KR101888378B1 - 액정표시장치 및 이의 제조 방법 - Google Patents

액정표시장치 및 이의 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR101888378B1
KR101888378B1 KR1020110113576A KR20110113576A KR101888378B1 KR 101888378 B1 KR101888378 B1 KR 101888378B1 KR 1020110113576 A KR1020110113576 A KR 1020110113576A KR 20110113576 A KR20110113576 A KR 20110113576A KR 101888378 B1 KR101888378 B1 KR 101888378B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
pattern
base substrate
color filter
spacer
substrate
Prior art date
Application number
KR1020110113576A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20130048626A (ko
Inventor
이준동
Original Assignee
엘지디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지디스플레이 주식회사 filed Critical 엘지디스플레이 주식회사
Priority to KR1020110113576A priority Critical patent/KR101888378B1/ko
Publication of KR20130048626A publication Critical patent/KR20130048626A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101888378B1 publication Critical patent/KR101888378B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G02F1/13392—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers dispersed on the cell substrate, e.g. spherical particles, microfibres
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136231—Active matrix addressed cells for reducing the number of lithographic steps

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로, 눌림 스페이서의 움직임을 제어하여, 눌림 스페이서의 움직임으로 인한 빛샘 불량 및 투과율의 저하를 동시에 방지할 수 있는 액정표시장치 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.

Description

액정표시장치 및 이의 제조 방법{Liquid crystal display device and method of fabricating the same}
본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로, 눌림 스페이서를 구비한 액정표시장치 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.
일반적으로 액정표시장치는 저소비 전력으로 구동될 뿐만 아니라 박형화의 가능으로 최근 디스플레이 산업분야에서 널리 이용되고 있다.
이와 같은 액정표시장치는 이격되어 서로 마주하며 합착된 제 1 및 제 2 기판과 제 1 및 제 2 기판 사이에 개재되어 광학적 이방성과 복굴절 특성을 이용하여 화상을 표시하는 액정을 포함할 수 있다.
여기서, 제 1 기판은 신호배선, 신호배선과 연결된 박막트랜지스터 및 박막트랜지스터와 연결된 화소전극을 포함할 수 있다. 또한, 제 2 기판은 컬러필터 패턴과 블랙 매트릭스 패턴을 포함할 수 있다. 이때, 화소전극과 전계를 형성하는 공통전극은 액정표시장치의 구동 모드에 따라 제 1 기판이나 제 2 기판에 배치될 수 있다.
이때, 제 1 및 제 2 기판 사이에 갭 스페이서가 구비되어, 제 1 및 제 2 기판 사이의 간격, 즉 상기 액정층의 셀 갭을 일정하게 유지시킬 수 있다.
한편, 액정표시장치는 외부로부터 눌림과 같은 외력이 가해질 경우 빛샘 불량으로 인한 얼룩불량이 발생하는 문제점이 있었다. 이를 해결하기 위해, 액정표시장치는 제 1 및 제 2 기판 사이에 눌림 스페이서를 구비하여, 눌림에 의한 얼룩불량을 방지하고자 하였다. 또한, 눌림 스페이서는 터치불량 및 중력불량의 발생을 방지하여, 액정적하마진을 확보하는 역할을 하였다.
이때, 눌림 스페이서는 외력에 의해 움직이게 되어 배향막을 손상시킬 수 있다. 이와 같은 배향막의 손상은 또 다른 빛샘 불량을 초래할 수 있어, 제 1 스페이서의 움직임을 고려하여 일정한 마진을 주고, 마진 영역에 블랙 매트릭스를 형성하였다. 하지만, 이와 같은 블랙 매트릭스의 형성 영역이 증가함에 따라, 개구율의 저하, 즉 투과율이 저하되는 문제점이 있었다.
따라서, 종래 액정표시장치는 얼룩 불량, 터치불량 및 중력불량을 방지하기 위해 눌림 스페이서를 구비하였지만, 눌림 스페이서로 인한 또 다른 문제점, 즉 눌림 스페이서의 움직임으로 인한 빛샘 불량 또는 블랙 매트릭스의 형성 영역 증가로 인한 투과율이 저하되는 문제점이 있었다.
이에 따라, 액정표시장치는 눌림 스페이서로 인한 빛샘 불량 및 투과율의 저하를 동시에 개선할 수 있는 새로운 대안이 요구되고 있다.
따라서, 본 발명은 액정표시장치 및 이의 제조 방법에서 발생될 수 있는 문제점을 해결하기 위하여 창안된 것으로서, 구체적으로 눌림 스페이서의 움직임을 제어하여, 눌림 스페이서의 움직임으로 인한 빛샘 불량 및 투과율의 저하를 동시에 방지할 수 있는 액정표시장치 및 이의 제조 방법을 제공함에 그 목적이 있다.
본 발명에 따른 해결 수단의 액정표시장치를 제공한다. 상기 액정표시장치는 제 1 베이스 기판, 상기 제 1 베이스 기판상에 배치된 박막트랜지스터, 상기 박막트랜지스터를 포함한 상기 제 1 베이스 기판 상에 배치되며 상기 박막트랜지스터의 일부를 노출하는 콘택홀을 갖는 절연층, 및 상기 콘택홀을 통해 상기 박막트랜지스터와 전기적으로 연결된 화소전극을 포함한 제 1 기판; 상기 제 1 베이스 기판과 마주하는 제 2 베이스 기판, 상기 제 1 기판의 상기 콘택홀에 삽입되는 제 1 스페이서, 상기 블랙매트릭스 패턴과 대응되어 배치되고 상기 제 1 기판과 접촉하여 상기 제 1 및 제 2 기판간의 셀갭을 유지하는 제 2 스페이서를 포함하는 제 2 기판; 및 서로 마주하며 합착된 상기 제 1 및 제 2 기판 사이에 개재된 액정층을 포함할 수 있다. 이때, 상기 제 1 및 제 2 스페이서는 동일한 높이를 가지나, 상기 제 1 스페이서 하부의 상기 제 2 기판상에 더미 패턴이 더 배치되어 상기 제 1 스페이서가 상기 콘택홀에 삽입되어 움직임이 방지할 수 있다.
본 발명에 따른 다른 해결 수단의 액정표시장치의 제조 방법을 제공한다. 상기 제조 방법은 제 1 및 제 2 베이스 기판을 각각 제공하는 단계; 상기 제 1 베이스 기판 상에 박막트랜지스터, 상기 박막트랜지스터를 포함한 상기 제 1 베이스 기판 상에 배치되며 상기 박막트랜지스터의 일부를 노출하는 콘택홀을 갖는 절연층, 및 상기 콘택홀을 통해 상기 박막트랜지스터와 전기적으로 연결된 화소전극을 형성하고, 상기 제 2 베이스 기판상에 더미 패턴을 형성하는 단계; 상기 제 2 베이스 기판 상에 제 1 및 제 2 스페이서를 형성하는 단계; 상기 제 1 및 제 2 기판을 합착하며, 상기 제 1 및 제 2 기판 사이에 액정층을 형성하는 단계를 포함하며,
상기 제 1 및 제 2 기판의 합착 단계에서 상기 제 1 스페이서는 상기 더미 패턴 위에 배치됨에 따라 상기 콘택홀에 삽입되어 움직임이 방지되며 상기 제 2 스페이서는 상기 제 1 기판에 접촉할 수 있다.
삭제
본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치는 절연층을 사이에 두고 배치된 두 전극을 서로 전기적으로 연결시키기 위해 형성된 콘택홀에 눌림 스페이서를 삽입함에 따라, 별도의 기술 구성의 추가 없이 눌림 스페이서의 움직임을 제어할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치는 눌림 스페이서의 움직임 제어를 통해 빛샘 불량 및 투과율의 저하를 동시에 방지할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치는 눌림 스페이서와 대응된 영역에 눌림 스페이서의 높이를 보조하기 위한 더미 패턴을 구비함에 따라, 눌림 스페이서와 갭 스페이서를 동일한 두께로 형성할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치는 눌림 스페이서 하부에 배치된 더미 패턴을 컬러필터 패턴의 형성시에 형성함에 따라, 별도의 마스크 공정 또는 고가의 하프톤 마스크 공정을 필요치 않아, 공정 비용 및 공정시간을 줄일 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치는 눌림 스페이서와 갭 스페이서를 동일한 마스크 공정을 통해 동일한 두께로 형성함에 따라, 스페이서들의 두께 편차 문제를 해결하며, 액정의 적하 마진 설계가 용이해질 수 있다.
도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 액정표시장치를 개략적으로 도시한 평면도이다.
도 2는 도 1의 I-I' 및 Ⅱ-Ⅱ'와 대응된 액정표시장치의 단면도이다.
도 3 내지 도 8은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 액정표시장치의 제조 방법을 설명하기 위해 도시한 단면도들이다.
본 발명의 실시예들은 액정표시장치의 도면을 참고하여 상세하게 설명한다. 다음에 소개되는 실시예들은 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 예로서 제공되어지는 것이다.
따라서, 본 발명은 이하 설명되어지는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 그리고, 도면들에 있어서, 장치의 크기 및 두께 등은 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.
도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 액정표시장치를 개략적으로 도시한 평면도이다.
도 2는 도 1의 I-I' 및 Ⅱ-Ⅱ'와 대응된 액정표시장치의 단면도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 액정표시장치는 제 1 및 제 2 기판(S1, S2) 및 제 1 및 제 2 기판(S1, S2)사이에 개재된 액정층(300)을 포함할 수 있다.
제 1 기판(S1)은 제 1 베이스 기판(100), 다수의 배선들, 박막트랜지스터(120), 제 1 절연층(130), 화소전극(170), 제 2 절연층(160) 및 공통전극(150)을 포함할 수 있다.
제 1 베이스 기판(100)은 광을 투과할 수 있는 투명한 재질, 예를 들면 유리 또는 플라스틱으로 이루어질 수 있다. 그러나, 본 발명의 실시예에서 제 1 베이스 기판(100)의 재질을 한정하는 것은 아니다. 또한, 제 1 베이스 기판(100)은 다수의 화소영역들을 포함할 수 있다.
다수의 배선들은 제 1 베이스 기판(100)상에 서로 교차하여 배치되어 다수의 화소영역들을 정의하는 게이트 배선(101)과 데이터 배선(102)을 포함할 수 있다. 이때, 게이트 배선(101)과 데이터 배선(102) 사이에 게이트 절연막(120)이 개재되어, 게이트 배선(101)과 데이터 배선(102)은 서로 절연되어 있을 수 있다.
박막트랜지스터(120)는 각 화소영역, 즉 게이트 배선(101)과 데이터 배선(102)의 교차영역에 배치되어 있을 수 있다. 박막트랜지스터(120)는 제 1 베이스 기판(100)상에 배치된 게이트 전극(121), 게이트 전극(121)을 포함한 게이트 절연막(110), 게이트 전극(121)과 대응된 게이트 절연막(110)상에 배치된 반도체 패턴(122), 반도체 패턴(122)의 채널 영역을 사이에 두고 반도체 패턴(122)상에 이격되어 배치된 소스 및 드레인 전극(123, 124)을 포함할 수 있다. 여기서, 반도체 패턴(122)은 비정질 실리콘으로 형성된 활성 패턴과 활성 패턴상에 배치되며 불순물이 주입된 비정질 실리콘으로 형성된 오믹콘택 패턴을 포함할 수 있다.
제 1 절연층(130)은 박막트랜지스터(120)를 포함한 제 1 베이스 기판(100) 상에 배치될 수 있다.
제 1 절연층(130)은 무기막(130a) 및 유기막(130b)의 적층 구조로 형성될 수 있다. 여기서, 무기막(130a)의 예로서는 산화실리콘막 및 질화실리콘막 중 어느 하나를 포함할 수 있다. 또한, 유기막(130b)은 무기막(130a)보다 낮은 유전율을 갖는 유기 절연물질로 형성될 수 있다. 예를 들면, 유기 절연물질은 포토 아크릴계 수지 및 벤조사이클로 부텐(BCB) 수지 등일 수 있다. 여기서, 저유전율을 갖는 유기 절연물질로 형성된 유기막(130b)을 구비함에 따라, 전극들과 배선들의 사이 또는 배선들의 사이에서 발생할 수 있는 커플링을 최소화할 수 있으므로, 전극과 배선 또는 배선들이 서로 중첩되도록 형성할 수 있다. 이에 따라, 액정표시장치의 비투과 영역을 줄일 수 있어, 결국 액정표시장치의 개구율을 향상시킬 수 있다. 또한, 유기막(130b)은 박막트랜지스터(120) 및 배선들에 의해 형성된 단차를 줄이는 역할을 할 수 있다.
본 발명의 실시예에서, 제 1 절연층(130)은 무기막(130a)과 유기막(130b)의 적층구조로 설명하였으나 이에 한정되는 것은 아니며, 유기막의 단일층구조로 형성할 수도 있다.
공통전극(150)은 박막트랜지스터(120)과 대응된 영역의 제 1 절연층(130)을 노출하는 개구(151)를 가지며 영상을 표시하는 표시영역 전체를 덮도록 배치될 수 있다. 여기서, 공통전극(150)은 광을 투과할 수 있는 투명도전 재질, 예컨대 ITO 또는 IZO로 형성될 수 있다.
제 2 절연층(160)은 공통전극(150)을 포함한 제 1 절연층(130) 상에 배치되어, 공통전극(150)과 후술될 화소전극(170)을 서로 절연시키는 역할을 할 수 있다. 여기서, 제 2 절연층(160)의 예로서는 산화실리콘막 또는 질화실리콘막일 수 있다.
제 1 및 제 2 절연층(130, 160)은 박막트랜지스터(120)의 드레인 전극(124)의 일부를 노출하는 콘택홀(180)을 구비할 수 있다.
화소전극(170)은 제 2 절연층(160)상의 각 화소영역에 배치될 수 있다. 여기서, 화소전극은 콘택홀(180)을 통해 박막트랜지스터와 전기적으로 연결되어 있을 수 있다. 이때, 화소전극은 일정 간격을 가지며 이격된 바 형태의 다수의 개구부(171)를 가질 수 있다. 여기서, 화소전극(170)과 공통전극(150)은 제 2 절연층을 사이에 두고 중첩되어, 액정의 구동을 위한 프린지 필드를 형성할 수 있다.
본 발명의 실시예에서는 액정의 구동을 위한 프린지 필드를 형성하여 액정표시장치의 광투과율을 증대시키는 프린지 필드형 액정표시장치를 예를 들어 설명하였지만, 이에 한정되는 것은 아니며, 액정표시장치는 다양한 액정 구동 모드, 예컨대 IPS 모드, VA 모드 및 TN 모드일 수 있다. 이때, 당업자에 의해 액정 구동 모드에 따라 공통전극 및 화소전극의 형태는 다양하게 변경될 수 있다. 특히, 액정표시장치가 TN 모드일 경우, 화소전극은 제 1 기판상에 포함되고, 공통전극은 제 2 기판에 포함될 수 있다.
한편, 제 2 기판(S2)은 제 2 베이스 기판(200), 블랙매트릭스 패턴(210), 컬러필터 패턴(220), 제 1 스페이서(250) 및 제 2 스페이서(260)를 포함할 수 있다.
제 2 베이스 기판(200)은 제 1 베이스 기판(100)과 마주하도록 배치될 수 있다. 제 2 베이스 기판(200)은 광을 투과할 수 있는 재질, 예컨대 유리 또는 플라스틱으로 이루어질 수 있다.
블랙매트릭스 패턴(210)은 화소영역의 주변영역과 대응된 제 2 베이스 기판(200)상에 배치되어, 광의 누설을 방지하고 인접한 화소들간의 혼색을 방지하는 역할을 할 수 있다.
컬러필터 패턴(220)은 화소영역과 대응된 제 2 베이스 기판(200)상에 배치될 수 있다. 컬러필터 패턴(220)은 백라이트에서 제공된 광 중 특정한 파장의 광만을 투과시켜, 일정한 색을 표시한다. 컬러필터 패턴(220)은 서로 다른 색상을 나타내는 제 1 컬러필터 패턴(220R), 제 2 컬러필터 패턴(220G), 제 3 컬러필터 패턴(220B)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 1, 제 2 및 제 3 컬러필터 패턴(220R, 220G, 220B)은 각각 적색, 녹색 및 청색을 표시할 수 있다.
이때, 화소영역의 주변에서 블랙매트릭스 패턴(210)과 컬러필터 패턴(220)의 일부 중첩되어 형성될 수 있다.
컬러필터 패턴(220)과 블랙매트릭스 패턴(210) 상에 액정의 초기 배향을 위한 배향막(240)이 배치될 수 있다.
제 1 및 제 2 스페이서(250, 260)는 비표시 영역, 즉 블랙매트릭스 패턴(210)과 대응된 배향막(240) 상에 배치될 수 있다. 예를 들어, 제 1 및 제 2 스페이서(250, 260)는 제 1 기판(S1)의 박막트랜지스터, 게이트 배선 및 데이터 배선 등에 대응된 제 2 베이스 기판(200)의 배향막(240)상에 배치될 수 있다. 또한, 제 1 및 제 2 스페이서(250, 260)는 서로 같은 화소 또는 다른 화소에 배치될 수 있다.
여기서, 제 1 스페이서(250)는 제 1 기판(S1)과 일정 간격을 가지며 이격되어 배치되어, 눌림에 의한 빛샘 불량, 터치 불량 및 중력불량을 방지할 수 있다. 또한, 제 2 스페이서(260)는 제 1 기판(S1)과 접촉하도록 배치되어 제 1 및 제 2 기판(S1, S2) 간의 갭을 유지하는 역할을 할 수 있다.
제 1 스페이서(250)는 제 1 기판(S1)의 콘택홀(180)과 대응된 영역에 배치될 수 있다. 여기서, 제 1 스페이서(250)는 제 1 기판(S1)의 콘택홀(180) 내부에 삽입되도록 형성될 수 있다. 이때, 제 1 스페이서(250)는 콘택홀(180)의 바닥면과 일정 간격을 가지며 이격되어 배치될 수 있다. 이에 따라, 제 1 스페이서(250)와 제 1 기판(S1)은 일정 간격으로 이격되며, 제 1 기판(S1)의 콘택홀(180)에 삽입될 수 있다. 또한, 제 1 스페이서(250)는 콘택홀(180) 내부에 삽입되어 있어, 제 1 스페이서(250)의 움직임이 제어될 수 있다. 이에 따라, 종래 제 1 스페이서(250)의 움직임으로 인하여 배향막(240)을 손상시키는 것을 방지할 수 있어, 배향막(240)의 손상으로 인한 빛샘 불량을 방지할 수 있다. 또한, 제 1 스페이서(250)의 움직임으로 인한 빛샘 불량을 방지할 수 있어, 종래와 같이 제 1 스페이서(250)로 인한 빛샘을 방지하기 위한 마진 영역을 둘 필요가 없어진다. 이때, 마진 영역은 블랙 매트릭스가 형성되는 영역으로, 마진 영역의 감소는 개구율의 증대와 함께 투과율을 증대시킬 수 있다. 즉, 제 1 스페이서(250)를 콘택홀(180) 내부에 삽입함에 따라, 액정표시장치의 빛샘 불량과 투과율을 동시에 개선할 수 있다.
제 1 스페이서(250)는 블랙매트릭스 패턴(210)과 컬러필터 패턴(220)의 중첩 영역에 배치시킬 수 있다. 또한, 제 1 스페이서(250) 하부에 더미 패턴(230)이 더 배치될 수 있다. 여기서, 더미 패턴(230)에 의해 제 1 스페이서(250)의 높이가 증대될 수 있다. 즉, 더미 패턴(230)에 의해, 제 1 스페이서(250)와 제 2 스페이서(260)는 동일한 두께를 가지지만, 제 2 베이스 기판(200)을 기준으로 제 1 스페이서(250)는 제 2 스페이서(260)보다 큰 높이를 가질 수 있다. 이때, 제 1 및 제 2 기판(S1, S2)의 합착시에 제 2 스페이서(260)는 제 1 기판(S1)과 접촉하며, 제 1 스페이서(250)는 콘택홀(180) 내부에 삽입될 수 있다.
이에 따라, 제 1 및 제 2 스페이서(250, 260)는 동일한 두께로 형성되므로, 서로 다른 두께를 갖는 종래의 스페이서들에 비해 제조공정에서 발생할 수 있는 스페이서들의 두께 편차 문제 및 액정 적하 마진을 용이하게 설계할 수 있다. 또한, 제 1 및 제 2 스페이서(250, 260)는 동일한 높이로 형성되므로, 제 1 스페이서(250)와 제 2 스페이서(260)는 고가의 하프톤 마스크를 사용하지 않고 하나의 일반 마스크 공정을 통해 제조될 수 있어, 공정 시간과 생산 비용을 줄일 수 있다.
여기서, 더미 패턴(230)은 추가공정 없이 제조되기 위해 컬러필터 패턴(220)의 재질로 형성될 수 있다. 즉, 더미 패턴(230)은 컬러필터 패턴(220)을 형성하는 공정에서 형성될 수 있다. 이때, 더미 패턴(230)과 더미 패턴(230)의 하부에 배치된 컬러필터 패턴(220)은 서로 다른 색상을 나타내는 컬러필터 재질로 형성될 수 있다. 이는 후술 될 액정표시장치의 제조 공정에서 상세하게 설명될 것이다.
따라서, 본 발명의 실시예에서와 같이, 제 1 스페이서(250)를 콘택홀(180) 내부에 삽입하도록 형성함에 따라 제 1 스페이서(250)의 움직임을 제어할 수 있어, 제 1 스페이서(250)로 인하여 발생할 수 있는 빛샘불량 및 투과율의 저하를 개선할 수 있다.
또한, 제 1 스페이서(250) 하부에 별도의 공정 추가없이 제조될 수 있는 더미 패턴(230)을 구비함에 따라, 제 1 스페이서(250)와 제 2 스페이서(260)를 동일한 두께로 동시에 제조할 수 있어, 스페이서들의 두께 편차 문제를 해결하며 액정 적하 마진을 용이하게 설계 및 제어할 수 있다.
또한, 제 1 스페이서(250)와 제 2 스페이서(260)를 동일한 두께로 형성함에 따라, 종래와 대비하여 고가의 마스크 없이 제조할 수 있어, 공정 비용뿐만 아니라 공정시간을 단축할 수 있다.
도 3 내지 도 8은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 액정표시장치의 제조 방법을 설명하기 위해 도시한 단면도들이다. 여기서, 본 발명의 제 2 실시예는 앞서 설명한 제 1 실시예의 액정표시장치를 제조하는 공정을 설명하기 위한 것으로, 제 1 실시예와 반복된 설명은 생략하기로 하며, 동일한 기술 구성에 대해서는 동일한 참조번호를 부여하기로 한다.
도 3을 참조하면, 액정표시장치를 제조하기 위해 제 1 및 제 2 기판(S1, S2)을 각각 제조한다. 우선, 제 1 기판(S1)의 제조 공정을 먼저 설명하기로 한다.
제 1 기판(S1)을 제조하기 위해, 먼저 제 1 베이스 기판(100)을 제공한다. 제 1 베이스 기판(100)은 광을 투과할 수 있는 재질로써 유리 또는 플라스틱으로 이루어질 수 있다. 또한, 제 1 베이스 기판(100)의 형태는 플레이트 또는 필름의 형태일 수 있다. 그러나, 본 발명의 실시예에서, 제 1 베이스 기판(100)의 형태나 재질을 한정하는 것은 아니다.
제 1 베이스 기판(100)상에 제 1 금속막을 증착한 후, 금속막의 패터닝 공정을 통해 게이트 배선(101) 및 게이트 전극(121)을 형성한다.
게이트 배선(101) 및0 게이트 전극(121)을 형성한 후, 게이트 배선(101) 및 게이트 전극(121)을 포함한 제 1 베이스 기판(100) 상에 게이트 절연막(110)을 형성한다. 여기서, 게이트 절연막(110)은 실리콘 질화막 또는 실리콘 산화막으로 형성될 수 있다. 이때, 게이트 절연막(110)을 형성하는 방법의 예로서는 화학기상증착법을 들 수 있다.
게이트 절연막(110)을 형성한 후, 게이트 전극(121)과 대응된 게이트 절연막(110)상에 배치된 반도체 패턴(122)을 형성한다. 여기서, 반도체 패턴(122)은 게이트 절연막(110)상에 비정질 실리콘층 및 불순물이 도핑된 비정질 실리콘층을 순차적으로 형성한 후, 비정질 실리콘층과 불순물이 도핑된 비정질 실리콘층의 패터닝 공정을 통해 형성될 수 있다.
반도체 패턴(122)을 형성한 후, 반도체 패턴(122) 상에 서로 이격되어 배치된 소스 및 드레인 전극(123, 124)과, 게이트 배선(101)과 교차하는 데이터 배선(102)을 형성한다. 여기서, 소스 및 드레인 전극(123, 124)과 데이터 배선(101)은 제 2 금속막을 증착한 후, 제 2 금속막의 패터닝 공정을 통해 형성할 수 있다.
이에 따라, 제 1 베이스 기판(100) 상에 게이트 배선(101), 데이터 배선(102) 및 박막트랜지스터(120)가 형성될 수 있다. 이후, 박막트랜지스터(120), 게이트 배선(101) 및 데이터 배선(102)을 포함한 게이트 절연막(110) 상에 제 1 절연층(130)을 형성한다.
여기서, 제 1 절연층(130)을 형성하기 위해, 소스 및 드레인 전극(123, 124)과 드레인 전극(124)을 포함한 제 1 베이스 기판(100)상에 무기막(130a)과 유기막(130b)을 순차적으로 형성한다. 여기서, 무기막(130a)은 화학기상증착법을 통해 형성될 수 있다. 유기막(130b)은 일반적인 코팅법, 예컨대 스프레이 코팅법, 다이 코팅법 및 스핀 코팅법 등을 통해 형성될 수 있다. 이때, 유기막(130b)이 감광성 수지로 형성될 경우, 유기막(130b)에 마스크를 이용한 노광 및 현상공정을 수행하여, 박막트랜지스터의 드레인 전극(124)과 대응된 영역의 무기막(130a)을 노출하는 제 1 콘택홀(180a)을 형성한다.
이후, 제 1 절연층(130) 상에 공통전극(150)을 형성한다. 여기서, 공통전극(150)은 투명도전물질을 증착한 후, 증착된 투명도전물질의 패터닝 공정을 통해 형성될 수 있다. 여기서, 투명도전물질의 예로서는 ITO 및 IZO등일 수 있다. 이때, 공통전극(150)은 박막트랜지스터(120)와 대응된 영역의 제 1 절연층(130)을 노출하는 개구(151)를 가지도록 형성될 수 있다. 개구(151)의 형성으로 인해, 공통전극(150)과 화소전극(170)간의 쇼트 불량을 방지할 수 있다.
공통전극(150)을 형성한 후, 공통전극(150)을 포함한 제 1 절연층(130)상에 제 2 절연층(160)을 형성한다. 여기서, 제 2 절연층(160)은 화학기상증착법을 통해 형성될 수 있다. 이후, 제 1 콘택홀(108a)과 대응된 제 1 절연층(130)의 무기막(130a)과 제 2 절연층(160)을 관통하는 제 2 콘택홀(180b)을 형성한다. 이에 따라, 박막트랜지스터(120)의 드레인 전극(124)은 콘택홀(180), 즉 제 1 및 제 2 콘택홀(180a, 180b)을 통해 노출될 수 있다.
여기서, 제 1 절연층(130)의 유기막(130b)에 제 1 콘택홀(180a)을 형성하고, 제 1 절연층(130)의 무기막(130a)과 제 2 절연층(160)에 제 2 콘택홀(180b)을 형성함에 따라 제 1 및 제 2 절연층(130, 160)의 콘택홀(180)이 형성되는 것으로 설명하였으나 이에 한정되는 것은 아니다. 여기서, 제 1 및 제 2 절연층(130, 160)의 콘택홀(180)을 형성하는 다른 예로써, 제 1 절연층(130)과 제 2 절연층(160)의 일괄 식각 공정을 통해 형성될 수도 있다.
이후, 제 2 절연층(160) 상에 콘택홀(180)을 통해 드레인 전극(124)과 전기적으로 연결된 화소전극(170)을 형성할 수 있다. 여기서, 화소전극(170)은 제 2 절연층(160) 상에 투명도전물질을 증착한 후, 증착된 투명도전물질의 패터닝 공정을 통해 형성될 수 있다. 이때, 화소전극(170)은 화소영역별로 패터닝되어 있으며, 화소영역에서 바 형태의 개구부(171)를 다수개 구비되도록 형성될 수 있다.
이로써, 제 1 베이스 기판(100)상에 배선들, 박막트랜지스터(120), 제 1 절연층(130), 공통전극(150), 제 2 절연층(160) 및 화소전극(170)이 형성될 수 있다.
도 4를 참조하면, 한편 제 2 베이스 기판(200)상에 화소영역의 주변을 따라 블랙매트릭스 패턴(210)을 형성한다. 여기서, 블랙매트릭스 패턴(210)이 감광성 수지로 형성될 경우, 제 2 베이스 기판(200)상에 블랙 매트릭스 수지층을 형성한 후, 블랙 매트릭스 수지층 상에 노광 및 현상 공정을 통해 블랙매트릭스 패턴(210)을 형성할 수 있다.
이후, 블랙매트릭스 패턴(210)에 의해 노출된 화소영역에 컬러필터 패턴(220)을 형성한다. 여기서, 제 1 컬러필터 패턴(220R) 및 제 2 컬러필터 패턴(220G)을 순차적으로 형성한다. 여기서, 제 1 컬러필터 패턴(220R)은 제 1 컬러필터 수지층을 형성한 후, 제 1 컬러필터 수지층에 노광 및 현상공정을 수행하여 형성될 수 있다. 또한, 제 2 컬러필터 패턴(220G)은 제 1 컬러필터 패턴(220R)을 포함한 제 2 베이스 기판상에 제 2 컬러필터 수지층을 형성한 후, 제 2 컬러필터 수지층에 노광 및 현상공정을 수행하여 형성될 수 있다. 여기서, 제 1 및 제 2 컬러필터 패턴(220R, 220G)의 일부는 화소영역의 주변에 연장되어 블랙 매트릭스 패턴(210)과 중첩되도록 형성될 수 있다.
도 5를 참조하면, 제 1 및 제 2 컬러필터 패턴(220R, 220G)을 형성한 후, 제 3 컬러필터 패턴(220B)과 더미 패턴(230)을 형성한다. 여기서, 제 3 컬러필터 패턴(220B)과 더미 패턴(230)은 제 1 및 제 2 컬러필터 패턴(220R, 220G)을 포함한 제 2 베이스 기판(200)상에 제 3 컬러필터 수지층을 형성한 후, 제 3 컬러필터 수지층에 노광 및 현상공정을 수행하여 형성될 수 있다. 여기서, 제 3 컬러필터 패턴(220B)과 더미 패턴(230)은 서로 다른 화소영역에 배치될 수 있다. 또한, 더미 패턴(230)은 제 1 및 제 2 컬러필터 패턴(220R, 220G) 중 어느 하나의 컬러필터 패턴상에 배치될 수 있다. 이때, 더미 패턴(230)은 컬러필터 패턴과 블랙매트릭스 패턴의 중첩영역에 배치될 수 있다. 이에 따라, 더미 패턴(230)과 더미 패턴(230)의 하부에 배치된 컬러필터 패턴, 즉 제 1 또는 제 2 컬러필터 패턴(220R, 220G)은 서로 다른 색상을 표시할 수 있다.
도 6을 참조하면, 컬러필터 패턴(220)과 더미 패턴(230)을 포함한 제 2 베이스 기판(200)상에 배향막(240)을 형성한다. 배향막(240)은 배향물질, 예컨대 폴리이미드 물질을 코팅한 후, 배향공정을 통해 형성될 수 있다. 여기서, 배향공정은 러빙공정 및 UV 배향공정 중 어느 하나 또는 두 공정을 모두 포함할 수 있다.
도 7을 참조하면, 배향막(240)을 형성한 후, 블랙매트릭스 패턴(210)과 대응된 배향막(240) 상에 제 1 스페이서(250)와 제 2 스페이서(260)를 형성한다. 예를 들어, 제 1 및 제 2 스페이서(250, 260) 각각은 제 1 기판의 박막트랜지스터, 게이트 배선 및 데이터 배선 중 어느 하나와 대응되도록 형성될 수 있다. 여기서, 제 1 스페이서(250)는 더미 패턴(230)과 대응된 영역의 배향막(240)상에 형성될 수 있다.
제 1 및 제 2 스페이서(250, 260)를 형성하기 위해, 배향막(240) 상에 감광성 수지를 도포하여 감광성 수지층을 형성한 후, 감광성 수지층에 노광 및 현상 공정을 수행하여 제 1 및 제 2 스페이서(250, 260)를 형성한다. 여기서, 감광성 수지의 예로서는 아크릴계 수지 또는 우레탄계 수지 등일 수 있다.
여기서, 제 1 및 제 2 스페이서(250, 260)는 동일한 마스크 공정, 즉 동일한 마스크를 이용한 노광 및 현상 공정을 수행하여 형성될 수 있다. 이에 따라, 제 1 및 제 2 스페이서(250, 260)가 동일한 재질로 이루어지며 동일한 두께로 형성될 수 있다. 이때, 제 1 스페이서(250)는 더미 패턴(230)과 대응된 배향막(240) 상에 형성됨에 따라, 제 1 및 제 2 스페이서(250, 260)는 동일한 두께로 형성되지만 제 2 베이스 기판(200)을 기준으로 제 1 스페이서(250)는 제 2 스페이서(260) 보다 큰 높이를 가질 수 있다.
도 8을 참조하면, 제 1 및 제 2 기판(S1, S2)을 각각 형성한 후, 제 1 및 제 2 기판(S1, S2)을 합착하며 제 1 및 제 2 기판(S1, S2) 사이에 액정층(300)을 형성한다. 여기서, 제 1 및 제 2 스페이서(250, 260)는 동일한 두께를 가지지만, 제 2 베이스 기판(200)을 기준으로 제 1 스페이서(250)는 더미 패턴(230)에 의해 제 2 스페이서(260)보다 높은 높이를 가진다. 이에 따라, 제 1 및 제 2 기판(S1, S2)의 합착 과정에서 제 1 스페이서(250)가 제 1 기판(S1)의 콘택홀(180)에 삽입되며, 제 2 스페이서(260)는 제 1 기판(S1)과 접촉할 수 있다.
액정층(300)의 형성은 제 1 기판(S1)이나 제 2 기판(S2) 상에 액정을 적하한 후, 제 1 및 제 2 기판(S1, S2)을 합착하는 액정적하방식으로 형성될 수 있다. 여기서, 액정층(300)을 형성하는 다른 방법으로, 제 1 및 제 2 기판(S1, S2)은 액정의 주입을 위한 액정 주입부를 제외하고 밀봉한 후, 액정 주입부를 통해 액정을 주입한 후 액정 주입부를 밀봉하는 액정주입방식으로 형성될 수도 있다.
따라서, 본 발명의 실시예에서와 같이, 제 1 스페이서(250)는 제 1 기판(S1)의 콘택홀에 삽입시킴에 따라 제 1 스페이서(250)의 움직임을 제한할 수 있어, 빛샘 불량 및 투과율을 동시에 개선할 수 있다.
또한, 제 1 스페이서(250)의 하부에 형성된 더미 패턴(230)을 컬러필터 패턴(220)을 형성하는 공정을 통해 형성함에 따라, 별도의 추가공정이나 고가의 하프톤 마스크 없이, 동일한 두께를 가지지만 서로 다른 높이를 갖는 제 1 및 제 2 스페이서(250, 260)를 형성할 수 있다.
또한, 제 1 및 제 2 스페이서(250, 260)를 동일한 두께로 형성할 수 있어, 제 1 및 제 2 스페이서(250, 260)는 동일한 마스크 공정으로 동일한 두께로 형성될 수 있어, 스페이서들간의 두께 편차 문제점을 개선할 수 있으며 액정 적하 마진을 용이하게 설계 및 제어할 수 있다.
S1 : 제 1 기판 S2 : 제 2 기판
100 : 제 1 베이스 기판 110 : 게이트 절연막
120 : 박막트랜지스터 130 : 제 1 절연층
150 : 공통전극 160 : 제 2 절연층
170 : 화소전극 180 : 콘택홀
200 : 제 2 베이스 기판 210 : 블랙매트릭스 패턴
220 : 컬러필터 패턴 230 : 더미패턴
240 : 배향막 250 : 제 1 스페이서
260 : 제 2 스페이서

Claims (11)

  1. 제 1 베이스 기판, 상기 제 1 베이스 기판상에 배치된 박막트랜지스터, 상기 박막트랜지스터를 포함한 상기 제 1 베이스 기판 상에 배치되며 상기 박막트랜지스터의 일부를 노출하는 콘택홀을 갖는 절연층, 및 상기 콘택홀을 통해 상기 박막트랜지스터와 전기적으로 연결된 화소전극을 포함한 제 1 기판;
    상기 제 1 베이스 기판과 마주하는 제 2 베이스 기판, 상기 제 1 기판의 상기 콘택홀에 삽입되는 제 1 스페이서, 상기 제 1 기판과 접촉하여 상기 제 1 및 제 2 기판간의 셀갭을 유지하는 제 2 스페이서를 포함하는 제 2 기판; 및
    서로 마주하며 합착된 상기 제 1 및 제 2 기판 사이에 개재된 액정층을 포함하며,
    상기 제 1 및 제 2 스페이서는 동일한 높이를 가지나, 상기 제 1 스페이서 하부의 상기 제 2 기판상에 더미 패턴이 더 배치되어 상기 제 1 스페이서가 상기 콘택홀에 삽입되어 움직임이 방지되는 액정표시장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 더미 패턴은 상기 제 2 베이스 기판과 상기 제 1 스페이서 사이에 배치되어 상기 제 1 스페이서의 높이를 증대시키는 액정표시장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 제 2 베이스 기판상에 배치된 컬러필터 패턴과 블랙매트릭스 패턴을 더 포함하며,
    상기 더미 패턴은 상기 블랙매트릭스 패턴과 중첩되는 상기 컬러필터 패턴상에 배치되는 액정표시장치.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 더미 패턴은 상기 컬러필터 패턴의 재질로 이루어지며, 상기 더미 패턴을 구성하는 컬러필터 패턴과 상기 더미 패턴의 하부에 배치된 컬러필터 패턴은 서로 다른 색상을 나타내는 액정표시장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 스페이서는 동일한 재질로 이루어진 액정표시장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 스페이서와 상기 콘택홀의 하부면은 일정한 갭을 갖는 액정표시장치.
  7. 제 1 및 제 2 베이스 기판을 각각 제공하는 단계;
    상기 제 1 베이스 기판상에 박막트랜지스터, 상기 박막트랜지스터를 포함한 상기 제 1 베이스 기판상에 상기 박막트랜지스터의 일부를 노출하는 콘택홀을 갖는 절연층, 및 상기 콘택홀을 통해 상기 박막트랜지스터와 전기적으로 연결된 화소전극을 형성하는 단계;
    상기 제 2 베이스 기판상에 더미 패턴을 형성하는 단계;
    상기 제 2 베이스 기판상에 동일한 높이를 가진 제 1 및 제 2 스페이서를 형성하는 단계;
    상기 제 1 및 제 2 기판을 합착하며, 상기 제 1 및 제 2 기판 사이에 액정층을 형성하는 단계를 포함하며,
    상기 제 1 및 제 2 기판의 합착 단계에서 상기 제 1 스페이서는 상기 더미 패턴 위에 배치됨에 따라 상기 콘택홀에 삽입되어 움직임이 방지되며 상기 제 2 스페이서는 상기 제 1 기판에 접촉하는 액정표시장치의 제조 방법.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 제 2 베이스 기판상에 상기 제 1 및 제 2 스페이서를 형성하는 단계 이전에
    상기 제 2 베이스 기판상에 블랙매트릭스 패턴을 형성하는 단계;
    상기 블랙매트릭스 패턴과 일부 중첩되며 상기 블랙매트릭스 패턴에 의해 노출된 상기 제 2 베이스 기판상에 컬러필터 패턴을 형성하는 단계; 및
    상기 블랙매트릭스 패턴과 상기 컬러필터 패턴의 중첩 영역에 상기 더미 패턴을 형성하는 단계를 더 포함하는 액정표시장치의 제조 방법.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 더미 패턴은 상기 컬러필터 패턴의 재질로 형성되며, 상기 더미 패턴을 형성하는 컬러필터 패턴과 상기 더미 패턴의 하부에 배치된 컬러필터 패턴은 서로 다른 색상을 나타내는 액정표시장치의 제조 방법.
  10. 제 8 항에 있어서,
    상기 더미 패턴은 상기 컬러필터 패턴 중 상기 더미 패턴의 하부에 배치된 제 1 컬러필터 패턴을 형성한 후, 제 2 컬러필터 패턴을 형성하는 단계에서 형성하는 액정표시장치의 제조 방법.
  11. 제 7 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 스페이서는 동일한 마스크를 이용한 노광 및 현상공정을 통해 형성하는 액정표시장치의 제조 방법.
KR1020110113576A 2011-11-02 2011-11-02 액정표시장치 및 이의 제조 방법 KR101888378B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110113576A KR101888378B1 (ko) 2011-11-02 2011-11-02 액정표시장치 및 이의 제조 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110113576A KR101888378B1 (ko) 2011-11-02 2011-11-02 액정표시장치 및 이의 제조 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20130048626A KR20130048626A (ko) 2013-05-10
KR101888378B1 true KR101888378B1 (ko) 2018-08-16

Family

ID=48659641

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020110113576A KR101888378B1 (ko) 2011-11-02 2011-11-02 액정표시장치 및 이의 제조 방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101888378B1 (ko)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150029177A (ko) 2013-09-09 2015-03-18 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
KR102178954B1 (ko) * 2014-04-21 2020-11-16 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
CN104238199A (zh) * 2014-09-10 2014-12-24 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及其制作方法、显示装置
KR102289985B1 (ko) 2014-12-08 2021-08-17 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
KR102268587B1 (ko) 2015-01-08 2021-06-23 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
JP2018017978A (ja) * 2016-07-29 2018-02-01 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置
CN109920820B (zh) * 2019-02-27 2021-03-23 Tcl华星光电技术有限公司 彩色滤光片的制造方法
CN110187569A (zh) * 2019-05-31 2019-08-30 厦门天马微电子有限公司 一种显示面板及电子设备

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040099748A (ko) * 2003-05-20 2004-12-02 삼성전자주식회사 액정 표시 장치용 기판 및 이의 제조 방법과 이를 이용한액정 표시 장치
KR20060014869A (ko) * 2004-08-12 2006-02-16 삼성전자주식회사 액정 표시 장치
KR20080082086A (ko) * 2007-03-07 2008-09-11 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치와 그 제조방법
KR101579983B1 (ko) * 2009-09-11 2015-12-23 엘지디스플레이 주식회사 액정표시패널 및 그 제조방법

Also Published As

Publication number Publication date
KR20130048626A (ko) 2013-05-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11675235B2 (en) Liquid crystal display device
KR101888378B1 (ko) 액정표시장치 및 이의 제조 방법
KR101335276B1 (ko) 어레이 기판, 이를 갖는 표시패널 및 그 제조 방법
KR101979011B1 (ko) 컬러필터기판 및 이를 포함하는 액정표시장치
US9977280B2 (en) COT type liquid crystal display device
KR101003829B1 (ko) 씨오티 구조 액정표시장치 및 그 제조 방법
US7436472B2 (en) Liquid crystal display device and method with color filters having overcoat layer thereover formed on substrate except for fourth color filter formed on the overcoat layer
US8154703B2 (en) Liquid crystal display panel
KR20160013486A (ko) 표시 장치용 모기판, 표시 장치 및 그의 제조방법
KR20080025544A (ko) 액정표시패널 및 이의 제조 방법
KR20070036867A (ko) 액정표시장치 및 그 제조 방법
US9658502B2 (en) Liquid crystal display device having dual link structure and method of manufacturing the same
KR102260859B1 (ko) Gip 타입 액정표시장치 및 이의 제조방법
JP2013007769A (ja) 液晶表示装置
KR102043862B1 (ko) 액정표시장치 및 그 제조방법
KR20140112289A (ko) 액정 표시 장치 및 그 제조 방법
KR101071135B1 (ko) 액정표시장치 및 그 제조 방법
US20150378224A1 (en) Display panel and method of manufacturing the same
KR20070039675A (ko) 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법
KR20070075159A (ko) 표시장치 및 그 제조방법
KR101302550B1 (ko) 액정표시장치 및 그 제조 방법
KR101919455B1 (ko) 액정표시장치 및 이의 제조 방법
JP5026883B2 (ja) 電気光学装置、及び電子機器
KR20090099354A (ko) 액정표시장치 및 그 제조방법
KR20100048798A (ko) 액정표시장치 및 그 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant