CN209071332U - 显示面板、显示屏和显示终端 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种显示面板，包括基板、第一电极、像素定义层及隔离柱，像素定义层形成有多个像素开口；隔离柱形成于像素定义层上；隔离柱包括多层堆叠设置的隔离柱层；至少两个相邻隔离柱层间形成有台阶；在垂直于隔离柱的延伸方向上，形成台阶且位于上层的隔离柱层的底表面的宽度，大于形成台阶且位于下层的隔离柱层的顶表面的宽度。在形成阴极的过程中，在隔离柱层形成的台阶上难以形成阴极层，从而有效地将阴极层隔断，避免使隔离柱上阴极层与发光层上的阴极层连接为一体，利于实现全面屏正常显示。还提供一种显示屏及显示终端。

Description

显示面板、显示屏和显示终端

技术领域

本实用新型涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示面板、显示屏和显示终端。

背景技术

随着电子设备的快速发展，用户对屏占比的要求越来越高，使得电子设备的全面屏显示受到业界越来越多的关注。传统的电子设备如手机、平板电脑等，由于需要集成诸如前置摄像头、听筒以及红外感应元件等，故而可通过在显示屏上开槽(Notch)，在开槽区域设置摄像头、听筒以及红外感应元件等，但开槽区域并不用来显示画面，如现有技术中的刘海屏，或者采用在屏幕上开孔的方式，对于实现摄像功能的电子设备来说，外界光线可通过屏幕上的开孔处进入位于屏幕下方的感光元件。但是这些电子设备均不是真正意义上的全面屏，并不能在整个屏幕的各个区域均进行显示，如在摄像头区域不能显示画面。

实用新型内容

基于此，有必要针对传统的显示屏并不能从真正意义提高屏占比，实现真正的全面屏显示的问题，提供一种改善上述问题的显示屏及显示终端。

根据本实用新型的一个方面，提供一种显示面板，包括：

基板；

形成于所述基板上的第一电极；

像素定义层，形成于所述第一电极上，所述像素定义层上形成有多个像素开口；及

隔离柱，形成于所述像素定义层上；

其中，所述隔离柱包括多层堆叠设置的隔离柱层；至少两个相邻的所述隔离柱层间形成有台阶；

在垂直于所述隔离柱的延伸方向上，形成所述台阶且位于上层的所述隔离柱层的底表面的宽度，大于形成所述台阶且位于下层的所述隔离柱层的顶表面的宽度；

所述隔离柱的延伸方向平行于所述基板；所述宽度为所述隔离柱在所述基板上形成的正投影，在垂直于所述隔离柱的延伸方向上的尺寸。

上述显示面板，在形成阴极的过程中，在隔离柱层形成的台阶上难以形成阴极层，从而有效地将阴极层隔断，避免使隔离柱上阴极层与发光层上的阴极层连接为一体，进而可对相互隔断的阴极输入不同的电压，以在显示面板对应的位置上可以形成不同的显示亮度，提高了阴极图形化的效果，利于实现全面屏正常显示。

可选地，在垂直于所述隔离柱的延伸方向上，所述隔离柱层的顶表面的宽度，大于或等于所述隔离柱层的底表面的宽度；和/或在垂直于所述隔离柱的延伸方向上，所述隔离柱层的顶表面的宽度，小于所述隔离柱层的底表面的宽度。

如此，可以使隔离柱层使隔离柱层的侧壁至少部分表面面向发光层所在区域倾斜设置。这样，使阴极层不易形成于前述面向发光层所在区域倾斜设置的侧壁上，从而提高了阴极的隔断几率。

可选地，所述隔离柱层在垂直于所述基板且垂直于所述隔离柱延伸方向上的截面形状为倒梯形。如此，通过倒梯形的侧边向内延伸，倒梯形的隔离柱层可以进一步地有效隔断相邻的阴极层。

可选地，形成所述台阶的相邻两所述隔离柱层的材料相同；优选地，所述隔离柱层为负光刻胶层。

可选地，形成所述台阶的相邻两所述隔离柱层的材料相异；优选地，形成所述台阶且位于上层的所述隔离柱层为光敏聚酰亚胺光刻胶层；形成所述台阶且位于下层的所述隔离柱层为氮化硅层。

这样，一方面由于形成台阶的相邻两隔离柱层的材料相异，具有不同的刻蚀速率，可以在一道刻蚀工艺中完成台阶的刻蚀形成。另一方面，可选用无机材料保证隔离柱整体不导电，从而不会给后续在隔离柱上形成的阴极带来电磁影响

可选地，所述隔离柱还包括至少一阻挡层。所述阻挡层位于形成所述台阶且位于下层的所述隔离柱层下层；所述阻挡层与形成所述台阶且与所述阻挡层相接触的所述隔离柱层的刻蚀选择比小于1；优选地，所述阻挡层为硅氧化物层。

如此，阻挡层起到阻挡刻蚀的作用，使隔离柱层之间可快速形成台阶，起到阻断阴极的作用。且由于尖端效应，在位于上层的隔离柱层的下表面形成凹坑，可以进一步防止多个阴极发生相互联结。

可选地，所述阻挡层位于两层所述隔离柱层之间；所述阻挡层与其相邻的两层所述隔离柱层中任一的刻蚀选择比均小于1。如此，由于阻挡层的阻挡，阻挡层两侧的隔离柱层可形成类似倒梯形或正梯形的形状，可进一步地对防止后续形成的多个阴极发生相互联结。

可选地，所述隔离柱还包括在垂直于所述基板的方向贯穿所述隔离柱的至少一间隔槽，以沿所述隔离柱的延伸方向将所述隔离柱分隔为至少两部分。阴极在间隔槽处被间断，可提高阴极的的阻隔几率。

可选地，所述间隔槽具有远离所述基板的第一端及靠近所述基板的第二端；在垂直于所述隔离柱的延伸方向上，所述间隔槽的第一端的宽度，小于所述间隔槽的第二端的宽度；优选地，所述间隔槽的第一端的宽度为0.5～1微米。

如此，由于间隔槽的第一端相较于第二端的宽度小，使得阴极在磁控溅射时，进入间隔槽的几率降低，使此处的阴极层的厚度相较于其他地方的阴极层较薄，从而使阴极层在间隔槽的侧壁粘附的几率减小，从而达到提高阴极隔断几率的功效。

可选地，所述显示面板为PMOLED显示面板、各结构膜层材料的透光率均大于90％；和/或所述显示面板的导电走线的材料为氧化铟锡、氧化铟锌、掺杂银的氧化铟锡或者掺杂银的氧化铟锌。如此，可以提高显示面板的光透过性。

可选地，所述隔离柱包括多个第一类型隔离柱；在所述第一类型隔离柱的延伸方向上，所述第一类型隔离柱的宽度连续变化或间断变化；优选地，多个所述第一类型隔离柱在所述基板上并行排列。

如此，当外部光线经过该第一类型隔离柱时，在不同最大宽度位置处产生的衍射条纹的位置不同，从而使得衍射不太明显，达到改善衍射的效果。

可选地，所述显示面板还包括第二类型隔离柱；所述第二类型隔离柱为条状；所述第一类型隔离柱和所述第二类型隔离柱相间设置。

可选地，所述第一电极呈波浪形延伸；多个所述第一电极沿相同的方向并行延伸，且相邻的第一电极间具有间距；在所述第一电极的延伸方向上，所述第一电极的宽度连续变化或间断变化，且所述间距连续变化或间断变化。

可选地，所述像素开口包括第一类型像素开口；所述第一类型像素开口在所述基板上的投影的各边均为曲线，且各边互不平行。

可选地，所述第一类型像素开口在所述基板上的投影为一个圆形单元或多个彼此连通的圆形单元；

所述圆形单元为圆形或椭圆形。

根据本实用新型的另一方面，提供一种显示屏，具有至少一个显示区；所述至少一个显示区包括第一显示区，所述第一显示区下方可设置感光器件；

其中，在所述第一显示区设置有上述任一实施例中所述的显示面板，所述至少一个显示区中各显示区均用于显示动态或静态画面。

可选地，所述至少一个显示区还包括第二显示区；在所述第一显示区设置的显示面板为PMOLED显示面板，在所述第二显示区设置的显示面板为 AMOLED显示面板或者类AMOLED显示面板。

可选地，所述第一显示区为矩形显示区、圆形显示区、者椭圆形显示区或水滴状显示区。

根据本实用新型的又一方面，提供一种显示终端，包括：

设备本体，具有器件区；

上述任一实施例中所述的显示屏，覆盖在所述设备本体上；

其中，所述器件区位于所述第一显示区下方，且所述器件区中设置有透过所述第一显示区进行光线采集的感光器件。

附图说明

图1为本实用新型一实施例中的隔离柱的截面示意图；

图2为本实用新型另一实施例中的隔离柱的截面示意图；

图3为本实用新型又一实施例中的隔离柱的截面示意图；

图4为本实用新型再一实施例中的隔离柱的截面示意图；

图5为本实用新型一实施例中的第一类型隔离柱的平面示意图；

图6为本实用新型另一实施例中的第一类型隔离柱的平行示意图；

图7为本实用新型一实施例中的第一电极的平面布置示意图；

图8为本实用新型一实施例中的像素定义开口在基板上的投影示意图；

图9为本实用新型一实施例中的显示屏的结构示意图；

图10为本实用新型一实施例中的显示终端的截面示意图；

图11为图10所示的显示终端的设备本体的结构示意图。

具体实施方式

为了便于理解本实用新型，下面将参照相关附图对本实用新型进行更全面的描述。附图中给出了本实用新型的较佳的实施例。但是，本实用新型可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本实用新型的公开内容的理解更加透彻全面。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

在描述位置关系时，除非另有规定，否则当一元件例如层、膜或基板被指为在另一膜层“上”时，其能直接在其他膜层上或亦可存在中间膜层。进一步说，当层被指为在另一层“下”时，其可直接在下方，亦可存在一或多个中间层。亦可以理解的是，当层被指为在两层“之间”时，其可为两层之间的唯一层，或亦可存在一或多个中间层。

在使用本文中描述的“包括”、“具有”、和“包含”的情况下，除非使用了明确的限定用语，例如“仅”、“由……组成”等，否则还可以添加另一部件。除非相反地提及，否则单数形式的术语可以包括复数形式，并不能理解为其数量为一个。

应当理解，尽管本文可以使用术语“第一”、“第二”等来描述各种元件，但是这些元件不应受这些术语的限制。这些术语仅用于将一个元件和另一个元件区分开。例如，在不脱离本实用新型的范围的情况下，第一元件可以被称为第二元件，并且类似地，第二元件可以被称为第一元件。

还应当理解的是，在解释元件时，尽管没有明确描述，但元件解释为包括误差范围，该误差范围应当由本领域技术人员所确定的特定值可接受的偏差范围内。例如，“大约”、“近似”或“基本上”可以意味着一个或多个标准偏差内，在此不作限定。

此外，在说明书中，短语“平面示意图”是指当从上方观察目标部分时的附图，短语“截面示意图”是指从侧面观察通过竖直地切割目标部分截取的剖面时的附图。

此外，附图并不是1：1的比例绘制，并且各元件的相对尺寸在附图中仅以示例地绘制，而不一定按照真实比例绘制。

正如背景技术所述，传统的电子设备如手机、平板电脑等，由于需要集成诸如前置摄像头、听筒以及红外感应元件等，故而可通过在显示屏上开槽 (Notch)，在开槽区域设置摄像头、听筒以及红外感应元件等。但开槽区域并不用来显示画面，如现有技术中的刘海屏，或者采用在屏幕上开孔的方式，对于实现摄像功能的电子设备来说，外界光线可通过屏幕上的开孔处进入位于屏幕下方的感光元件。但是这些电子设备均不是真正意义上的全面屏，并不能在整个屏幕的各个区域均进行显示，如在摄像头区域不能显示画面。

针对上述问题，技术人员研发了一种显示屏，其通过在在开槽区域设置透明显示面板的方式来实现电子设备的全面屏显示。根据驱动方式的不同，OLED 可以分为PMOLED(Passive Matrix OLED，被动式驱动有机发光二极管)和 AMOLED(Active Matrix OLED，主动式驱动有机发光二极管)两种。以PMOLED 为例，PMOLED显示阵列的同一行显示单元的同一性质电极是共用的，并且同一列显示单元同一性质电极也是共用的。具体而言，PMOLED显示面板是以阴极、阳极构成矩阵，以扫描方式点亮阵列中的像素，每个像素都是操作在短脉冲模式下，为瞬间高亮度发光。研究发现，由于PMOLED显示面板无TFT背板和金属走线，使得光线透过率高，而可以被应用于前述的透明显示面板。

通常，PMOLED显示面板需要通过光刻工艺形成位于相邻两行、列之间的隔离柱，以避免相邻的两行、列的阴极之间短路。实用新型人研究发现，溅射形成阴极层的过程中，由金属原子的移动方向不定，使隔离柱的侧壁上也会形成阴极层，而且形成的阴极层与隔离柱的侧壁的粘附性比较好不易脱落，从而使隔离柱上阴极层与发光层上的阴极层连接为一体，进而导致相邻的行、列的阴极发生短路。同时，在蒸镀形成其他结构膜层时，由于考虑到蒸镀的阴影效应，隔离柱的高度需与用于支撑掩膜板的支撑层(SPC)的高度相同(例如，1.6微米)。现有设计中隔离柱通常采用光刻技术形成，而受限于光刻技术的材料及设备，例如现有设计中的倒梯形的隔离柱的侧壁倾斜角度无法做到较小，进一步加大了阴极阻断的难度，不利于实现全面屏正常显示。

为解决上述问题，本实用新型提供了一种显示面板，能够较佳地解决上述问题。

图1示出了本实用新型一实施例中的隔离柱的截面示意图；为便于描述，附图仅示出了与本实用新型实施例相关的结构。

参阅附图，本实用新型一实施提供的显示面板，包括基板12、形成于基板 12上的第一电极、像素定义层及隔离柱14。

第一电极可以是阳极，像素定义层形成于第一电极上，形成多个像素开口。例如，像素定义层可覆盖每个第一电极的边缘的至少一部分，从而将每个第一电极的至少一部分暴露出来。示例地，第一电极可形成在平坦化层上，平坦化层到像素定义层的上表面的高度，大于平坦化层到第一电极的上表面的高度。像素定义层可覆盖每个第一电极的至少一部分的边缘，形成多个像素开口，有机发光单元可填充于该像素定口内。

隔离柱14形成于像素定义层上，用于将相邻的两行或者两列子像素的阴极进行隔离，并对相邻两行或者两列子像素的阴极形状起到限定作用。

本实用新型的实施例中，隔离柱14包括多层堆叠设置的隔离柱层142；至少两个相邻隔离柱层142间形成有台阶144。例如，一些实施方式中，每一隔离柱层142具有底表面及与底表面相对设置的顶表面，位于上层的隔离柱层142 的底表面相对位于下层的隔离柱层142的顶表面凸伸出而可形成台阶144。

需要说明的是，显示面板的制作工艺中，膜层是一层一层逐一交叠形成，则在后形成的膜层被认为是位于在先形成的膜层的“上方/上层”；对应地，在先形成的膜层被认为是位于在后形成的膜层的“下方/下层”。因此，当层被指为在另一层“上方/上层”或“下方/下层”时，是以膜层的交叠时的上下为基准；对应地，前述的位于下层的隔离柱层142的顶表面，即是指位于下层的隔离柱层 142背离基板12一侧的表面。

其中，在垂直于隔离柱14的延伸方向上，形成台阶144且位于上层的隔离柱层142的底表面的宽度，大于形成台阶144且位于下层的隔离柱层142的顶表面的宽度。隔离柱14的延伸方向为平行于基板12的方向，也即为隔离柱14 的纵长方向，其宽度方向则是垂直于纵长方向的方向，所述宽度即是指隔离柱 14在基板12上形成的投影在垂直于延伸方向的尺寸。

容易理解，由于隔离柱14为立体结构，在其垂直于基板12的截面上(也即纵截面)，不同高度位置处可能具有不同的宽度。但是隔离柱层142的顶表面或底表面在基板12上的投影在垂直于延伸方向的尺寸是唯一的。当形成台阶144 且位于上层的隔离柱层142的底表面的宽度，大于形成台阶144且位于下层的隔离柱层142的顶表面的宽度时，可形成开口朝下的台阶144。

这样，在自上而下溅射形成阴极的过程中，在隔离柱层142形成的台阶144 上难以形成阴极层，从而有效地将阴极层隔断，避免使隔离柱上阴极层与发光层上的阴极层连接为一体，进而可对相互隔断的阴极输入不同的电压，以在显示面板对应的位置上可以形成不同的显示亮度，提高了阴极图形化的效果，利于实现全面屏正常显示。

应当理解的是，相邻的隔离柱层142由于彼此接触的表面宽度的不同可形成开口向上或开口向下的台阶144。例如，在一种实施方式中，形成台阶144且位于上层的隔离柱层142的底表面的宽度，小于形成台阶144且位于下层的隔离柱层142的顶表面的宽度，如此可形成开口朝上的台阶144。但在实际制作过程中，阴极材料仍然可以溅射形成于隔离柱14的侧壁上，从而无法起到良好的隔断。解决该问题的一种方式为增大隔离柱层142的侧壁的倾斜角度，但现有的隔离柱14的侧壁倾斜角度无法做到较小。

因此，该种实施方式仍然无法提高阴极的隔断几率，而采用本实用新型中的上“大”下“小”的构思，可较佳的对阴极进行隔断。

可以理解，多个是指等于或大于两个。

本实用新型的一些实施例中，在垂直于隔离柱14的延伸方向上，隔离柱层 142的顶表面的宽度，大于或等于隔离柱层142的底表面的宽度；和/或在垂直于隔离柱14的延伸方向上，隔离柱层142的顶表面的宽度，小于隔离柱层142 的底表面的宽度。

例如，一些实施例中，形成台阶144且位于上层的隔离柱层142的顶表面的宽度大于其底表面的宽度，同时，形成台阶144且位于下层的隔离柱层142 顶表面的宽度大于其底表面的宽度。由于隔离柱层142的顶表面宽度大于底表面的宽度，可以使隔离柱层142自上而下整体上的宽度趋于变小，从而使隔离柱层142的侧壁至少部分表面面向发光层所在区域倾斜设置。这样，使阴极层不易形成于前述面向发光层所在区域倾斜设置的侧壁上，从而提高了阴极的隔断几率。

例如，在另一些实施例中，形成台阶144且位于上层的隔离柱层142的顶表面的宽度可小于其底表面的宽度，同时，形成台阶144且位于下层的隔离柱层142顶表面的宽度小于其底表面的宽度。具体到实施方式中，形成台阶144 的隔离柱层142均为正梯形。这样，在形成阴极的过程中，也可以将阴极有效的隔断。

作为一种较佳的具体到实施方式，形成台阶144的隔离柱层142可以均为倒梯形。通过倒梯形的侧边向内延伸，倒梯形的隔离柱层142可以有效隔断相邻的阴极层。具体制作过程中，可以首先在基板12上涂覆负光刻胶层，然后进行曝光显影，同时保证下层小线宽，从而形成位于下层的呈倒梯形的隔离柱层 142。然后在基板12上整面涂覆同种材料的负光刻胶，并界定出隔离柱14的高度，最后相比第一次曝光增大曝光范围，使发生交联反应的负光刻胶比位于其下层的隔离柱层142“大”。

这样，形成双倒梯形隔离柱14，进一步地提高了阴极隔断的几率，且相比均为正梯形的制作工艺更为简单，成本更低。

可以理解，多层的隔离柱层142的组合方式不限于此，例如，在又一些实施例中，相邻的两个隔离柱层142亦可为正梯形、倒梯形或矩形等形状的各种组合，能实现形成可阻断阴极的台阶144的目的即可。

还可以理解的是，隔离柱层142还包括连接于顶表面和低表面之间的侧表面，在垂直于基板12且垂直于隔离柱14延伸方向，隔离柱层142的侧表面的轮廓线可以为直线，亦可为曲线在此不作限定。例如，隔离柱层142的至少一个侧表面的轮廓线为非直线形，所述非直线形状包括折线段、弧形、半圆形及波浪形中的至少一种，后面将以实施例对隔离柱14的形状不同所具有的有益效果进行更为详细的阐述，故在此不再赘述。

本实用新型的一些实施例中，形成台阶144的相邻两所述隔离柱层142的材料可以相同。在实际制作过程中，采用两道光刻工艺光刻工艺，例如，改变曝光范围即可形成上“大”下“小”的隔离柱层142，形成前述的台阶144，生产工艺简单，生产成本低。具体到一实施例中，由于负性光刻胶易于塑形、也具有良好的绝缘性，上下两层倒梯形隔离柱层142可均采用负光刻胶，在制作完位于下层的隔离柱层142后，增大曝光范围并控制线宽即可形成两层倒梯形。

图2示出了本实用新型另一实施例中的隔离柱的截面示意图；为便于描述，附图仅示出了与本实用新型实施例相关的结构。

当然，在另一些实施例中，形成台阶144的相邻两隔离柱层142的材料可相异。例如，具体到如图2实施方式中，形成台阶144且位于上层的隔离柱层 142为光敏聚酰亚胺光刻胶层；形成台阶144且位于下层的隔离柱层142为氮化硅层。这样，一方面由于形成台阶144的相邻两隔离柱层142的材料相异，具有不同的刻蚀速率，可以在一道刻蚀工艺中完成台阶144的刻蚀形成。另一方面，可保证隔离柱14整体不导电，从而不会给后续在隔离柱14上形成的阴极带来电磁影响。

一些实施例中，所述隔离柱14还包括至少一阻挡层18；阻挡层18位于形成台阶144且位于下层的隔离柱层142下层；阻挡层18与形成台阶144且与阻挡层18相接触的隔离柱层142的刻蚀选择比小于1。

例如，具体到一个实施例中，阻挡层18为硅氧化物层，隔离柱层142为氮化硅层。可以首先在基板12上蒸镀一层硅氧化物层(阻挡层18)，然后对硅氧化物层进行刻蚀，仅留下需要的宽度。接着在基板12上蒸镀一层氮化硅层(隔离柱层142)，并涂覆光刻胶层。刻蚀开始时，当由氮化硅层刻蚀到硅氧化物层时，硅氧化物层相较于与氮化硅层刻蚀速度较慢；由于硅氧化物层的阻挡，氮化硅层靠上的部分(远离硅氧化物层的部分)较其靠下的部分刻蚀较快，从而形成正梯形形状。

这样，氮化硅层与光刻胶层之间形成前述的台阶144，可起到阻断阴极的作用，且由于尖端效应，可以在光刻胶层中形成如图3中所示的凹坑，该凹坑可以进一步防止后续于光刻胶层之上形成的多个阴极发生相互联结。

一些实施例中，阻挡层18位于两层隔离柱层142之间；阻挡层18与其相邻的两层隔离柱层142中任一的刻蚀选择比均小于1。如此，位于下层的隔离柱层142的刻蚀由于受到阻挡层18的阻挡，其靠下的部分(远离阻挡层18的部分)相较于靠上的部分刻蚀块，故可形成上“大”下“小”例如倒梯形状。而位于上层的隔离柱层142靠上的部分(远离阻挡层18的部分)较其靠下的部分刻蚀较快，从而形成上“小”下“大”例如正梯形形状。

这样，可进一步地对防止后续形成的多个阴极发生相互联结。

可以理解，阻挡层18上下两侧的隔离柱层142可以为无机材料层，以保证阴极隔离柱14整体不导电，从而不会给后续再阴极隔离柱14上形成的阴极带来电磁影响。

还可以理解，阻挡层18上下两侧的隔离柱层142可以选用同一种材料，亦可采用不同的材料。作为一种较佳地实施方式，阻挡层18上下两侧的隔离柱层 142选用同一种材料，例如，可以选用氮化硅。这样，一方面可以节省制备成本，另一方面，刻蚀出的隔离柱层142的形状、大小相对对称，避免了形状、大小不对称所产生的其他不良。

图3示出了本实用新型又一实施例中的隔离柱的截面示意图；图4示出了本实用新型再一实施例中的隔离柱的截面示意图；为便于描述，附图仅示出了与本实用新型实施例相关的结构。

参阅附图，本实用新型的一些实施例中，隔离柱24还包括在垂直于基板22 的方向贯穿隔离柱24的至少一间隔槽26，以沿隔离柱24的延伸方向将隔离柱 24分隔为至少两部分。这样，阴极在间隔槽26处被间断，可提高阴极30的的阻隔几率。

进一步地，间隔槽26具有远离基板22的第一端及靠近基板22的第二端；在垂直于隔离柱24的延伸方向上，间隔槽26的第一端的宽度，小于间隔槽26 的第二端的宽度。如此，由于间隔槽26的第一端(上端)相较于第二端(下端) 的宽度小，使得阴极30在磁控溅射时，进入间隔槽26的几率降低，使此处的阴极30层的厚度相较于其他地方的阴极30层较薄，从而使阴极30层在间隔槽 26的侧壁粘附的几率减小，从而达到提高阴极30隔断几率的功效。

作为一种优选地实施方式，间隔槽26的第一端的宽度为0.5～1微米，使得阴极30在磁控溅射时进入间隔槽26的几率到达一个较低的水平，从而进一步地提高了阴极30隔断几率。

本实用新型的一些实施例中，上述显示面板可以为透明或者半透半反式的显示面板。例如，在一实施例中，显示面板为PMOLED(Passive Matrix OLED， PMOLED，无源有机电致发光二极管，也称被动式有机电致发光二极管)显示面板。由于PMOLED显示面板无TFT背板和金属走线，使得光线透过率高，而满足较高的光透过性。

进一步地，显示面板具有较高的光透过性还可以通过采用透光率较好的各层材料来实现。例如，各层均采用透光率大于90％的材料，从而使得整个显示面板的透光率可以在70％以上。进一步的，各结构膜层均采用透光率大于95％的材料，进一步提高显示面板的透光率，甚至使得整个显示面板的透光率在80％以上。

进一步地，还可以将导电走线如第一电极(阳极)和阴极30等设置为ITO、 IZO、Ag+ITO或者Ag+IZO等，绝缘层材料优选SiO2，SiNx以及Al2O3等，像素定义层则采用高透明材料。这样，可进一步地提高显示面板的光透过性。

可以理解，显示面板的透明还可以采用其他技术手段实现，上述显示面板的结构均可以适用。透明或者半透半反式的显示面板处于工作状态时能够正常显示画面，而当显示面板处于其他功能需求状态时，外部光线可以透过该显示面板照射到置于该显示面板之下的感光器件等。

特别指出，本申请的实用新型人发现，将摄像头等感光元件设置在显示面板下方时，拍照得到的图像经常出现很大程度的模糊的问题，如此不利于实现全面屏正常显示。实用新型人研究发现，出现这个问题的一个原因在于，由于电子设备的显示屏体内存在导电走线，外部光线经过这些导电走线时会造成较为复杂的衍射强度分布，从而出现衍射条纹，进而会影响摄像头等感光器件的正常工作。例如，位于透明显示区域之下的摄像头工作时，外部光线经过显示屏内的导线材料走线后会发生较为明显的衍射，从而使得摄像头拍摄到的画面出现失真的问题。

图5示出了本实用新型一实施例中的第一类型隔离柱的平面示意图；图6 示出了本实用新型另一实施例中的第一类型隔离柱的平面示意图；为便于描述，附图仅示出了与本实用新型实施例相关的结构。

参阅附图，本实用新型的一些实施例中，隔离柱包括多个第一类型隔离柱 44；在第一类型隔离柱44的延伸方向上，第一类型隔离柱44的宽度连续变化或间断变化。容易理解，由于第一类型隔离柱44为立体结构，在其垂直于基板的截面上(也即纵截面)，不同高度位置处可能具有不同的宽度。因此，前文中所指的第一类型隔离柱44的宽度对应于在纵截面中的最大宽度。

由于外部光线经过隔离柱时会出现衍射现象。衍射是光波遇到障碍物时偏离原来直线传播的物理现象。具体地，光波在穿过狭缝、小孔或圆盘之类的障碍物后会发生不同程度的弯散传播。当外部光线经过隔离柱时，隔离柱作为障碍物会导致光线经过时产生衍射，其衍射条纹位置由各处的最大宽度决定。因此只需要确保第一类型隔离柱44在其延伸方向具有变化的最大宽度即可。前文中提及的第一类型隔离柱44的宽度连续变化是指在第一类型隔离柱44上，任意两个相邻位置处的宽度不同。宽度的间断变化是指，在第一类型隔离柱44上的部分区域内相邻两个位置的宽度相同，而在部分区域内相邻两个位置的宽度不相同。

这样，在第一类型隔离柱44的延伸方向上，第一类型隔离柱44的宽度连续变化或者间断变化。因此，当外部光线经过该第一类型隔离柱44时，在不同最大宽度位置处产生的衍射条纹的位置不同，从而使得衍射不太明显，达到改善衍射的效果。

在一实施例中，显示面板中的第一类型隔离柱44可以为多个。多个第一类型隔离柱44并行排列在基板上。第一类型隔离柱44的宽度在5微米～100微米以内。第一类型隔离柱44的最小宽度取决于制备工艺。在制备工艺能够实现的前提下，第一类型隔离柱44的宽度可以小于等于5微米，甚至更小。相邻两个第一类型隔离柱44的间距取决于相邻两个子像素区域的阴极30的尺寸设计需求。通过将多个第一类型隔离柱44并行设置在基板上，能够均匀地改善显示面板各处的衍射效果，达到整体改善显示面板的衍射效果的目的。

在一实施例中，第一类型隔离44柱沿自身延伸方向具有周期变化的宽度。也即，第一类型隔离柱的宽度变化并不是毫无规则的变化，而是做规则的周期变化，从而可以降低整个制备工艺的难度。在一实施例中，第一类型隔离柱的一个宽度变化周期与一个子像素区域对应。第一类型隔离柱的顶面上朝向各子像素区域的边缘区域的两个侧边中，至少有一个侧边采用非直线形状。例如，具体到图5及图6的实施例中，该非直线形状可以由折线、弧线、半圆形以及波浪形中的至少一种构成。

在一实施例中，隔离柱还包括第二类型隔离柱。第二类型隔离柱为条状，也即传统的隔离柱结构。第二类型隔离柱的顶面为长方形，其纵截面为倒梯形结构。第一类型隔离柱44和第二类型隔离柱相间设置，通过两种隔离柱相间设置，可以使得整个显示面板在各处的衍射效果一致。

图7示出了本实用新型一实施例中的第一电极的平面布置示意图；为便于描述，附图仅示出了与本实用新型实施例相关的结构。

参阅附图，本实用新型的一些实施例中，第一电极61呈波浪形延伸；多个第一电极61沿相同的方向并行延伸，且相邻的第一电极61间具有间距；在第一电极61的延伸方向上，第一电极61的宽度连续变化或间断变化，且间距连续变化或间断变化。

容易理解，由于第一电极61为波浪形，因此在第一电极61的延伸方向上，其宽度为连续变化或者间断变化。宽度连续变化是指第一电极61上任意两个相邻位置处的宽度不相同。

第一电极61在延伸方向上宽度间断变化。而宽度间断变化是指：在第一电极61上存在部分区域内相邻两个位置的宽度相同，而在部分区域内相邻两个位置的宽度不相同。例如，一些实施例中，多个第一电极61在基板62上规则排布，因此，相邻两个第一电极61之间的间隙在平行于第一电极61的延伸方向上也呈现为连续变化或者间断变化。第一电极61在延伸方向上，无论其宽度是连续变化还是间断变化都可以为周期性变化，一个变化周期的长度可以对应于一个像素的宽度。

这样，设置有多个波浪形的第一电极61，在第一电极61的延伸方向上，第一电极61的宽度连续变化或者间断变化，从而使得相邻第一电极61具有连续变化的间距或者间断变化的间距。因此在第一电极61的不同宽度位置以及相邻第一电极61的不同间距之间，产生的衍射条纹的位置不同，不同位置处的衍生效应相互抵消，从而可以有效减弱衍射效应，进而确保摄像头设置在该透明显示面板下方时，拍照得到的图形具有较高的清晰度。

图8示出了本实用新型一实施例中的像素定义开口在基板上的投影示意图；为便于描述，附图仅示出了与本实用新型实施例相关的结构。

参阅附图，本实用新型的一些实施例中，像素开口包括第一类型像素开口 75；第一类型像素开口75在基板73上的投影的各边均为曲线，且各边互不平行。

其中，第一类型像素开口75在基板73上的投影的各边互不平行且各边均为曲线，也即第一类型像素开口75在各个方向上均具有变化的宽度且在同一位置具有不同衍射扩散方向。衍射过程中，衍射条纹的分布会受到障碍物尺寸的影像，例如狭缝的宽度、小孔的尺寸等。具有相同宽度的位置处产生的衍射条纹的位置一致，从而会出现较为明显的衍射效应。当外部光线经过该像素开口时，在不同宽度位置上能够产生具有不同位置和扩散方向的衍射条纹，进而不会产生较为明显的衍射效应，从而可以确保设置于该显示面板下方的感光元件能够正常工作。

在一些实施例中，第一类型像素开口75在基板73上的投影为一个图形单元或者多个彼此连通的图形单元。该图形单元可以为圆形或者椭圆形。可以理解，图形单元还可以有其他各处具有不同曲率半径的曲线构成。图形单元的个数可以根据对应的子像素的形状来确定。例如，可以根据子像素的长宽比来确定个数。在确定图形单元的个数的同时需要兼顾到像素的开口率。具体到一实施例中，图形单元还可以为轴对称结构，从而确保整个显示面板上的各像素具有一致的开口率，不会影响最终的显示效果。

图9示出了本实用新型一实施例中的显示屏的结构示意图；为便于描述，附图仅示出了与本实用新型实施例相关的结构。

基于上述的显示面板，本实用新型的实施例还提供一种显示屏。

该显示屏具有至少一个显示区。各显示区均用于显示动态或者静态画面。至少一个显示区包括第一显示区91。第一显示区91设置有如前述任一实施例中所提及的显示面板。第一显示区91下方可以设置感光器件93。

由于第一显示区91采用了前述实施例中的显示面板，因此，可以有效地将相邻的两行或两列的阴极30层隔断，避免使隔离柱上阴极30层与发光层上的阴极30层连接为一体，进而可对相互隔断的阴极30层输入不同的电压，以在显示面板对应的位置上可以形成不同的显示亮度，提高了阴极30图形化的效果，利于实现全面屏正常显示。此外，当光线经过该显示区域时，不会产生较为明显的衍射效应，从而能够确保位于该第一显示区91下方的感光器件93能够正常工作。

可以理解，第一显示区91在感光器件93不工作时，可以正常进行动态或者静态画面显示，而在感光器件93工作时，第一显示区91随着整体显示屏的显示内容的变化而变化，如显示正在拍摄的外部图像，或者第一显示区91也可以处于不显示状态，从而进一步确保感光器件93能够透过该显示面板正常进行光线采集。

一些实施例中，该显示屏还包括第二显示区92。其中，第一显示区91的透光率大于第二显示区92的透光率。第一显示区91的下方可设置感光器件93。第一显示区91设置有如前述任一实施例中所提及的显示面板。第一显示区91 和第二显示区92均用于显示静态或者动态画面。由于第一显示区91采用了前述实施例中的显示面板，因此当光线经过该显示区域时，不会产生较为明显的衍射效应，从而能够确保位于该第一显示区91下方的感光器件93能够正常工作。

可以理解，第一显示区91在感光器件93不工作时，可以正常进行动态或者静态画面显示，而在感光器件93工作时，可以处于不显示状态，从而确保感光器件93能够透过该显示面板正常进行光线采集。在其他的实施例中，第一显示区91和第二显示区92的透光率也可以相同，从而使得整个显示面板具有较好的透光均一性，确保显示面板具有较好的显示效果。

一些实施例中，第一显示区91设置的显示面板为PMOLED显示面板，在第二显示区92设置的显示面板为AMOLED显示面板或者类AMOLED显示面板，从而形成由PMOLED显示面板和AMOLED显示面板构成的全面屏。

需要说明的是，类AMOLED显示面板是指其像素电路仅包含一个开关元件 (即驱动TFT)，而无电容结构。类AMOLED显示面板的其他结构与AMOLED 显示面板相同。

可以理解，类AMOLED为本领域技术人员所习知的技术，故不再赘述其具体结构及原理。

图10示出了本实用新型一实施例中的显示终端的结构示意图；为便于描述，附图仅示出了与本实用新型实施例相关的结构。

基于上述的显示屏，本实用新型的实施例还提供一种显示终端100。

该显示终端100包括设备本体110和显示屏120。显示屏120设置在设备本体110上，且与该设备本体110相互连接。其中，显示屏120可以采用前述任一实施例中的显示屏120，用以显示静态或者动态画面。

图11示出了本实用新型一实施例中的设备本体110的结构示意图；为便于描述，附图仅示出了与本实用新型实施例相关的结构。

在本实施例中，设备本体110上可设有开槽区112和非开槽区114。在开槽区112中可设置有诸如摄像头以及光传感器等感光器件93。此时，显示屏120 的第一显示区91的显示面板对应于开槽区112贴合在一起，以使得上述的诸如摄像头及光传感器等感光器件93能够透过该第一显示区91对外部光线进行采集等操作。由于第一显示区91中的显示面板能够有效改善外部光线透射该第一显示区91所产生的衍射现象，从而可有效提升显示设备上摄像头所拍摄图像的质量，避免因衍射而导致所拍摄的图像失真，同时也能提升光传感器感测外部光线的精准度和敏感度。

上述电子设备可以为手机、平板、掌上电脑、ipod等数码设备。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (18)

1.显示面板，其特征在于，包括：

基板；

形成于所述基板上的第一电极；

像素定义层，形成于所述第一电极上，所述像素定义层上形成有多个像素开口；及

隔离柱，形成于所述像素定义层上；

其中，所述隔离柱包括多层堆叠设置的隔离柱层；至少两个相邻的所述隔离柱层间形成有台阶；

在垂直于所述隔离柱的延伸方向上，形成所述台阶且位于上层的所述隔离柱层的底表面的宽度，大于形成所述台阶且位于下层的所述隔离柱层的顶表面的宽度；

所述隔离柱的延伸方向平行于所述基板；所述宽度为所述隔离柱在所述基板上形成的正投影，在垂直于所述隔离柱的延伸方向上的尺寸。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，在垂直于所述隔离柱的延伸方向上，所述隔离柱层的顶表面的宽度，大于或等于所述隔离柱层的底表面的宽度。

3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述隔离柱层在垂直于所述基板且垂直于所述隔离柱延伸方向上的截面形状为倒梯形。

4.根据权利要求1～3任一项所述的显示面板，其特征在于，形成所述台阶的相邻两所述隔离柱层的材料相同；或

形成所述台阶的相邻两所述隔离柱层的材料相异。

5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，形成所述台阶的相邻两所述隔离柱层的材料相异；

所述隔离柱还包括至少一阻挡层；所述阻挡层位于形成所述台阶且位于下层的所述隔离柱层下层；所述阻挡层与形成所述台阶且与所述阻挡层相接触的所述隔离柱层的刻蚀选择比小于1。

6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述阻挡层位于两层所述隔离柱层之间；所述阻挡层与其相邻的两层所述隔离柱层中任一的刻蚀选择比均小于1。

7.根据权利要求1～3任一项所述的显示面板，其特征在于，所述隔离柱还包括在垂直于所述基板的方向贯穿所述隔离柱的至少一间隔槽，以沿所述隔离柱的延伸方向将所述隔离柱分隔为至少两部分。

8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述间隔槽具有远离所述基板的第一端及靠近所述基板的第二端；

在垂直于所述隔离柱的延伸方向上，所述间隔槽的第一端的宽度，小于所述间隔槽的第二端的宽度。

9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述间隔槽的第一端的宽度为0.5～1微米。

10.根据权利要求1～3任一项所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板为PMOLED显示面板、各结构膜层材料的透光率均大于90％；和/或

所述显示面板的导电走线的材料为氧化铟锡、氧化铟锌、掺杂银的氧化铟锡或者掺杂银的氧化铟锌。

11.根据权利要求1～3任一项所述的显示面板，其特征在于，所述隔离柱包括多个第一类型隔离柱；在所述第一类型隔离柱的延伸方向上，所述第一类型隔离柱的宽度连续变化或间断变化。

12.根据权利要求11所述的显示面板，其特征在于，多个所述第一类型隔离柱在所述基板上并行排列。

13.根据权利要求1～3任一项所述的显示面板，其特征在于，所述第一电极呈波浪形延伸；多个所述第一电极沿相同的方向并行延伸，且相邻的第一电极间具有间距；在所述第一电极的延伸方向上，所述第一电极的宽度连续变化或间断变化，且所述间距连续变化或间断变化。

14.根据权利要求1～3任一项所述的显示面板，其特征在于，所述像素开口包括第一类型像素开口；所述第一类型像素开口在所述基板上的投影的各边均为曲线，且各边互不平行。

15.根据权利要求14所述的显示面板，其特征在于，所述第一类型像素开口在所述基板上的投影为一个圆形单元或多个彼此连通的圆形单元；所述圆形单元为圆形或椭圆形。

16.一种显示屏，其特征在于，具有至少一个显示区；所述至少一个显示区包括第一显示区，所述第一显示区下方可设置感光器件；

其中，在所述第一显示区设置有如权利要求1～15中任意一项所述的显示面板，所述至少一个显示区中各显示区均用于显示动态或静态画面。

17.根据权利要求16所述的显示屏，其特征在于，所述至少一个显示区还包括第二显示区；在所述第一显示区设置的显示面板为PMOLED显示面板，在所述第二显示区设置的显示面板为AMOLED显示面板或者类AMOLED显示面板。

18.一种显示终端，其特征在于，包括：

设备本体，具有器件区；

如权利要求16或17所述的显示屏，覆盖在所述设备本体上；

其中，所述器件区位于所述第一显示区下方，且所述器件区中设置有透过所述第一显示区进行光线采集的感光器件。