CN110291461A - 从清洁媒介固持与保护光掩模或具有防尘薄膜的光掩模的侧边的固持器、清洁光掩模或具有防尘薄膜的光掩模的方法以及开关固持器的装置 - Google Patents

从清洁媒介固持与保护光掩模或具有防尘薄膜的光掩模的侧边的固持器、清洁光掩模或具有防尘薄膜的光掩模的方法以及开关固持器的装置 Download PDF

Info

Publication number
CN110291461A
CN110291461A CN201780081883.5A CN201780081883A CN110291461A CN 110291461 A CN110291461 A CN 110291461A CN 201780081883 A CN201780081883 A CN 201780081883A CN 110291461 A CN110291461 A CN 110291461A
Authority
CN
China
Prior art keywords
photomask
holder
sealing frame
pedestal
sealing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201780081883.5A
Other languages
English (en)
Other versions
CN110291461B (zh
Inventor
杰士·克鲁伯格
亚当·贝沙
伍威·戴兹
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hughes Microcosm Mask Instruments Co Ltd
SUSS MicroTec Photomask Equipment GmbH and Co KG
Original Assignee
Hughes Microcosm Mask Instruments Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hughes Microcosm Mask Instruments Co Ltd filed Critical Hughes Microcosm Mask Instruments Co Ltd
Publication of CN110291461A publication Critical patent/CN110291461A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN110291461B publication Critical patent/CN110291461B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70983Optical system protection, e.g. pellicles or removable covers for protection of mask
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/66Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • G03F1/82Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70908Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
    • G03F7/70925Cleaning, i.e. actively freeing apparatus from pollutants, e.g. using plasma cleaning

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Packaging Frangible Articles (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

本发明涉及一种固持或保护光掩模或是具有防尘薄膜的光掩模的侧边免受清洁媒介影响的固持器、清洁此类光掩模的方法以及开关固持器的装置。固持器(1)具有:基座,具有至少三个支撑组件(15),设置在距离基座的底部(9)一距离处,以固持及保持所述光掩模或具有防尘薄膜的光掩模,且具有具上部侧(24)与下部侧(25)的密封框(7、20、21),其中下部侧可安放于基座上,且其中密封框具有中心开口(26),其经设定大小使得中心开口可以间隔的方式容纳光掩模。周围弹性密封组件(22)设置于密封框上,以与密封框的上部侧呈角度从中心开口的内周围延伸至中心开口,其中,在空载状态下,密封组件具有小于光掩模的外周围的内周围,且在负载状态下,密封组件周向性地在侧边缘处接触容纳于中心开口中的光掩模。

Description

从清洁媒介固持与保护光掩模或具有防尘薄膜的光掩模的侧 边的固持器、清洁光掩模或具有防尘薄膜的光掩模的方法以 及开关固持器的装置
技术领域
本发明涉及一种接收以及保护光掩模或是具有防尘薄膜(pellicle)的光掩模的侧边免受清洁媒介影响的固持器、一种清洁光掩模或是具有防尘薄膜的光掩模的侧边的方法以及一种开关以上类型的固持器的装置。
背景技术
特定而言,在半导体技术领域中,已知将光掩模用于光刻工艺。为获得良好的处理结果,必须定期清洁光掩模。为保护光掩模的某些表面抵抗由粒子引起的污染,在一些情况下,使用所谓的防尘薄膜。
防尘薄膜是薄膜或是膜,其相对于待保护的光掩模的表面藉助于例如框架以间隔方式固持,框架胶合至待保护的光掩模的侧边。因此粒子不能到达光掩模的各别表面,且若存在粒子,其黏着于防尘薄膜。防尘薄膜配置在离各别屏蔽表面足够远的距离处,使得黏着于防尘薄膜的至少低于某一大小的粒子离光掩模的各别表面足够远而不损害成像工艺。
由此,可实质上减少各别表面的清洁周期。然而,仍需清洁与防尘薄膜相对的光掩模的侧边。虽然在过去,防尘薄膜以及其框架附接至光掩模的侧边,使得在框架外部屏蔽的周围边缘区域保持闲置且可用作密封表面,但现今或是将来的防尘薄膜中的一些一直延伸至光掩模的边缘或甚至可延伸超出光掩模的边缘。
在清洁与防尘薄膜相对的侧边期间,要求保护载有防尘薄膜的侧边免受正使用的清洁媒介影响。由此,可避免防尘薄膜、防尘薄膜的框架或是载有防尘薄膜的光掩模的侧边遭受损害及/或污染。此通常藉由将载有防尘薄膜的侧边的周围边缘区域设定于密封框上来实现。边缘区域经预先构造使得处于边缘区域内的防尘薄膜以及屏蔽的侧边相对于环境且尤其相对于清洁媒介而密封。对于一直到达光掩模的边缘区域以及/或甚至延伸超出光掩模的边缘区域的防尘薄膜,此将不再是可能的,此是因为在载有防尘薄膜的光掩模的侧边上不存在足够的光掩模的表面区域。此外,即使对于不具有防尘薄膜的光掩模,可能有利的是在清洁一侧边期间不接触另一侧边。
因此,需要提供一种能够相对于清洁媒介保护光掩模的一侧边(尤其载有防尘薄膜的光掩模的一侧边)而使用此清洁媒介来清洁另一侧边的替代性装置及方法。
发明内容
根据本发明,提供根据权利要求1的固持器及根据权利要求20的方法以及根据权利要求24的用于开关以上类型的固持器的特定装置。本发明的其他实施例尤其揭露于随附权利要求中。
特定而言,提供一种用于接收以及保护光掩模或是具有防尘薄膜的光掩模免受清洁媒介影响的固持器,其中固持器包括:基座,具有至少三个支撑组件,支撑组件经配置以接收以及固持从基座的底部表面隔开的光掩模或是具有防尘薄膜的光掩模;密封框,具有上部侧以及下部侧,其中下部侧可安放于基座上,且其中密封框包括中心开口,中心开口经设定大小使得其可以间隔方式接收光掩模;周围弹性密封组件,位于密封框处,其以倾斜方式朝向密封框的上部侧从中心开口的内部周围延伸至中心开口,其中在空载状态下的密封组件具有内周围,其小于光掩模的外周围,且在负载状态下的密封组件可接触光掩模,光掩模在其侧表面处以周围方式接收在中心开口中。此类固持器适用于接收光掩模亦或是具有防尘薄膜(在基座上具有面朝下的防尘薄膜)的光掩模,且接着根据上文安装密封框且经由特定密封件在侧表面处提供密封。密封框可沿相反方向移除,且因此在任何时候皆不与面向基座的光掩模的侧边及/或光掩模处的防尘薄膜接触。
较佳地,支撑组件经配置使得其仅在一边缘处(尤其在光掩模的拐角处)接触光掩模。支撑组件可具有一个亦或是两个倾斜的支撑表面。
根据一个实施例,在空载状态下,密封件以均一方式从中心开口的内周围延伸至中心开口,且尤其在2.5毫米至3.5毫米的距离内(且较佳地约2.9毫米的距离内)从中心开口的内周围延伸至中心开口。在上部表面或是下部表面的平面中量测所述距离。此外,密封件可经设定大小使得在空载状态下其重迭光掩模的边缘区域,所述光掩模的边缘区域关于密封件以约0.4毫米至1毫米(较佳地0.6毫米至0.8毫米)定中心。当光掩模经接收且另一方面光掩模对于密封件不会太大而导致不稳定时,当在清洁光掩模期间力作用于密封件上时,密封件的进入开口的各别突出部提供充足材料以允许密封件变形。所述重迭再次提供密封件的足够的变形以及密封件抵靠光掩模的侧表面的各别按压力。
较佳地,密封件具有在1毫米与3毫米的范围内(较佳地在1.5毫米至2.5毫米的范围内)的厚度以及在25°至75°的范围内的肖氏硬度(shore hardness)A。已展示以上量测特别适用于抵抗化学制品的密封件(诸如由FFKM全氟弹性体橡胶或是EPDM乙烯-丙烯-二烯-单体橡胶制成的密封件)以提供抵靠光掩模的侧表面的良好密封。
在未安装以及空载状态下,密封件可具有实质上扁平架构且可因此易于制造。然而,密封件亦可具有面向内周围的楔形部分。为了矩形光掩模的侧表面的良好密封,密封件具有实质上矩形的内周围,其中内周围的拐角经磨圆且较佳地具有在2毫米至4毫米范围内的半径,特定而言约3毫米的半径。
在一个实施例中,密封件具有实质上矩形的外周围,其中至少两个相对的边缘区域可设置有安装凸耳(lug)。较佳地,形成密封件的材料用以特定应用,使得密封件抵抗所使用的清洁媒介以及/或UV辐射。
密封框可具有上部部分及下部部分,上部部分和下部部分以可拆卸方式彼此附接,其中密封件夹持于上部部分与下部部分之间。在如此操作时,密封件可以可靠方式安装至密封框且可易于替换。特定而言,上部部分以及下部部分可形成密封件的周围接收空间,其朝向中心开口打开。接收空间可朝向中心开口成楔形,且可以倾斜方式朝向中心开口朝向密封框的上部侧延伸。藉助于此类接收空间,密封件可以紧固方式固持且可定向,所述定向朝向密封框的上部侧倾斜。较佳地,密封件的接收空间朝向密封框的上部侧倾斜大致29°。较佳地,接收空间在其面向中心开口的末端处具有一高度,其小于密封件的厚度。特定而言,面向中心开口的接收空间的末端具有一高度,其比密封件的厚度小10%至20%,以便以紧固方式固持密封件且甚至进一步偏置密封件。
对于在湿式清洁中的使用,密封框在密封件的安装位置上方的区域中具有斜坡,其朝向密封框的径向周围加宽。对于在使用密封框期间将密封框紧固固持至基座,基座可具有固持器单元,特定而言真空或负压单元,以用于以可释放方式将密封框固持至基座。在一个实施例中,基座及密封框中之至少一者可具有周围密封件,其面向另一组件(亦即密封框或基座),以便密封两个组件之间的接触区域。基座及密封框可具有补充引导组件,其在将密封框置放于基座上期间实现彼此相对的两个组件的对准。
一种用于清洁光掩模(特定而言具有防尘薄膜的光掩模)的一侧边的方法,包括以下步骤:将光掩模接收在上述类型的固持器中,其中光掩模最初置放于支撑组件上,使得其未经清洁的侧边面向基座,且其后密封框置放于基座上,使得弹性密封组件在其侧表面处周向性地(circumferentially)接触光掩模且密封光掩模,其中光掩模的待清洁侧是可接触(accessible)的;使用至少一种清洁媒介清洁光掩模的待清洁侧,所述至少一种清洁媒介涂覆至待清洁的侧边;沿与密封框置放于基座上相反的方向从基座移除密封框,同时将光掩模压向支撑组件;且从支撑组件移除光掩模。此类方法使得能够在光掩模的侧表面处进行密封,且因此可以相同方式用于具有或不具有防尘薄膜的光掩模。藉由在与将密封框置放于基座上相反的方向上移除密封框,密封件与待保护的光掩模的侧边间隔开或与一直安装于其上的任何防尘薄膜间隔开,且因此密封件不会引起损害或污染。当在移除密封框期间将光掩模压向支撑组件时,可避免光掩模自身被移除或移位,且因此可能受到损害。
为了保护待保护的光掩模的侧边的任何接触,光掩模较佳地置放于支撑组件上使得仅光掩模的边缘(特定而言光掩模的拐角)接触支撑组件。
在将密封框置放于基座上期间,密封组件较佳地朝向密封框的上部侧变形,使得密封组件的下部侧接触光掩模的侧表面且密封光掩模的侧表面。在如此操作时,可实现良好的密封动作。
根据一个实施例,清洁媒介为液体媒介,且光掩模的经清洁侧在从基座移除密封框之前经干燥。可例如藉由固持器的快速旋转或是自旋实现各别干燥。
一种用于开关上述固持器的装置包括:至少两个间隔开的夹持器(gripper),其面向彼此,夹持器在开放位置与闭合位置之间是可移动的,在开放位置中夹持器可自由地将密封框接收于其间,在闭合位置中其可夹持密封框;屏蔽保持单元,具有至少一个保持销,其在空间上配置于夹持器之间,使得当密封框接收于夹持器之间时,其与密封框中的中心开口对准,且其实质上垂直于夹持器移动的开放/闭合方向延伸,其中至少一个保持销经安装以在其延伸方向上可移动;移动单元,其耦接至夹持器及保持单元两者,以便共同移动夹持器以及保持单元。此类装置特别适用于在固持器打开期间从基座移除密封框,且适用于将接收在密封框中的光掩模压向固持器的支撑组件以确保在移除密封框期间仅移动密封框且不移动光掩模。
较佳地,至少一个保持销接收于引导组件内且经由偏置单元(biasing unit)弹性地偏置出引导组件,其中藉助于挡板限制保持销移出引导组件。当移除密封框时,各别安装及偏置可提供抵抗光掩模的预定力。替代地或另外,至少一个保持销经由可控制移动机构在其延伸方向上亦可为可移动的。
在一个实施例中,至少一个保持销可从其在夹持器之间的位置移动至空档位置(neutral positon),在所述空档位置中其不能执行保持功能。在所述至少一个保持销的此类位置中,装置亦可用于输送其他组件,诸如光掩模自身。
根据一个实施例,移动单元包括两个间隔臂,每一间隔臂载有至少一个夹持器且其至少在夹持器的区域中实质上平行于其纵向方向延伸。较佳地,夹持器至少在这些臂中的一个上具有拥有夹持爪的夹持爪固持器,其中夹持爪固持器绕第一旋转轴可旋转地支撑,其在各别臂的纵向方向上延伸,且其中夹持爪安装于待绕第二旋转轴旋转的各别夹持爪固持器上,其垂直于各别臂的纵向延伸部延伸。由此,夹持器可调节至固持器的未恰当地对准的密封框。特定而言,第一旋转轴以及第二旋转轴可实质上配置成垂直于彼此。在这些臂中的至少一个上的夹持器可具有拥有两个夹持爪的夹持爪固持器,其在支撑夹持爪固持器的臂的纵向方向上间隔开,其中在原始位置处的夹持爪对准在实质上平行于臂的一条在线,且其中夹持爪固持器经支撑以绕第三旋转轴旋转,其垂直于所述各别臂的纵向方向。由此,第三旋转轴可指向另一臂。较佳地,可提供偏置单元,其将夹持爪固持器偏置至其原始位置。
附图说明
将参看附图更详细地描述本发明。在附图中:
图1为根据本发明的不具有密封件的固持器的示意性俯视图。
图2为沿图1中的线II-II的穿过固持器的示意性截面视图。
图3为类似于图2的但是穿过其中安装有密封件的固持器的示意性截面视图。
图4为根据图1的固持器的基座的示意性透视图。
图5为根据图1的固持器的密封框的下部部分的示意性透视俯视图。
图6为根据图1的固持器的密封框的上部部分的示意性透视仰视图。
图7为根据图1的固持器的密封框的示意性透视俯视图。
图8为在安装有密封件的密封框的上部部分与下部部分之间的夹持区域的经放大示意性表示。
图9为类似于图8的指示光掩模在其未接收于密封框中的状态下的夹持区域的经放大示意性表示。
图10为类似于图9的展示经指示光掩模在其接收于密封框中的状态下的经放大示意性表示。
图11为密封框中的密封件的接收部分的另一示意性详细视图。
图12为类似于图11的展示相对于光掩模的关系的表示。
图13为类似于图12的展示相对于具有防尘薄膜的光掩模的关系的表示。
图14为可安装至根据图1的固持器的例示性密封件的示意性俯视图。
图15为用于开关根据图1的固持器的装置的示意性正视图。
图16为根据图15的装置的示意性正视图,其中装置的保持配置绘示于图15的不同位置中。
图17为根据图15的示意性右侧视图,其中图17a及图17b绘示夹持爪固持器的不同位置。
图18为类似于图17的示意性侧视图,其中已省略图17的夹持爪固持器。
图19为根据图1的装置的局部区域的经放大示意性正视图,其中图19a及图19b绘示夹持爪固持器及各别夹持器的不同位置。
具体实施方式
在以下描述中,诸如顶部、底部、左方、右方、水平、垂直以及其衍生词的方向性指示是指在图式中的表示且不应以限制方式看待,即使其可指代较佳的定向。
图1绘示在清洁一侧边(亦即未经保护的光掩模2的侧边)期间接收以及保护光掩模2或是具有防尘薄膜的光掩模的另一侧边免受清洁媒介影响的固持器1。光掩模2仅用虚线绘示于图1中且可为不具有防尘薄膜的光掩模或是具有防尘薄膜的光掩模。在根据图1的展示中,为了简化展示未绘示密封件。图2绘示穿过根据图1的固持器1的示意性截面视图,且图3绘示根据图2的其中安装有密封件的各别截面视图。当使用术语光掩模时,此应大体上关于光掩模的基座主体,与此类光掩模是具有防尘薄膜还是不具有防尘薄膜的光掩模无关。
固持器1具有基座5以及待置放于基座5上的密封框7。基座5以及密封框7中之至少一者可装备有固持单元,以便在两个组件安放于彼此上时以可拆卸方式将两个组件固持在一起。特定而言,可提供负压单元或真空单元,其可例如在密封框的下部侧上起基座5中的通孔(未绘示的开口)的作用,以便将密封框固持于基座上。然而,可提供其他固持单元以便可拆卸地将此两个组件固持在一起。
基座5实质上由具有上部侧10及下部侧11的圆形板组件9以及柄部分13构成,所述柄部分13从板组件9的下部侧11垂直延伸。板组件9的上部侧10以及下部侧11实质上为平面。如图4的示意性透视图中最佳地绘示,四个支撑组件15设置于板组件9上的上部侧10上。四个支撑组件15经配置使得其可在其四个拐角处接收矩形(特定而言正方形)光掩模2。支撑组件各自包括两个单独的支撑件16,其适用于在两个不同的纵向边缘的各别拐角的区域处接触光掩模2。
即使表示绘示具有各自具有两个支撑表面的特定架构的四个支撑组件15,但技术人员将认识到,较少数目的支撑组件(特定而言三个支撑组件)将足够用以界定支撑平面,其中支撑组件中的每一个可仅具有单个支撑表面。支撑组件15经设定大小及配置使得接收于其上的光掩模2实质上平行于基座的上部侧10。对于具有防尘薄膜的光掩模,支撑组件15具有足够的高度使得具有面朝下的防尘薄膜的光掩模可接收于支撑组件15上,使得防尘薄膜与基座5的上部侧15间隔开。此外,支撑组件15经配置使得当具有面朝下的防尘薄膜的光掩模2接收于支撑组件15上时,支撑组件15不接触防尘薄膜及其框架。特定而言,支撑组件15经架构使得其仅在面朝下的边缘处接触光掩模。出于此目的,支撑表面16各自包括倾斜顶部表面。
柄部分13关于板部分9定中心且实质上为圆形。如图2的展示中所绘示,柄部分13可至少部分地中空,且可包括用于旋转驱动装置的转轴(未绘示)的接收空间18。替代地,柄部分13亦可形成作为如图3中所指示的固体部分,且可提供用于将固体部分连接至旋转驱动装置的转轴的其他合适的结构。在使用时,通常经由旋转驱动装置的各别转轴可旋转地支撑基座5,其中图2及图3中所指示的轴线A表示旋转轴。
固持器1的密封框7实质上具有上部部分20、下部部分21以及密封件22。为了更容易的表示,密封件未绘示于图1及图2中,但绘示于图3中。为了形成密封框7,经由合适的安装手段(诸如螺钉)将上部部分20与下部部分21可拆卸地彼此附接,所述螺钉允许非破坏性地拆卸组件,以此方式密封件22接收于其间,如将在下文中更详细地描述。
密封框的上部部分20绘示于图6中的从下方看的透视图中且连同下部部分21绘示于图7中的从上方看的透视图中。上部部分20实质上包括具有上部侧24、下部侧25以及中心开口26的圆形板组件,所述圆形板组件延伸于上部侧24与下部侧25之间。上部部分20的上部侧24实质上为平面但可具有邻接于中心开口的斜面,所述斜面朝向下部侧倾斜,如图8至图10中所绘示,或亦可具有经磨圆的边缘。
下部侧25亦可实质上为平面但可在下部侧处提供引导结构,当上部部分20及下部部分21经组装时,所述引导结构允许关于下部部分21对准。此外,在上部部分20的下部侧25中,可提供多个带螺纹的盲孔,其可例如使上部部分20及下部部分21能够经由合适的螺钉彼此附接。然而,将上部部分20安装至下部部分21的其他手段亦为可能的,所述其他手段允许非破坏性地拆卸两个零件。
邻接于中心开口26,上部部分20的下部侧25经成型使得首先形成肩部28,其垂直于下部侧25延伸且其朝向上部侧24延伸。肩部28最佳地绘示于图8的简化表示中,所述简化表示绘示其中安装有密封件的密封框7的上部部分20与下部部分21之间的密封件夹持区域的经放大示意性展示。肩部28并入至从肩部28的上部边缘朝向中心开口26延伸的斜坡29中,且所述斜坡29朝向上部侧24倾斜。特定而言,表面或斜坡29可朝向上部侧24倾斜大致25度至32度,且例如具有关于上部部分20的上部侧24的大致28.5度的倾角。
中心开口26具有矩形形状且特定而言具有经磨圆的拐角的正方形形状,且进一步经设定大小以间隔方式接收光掩模2。
下部部分21实质上同样包括具有上部侧33、下部侧34、中心开口35以及外部周围侧缘(skirt)36的板组件32。下部部分21的示意性透视俯视图绘示于图5中。下部部分21的板组件32具有与上部部分20的板组件23实质上相同的周围尺寸。下部部分21中的中心开口35与上部部分20中的中心开口26实质上具有相同的形状以及大小。当上部部分20及下部部分21安装至彼此时,中心开口26以及中心开口35关于彼此对准。尽管未在图5及图7中绘示,但把手37可附接至下部部分21或可与其一体成型。如将在下文中更详细地解释,可与各别夹持器一起工作的把手37仅绘示于根据图1的俯视图中。把手37亦可提供于密封框7的上部部分20上,而非在下部部分21处提供把手37或是额外地设置于其上。如俯视图中所绘示,总共提供六个把手37。把手37被划分为每三个把手37一组,其以关于图1中的截面平面II-II对称的方式配置于密封框的相对侧上。如技术人员将认识到,亦可提供不同于所绘示的配置的把手37的不同配置。对于与开关固持器的装置一起工作,将参看图15至图18在下文中进行描述,例如,把手37中的三个可为足够的,特定而言一侧边上的外部把手37与另一侧边上的中间把手37相组合。藉由具有六个把手的配置,即使其旋转180°也能接收密封框。
板组件的上部侧33及下部侧34处于较大区域平面中,但上部侧可包括引导结构,以便当接合引导结构时提供上部部分20与下部部分21之间的对准。此外,在板组件32中,可提供可与上部部分20中对应的盲孔对准的孔或是通道(未绘示),以便允许藉由例如螺钉将两个组件安装至彼此。为了简化展示,未在图式中绘示各别孔以及连接器。
上部侧33包括邻接于中心开口26的突出部,其由斜坡38形成。斜坡38在下部部分21的径向方向上延伸与斜坡29在上部部分20的板组件23中延伸的实质上相同的距离。斜坡38例如关于板组件32的平面上部侧33在28°与34°之间的范围内倾斜且例如具有大致30°的倾角。斜坡29与斜坡38之间的角度不同,且特定而言斜坡38的角度比斜坡29的角度陡约1°至2°。由此,在密封框7的接合状态中,朝向中心开口26成楔形的接收空间40形成于上部部分20与下部部分21之间。此楔形接收空间40尤其较好地绘示于图8中,其中亦指示接收于其中的密封件22。当更详细地描述密封件22时,将在下文中更详细地描述楔形接收空间40的作用。
在各别经磨圆的拐角中,斜坡29及斜坡38可稍微更陡,例如陡0.5°,以便亦提供密封件22的拐角的良好的朝上偏置。由此,朝向中心开口26的接收空间40的开口在经磨圆的拐角中比在另一区域中稍微更高。
此外,板组件32包括外部周围侧缘36,其实质上从下部侧34垂直地朝下延伸,如图2中亦或是如图3中所绘示。如可从图2识别,侧缘36具有内部尺寸,其适用于当密封框7安放于基座5上时完全接收基座5的板部分9。尽管未详细绘示,但至少一个密封件可设置于下部部分21的下部侧34与板组件9的上部侧之间,其中密封件可安装至两个组件中的一个中。
参看图3以及图8至图14,将在下文中描述首先绘示于图3中的密封件22。在本文中,图14绘示例示性密封件22的俯视图,而图8至图13示意性地绘示密封件22在密封框的上部部分20与下部部分21之间的夹持以及密封件22相对于光掩模的关系。
如可从根据图14的俯视图识别,密封件22具有实质上矩形形状,特定而言具有经磨圆的拐角的实质上正方形且环形形状。在有角度形状的两个相对纵向侧处,提供向外的安装凸耳44、安装凸耳45。
在未安装状态下,密封件22具有实质上平面的架构且由合适的密封材料构成,所述密封材料抵抗在清洁光掩模2期间使用的清洁媒介。合适的材料为例如FFKM全氟弹性体橡胶或是EPDM乙烯-丙烯-二烯-单体橡胶。密封件22的厚度在1毫米至3毫米的范围内,较佳地在1.5毫米至2.5毫米的范围内,以及具有在25°至75°的范围内的肖氏硬度A。密封件的实质上矩形的内周围具有经磨圆的拐角,其中经磨圆的拐角的半径较佳地在2毫米至4毫米的范围内,特定而言大致约3毫米。尽管未在图式中绘示,密封件可具有中间部分,其朝向中间开口成楔形。
安装凸耳44、安装凸耳45经设定大小使得其适合密封框7的上部部分20的板组件23的下部侧25中的各别插座(receptacle),所述插座绘示在图6中的46处。安装凸耳44、安装凸耳45各自包括安装开口,以便以合适的方式,诸如经由插销47将密封件22安装至密封框7的下部部分21,所述插销47设置于板组件32的上部侧33上(参见图5)。显然,可提供额外的安装凸耳或是可省掉安装凸耳44、安装凸耳45。
如图8中最佳地绘示,密封件22的厚度实质上对应于在密封框7的上部部分20的下部侧25处的肩部28的高度。藉助于在密封框7的下部部分21处的斜坡38,密封件将在如图8中所绘示的朝上方向上倾斜。此处,图8中密封件22的虚线形状绘示在将仅藉由下部部分21固持的状态下的密封件或是在接收空间40不成楔形的状态下的密封件。实线形状绘示当上部部分20安装至下部部分21时的密封件22。由于接收空间40的楔形形状,邻接于中心开口26的接收空间40的高度小于在空载状态下的密封件22将具有的高度。由此,将在此区域中挤压密封件22,其一方面固定密封件且在另一方面亦提供进一步的朝上偏置。特定而言,接收空间40在其邻接中心开口26的末端处的高度比空载状态下的密封件的厚度小10%至20%。
密封件22经设定大小使得在安装状态下(亦即当接收于上部部分20与下部部分21之间时)其实质上在上部部分20或下部部分21的径向方向上在2.5毫米至3.5毫米的距离D1内(较佳地在大致2.9毫米的距离内)从中心开口26的内周围同等地或均匀地延伸至中心开口26,如例如图11中所绘示。此外,密封件22经设定大小使得在空载安装状态下关于密封件定中心的光掩模的边缘区域在径向方向上在大致0.4毫米至1毫米的距离D2内(较佳地0.6毫米至0.8毫米的距离内)重迭密封件,如图13及图14中最佳地绘示,与光掩模2是不具有防尘薄膜的光掩模还是具有防尘薄膜的光掩模无关,如图12及图13中所绘示。
当光掩模2接收于密封框7的中心开口26中使得光掩模从下方接触密封件22时,密封件进一步朝上变形,如图10中示意性地绘示。密封件22接触光掩模的侧表面且密封光掩模。藉由密封件22的特定形状(当其夹持于密封框7的上部部分20与下部部分21之间时其采用的形状)促进对应的密封。接着经由密封件22的下部侧实现密封,如图10中所绘示。由于密封件22的倾斜配置,促进了密封件22的下部侧与光掩模2的周围侧表面之间的良好接触。此外,倾斜配置有助于密封框7可易于从上方设置于光掩模2上且可在相对方向上自其移除,如将在下文中更详细地解释。
关于图15至图19,可更详细地解释开关先前所描述的固持器1的特定装置50。图15绘示装置50的示意性正视图,图16绘示根据图15的示意性右侧侧视图,图17绘示类似于图16的示意性侧视图,其中已省略装置的部件,且图19a及图19b绘示装置50的局部区域的经放大示意性正视图,绘示装置的不同位置处的夹持爪。
装置50实质上由主臂52、第一夹持器臂54、第二夹持器臂55、在第一夹持器臂处的第一夹持器配置56及在第二夹持器臂处的第二夹持器配置57以及屏蔽保持配置60构成。
主臂52具有第一安装末端62以及第二安装末端64。第一安装末端62可以任何合适的方式连接至移动机构,所述移动机构能够在空间内三维地移动主臂52。各别移动机构为本领域中所熟知且因此不在此处进行更详细地解释。
第二安装末端64刚性地连接至第一安装末端62,且支撑第一夹持器臂54及第二夹持器臂55以及屏蔽保持配置60。
此外,在第二安装末端处提供驱动装置,所述驱动装置能够使第一夹持器臂54及第二夹持器臂55关于彼此移动,如将在下文中更详细地解释。
夹持器臂54、夹持器臂55各自实质上具有L形状。L形状的各别第一腿66(其亦将被称为短腿66)接收于主臂52的第二安装末端64中且在其各别纵向方向上得以引导。特定而言,各别短腿66配置于主臂52的第二安装末端64中,使得其实质上平行于彼此且从第二安装末端64的相对侧延伸。特定而言,夹持器臂54、夹持器臂55的短腿66关于彼此对准,且以使得其可朝向彼此以及远离彼此移动的方式得以支撑。
第二腿67(其在下文亦将被称为长腿67)在关于短腿66成直角处朝向第二安装末端64的前部延伸,使得夹持器臂的长腿67延伸超出主臂52的前端。各别夹持器臂54、55的两个腿66、67水平地延伸。夹持器臂54、55的长腿67实质上平行于彼此延伸。
如由图15中的双向箭头F所绘示,长腿67可经由短腿66的各别移动朝向彼此以及远离彼此移动,以便以合适的方式调节其间的距离。腿66、67各自包括矩形横截面。
第一夹持器臂54在长腿67处支撑第一夹持器配置56,而第二夹持器臂55在长腿67处支撑第二夹持器配置57。
第一夹持器配置56实质上具有夹持爪70,所述夹持爪具有两个第一夹持器71以及至少一个第二夹持器72。
夹持爪70具有第一安装腿74、延伸腿75以及两个L形状的夹持器部分76。安装腿74具有实质上具有矩形横截面的细长形状。安装腿74在长腿67的面向第二夹持器臂55的侧边上安装至第一夹持器臂54的长腿67。特定而言,安装腿74经由旋转轴78以旋转方式安装至长腿67。旋转轴78在朝向第二夹持器臂55的方向上垂直于长腿67的纵向延伸部延伸。
此外,两个导销79设置于旋转轴78的两侧上的安装腿74上。导销接收于第一夹持器臂54的长腿67的长孔中,所述长孔在旋转轴78的相对侧上。由此,安装腿74相对于夹持器臂54的长腿67的旋转受到限制,如例如图16b中所绘示。安装腿74经由例如配置于长孔80内且作用于导销79的合适的偏置构件或经由任何其他合适配置的偏置构件偏置至定向中,其中安装腿74的纵向延伸部实质上平行于第一夹持器臂54的长腿67的纵向延伸部。此类各别对准例如绘示于图16a中。
延伸腿75在更接近主臂52的末端处接合至安装腿74的底部,且实质上朝向主臂52与其平行延伸。L形状的夹持器部件76中的一个安装至延伸腿75的自由末端,亦即离安装腿74最远的末端。各别L形状的夹持器部分76亦在安装腿74的离主臂52最远的末端处设置于安装腿74的上。安装腿74、延伸腿75以及L形状的夹持器部件76可一体成型,但其亦可由安装至彼此的不同组件形成。目前,整体形式较佳。
L形状的夹持器部件76各自具有纵向延伸的第一腿82,其在安装腿74下方且垂直于所述安装腿延伸,特定而言第一腿在水平方向上延伸且跨越安装腿74下方的第一夹持器臂54的长腿67。在第一腿82的自由末端处,第二腿83垂直朝下延伸。第一腿82在其面向第二夹持器臂55的末端处具有凹口,其用以形成第二夹持器72。
在向下延伸的第二腿83中亦形成凹口,其形成第一夹持器71的夹持爪70。由于提供L形状的夹持器部件76中的两个,相应地亦提供两个第一夹持器71,其在安装腿74的纵向延伸部中隔开,且因此在第一夹持器臂54的长腿67的纵向方向上隔开。夹持器71及夹持器72由夹持爪的各别腿部分中的凹口形成。然而,所述夹持器亦可以不同方式形成,特定而言作为单独组件形成,其可安装至夹持爪的各别腿部分。
安装至第二夹持器臂55的第二夹持器配置57实质上由夹持爪84、安装至夹持爪84的第一夹持器87以及第二夹持器97形成。夹持爪84具有第一水平腿88、垂直连接腿89以及第二水平腿90。夹持爪84可同样一体成型或可由若干个别部件形成。
第一水平腿88在第二夹持器臂55的长腿67下方垂直地延伸。在第二夹持器臂55的长腿67的下部侧处提供可调节挡板,第一水平腿88的上部侧可倚靠其上,如例如图15的视图中所绘示。在面向第一夹持器臂54的第一腿88的末端处,藉助于凹口以与第二夹持器72形成于第一夹持爪70中相同的方式形成第二夹持器97。
在与第二夹持器97相对的第一水平腿88的末端处,设置垂直连接腿89且其从各别末端垂直朝下延伸。在垂直连接腿89的下部末端处,提供同样垂直于垂直连接腿89延伸的第二水平腿90。
第二水平腿90实质上平行于第一水平腿88延伸。藉由面向第一夹持器臂54的第二水平腿90的末端支撑第一夹持器87。第一夹持器87安装成可绕平行于第二水平腿90延伸的旋转轴96旋转。旋转轴96朝向第一夹持器臂54。
经由安装托架91将夹持爪84安装至第二夹持器臂55。特定而言,安装托架91安装至第二安装臂55的长腿67的背向第一安装臂54的侧边。可以任何合适的方式执行各别安装。安装托架91实质上具有水平腿92及从水平腿92的一个末端垂直朝下延伸的垂直腿93的形状。在其下部末端处,安装托架91的垂直腿93支撑旋转轴94。旋转轴94实质上在水平方向上平行于第二安装臂55的长腿67延伸。
夹持爪84的第二水平腿90经由旋转轴94以旋转方式安装至安装托架92。此外,安装托架91设置有具有朝下偏置的插销99的偏置单元98,所述插销以任何合适的方式向下偏置且作用于第二水平腿90的一个末端。插销99按压于第二水平腿90上使得其绕旋转轴逆时针旋转,如图15中所见。此旋转受与第二安装臂55的长腿67的下部侧接触的第一水平腿88上的挡板限制。在此位置中,夹持爪84的第一水平腿88及第二水平腿90水平地对准。然而,如图19b中所指示,夹持爪可相对于插销99的偏置绕旋转轴94在顺时针方向上旋转。
第一夹持器配置56及第二夹持器配置57配置于各别第一夹持器臂54及第二夹持器臂55上,使得在夹持器配置的原始位置中夹持器71及夹持器87配置在水平面中且面向彼此。类似地,在夹持器配置的原始位置中,夹持器72及夹持器97配置在水平面中且面向彼此。
由于第一夹持爪70及第二夹持爪84相对于各别夹持器臂54、夹持器臂55与夹持器87的额外的旋转配置的组合的可移动配置,可将各别夹持器87、71调适成不水平地对准的组件。特定而言,夹持器87及夹持器71经架构用于夹持上述类型的固持器1的密封框7的把手37。然而,可提供夹持器72、夹持器97以用于夹持诸如光掩模的其他组件。
装置50的屏蔽保持配置60实质上包括水平地延伸的板组件100以及安装于其上的保持配置102。
板组件100的一个末端安装至主臂52的第二安装末端64使得其平行于夹持器臂54、夹持器臂55延伸。板组件100可刚性地安装至主臂52的安装末端64,但亦可以高度可调节及/或可枢转的方式加以固持。板组件100可锁定至图式中所绘示的位置。
保持配置102各自包括接收套管104以及保持销106,所述保持销106可移动地配置于接收套管104中。特定而言,这些保持配置102中的四个配置于板组件100的下部侧上。接收套管104以合适的方式安装至板组件100的下部侧,使得各别接收套管104的纵向轴线垂直于板组件100延伸。
接收套管104各自在其中形成用于接收保持销106的各别接收空间(未绘示)。可在接收空间的纵向方向上移动地引导保持销106。偏置单元(未绘示)设置于接收套管104的各别接收空间内。偏置单元在一方向上将保持销106偏置出接收套管104。以合适的方式限制保持销106移出接收套管104。各别偏置单元可例如由机械弹簧、气动弹簧或是其他组件形成。虽然图15绘示保持销106的完全回缩位置,但图16绘示保持销106的完全延伸位置。
保持销106各自包括接收于接收套管104内的引导部分(未绘示)以及从接收套管104延伸的部分,所述部分在其下部末端处支撑接触顶端108。如技术人员将认识到,保持销106可相对于偏置单元的偏置力移动至接收套管104且可移出接收套管104。接触顶端108亦可以类似方式弹性地支撑于保持销106内。位于接收套管104外部的各别保持销106的部分接收于安装至各别接收套管104的夹套中。夹套形成一种类型的波纹管,使得可在接收套管中引导保持销106时产生的任何粒子被包封且可不落于置放于其下的光掩模上。
在屏蔽保持配置60的工作位置中,如例如图16中所绘示,板组件100处于所绘示的位置。在此位置中,保持销106安置于夹持器臂54与夹持器臂55之间,使得当夹持器87、夹持器71夹持密封框7(其中未接收到光掩模)上的把手37时,保持销106的接触顶端108中的至少一个将延伸至密封框7的中心开口26中。然而,若光掩模接收于密封框7内,则接触顶端108将接触光掩模2的上部侧且保持销106将弹性地移动至接收套管104中。
在下文中,将更详细地描述使用先前所描述的固持器1及用于开关固持器的装置50的清洁工艺。首先,光掩模2将置放于支撑组件15的支撑件16上,使得待保护的侧边或具有防尘薄膜的侧边向下。随后,藉助于装置50,密封框7将安置于基座5上方且接着朝向基座移动。在如此操作时,保持销106的接触顶端将与光掩模2的向上侧接触且其将光掩模压向支撑件16。藉由密封框朝向基座的进一步朝下移动,保持销相对于接收套管104中的各别偏置弹性地移动。此外,在密封框的此移动期间,密封框7上的周围密封件22将首先与光掩模2的向上侧接触。当密封框7进一步朝下移动时,密封件22将朝上变形。藉由密封框7朝向基座5的持续移动,密封件22的下部侧将与光掩模2的侧表面接触且将密封所述侧表面。将维持密封件的此位置直至密封框7位于基座5上为止。接着密封框7将例如藉助于负压或真空朝向基座5固定,将释放装置50且将其移出在固持器1正上方的区域。
此时,光掩模2的下部侧或是光掩模2的下部侧上的防尘薄膜将关于环境而密封。现今诸如清洁液体的清洁媒介、诸如冻结二氧化碳的气体或是固体材料将涂覆于光掩模2的向上侧以便清洁光掩模2的向上侧。由于光掩模2在其侧表面处的密封,将保护光掩模2的下部侧或附接于其的防尘薄膜免受清洁媒介影响。
在涂覆液体的情况下,在将清洁液体涂覆至上部侧且视情况使用冲洗液体对其进行冲洗之后,可干燥光掩模2的各别上部侧。此可例如藉由基座5的快速旋转或自旋且因此密封框7及光掩模2的快速旋转或自旋实现。亦可藉助于导入至光掩模2的上部侧上的气流实现以及/或促进各别干燥。
随后,装置50再次进入密封框7上方的位置且夹持器87及夹持器71与密封框7上的把手37相接合。当装置50移动至各别夹持位置时,固持销106的接触顶端108再次接触光掩模2的上部侧且固持销106再次弹性地移动至接收套管104中。在随后朝上移动装置50期间,固持销106将光掩模2压向与支撑组件15的支撑件16,同时经由装置的夹持器87、夹持器71提升密封框7。由此,保持销106的冲程以及其各别偏置足以将光掩模2牢固地固持在支撑组件15的支撑件16上。
当提升以及移除密封框7时,亦可从基座5的支撑组件15移除光掩模2。
已关于上文的较佳实施例描述本发明,但本发明不限于所述具体实施例。技术人员将认识到不同修改及改变在权利要求的范畴内。

Claims (33)

1.一种固持器,接收以及保护光掩模或是具有防尘薄膜的光掩模的侧边免受清洁媒介影响,所述固持器包括:
基座,具有至少三个支撑组件,所述支撑组件经配置以用于接收以及固持从所述基座的底部表面隔开的所述光掩模或具有防尘薄膜的所述光掩模;
密封框,具有上部侧以及下部侧,其中所述下部侧可设置于所述基座上,且其中所述密封框包括中心开口,所述中心开口经设定大小使得其可以间隔方式接收所述光掩模;
周围弹性密封组件,位于所述密封框处,所述周围弹性密封组件以倾斜方式朝向所述密封框的所述上部侧从所述中心开口的内周围延伸至所述中心开口中,其中在空载状态下的所述密封组件具有内周围,所述内周围小于所述光掩模的外周围,且在负载状态下的所述密封组件可周向性地接触所述光掩模,所述光掩模接收于所述中心开口中的侧表面处。
2.根据权利要求1所述的固持器,其中所述支撑组件经配置使得其仅在所述光掩模的边缘处,尤其在所述光掩模的拐角处接触所述光掩模。
3.根据权利要求1或2所述的固持器,其中所述支撑组件各自具有一个或两个倾斜的支撑表面。
4.根据前述权利要求中任一项所述的固持器,其中在所述空载状态下的所述密封件以均一方式在2.5毫米至3.5毫米的距离内以及较佳地约2.9毫米的距离内从所述中心开口的所述内周围延伸至所述中心开口中。
5.根据前述权利要求中任一项所述的固持器,其中所述密封件经设定大小使得在所述空载状态下其与所述光掩模的边缘区域重迭,所述光掩模的所述边缘区域关于所述密封件以约0.4毫米至1毫米,较佳地0.6毫米至0.8毫米定中心。
6.根据前述权利要求中任一项所述的固持器,其中所述密封件具有在1毫米与3毫米的范围内,较佳地在1.5毫米至2.5毫米的范围内的厚度以及在25°至75°的范围内的肖氏硬度A。
7.根据前述权利要求中任一项所述的固持器,其中所述密封件在所述空载状态下以及在所述密封框中安装所述密封件之前具有实质上扁平架构。
8.根据前述权利要求中任一项所述的固持器,其中所述密封件具有实质上矩形的内周围,其中所述内周围的拐角经磨圆以及较佳地具有在2毫米至4毫米范围内的半径,特定而言约3毫米的半径。
9.根据前述权利要求中任一项所述的固持器,其中所述密封件具有实质上矩形的架构以及在其外周围上在至少两个相对的边缘区域处具有安装凸耳。
10.根据前述权利要求中任一项所述的固持器,其中所述密封件抵抗待使用的所述清洁媒介以及/或UV辐射。
11.根据前述权利要求中任一项所述的固持器,其中所述密封框具有上部部分以及下部部分,所述上部部分以及所述下部部分以可拆卸方式彼此附接,且其中所述密封件夹持于所述上部部分与所述下部部分之间。
12.根据权利要求11所述的操作固持器,其中所述上部部分以及所述下部部分形成所述密封件的周围接收空间,所述周围接收空间朝向所述中心开口打开,朝向所述中心开口成楔形以及以倾斜方式朝向所述中心开口朝向所述密封框的所述上部侧延伸。
13.根据权利要求12所述的操作固持器,其中所述密封件的所述接收空间朝向所述密封框的所述上部侧平均倾斜大致29°。
14.根据权利要求12或13所述的操作固持器,其中所述接收空间在其面向所述中心开口的末端处具有小于所述密封件的厚度的高度。
15.根据权利要求14所述的操作固持器,其中面向所述中心开口的所述接收空间的末端具有比所述密封件的厚度小10%至20%的高度。
16.根据前述权利要求中任一项所述的固持器,其中所述密封框在所述密封件的安装位置上方的区域中具有斜坡,所述斜坡朝向所述密封框的径向周围加宽。
17.根据前述权利要求中任一项所述的固持器,其中所述基座包括固持器单元,特定而言真空或负压单元,以用于以可释放方式将所述密封框固持至所述基座。
18.根据前述权利要求中任一项所述的固持器,其中所述基座以及所述密封框中之至少一者包括周围密封件,所述周围密封件面向另一组件,亦即所述密封框或所述基座。
19.根据前述权利要求中任一项所述的固持器,其中所述基座以及所述密封框包括补充引导组件,所述补充引导组件在将所述密封框置放于所述基座上期间实现彼此相对的所述两个组件的对准。
20.一种清洁光掩模,特定而言具有防尘薄膜的光掩模的侧边的方法,包括:
在根据前述权利要求中任一项所述的固持器中接收所述光掩模,其中所述光掩模最初置放于所述支撑组件上,使得所述光掩模的未经清洁的侧边面向所述基座,以及其后将所述密封框置放于所述基座上,使得所述周围弹性密封组件在其侧表面处周向性地接触所述光掩模以及密封所述光掩模,其中所述光掩模的待清洁的所述侧边是可接触的;
使用至少一种清洁媒介清洁所述光掩模的待清洁的所述侧边,所述至少一种清洁媒介涂覆至所述待清洁的所述侧边;
沿与所述密封框置放于所述基座上相反的方向从所述基座移除所述密封框,同时将所述光掩模压向所述支撑组件;以及
从所述支撑组件移除所述光掩模。
21.根据权利要求20所述的清洁光掩模的侧边的方法,其中所述光掩模置放于所述支撑组件上,使得仅所述光掩模的边缘,特定而言所述光掩模的拐角接触所述支撑组件。
22.根据权利要求20或21所述的清洁光掩模的侧边的方法,其中在所述密封框置放于所述基座上期间,所述密封组件朝向所述密封框的上部侧变形,使得所述密封组件的下部侧接触所述光掩模的侧表面以及密封所述光掩模的所述侧表面。
23.根据权利要求20至22中任一项所述的清洁光掩模的侧边的方法,其中所述清洁媒介为液体媒介,且所述光掩模的经清洁的所述侧边在从所述基座移除所述密封框之前经干燥。
24.一种开关根据前述权利要求中任一项所述的固持器的装置,包括:
至少两个间隔开的夹持器,其面向彼此,所述夹持器在开放位置与闭合位置之间是可移动的,在所述开放位置中所述夹持器可自由地将所述密封框接收于其间,在所述闭合位置中所述夹持器可夹持所述密封框;
屏蔽保持单元,具有至少一个保持销,所述屏蔽保持单元在空间上配置于所述夹持器之间,使得当所述密封框接收于所述夹持器之间时,所述屏蔽保持单元与所述密封框中的所述中心开口对准,以及所述屏蔽保持单元实质上垂直于所述夹持器移动的开放/闭合方向延伸,其中所述至少一个保持销经支撑以在其延伸方向上可移动;以及
移动单元,耦接至所述夹持器以及所述保持单元两者,以便共同移动所述夹持器以及所述保持单元。
25.根据权利要求24所述的开关固持器的装置,其中所述至少一个保持销接收于引导组件内以及经由偏置单元弹性地偏置出所述引导组件,其中藉助于挡板限制所述保持销移出所述引导组件。
26.根据权利要求24所述的开关固持器的装置,其中所述至少一个保持销经由可控制移动机构在其延伸方向上是可移动的。
27.根据权利要求24至26中任一项所述的开关固持器的装置,其中所述至少一个保持销可从其在所述夹持器之间的位置移动至空档位置,在所述空档位置中所述至少一个保持销不能执行保持功能。
28.根据权利要求24至27中任一项所述的开关固持器的装置,其中所述移动单元包括两个间隔开的臂,每一所述臂载有至少一个所述夹持器以及至少在所述夹持器的区域中实质上平行于其纵向方向延伸。
29.根据权利要求28所述的开关固持器的装置,其中所述夹持器包括在所述臂中的至少一个上具有夹持爪的夹持爪固持器,其中所述夹持爪固持器绕第一旋转轴可旋转地支撑,在各别所述臂的纵向方向上延伸,且其中所述夹持爪安装于待绕第二旋转轴旋转的各别所述夹持爪固持器上,垂直于各别所述臂的纵向延伸部延伸。
30.根据权利要求29所述的开关固持器的装置,其中所述第一旋转轴以及所述第二旋转轴配置成实质上垂直于彼此。
31.根据权利要求28至30中任一项所述的开关固持器的装置,其中在所述臂中的至少一个上的所述夹持器包括具有两个夹持爪的夹持爪固持器,所述夹持爪在支撑所述夹持爪固持器的所述臂的纵向方向上经间隔开,其中在原始位置处的所述夹持爪对准在实质上平行于所述臂的在线,且其中支撑所述夹持爪固持器以绕第三旋转轴旋转,所述第三旋转轴垂直于各别所述臂的纵向方向。
32.根据权利要求31所述的开关固持器的装置,其中所述第三旋转轴指向另一臂。
33.根据权利要求31或32所述的开关固持器的装置,还包括偏置单元,所述偏置单元将所述夹持爪偏置至所述夹持爪的所述原始位置。
CN201780081883.5A 2016-11-16 2017-11-16 固持器、清洁光掩模的方法以及开关固持器的装置 Active CN110291461B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL2017806A NL2017806B1 (nl) 2016-11-16 2016-11-16 Holder for receiving and for protecting one side of a photomask or of a photomask with pellicle from a cleaning medium, method for cleaning a photomask or a photomask with pellicle and apparatus for opening and closing a holder
NL2017806 2016-11-16
PCT/EP2017/079497 WO2018091601A1 (de) 2016-11-16 2017-11-16 HALTER ZUR AUFNAHME UND ZUM SCHUTZ EINER SEITE EINER PHOTOMASKE ODER EINER PHOTOMASKE MIT PELLICLE GEGENÜBER EINEM REINIGUNGSMEDIUM, VERFAHREN ZUM REINIGEN EINER PHOTOMASKE ODER EINER PHOTOMASKE MIT PELLICLE UND VORRICHTUNG ZUM ÖFFNEN UND SCHLIEßEN EINES HALTERS

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN110291461A true CN110291461A (zh) 2019-09-27
CN110291461B CN110291461B (zh) 2021-08-31

Family

ID=58402100

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201780081883.5A Active CN110291461B (zh) 2016-11-16 2017-11-16 固持器、清洁光掩模的方法以及开关固持器的装置

Country Status (9)

Country Link
US (1) US10845718B2 (zh)
EP (1) EP3542220B1 (zh)
JP (1) JP6998965B2 (zh)
KR (1) KR102466844B1 (zh)
CN (1) CN110291461B (zh)
NL (1) NL2017806B1 (zh)
RU (1) RU2746714C2 (zh)
TW (1) TWI763737B (zh)
WO (1) WO2018091601A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114433570A (zh) * 2022-04-06 2022-05-06 深圳市龙图光电有限公司 半导体芯片用掩模版膜下异物清理方法及设备

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102019110706A1 (de) 2018-09-28 2020-04-02 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Verfahren zum herstellen von euv-fotomasken
US11106126B2 (en) 2018-09-28 2021-08-31 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Method of manufacturing EUV photo masks

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5513594A (en) * 1993-10-20 1996-05-07 Mcclanahan; Adolphus E. Clamp with wafer release for semiconductor wafer processing equipment
US20020127956A1 (en) * 2001-03-12 2002-09-12 Jalal Ashjaee Method of sealing wafer backside for full-face electrochemical plating
US20080041760A1 (en) * 2006-08-17 2008-02-21 Microtome Precision, Inc. High cleanliness article transport system
US20170139334A1 (en) * 2015-11-18 2017-05-18 Applied Materials, Inc. Apparatus and methods for photomask backside cleaning

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6141092Y2 (zh) * 1979-12-22 1986-11-22
US4648106A (en) * 1984-11-21 1987-03-03 Micronix Corporation Gas control for X-ray lithographic system
JPH04137035A (ja) * 1990-09-28 1992-05-12 Toshiba Corp ソフトウェア設計構造格納装置
JPH05281707A (ja) * 1992-03-31 1993-10-29 Matsushita Electron Corp マスク洗浄治具
JPH09246235A (ja) * 1996-03-11 1997-09-19 Dainippon Printing Co Ltd エッチング方法およびエッチング装置
US5938860A (en) 1997-08-28 1999-08-17 Micron Technology, Inc. Reticle cleaning without damaging pellicle
CN1245668C (zh) * 2002-10-14 2006-03-15 台湾积体电路制造股份有限公司 曝光系统及其曝光方法
JP2004259756A (ja) * 2003-02-24 2004-09-16 Nikon Corp ガス置換装置、露光装置及びデバイスの製造方法
JP2004354656A (ja) * 2003-05-29 2004-12-16 Nikon Corp 光洗浄装置及び光洗浄方法、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
NL1024215C2 (nl) * 2003-09-03 2005-03-07 Otb Group Bv Systeem en werkwijze voor het behandelen van substraten, alsmede een gebruik van een dergelijke systeem en een transportinrichting.
CN1980841A (zh) * 2004-09-10 2007-06-13 日本华而卡工业株式会社 玻璃基板容纳箱、玻璃基板调换装置、玻璃基板管理装置、玻璃基板流通方法、密封部件及使用该密封部件的密封构造
JP4802937B2 (ja) * 2006-08-24 2011-10-26 大日本印刷株式会社 フォトマスクの洗浄方法
NL1036571A1 (nl) * 2008-03-07 2009-09-08 Asml Netherlands Bv Lithographic Apparatus and Methods.
US20100028813A1 (en) 2008-08-04 2010-02-04 Banqiu Wu Backside cleaning of substrate
US8440479B2 (en) * 2009-05-28 2013-05-14 Corning Incorporated Method for forming an organic light emitting diode device
JP2012078562A (ja) * 2010-10-01 2012-04-19 Toppan Printing Co Ltd マスクケースおよびマスクの洗浄方法
CN204462637U (zh) * 2015-03-13 2015-07-08 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 一种光罩护膜清洁装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5513594A (en) * 1993-10-20 1996-05-07 Mcclanahan; Adolphus E. Clamp with wafer release for semiconductor wafer processing equipment
US20020127956A1 (en) * 2001-03-12 2002-09-12 Jalal Ashjaee Method of sealing wafer backside for full-face electrochemical plating
US20080041760A1 (en) * 2006-08-17 2008-02-21 Microtome Precision, Inc. High cleanliness article transport system
US20170139334A1 (en) * 2015-11-18 2017-05-18 Applied Materials, Inc. Apparatus and methods for photomask backside cleaning

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114433570A (zh) * 2022-04-06 2022-05-06 深圳市龙图光电有限公司 半导体芯片用掩模版膜下异物清理方法及设备

Also Published As

Publication number Publication date
US10845718B2 (en) 2020-11-24
NL2017806B1 (nl) 2018-05-25
KR20190094371A (ko) 2019-08-13
KR102466844B1 (ko) 2022-11-11
WO2018091601A1 (de) 2018-05-24
RU2019118487A (ru) 2020-12-17
EP3542220A1 (de) 2019-09-25
EP3542220B1 (de) 2020-10-14
TWI763737B (zh) 2022-05-11
RU2746714C2 (ru) 2021-04-19
CN110291461B (zh) 2021-08-31
RU2019118487A3 (zh) 2021-02-24
US20190369510A1 (en) 2019-12-05
JP2019536114A (ja) 2019-12-12
JP6998965B2 (ja) 2022-01-18
TW201826015A (zh) 2018-07-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN110291461A (zh) 从清洁媒介固持与保护光掩模或具有防尘薄膜的光掩模的侧边的固持器、清洁光掩模或具有防尘薄膜的光掩模的方法以及开关固持器的装置
TWI607523B (zh) 基板處理裝置
CN110834011A (zh) 用于清洁半导体设备的装置
JP2018538011A5 (zh)
KR101722312B1 (ko) 마스크팩용 시트 자동분리장치
KR20160131749A (ko) 진공청소 장치
US20230348127A1 (en) Nest remover and sterile chamber
CN206064929U (zh) 一种密封式气动除尘装置
CN211614566U (zh) 真空吸附盘
JP5627425B2 (ja) 囲枠付きエアフィルタ用着脱機構
KR101555670B1 (ko) 오븐챔버의 리프트 하우징유닛
TWI792870B (zh) 基板處理裝置用基板支撐組裝體
KR20010020810A (ko) 반도체 웨이퍼의 단일방향 에칭 장치
KR102226270B1 (ko) 기판지지 모듈
CN211979089U (zh) 一种储能电站效益风险评估装置
CN203824806U (zh) 一种空气取样器及其空气盒
CN215066861U (zh) 一种探针卡拆卸防呆装置
KR100198921B1 (ko) 진공청소기의 종이필터 착탈장치
CN215205542U (zh) 一种真空包装机用防尘装置
CN210862160U (zh) 一种干燥机密封装置
KR20190077162A (ko) 진공흡착 장치
KR20170059290A (ko) 스퍼터링 척테이블을 구비하는 어태칭 장치
TW201818486A (zh) 晶圓檢查設備之鏡頭殼體組合
JP3676971B2 (ja) ウェーハ保持装置
JP2015025497A (ja) シャワープレート保持具

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant