度a1)大于或等于1.2微米且小于或等于1.5微米；第二隔离柱162的厚度(高度a2)大于或等于1.6微米且小于或等于1.8微米。

具体的，第二电极的厚度通常在110埃至180埃，设置第一隔离柱151的高度a1大于或等于1.2微米且小于1.5微米，可以使得第一隔离柱161的高度厚度远大于第二电极150的厚度，进而使得形成第二电极150时，第二电极150不会将第一隔离柱161完全覆盖，保证第一隔离柱161可以将第二电极150隔断。第二隔离柱162的高度a2大于1.6微米且小于1.8微米，可以使得第二隔离柱162的高度a2大于第一隔离柱161的高度a1，同时，第二隔离柱162的高度a2不会高出第一隔离柱的高度太多，进而在保证第二隔离柱162可以支撑掩模版，使掩模版不与第一隔离柱161接触的基础上，实现显示面板的薄型化。

图4是本发明实施例提供的另一种显示面板的剖视图，图5是本发明实施例提供另一种显示面板的剖视图。参考图4和图5，在上述技术方案的基础上，可选的，第一隔离柱161包括支撑部1611和隔断部1612，支撑部1611位于隔断部1612与第一像素限定层130之间，且在第一隔离柱161靠近相邻第一像素开口131边缘的至少一侧，隔断部1612凸出支撑部1611；

优选地，第一隔离柱161呈倒梯形或T字形。

具体的，第一子像素170阵列排布，相应的，第一像素开口131阵列排布，因此，对于每个第一隔离柱161来说，两侧均包括相邻的一行第一像素开口131，第一隔离柱161靠近相邻第一像素开口131的边缘的至少一侧，隔断部1612凸出支撑部1611，可以使得形成第二电极150时，隔断部1612凸出支撑部1611的对应位置处，第二电极150可以断开，进而保证各个第二电极150不会相互连接，避免短路的发生。参见图4，第一隔离柱161靠近右侧相邻第一像素开口131的边缘，隔断部1612凸出支撑部1611，在隔断部1612凸出支撑部1611的位置处，第二电极150可以与其右侧相邻的第二电极150断开，保证对第二电极150良好的隔断效果。

其中，第一隔离柱161呈倒梯形的显示面板可以参见图2和图3。第一隔离柱161呈T字形的显示面板参见图5，第一隔离柱161呈倒梯形或T字形时，第一隔离柱161靠近左右两侧相邻的第一像素开口131的边缘，隔断部1612都凸出于支撑部1611，因此，在隔断部1612凸出支撑部1611的位置处，第二电极150可以与其左右两侧的第二电极150断开，进一步加强对第二电极150的隔断效果。

图6是本发明实施例提供的另一种显示面板的俯视图，参考图6，可选的，第一子像素170为被动驱动方式发光；各第一电极120沿第一方向y延伸，各第二电极150沿第二方向x延伸，第一方向y与第二方向x相交；第一隔离柱161沿第二方向x延伸，且第一隔离柱161设置于相邻两第二电极150之间。

参考图6，其中，第一方向y可以是第一子像素170排布的列方向，第二方向x可以是第一子像素170排布的行方向，第一方向y与第二方向x相交，第一子像素170形成在第一电极120和第二电极150的交叉点。第二电极150沿第二方向x延伸，因此在同一行的第一子像素170的第二电极150相互连接在一起，形成第二电极条，第一隔离柱161的延伸方向与第二电极150的延伸方向相同，并设置于相邻两第二电极150之间，因此可以将相邻的第二电极150有效隔断，避免第二电极150相互连接造成的短路，保证显示面板良好的显示效果，以及保证显示面板的可靠性。

需要说明的是，图1和图6中仅以显示面板中第一电极120和第二电极150为条形进行了示意，其中，第一电极120和第二电极150的边缘还可以是波浪形，进而减弱水平方向上的衍射效应。还需说明的是，对于第二隔离柱，图6中并未进行示出。

图7是本发明实施例提供的另一种显示面板的俯视图，其中，图7所示俯视图可对应显示面板中的部分区域，在上述技术方案的基础上，可选的，第二隔离柱162设置于部分相邻两第一子像素170之间，且第二隔离柱162呈正梯形、T字形、倒梯形或矩形。优选地，第二隔离柱162呈块状；以简化结构。

图2-图5所示出的显示面板结构可对应第二隔离柱162呈矩形时显示面板的结构，其中，第二隔离柱162呈正梯形、倒梯形或矩形，具体指沿垂直于第二电极150的延伸方向剖切显示面板得到的剖面结构中，第二隔离柱162的剖面呈正梯形、倒梯形或矩形。因第二隔离柱162的主要作用是支撑掩模版，而非对第二电极150的隔断，正梯形和矩形是图案化膜层结构中较为简单的形状，制作相对容易，因此，设置第二隔离柱162呈正梯形或矩形，可以使得制备第二隔离柱162的工艺相对简化。设置第二隔离柱162呈倒梯形或是T字形，可以使得第二隔离柱162也可以起到对第二电极150的隔断作用，进而更加可以避免第二电极150之间相互连接造成的短路，保证显示面板的显示效果。并且，第二隔离柱162可以仅设置于部分相邻的第一子像素170之间，相对于第一隔离柱161，第二隔离柱162的数量可以较少，进而可以使得形成第二隔离柱162对应的光罩结构较为简单，降低制备成本；并且，可以使得在形成第一发光层140时，与掩模板接触的第二隔离柱162数量较少，进而使得引入的微尘颗粒较少。

图8是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图，图9是本发明实施例提供的另一种显示面板的剖视图，参考图8，该显示面板还包括第二显示区1b，其中，图9可对应图8所示显示面板中部分第二显示区1b的剖视图，参考图8和图9，该显示面板1还包括第二显示区1b，第二显示区1b具有第二子像素270，第二显示区1b包括：

第二基底210，位于第二基底210一侧的第三电极220，以及位于第三电极220远离第二基底210一侧的第二像素限定层230，第二像素限定层230包括第二像素开口231，所书第二像素开口231内包括第二发光层240，第二发光层240远离第二基底210的一侧包括第四电极250；第二子像素270包括第三电极220、第四电极250以及第三电极220和第四电极250之间的第二发光层240，优选地，第二子像素270为主动驱动方式发光，第三电极220为块状结构；

优选地，第四电极250为面电极；

优选地，第二显示区1b完全或部分围绕第一显示区1a；

优选地，第二基底210和第一基底相拼接，或者第二基底210和第一基底为一体结构；

优选地，第一显示区1a和第二显示区1b的部分膜层位于同一层，其中，第一显示区1a和第二显示区1b的部分膜层位于同一层满足以下至少一种情况：第一电极和第三电极220位于同一层，第一像素限定层和第二像素限定层230位于同一层，第一发光层和第二发光层240位于同一层，第二电极和第四电极250位于同一层；

优选地，显示面板还包括位于第二显示区1b的偏光片290，偏光片290位于第二电极远离第二基底210的一侧。

其中，第二基底210可以是柔性基底，也可以是硬质基底，并且可以透光基底，也可为非透光基底。并且可选的，第二基底210和第二基底210可为一体结构，也可以是不同的基底结构，在形成整个显示面板结构时，再进行拼接。第三电极220可以是阳极和阴极二者中的一个，第四电极250为二者中的另一个。并且，可选的，第三电极220与第一显示区1a的第一电极同为阳极或阴极，第四电极250和第一显示区1a的第二电极同为阴极或阳极。可选的，第三电极220为阳极，第四电极250为阴极，第二发光层240为有机发光层。参考图9，第二发光层240可以包括红色发光层241、绿色发光层242和蓝色发光层243，且红色发光层241、绿色发光层242和蓝色发光层243交替分布。其它可选方案中，第二发光层240还可以红色发光层、绿色发光层、蓝色发光层和黄色发光层，且红色发光层、绿色发光层、蓝色发光层和黄色发光层交替分布；另外，第二发光层240也可只包括单色的发光层，本发明实施例在此不做具体限定。

第三电极220、第四电极250以及第三电极220和第四电极250之间的第二发光层240组成第二子像素270，第二子像素270可以为AM驱动，也可以为PM驱动。当为AM驱动时，第三电极220为块状电极。当为PM驱动时，第三电极220为条状电极，沿行(或列)方向延伸，对应地，第四电极250也为条状电极，沿列(或行)方向延伸，其中，行方向可以是第二子像素270排布的行方向，列方向可以是第二子像素270排布的列方向，第三电极220和第四电极250交叉点形成第二子像素270。

当为AM驱动时，第四电极250可以为面电极，以简化第四电极250的图案结构，提高透光率。

一个可选方案中，如图8所示，第一显示区1a具有隔离带1c，隔离带1c的纵剖面可以呈倒梯形或者T字形，隔离带1c为一体成型结构，用于蒸镀导电材料层时，自动隔断第二电极与第四电极250。上述方案可以简化蒸镀第二电极与第四电极250的掩模板的开口图案。具体地，隔离带1c可以与第一显示区1a中的第一隔离柱161和第二隔离柱162同时制作，也可以分别制作。

并且，可选的，第二显示区1b可以完全围绕第一显示区1a，或者部分围绕第一显示区1a，在第二显示区1b完全围绕第一显示区1a时，隔离带1c为闭合环；在第二显示区1b部分围绕第一显示区1a，隔离带1c为非闭合环，图12所示显示面板示意性的示出了第二显示区1b部分围绕第一显示区1a的情况。

第一显示区1a和第二显示区1b的部分膜层位于同一层，且第一显示区1a和第二显示区1b的部分膜层位于同一层满足以下至少一种情况：第一电极和第三电极220位于同一层，第一像素限定层和第二像素限定层230位于同一层，第一发光层和第二发光层240位于同一层，第二电极和第四电极250位于同一层。将第一显示区1a和第二显示区1b的部分膜层设置于同一层，在制作显示面板时，第一显示区1a和第二显示区1b中位于同一层的膜层可以同时制作，形成一体结构的显示面板，进而简化工艺步骤，降低制备成本。并且，第一显示区1a和第二显示区1b同时制作时，在制作显示面板的阵列基板时，阵列基板中的平坦化层和无机层等可以同时制作，以使得第一显示区1a和第二显示区1b的整体膜层高度相匹配。第一显示区1a和第二显示区1b的各个膜层也可分开制作，使得第一显示区1a和第二显示区1b可以制作成更加灵活的形状，然后将第一显示区1a和第二显示区1b拼接在一起，例如第一显示区1a可以是图12所示的矩形，还可以是水滴形，圆形，梯形，条形，或者与显示面板显示时状态栏的形状大小相切合，本发明在此不做具体限定。本实施例提供的显示面板，可实现全面屏显示。

可选的，第一显示区1a还可以包括第二电极远离基底一侧的依次设置的封装层、偏光片和盖板，第二显示区1b和第四电极250远离基底一侧的依次设置的封装层280(图9示例性示出了封装层包括一层有机层281和一层无机层282的情况)、偏光片290和盖板。其中，偏光片290可以去除第一显示区1a对应的区域，仅在第二显示区1b设置。

本发明实施例还提供了一种显示装置，该显示装置可为手机、电脑、智能手表、智能手环等设备。图10是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图，参考图10，该显示装置10包括：

设备本体20，具有器件区21；

及本发明任意实施例提供的显示面板1，显示面板1覆盖在设备本体20上；

其中，器件区21位于显示面板1的第一显示区1a下方，且器件区21中设置有透过第一显示区1a发射或者采集光线的感光器件211。

可选的，感光器件211包括：摄像头和/或光线感应器；光线感应器包括：虹膜识别传感器以及指纹识别传感器中的一种或组合。

本发明实施例还提供了一种显示面板的制作方法，图11是本发明实施例提供的一种显示面板的制作方法的流程图，参考图11，该显示面板的制作方法包括：

步骤310、提供第一基底，第一基底为透光基底；

步骤320、在透光基底一侧依次形成第一电极和第一像素限定层，第一像素限定层包括第一像素开口；

步骤330、在第一像素限定层远离透光基底的一侧形成隔离柱材料层；

步骤340、图形化隔离柱材料层，形成第一隔离柱和第二隔离柱，其中，第二隔离柱的高度大于第一隔离柱的高度；

步骤350、在第一像素开口内形成第一发光层；

步骤360、蒸镀导电材料层，导电材料层由第一隔离柱隔断形成第二电极。

其中，隔离柱材料层可以采用无机透明材质或有机透明材质。当隔离柱材料层的材料为无机透明材质时，可以为二氧化硅、氮化硅等。各第一隔离柱和第二隔离柱可以通过光刻、干法刻蚀或湿法腐蚀形成。当隔离柱材料层的材料为有机透明材质时，优选为有机透明胶。有机透明胶由固化液态有机材料得来，而液态有机材料的流动性强、填充效果好，因而有机透明胶的填充效果也好。其中，形成隔离材料层的材料优选为光敏胶，光敏胶可以是正性胶或负性胶，隔离柱材料层的材料为光敏胶时，可通过光刻形成各第一隔离柱和第二隔离柱。

本发明实施例提供的显示面板的制作方法，通过在第一像素限定层上形成第一隔离柱和第二隔离柱后，在第一像素开口内依次形成第一发光层以及第二电极，其中第二隔离柱大于第一隔离柱，使得在形成第一发光层时，第二隔离柱对掩模版形成支撑，进而使得掩模版不会与隔断第二电极的第一隔离柱接触，进而防止第一隔离柱坍塌变形，保证第一隔离柱对第二电极的良好隔断作用，进而保证显示面板的良好显示效果。

在上述技术方案的基础上，可选的，图形化隔离柱材料层，形成第一隔离柱和第二隔离柱，包括：

采用透光程度不同的掩膜版对隔离柱材料层进行一次光刻，形成第一隔离柱和第二隔离柱；

或者分别采用不同掩模板对隔离柱材料层进行两次光刻，分别形成第一隔离柱和第二隔离柱。

可选的，采用黄光工艺形成第一隔离柱和第二隔离柱。并且可选的，第一隔离柱和第二隔离柱的材料为光敏胶，在形成整层的隔离柱材料层后，采用黄光工艺可以通过曝光和显影两个步骤。因第二隔离柱的高度大于第一隔离柱的高度，因此，在曝光时，可采用透光程度不同的掩模版，具体是对应于第二隔离柱处掩模版的透光程度小于对应于第一隔离柱处掩模版的透光程度，进行使得曝光显影后，第二隔离柱的高度大于第一隔离柱的高度。采用透光程度不同的掩模版进行曝光，可以使得在一次光刻中形成第一隔离柱和第二隔离柱，进而简化工艺步骤。

另外，第一隔离柱和第二隔离柱也可分两次光刻工艺进行制作，两次光刻工艺可采用不同的光罩(即掩模版)，分别形成第一隔离柱和形成第二隔离柱时，进而使得第一隔离柱和第二隔离柱的形状更好控制，进而保证第一隔离柱对第二电极的隔断作用，以及第二隔离柱的支撑作用，或同时起到对第二电极的隔断作用。并且，采用两次光刻工艺分别形成第一隔离柱和第二隔离柱，可以使得每次使用的光罩结构较为简单，进而降低光罩的成本。

在上述技术方案的基础上，可选的，在第一像素限定层远离透光基底的一侧形成隔离柱材料层之前，还包括：

整面沉积一层牺牲层；

图形化牺牲层，保留对应第一隔离柱周围的牺牲层，并在在对应第一隔离柱的牺牲层位置处上形成第一凹槽；

优选地，第一像素限定层远离透光基底的一侧形成隔离柱材料层，包括：

整面形成隔离柱材料层，其中，隔离柱材料层完全填充第一凹槽；

优选地，在图形化隔离柱材料层，形成第一隔离柱和第二隔离柱之后，还包括：

去除剩余牺牲层；

优选地，去除剩余牺牲层，包括：

采用湿法刻蚀去除牺牲层；

优选地，牺牲层的材料为氧化铟锡或铟镓锌氧化物，湿法刻蚀的刻蚀液包括草酸；

优选地，牺牲层的材料为钼或钛，湿法刻蚀的刻蚀液包括硝酸、醋酸和磷酸的混合液。

图12是本发明实施例提供的制作显示面板时的一种中间结构图。图12可对应牺牲层163形成第一凹槽164后的结构图。牺牲层163的材料可以为ITO和/或IGZO、金属钼或钛。对于无机的ITO和/或IGZO、金属钼或钛，采用物理气相沉积或化学气相沉积法形成。需要说明的是，牺牲层163的材料与第一隔离柱和第二隔离柱的材料不同。

当牺牲层163的材料为ITO和/或IGZO时，采用草酸去除。需要说明的是，虽然第一电极120的材料也为ITO，但第一电极120的ITO经高温退火处理。草酸仅可以腐蚀未经高温退火处理的ITO，无法腐蚀经高温退火处理的ITO，因而，去除牺牲层163时，不影响第一电极120的性能。

当牺牲层163的材料为金属钼或钛时，采用硝酸、醋酸、磷酸的混合液去除。

采用湿法刻蚀图案化牺牲层163，且去除剩余牺牲层163，可有效防止过刻。

本实施例提供的显示面板的制作方法，通过对所述牺牲层进行图形化，以使牺牲层形成第一凹槽；整面形成隔离柱材料层，其中，隔离材料层完全填充第一凹槽，第一凹槽内的隔离材料层形成第一隔离柱，进而避免后续显示面板制作过程中第一隔离柱发生形变，进而保证隔离柱对第二电极良好的隔断作用。

注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (22)

1.一种显示面板，其特征在于，至少包括第一显示区，所述第一显示区具有第一子像素，所述第一显示区包括：

第一基底，所述第一基底为透光基底；位于所述第一基底一侧的第一电极，以及位于所述第一电极远离所述第一基底一侧的第一像素限定层，所述第一像素限定层包括第一像素开口，所述第一像素开口内包括第一发光层；位于所述第一发光层远离所述第一基底一侧的第二电极；所述第一子像素包括所述第一电极、所述第一发光层和所述第二电极；

所述第一显示区还包括第一隔离柱和第二隔离柱，所述第一隔离柱和所述第二隔离柱设置于所述第一像素限定层远离所述第一基底的一侧，所述第一隔离柱用于隔断相邻所述第二电极、或所述第一隔离柱和所述第二隔离柱共同用于隔断相邻所述第二电极，所述第二隔离柱的高度大于所述第一隔离柱的高度；所述第二电极部分位于所述第一隔离柱和所述第二隔离柱远离所述第一基底的表面；所述第一隔离柱呈倒梯形或T字形，所述第二隔离柱呈倒梯形、T字形、矩形或正梯形；

所述第一隔离柱的厚度大于或等于1.2微米且小于或等于1.5微米；所述第二隔离柱的厚度大于或等于1.6微米且小于或等于1.8微米；

所述显示面板还包括第二显示区，所述第二显示区具有第二子像素，所述第二显示区包括：第二基底，位于所述第二基底一侧的第三电极，以及位于所述第三电极远离所述第二基底一侧的第二像素限定层，所述第二像素限定层包括第二像素开口，所述第二像素开口内包括第二发光层，所述第二发光层远离所述第二基底的一侧包括第四电极；所述第二子像素包括所述第三电极、所述第四电极以及所述第三电极和所述第四电极之间的第二发光层；所述第二显示区完全或部分围绕所述第一显示区；

所述第一显示区具有隔离带，所述隔离带的纵剖面呈倒梯形或者T字形；所述隔离带为一体成型结构，用于蒸镀导电材料层时，自动隔断所述第二电极与所述第四电极；在第二显示区完全围绕第一显示区时，隔离带为闭合环；在第二显示区部分围绕第一显示区，隔离带为非闭合环。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一隔离柱包括支撑部和隔断部，所述支撑部位于所述隔断部与所述第一像素限定层之间，且在所述第一隔离柱靠近相邻第一像素开口边缘的至少一侧，所述隔断部凸出所述支撑部。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一子像素为被动驱动方式发光；各所述第一电极沿第一方向延伸，各所述第二电极沿第二方向延伸，所述第一方向与所述第二方向相交；所述第一隔离柱沿所述第二方向延伸，且所述第一隔离柱设置于相邻两所述第二电极之间。

4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二隔离柱设置于部分相邻两所述第一子像素之间。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二隔离柱呈块状。

6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二子像素为主动驱动方式发光。

7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第三电极为块状结构，所述第四电极为面电极。

8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二基底和所述第一基底相拼接，或者所述第二基底和所述第一基底为一体结构。

9.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一显示区和所述第二显示区的部分膜层位于同一层，其中，所述第一显示区和所述第二显示区的部分膜层位于同一层满足以下至少一种情况：所述第一电极和所述第三电极位于同一层，所述第一像素限定层和所述第二像素限定层位于同一层，所述第一发光层和所述第二发光层位于同一层，所述第二电极和所述第四电极位于同一层。

10.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一显示区为透明显示区。

11.根据权利要求10所述的显示面板，其特征在于，所述透明显示区的透光率大于70％。

12.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一电极为透明电极，所述透明电极的材料包括铟锡氧化物、铟锌氧化物、掺杂银的铟锡氧化物及掺杂银的铟锌氧化物中的至少一种。

13.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括至少位于所述第二显示区的偏光片，所述偏光片位于所述第二电极远离所述第二基底的一侧。

14.一种显示装置，其特征在于，包括：

设备本体，具有器件区；

以及权利要求1-13任一项所述的显示面板，所述显示面板覆盖在所述设备本体上；

其中，所述器件区位于所述显示面板的第一显示区下方，且所述器件区中设置有透过所述第一显示区发射或者采集光线的感光器件。

15.一种显示面板的制作方法，其特征在于，所述制作方法用于制作权利要求1-13任一项所述的显示面板，所述制作方法包括：

提供第一基底，所述第一基底为透光基底；

在所述透光基底一侧依次形成第一电极和第一像素限定层，所述第一像素限定层包括第一像素开口；

在所述第一像素限定层远离所述透光基底的一侧形成隔离柱材料层；

图形化所述隔离柱材料层，形成第一隔离柱和第二隔离柱，其中，所述第二隔离柱的高度大于第一隔离柱的高度；所述第一隔离柱的厚度大于或等于1.2微米且小于或等于1.5微米；所述第二隔离柱的厚度大于或等于1.6微米且小于或等于1.8微米；

在所述第一像素开口内形成第一发光层；

蒸镀导电材料层，所述导电材料层由所述第一隔离柱隔断形成第二电极；所述第一隔离柱用于隔断相邻所述第二电极、或所述第一隔离柱和所述第二隔离柱共同用于隔断相邻所述第二电极。

16.根据权利要求15所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述图形化所述隔离柱材料层，形成第一隔离柱和第二隔离柱，包括：

采用透光程度不同的掩膜版对所述隔离柱材料层进行一次光刻，形成所述第一隔离柱和所述第二隔离柱；

或者分别采用不同掩模板对所述隔离柱材料层进行两次光刻，分别形成所述第一隔离柱和所述第二隔离柱。

17.根据权利要求15所述的显示面板的制作方法，其特征在于，在所述第一像素限定层远离所述透光基底的一侧形成隔离柱材料层之前，还包括：

整面沉积一层牺牲层；

图形化所述牺牲层，保留所述第一隔离柱周围的牺牲层，并在对应所述第一隔离柱的牺牲层位置处上形成第一凹槽。

18.根据权利要求17所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述第一像素限定层远离所述透光基底的一侧形成隔离柱材料层，包括：

整面形成所述隔离柱材料层，其中，所述隔离柱材料层完全填充所述第一凹槽。

19.根据权利要求17所述的显示面板的制作方法，其特征在于，在图形化所述隔离柱材料层，形成第一隔离柱和第二隔离柱之后，还包括：

去除剩余所述牺牲层。

20.根据权利要求19所述的显示面板的制作方法，其特征在于，去除剩余所述牺牲层，包括：

采用湿法刻蚀去除所述牺牲层。

21.根据权利要求20所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述牺牲层的材料为氧化铟锡或铟镓锌氧化物，湿法刻蚀的刻蚀液包括草酸。

22.根据权利要求20所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述牺牲层的材料为钼或钛，湿法刻蚀的刻蚀液包括硝酸、醋酸和磷酸的混合液。

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