TWM597497U - 陣列基板、顯示面板以及顯示裝置 - Google Patents

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彭兆基
甘帥燕
張志遠
李偉麗
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中國大陸商昆山國顯光電有限公司
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Abstract

一種陣列基板、顯示面板以及顯示裝置，其中該陣列基板包括主顯示區、至少一個副顯示區及一過渡顯示區，該主顯示區與該副顯示區鄰接，該過渡顯示區與該副顯示區和所述主顯示區鄰接；該主顯示區、副顯示區和過渡顯示區均能用於顯示靜態或動態畫面；該副顯示區的第一電極的厚度小於該過渡顯示區的第一電極的厚度，且該過渡顯示區的第一電極的厚度小於或等於該主顯示區的第一電極的厚度。由此既可以實現副顯示區的顯示功能又可以使其在不顯示時具有較高的透光率，便於位於其下方的功能元件的正常使用。

Description

陣列基板、顯示面板以及顯示裝置
本創作涉及顯示技術領域，具體涉及一種陣列基板、顯示面板以及顯示裝置。
隨著顯示終端的快速發展，使用者對螢幕占比的要求越來越高，由於螢幕上方需要安裝攝像頭、感測器、聽筒等元件，因此螢幕上方通常會預留一部分區域用於安裝上述元件，影響了螢幕的整體一致性。
同時在蒸鍍前需要對開口部分進行遮擋，蒸鍍用的掩膜中需要設置包括遮擋開口部分的遮擋部，而通常開口部分並不緊挨著顯示幕邊緣設置，其通常距離顯示幕邊緣一定的距離，因此，遮擋部通過懸臂(支撐條)連接至掩模的邊框，由於懸臂的存在導致了在蒸鍍過程中對正常顯示區造成的遮擋，從而使蒸鍍材料無法成形在懸臂遮擋的區域，形成黑色線條，影響了顯示幕的正常顯示效果。
正由於上述功能區和掩膜懸臂覆蓋區不能進行正常有效地顯示，最終影響了螢幕的整體一致性，不能夠實現真正意義上的全面屏。
因此，本申請要解決的技術問題在於克服功能區和掩膜懸臂覆蓋區不能正常顯示的缺陷，從而提供一種能夠實現全面顯示的一種陣列 基板、顯示面板以及顯示裝置。
為達上述之目的，本創作所設之一種陣列基板、顯示面板以及顯示裝置，其中該陣列基板包括主顯示區、至少一個副顯示區及一過渡顯示區，該主顯示區與該副顯示區鄰接，該過渡顯示區與該副顯示區和所述主顯示區鄰接；該主顯示區、副顯示區和過渡顯示區均能用於顯示靜態或動態畫面；該副顯示區的第一電極的厚度小於該過渡顯示區的第一電極的厚度，且該過渡顯示區的第一電極的厚度小於或等於該主顯示區的第一電極的厚度。由此既可以實現副顯示區的顯示功能又可以使其在不顯示時具有較高的透光率，便於位於其下方的功能元件的正常使用。
實施時，該過渡顯示區的第一電極包括第一區域和第二區域，該第一區域的厚度大於該第二區域的厚度，該第一區域覆蓋有像素單元。
實施時，該第一區域的厚度等於該主顯示區的第一電極的厚度；和/或該第二區域的厚度等於該副顯示區的第一電極厚度。
實施時，該主顯示區的第一電極、該過渡顯示區的第一電極以及該副顯示區的第一電極連接成面電極。
實施時，該副顯示區的第二電極的厚度小於或等於該主顯示區的第二電極的厚度，和/或該副顯示區的第二電極的厚度小於或等於該過渡顯示區的第二電極的厚度。
實施時，該副顯示區的第二電極的厚度小於該過渡顯示區的第二電極的厚度，且該過渡顯示區的第二電極的厚度小於該主顯示區的第二電極的厚度。
實施時，該副顯示區的透光率大於該過渡顯示區和該主顯示區的透光率，至少該副顯示區的第二電極為透明導電層。
實施時，該陣列基板還包括：一襯底、一設置於上述襯底上的像素電路及所述副顯示區的像素電路設置於該主顯示區內或該過渡顯示區內。
根據本申請的另一個方面，提供一種顯示面板，其包括：上述任一項所述的陣列基板；一封裝層，該封裝層封裝於該陣列基板上遠離該襯底的一側；該副顯示區下方設置感光器件；該副顯示區的至少部分被主顯示區包圍；該封裝層包括偏光片，該偏光片覆蓋所述主顯示區；或者，該偏光片覆蓋該主顯示區和該副顯示區；或者，該偏光片覆蓋該主顯示區、該副顯示區以及該過渡顯示區。
根據本申請的另一個方面，提供一種顯示裝置，其包括：一設備本體，具有器件區；一上述的顯示面板，該顯示面板覆蓋在該設備本體上；其中，該器件區位於該副顯示區的下方，且該器件區包括透過該副顯示區發射或者採集光線的感光器件；其中，該感光器件包括攝像頭、光線感應器或光線發射器等其中至少一種。
為進一步瞭解本創作，以下舉較佳之實施例，配合圖式、圖號，將本創作之具體構成內容及其所達成的功效詳細說明如下。
1:主顯示區
2:副顯示區
3:過渡顯示區
41:第一陰極層
42:第二陰極層
43:第三陰極層
44:第四陰極層
45:第一陰極區
46:第二陰極區
5:襯底
51:輔助玻璃基板
6:陣列基板
7:發光層
8:掩模邊框
9:孤島遮擋部
10:圖形區
11:開口
12:遮擋子區
13:陽極
第1圖係為本創作的第1種實施方式中提供的顯示裝置的結構示意圖。
第2圖係為第1圖所示的A-A的剖視圖。
第3圖係為本創作的第2種實施方式中提供的顯示裝置的結構示意圖。
第4圖係為本創作的第3種實施方式中提供的顯示裝置的結構示意圖。
第5圖係為本創作的第4種實施方式中提供的顯示裝置的結構示意圖。
第6圖係為本創作的第5種實施方式中提供的顯示裝置的結構示意圖。
第7圖係為形成第6圖中陰極層的掩範本的結構示意圖。
第8圖係為形成第6圖中陰極層的另一種掩範本的結構示意圖。
實施例1；本申請記載了一種顯示裝置，其包括設備本體和顯示面板，其中該設備本體具有器件區，該顯示面板覆蓋在該設備本體上。該顯示面板包括陣列基板和封裝層，該封裝層封裝於該陣列基板上遠離襯底的一側。
如第1、2圖所示，該陣列基板包括主顯示區1、至少一個副顯示區2和過渡顯示區3，主顯示區1與副顯示區2鄰接；該過渡顯示區3與該副顯示區2和該主顯示區1鄰接；該主顯示區1、該副顯示區2和該過渡顯示區3均能用於顯示靜態或動態畫面；其中該副顯示區2的至少部分被該主顯示區1包圍；該副顯示區2的透光率大於該過渡顯示區3和該主顯示區1的透光率。
其中該器件區位於該副顯示區2的下方，且該器件區包括透過該副顯示區2發射或者採集光線的感光器件；在一可選的實施例中，該感 光器件包括下述至少之一：攝像頭、光線感應器、光線發射器。
該封裝層包括偏光片，該偏光片覆蓋該主顯示區1；或者，該偏光片覆蓋該主顯示區1和該副顯示區2；或者，該偏光片覆蓋該主顯示區1、該副顯示區2以及該過渡顯示區3。在保證陣列基板正常顯示的同時又能夠實現設置於其下的感光器件的正常工作，該偏光片具體覆蓋的位置，根據具體產品的要求進行設置，在此僅是給出示例，並不對本申請形成任何限定。
該陣列基板還包括襯底和設置於襯底上的像素電路，其中該副顯示區2的像素電路設置於主顯示區1內或過渡顯示區3內，以增大副顯示區的透光率，使設置於其下方的感光器件如攝像頭等正常工作。
本實施例中的副顯示區2的第一電極的厚度小於過渡顯示區3的第一電極的厚度，且過渡顯示區3的第一電極的厚度小於或等於主顯示區1的第一電極的厚度。其中主顯示區1的第一電極、過渡顯示區3的第一電極以及副顯示區2的第一電極連接成面電極；其中本實施例中的第一電極指陰極。
本申請中通過降低副顯示區2的第一電極的厚度以提高副顯示區2的透光率，使得副顯示區2的透光率高於主顯示區1和過渡顯示區3。由此允許設置於副顯示區下方的感光器件在需要使用時能夠通過透光率較高的副顯示區實現正常使用，而在需要顯示時，副顯示區又能夠實現顯示功能。
其中本實施例中主顯示區1的陰極的厚度大於過渡顯示區3的陰極的厚度大於副顯示區2的陰極的厚度。通過第一電極即陰極層的厚度 由副顯示區到過渡顯示區以及到主顯示區逐漸增厚的設置，在實現增大副顯示區的透光率的同時，還防止蒸鍍掩模版發生褶皺。
可選的，該副顯示區2的第二電極的厚度小於等於主顯示區1的第二電極的厚度，和/或副顯示區2的第二電極的厚度小於等於過渡顯示區3的第二電極的厚度；由此進一步提高副顯示區2的透光率。
可選的，該副顯示區2的第二電極的厚度小於過渡顯示區3的第二電極的厚度，且過渡顯示區3的第二電極的厚度小於主顯示區1的第二電極的厚度。其中第二電極指陽極，主顯示區1、副顯示區2和過渡顯示區3的陽極材料可相同或不同。本實施例中的陽極可以採用銀蒸鍍形成。且副顯示區2的陽極13厚度小於其他區域的陽極13厚度，由此進一步提高副顯示區2的透光率。
可選的，至少副顯示區2的第二電極為透明導電層，例如氧化銦錫(ITO)層；當然，陽極13也可為覆蓋主顯示區1、副顯示區2和過渡顯示區3的透明導電層，由於設置有透明ITO層，其本身就具有較高的透光率。
如第1圖所示，本實施例中的主顯示區1為矩形，該副顯示區2為設於主顯示區1內的圓形，該過渡顯示區3為直條形，該副顯示區2通過過渡顯示區3連接於主顯示區1的邊界。當然該副顯示區2也不限於僅設置為圓形，其也可以為矩形、橢圓形、菱形、六邊形等形狀；該主顯示區1也不限於設置為矩形，可以為圓形、橢圓形、菱形、六邊形等形狀。
當然，該過渡顯示區3也可設置為其他形狀，例如第3圖中所示的多邊形，其一條邊為與圓形副顯示區2連接的弧形，另外兩條邊分別與 矩形主顯示區1的兩條邊連接。或者如第4或5圖中的單個矩形，矩形過渡顯示區3的一端連接副顯示區2，另一端連接主顯示區1的邊緣。
其中為確保該副顯示區2的透光性，本實施例的顯示裝置至少與副顯示區2對應的襯底區域為透明基板，其中可採用整面透明玻璃板作為襯底5；當然也可採用非透明基板，如第2圖所示，將與副顯示區2對應的區域刻蝕填充上輔助透明基板51，輔助透明基板51為透明玻璃或者透明有機膠。
如第2圖所示，本實施例的顯示裝置的製作過程為：步驟1：製作整面襯底5；步驟2：製作成型於襯底5上的陣列基板6；其包括以下步驟：
製作陽極13：當陽極材料不同時，可先分別蒸鍍形成主顯示區1和過渡顯示區3的陽極，再蒸鍍形成副顯示區2的陽極；當陽極材料相同時，可先進行整面蒸鍍陽極材料，其厚度與副顯示區2的陽極厚度相同，再分別對主顯示區1和過渡顯示區3區域繼續蒸鍍陽極材料，增加其厚度；
製作有機發光層7；
製作陰極，先進行整面蒸鍍第一陰極層41，使其厚度與副顯示區2的陰極厚度相同，再分別採用不同的通用金屬掩範本(CMM)分別對主顯示區1的第二陰極層42和過渡顯示區3的第三陰極層43進行蒸鍍；步驟3：若襯底5為非透明基板，則採用鐳射或者刻蝕去除襯底5上與副顯示區2對應的部分將其更換為透明玻璃基板或透明有機膠。
其中由於顯示裝置的陰極厚度不均，該過渡顯示區3和該副顯示區2的陰極厚度相對較薄，為避免對正常顯示造成影響，確保該過渡顯 示區和該副顯示區亮度的均勻性以及正常顯示，後期可通過外部的驅動電路對該過渡區顯示模組進行外部光學補償，例如光學抽取式Demura光學補償以提高顯示裝置整體亮度的均勻性避免產生殘像。
實施例2；本實施例中公開了一種顯示裝置，其包括設備本體和顯示面板，該顯示面板包括陣列基板和封裝層，該封裝層封裝於該陣列基板上且遠離該陣列基板的襯底的一側。
本實施例中的顯示裝置的結構與上述實施例中相同，該顯示面板的結構也與上述實施例中相同。本實施例與上述實施例中的顯示裝置的區別在於，顯示面板過渡顯示區3的結構與上述實施例中不同。
本實施例中過渡顯示區的第一電極包括第一區域和第二區域，其中第一區域的厚度大於第二區域的厚度，第一區域覆蓋有像素單元。第一區域的厚度等於主顯示區的第一電極的厚度；和/或第二區域的厚度等於副顯示區的第一電極厚度。
本實施例中第一電極指陰極，參見第6圖，該過渡顯示區3的陰極包括第一陰極區45和第二陰極區46，其中該第一陰極區45的厚度大於該第二陰極區46的厚度，該第一陰極區45覆蓋有像素單元，該像素單元包括紅色(R)、綠色(G)和藍色(B)子像素，當然，也可以包括其他顏色的子像素，如白色(W)，在此不做限定。
在一可選的實施例中，該第一陰極區45的厚度等於該主顯示區1的陰極厚度。該第二陰極區46的厚度等於該副顯示區2的陰極厚度。
本實施例的顯示裝置的製作過程為：步驟1：製作整面襯底5； 步驟2：製作成型於襯底5上的陣列基板6；其包括以下步驟：
製作陽極13：當陽極材料不同時，可先分別蒸鍍形成主顯示區1和過渡顯示區3的陽極，再蒸鍍形成副顯示區2的陽極；當陽極材料相同時，可先進行整面蒸鍍陽極材料，其厚度與副顯示區2的陽極厚度相同，再分別對主顯示區1和過渡顯示區3區域繼續蒸鍍陽極材料，增加其厚度；
製作有機發光層7；
製作陰極，先進行整面蒸鍍第一陰極層41，使其厚度與副顯示區2的陰極厚度相同，再採用精密金屬掩範本(Fine Metal Mask，簡稱FMM)同時對主顯示區1和過渡顯示區3進行蒸鍍第四陰極層44；步驟3：若襯底5為非透明基板，則採用鐳射或者刻蝕去除襯底5上與副顯示區2對應的部分將其更換為透明玻璃基板或透明有機膠。
其中本實施例中的主顯示區1和過渡顯示區3可通過一個精密金屬掩範本(FMM)同時蒸鍍成型。
本實施例的FMM掩模組件如第7、8圖所示，其包括：掩模邊框8和若干孤島遮擋部9，該掩模邊框8支撐於基底表面，該掩模邊框8內形成有開口11以及與像素單元對應設置的圖形區10；若干孤島遮擋部9位於開口10內且與周邊圖形區10連接；其中該掩模邊框8為矩形框，該孤島遮擋部9包括圓形遮擋和/或方形遮擋。當然，該孤島遮擋部9不限於僅設置為矩形或者圓形，其也可以為橢圓形、菱形、六邊形等形狀；該掩模邊框8也不限於設置為方框，可以為圓框、橢圓形框、菱形框、六邊形框等形狀。
請參見第7圖，其中圖形區10包括若干遮擋子區12，遮擋子區12呈直條狀間隔平行設置，其中直條狀所述遮擋子區12的一端或者兩端分別連接於該掩模邊框8，其中該孤島遮擋部9連接於任意一個或多個遮擋子區12的邊緣。
請參見第8圖，該遮擋子區12呈矩形網格狀設置，該孤島遮擋部9連接於該遮擋子區12的邊緣。
通過設置上述掩模元件對顯示裝置的陰極層進行蒸鍍時可通過一次蒸鍍同時形成過渡顯示區3和主顯示區1的陰極，避免經過兩個掩範本分兩個步驟分別製作過渡顯示區3的陰極和主顯示區1的陰極，工藝更加簡單。
其中由於顯示裝置的陰極層厚度不均，該過渡顯示區3和該副顯示區2的陰極層厚度相對較薄，為避免對正常顯示造成影響，確保該過渡顯示區和該副顯示區亮度的均勻性以及正常顯示，後期可通過外部的驅動電路對過渡區顯示模組進行外部光學補償，例如光學抽取式Demura光學補償以提高顯示裝置整體亮度的均勻性避免產生殘像。
本申請公開了一種陣列基板，包括該陣列基板的顯示面板以及包括該顯示面板的顯示裝置。通過顯示裝置的顯示面板的主顯示區、過渡顯示區以及副顯示區的第一電極和第二電極等結構的設計，增大副顯示區的透光率，使副顯示區既能夠實現正常顯示靜態或動態畫面，同時在副顯示區下方設置感光器件，實現感光功能，即實現真正的全面顯示。
因此，透過本創作之設計，具有以下之優點：
1.本創作中通過降低副顯示區的第一電極的厚度以提高副顯示區的透光度，使得副顯示區的透光度高於主顯示區和過渡顯示區；通過將副顯示區中的第一電極設置較薄使其厚度滿足顯示發光的基本要求即可，由此既可以實現副顯示區的顯示功能又可以使其在不顯示時具有較高的透光率，便於位於其下方的功能元件的正常使用。
2.本創作提供的顯示裝置，該副顯示區的第二電極的厚度小於等於該主顯示區的第二電極的厚度，和/或該副顯示區的第二電極的厚度小於等於該過渡顯示區的第二電極的厚度，通過減小副顯示區的第二電極的厚度以進一步提高副顯示區的透光率。
以上所述乃是本創作之具體實施例及所運用之技術手段，根據本文的揭露或教導可衍生推導出許多的變更與修正，仍可視為本創作之構想所作之等效改變，其所產生之作用仍未超出說明書及圖式所涵蓋之實質精神，均應視為在本創作之技術範疇之內，合先陳明。
綜上所述，依上文所揭示之內容，本創作確可達到新型之預期目的，提供一種陣列基板、顯示面板以及顯示裝置，極具實用性與產業上利用之價值，爰依法提出新型專利申請。
1:主顯示區
13:陽極
2:副顯示區
3:過渡顯示區
41:第一陰極層
42:第二陰極層
43:第三陰極層
5:襯底
51:輔助玻璃基板
6:陣列基板
7:發光層

Claims (10)

  1. 一種陣列基板，包括：
    一主顯示區；
    至少一個副顯示區，該主顯示區與該副顯示區鄰接；以及
    一過渡顯示區，該過渡顯示區與該副顯示區和該主顯示區鄰接；
    其中，該主顯示區、副顯示區和過渡顯示區均能用於顯示靜態或動態畫面，該副顯示區的第一電極的厚度小於該過渡顯示區的第一電極的厚度，且該過渡顯示區的第一電極的厚度小於或等於該主顯示區的第一電極的厚度。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之陣列基板，其中該過渡顯示區的第一電極包括第一區域和第二區域，該第一區域的厚度大於該第二區域的厚度，該第一區域覆蓋有像素單元。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之陣列基板，其中該第一區域的厚度等於該主顯示區的第一電極的厚度；和/或該第二區域的厚度等於該副顯示區的第一電極厚度。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之陣列基板，其中該主顯示區的第一電極、該過渡顯示區的第一電極以及該副顯示區的第一電極連接成面電極。
  5. 如申請專利範圍第1、2、3或4項所述之陣列基板，其中該副顯示區的第二電極的厚度小於或等於該主顯示區的第二電極的厚度，和/或該副顯示區的第二電極的厚度小於或等於該過渡顯示區的第二電極的厚度。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之陣列基板，其中該副顯示區的第二電極的厚度小於該過渡顯示區的第二電極的厚度，且該過渡顯示區的第二 電極的厚度小於該主顯示區的第二電極的厚度。
  7. 如申請專利範圍第5項所述之陣列基板，其中該副顯示區的透光率大於該過渡顯示區和該主顯示區的透光率，至少該副顯示區的第二電極為透明導電層。
  8. 如申請專利範圍第1、2、3或4項所述之陣列基板，其中該陣列基板還包括：
    一襯底；
    一設置於上述襯底上的像素電路；
    所述副顯示區的像素電路設置於該主顯示區內或該過渡顯示區內。
  9. 一種顯示面板，包括：
    一如申請專利範圍第1至8項中任一項所述的陣列基板；
    一封裝層，該封裝層封裝於該陣列基板上遠離該襯底的一側；
    該副顯示區下方設置感光器件；
    該副顯示區的至少部分被主顯示區包圍；
    該封裝層包括偏光片，該偏光片覆蓋所述主顯示區；或者，該偏光片覆蓋該主顯示區和該副顯示區；或者，該偏光片覆蓋該主顯示區、該副顯示區以及該過渡顯示區。
  10. 一種顯示面板，包括：
    一設備本體，具有器件區；及
    一如申請專利範圍第9項所述的顯示面板，該顯示面板覆蓋在該設備本體上；
    其中，該器件區位於該副顯示區的下方，且該器件區包括透過該副顯示區發射或者採集光線的感光器件；其中，該感光器件包括攝像頭、光線感應器或光線發射器等其中至少一種。
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