RU2019118487A - Держатель для размещения и защиты стороны фотошаблона или фотошаблона с мембраной относительно очищающей среды, способ очистки фотошаблона или фотошаблона с мембраной и устройство для открывания и закрывания держателя - Google Patents

Держатель для размещения и защиты стороны фотошаблона или фотошаблона с мембраной относительно очищающей среды, способ очистки фотошаблона или фотошаблона с мембраной и устройство для открывания и закрывания держателя Download PDF

Info

Publication number
RU2019118487A
RU2019118487A RU2019118487A RU2019118487A RU2019118487A RU 2019118487 A RU2019118487 A RU 2019118487A RU 2019118487 A RU2019118487 A RU 2019118487A RU 2019118487 A RU2019118487 A RU 2019118487A RU 2019118487 A RU2019118487 A RU 2019118487A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
photomask
sealing frame
holder
holder according
seal
Prior art date
Application number
RU2019118487A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2746714C2 (ru
RU2019118487A3 (ru
Inventor
Йенс КРЮМБЕРГ
Адем БЕЗЕР
Уве ДИТЦЕ
Original Assignee
Зюсс Микротек Фотомаск Эквипмент Гмбх Унд Ко.Кг
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Зюсс Микротек Фотомаск Эквипмент Гмбх Унд Ко.Кг filed Critical Зюсс Микротек Фотомаск Эквипмент Гмбх Унд Ко.Кг
Publication of RU2019118487A publication Critical patent/RU2019118487A/ru
Publication of RU2019118487A3 publication Critical patent/RU2019118487A3/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2746714C2 publication Critical patent/RU2746714C2/ru

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70983Optical system protection, e.g. pellicles or removable covers for protection of mask
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/66Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • G03F1/82Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70908Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
    • G03F7/70925Cleaning, i.e. actively freeing apparatus from pollutants, e.g. using plasma cleaning

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Packaging Frangible Articles (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Claims (43)

1. Держатель для размещения и для защиты стороны фотошаблона или фотошаблона с мембраной, относительно очищающей среды, причём держатель имеет следующие элементы:
- основание с, по меньшей мере, тремя опорными элементами, которые для размещения и для удержания фотошаблона или фотошаблона с мембраной расположены на расстоянии от днища основания;
- уплотнительную раму, с верхней стороной и нижней стороной, причём нижняя сторона выполнена с возможностью насаживания на основание и уплотнительная рама имеет центральное отверстие, которое рассчитано таким образом, что может размещать фотошаблон с зазором;
- круговой эластичный уплотнительный элемент на уплотнительной раме, который от внутреннего периметра центрального отверстия наклонно к верхней стороне уплотнительной рамы с наклоном входит в центральное отверстие, причём уплотнительный элемент в ненагруженном состоянии имеет внутренний периметр, который меньше, чем внешний периметр фотошаблона, и в нагруженном состоянии входит в контакт с помещённым в центральное отверстие фотошаблоном по кругу на боковой кромке.
2. Держатель по п.1, причём опорные элементы расположены таким образом, что они входят в контакт с фотошаблоном лишь в кромочной зоне, в частности, в угловых зонах фотошаблона.
3. Держатель по п.1 или 2, причём опорные элементы имеют, соответственно, одну или две наклонные опорные поверхности.
4. Держатель по любому из предыдущих пунктов, причём уплотнение в ненагруженном состоянии располагается равномерно от внутреннего периметра центрального отверстия внутрь него, а именно на расстоянии от 2,5 до 3,5 мм и предпочтительно на расстоянии примерно 2,9 мм.
5. Держатель по любому из предыдущих пунктов, причём уплотнение в ненагруженном состоянии рассчитано таким образом, что оно перекрывает кромочные зоны центрированного относительно него фотошаблона, а именно от 0,4 до 1 мм, предпочтительно от 0,6 до 0,8 мм.
6. Держатель по любому из предыдущих пунктов, причём уплотнение имеет толщину в диапазоне от 1 до 3 мм, предпочтительно в диапазоне от 1,5 до 2,5 мм, а также твёрдость А по Шору в диапазоне от 25° до 75°.
7. Держатель по любому из предыдущих пунктов, причём уплотнение перед его размещением в уплотнительной раме в ненагруженном состоянии имеет, в основном, плоскую конфигурацию.
8. Держатель по любому из предыдущих пунктов, причём уплотнение имеет, в основном, прямоугольный внутренний периметр, причём угловые зоны внутреннего периметра имеют закругления и предпочтительно радиус в диапазоне от 2 до 4 мм, в частности, примерно 3 мм.
9. Держатель по любому из предыдущих пунктов, причём уплотнение имеет, в основном, прямоугольную конфигурацию и в, по меньшей мере, двух противолежащих кромочных зонах, соответственно, на внешнем периметре, имеет монтажную накладку.
10. Держатель по любому из предыдущих пунктов, причём уплотнение устойчиво в отношении воздействия использованной очищающей среды и/или УФ-излучения.
11. Держатель по любому из предыдущих пунктов, причём уплотнительная рама имеет верхнюю часть и нижнюю часть, которые с возможностью разъёма закреплены друг на друге, причём уплотнение зажато между верхней частью и нижней частью.
12. Держатель по п.11, причём верхняя часть и нижняя часть образуют круговое, открытое к центральному отверстию, приёмное пространство для уплотнения, которое сужается к центральному отверстию и которое с наклоном к верхней стороне уплотнительной рамы наклонено к центральному отверстию.
13. Держатель по п.12, причём приёмное пространство для уплотнения в среднем примерно на 29° наклонено к верхней стороне уплотнительной рамы.
14. Держатель по п.12 или 13, причём приёмное пространство на своём обращённом к центральному отверстию конце имеет высоту, которая меньше, чем толщина уплотнения.
15. Держатель по п.14, причём приёмное пространство на своём обращённом к центральному отверстию конце имеет высоту, которая на 10-20% меньше, чем толщина уплотнения.
16. Держатель по любому из предыдущих пунктов, причём уплотнительная рама в зоне выше места присоединения уплотнения имеет расширяющиеся радиально к периметру уплотнительной рамы скосы.
17. Держатель по любому из предыдущих пунктов, причём основание имеет удерживающее устройство, в частности, вакуумное устройство, для удержания уплотнительной рамы с возможностью разъёма.
18. Держатель по любому из предыдущих пунктов, причём основание и/или уплотнительная рама имеют, по меньшей мере, одно обращённое, соответственно, к другому элементу, т.е. к уплотнительной раме или к основанию, круговое уплотнение.
19. Держатель по любому из предыдущих пунктов, причём основание и уплотнительная рама имеют дополнительные направляющие элементы, которые при насаживании уплотнительной рамы на основание обеспечивают ориентацию обоих элементов относительно друг друга.
20. Способ очистки стороны фотошаблона, в частности, фотошаблона с мембраной, включающий следующие этапы:
- установка фотошаблона в держатель по любому из предыдущих пунктов, причём фотошаблон сначала своей не подвергаемой очистке стороной, будучи обращённым к основанию, устанавливают на опорные элементы, а затем уплотнительную раму таким образом насаживают на основание, что эластичный уплотнительный элемент примыкает к фотошаблону по кругу на боковой кромке и уплотняет его, причём подвергаемая очистке сторона фотошаблона располагается свободно,
- очистка подвергаемой очистке стороны фотошаблона посредством, по меньшей мере, одной очищающей среды, которую наносят на подвергаемую очистке сторону,
- снятие уплотнительной рамы с основания в направлении, обратном насаживанию, в то время как фотошаблон прижимается к опорным элементам, и
- подъём фотошаблона с опорных элементов.
21. Способ по п.20, причём фотошаблон устанавливают на опорных элементах таким образом, что лишь кромочные зоны, в частности, угловые зоны фотошаблона вступают в контакт с опорными элементами.
22. Способ по п.20 или 21, причём при насаживании уплотнительной рамы на основание уплотнительный элемент в направлении к верхней стороне уплотнительной рамы деформируется, так что нижняя сторона уплотнительного элемента прилегает к боковой кромке фотошаблона и герметизируется относительно неё.
23. Способ по любому из пп.20-22, причём очищающей средой является жидкая среда, а подвергаемую очистке сторону фотошаблона перед снятием уплотнительной рамы с основания высушивают.
24. Устройство для открывания и закрывания держателя по любому из пп. 1-19, которое имеет следующие элементы:
- по меньшей мере, два расположенных на расстоянии друг от друга, обращённых друг к другу захвата, которые выполнены с возможностью перемещения между открытым положением, в котором они могут свободно размещать между собой уплотнительную раму, и закрытым положением, в котором они могут войти в зацепление с уплотнительной рамой,
- устройство поддержания шаблона с, по меньшей мере, одним поддерживающим штифтом, который в пространстве таким образом располагается между захватами, что оказывается ориентирован с центральный отверстием в уплотнительной раме, если он помещён между захватами, и который располагается, в основном, перпендикулярно направлению перемещения захвата при открывании / закрывании, причём, по меньшей мере, один поддерживающий штифт удерживается с возможностью перемещения в направлении своего расположения,
- устройство перемещения, которое соединено как с захватами, так и с поддерживающим устройством, для их совместного перемещения.
25. Устройство по п.24, причём, по меньшей мере, один поддерживающий штифт помещается в направляющем элементе и посредством устройства предварительного натяжения упруго выводится из него вовне, причём перемещение из направляющего элемента вовне ограничено посредством, по меньшей мере, одного упора.
26. Устройство по п.24, причём, по меньшей мере, один поддерживающий штифт выполнен с возможностью перемещения в направлении своего расположения посредством выполненного с возможностью управления механизма перемещения.
27. Устройство по любому из п.п.24-26, причём, по меньшей мере, один поддерживающий штифт выполнен с возможностью перемещения из своего положения между захватами в нейтральное положение, в котором он не осуществляет функцию поддержания.
28. Устройство по любому из пп.24-27, причём устройство перемещения имеет два расположенных на расстоянии друг от друга рычага, на которых расположен, соответственно, по меньшей мере, один из захватов, и которые, по меньшей мере, в зоне захватов располагаются, в основном, параллельно в продольном направлении.
29. Устройство по п.28, причём захват на, по меньшей мере, одном из рычагов имеет держатель кулачка захвата с кулачком захвата, причём держатель кулачка захвата установлен с возможностью поворота вокруг проходящей в продольном направлении соответствующего рычага первой поворотной оси, причём кулачок захвата установлен с возможностью поворота вокруг проходящей перпендикулярно продольному направлению соответствующего рычага второй поворотной оси на соответствующем держателе кулачка захвата.
30. Устройство по п.29, причём первая и вторая поворотные оси расположены, в основном, перпендикулярно друг другу.
31. Устройство по любому из пп.28-30, причём захват на, по меньшей мере, одном из рычагов имеет держатель кулачка захвата с двумя кулачками захвата, расположенными на расстоянии друг от друга в продольном направлении рычага, на котором располагается держатель кулачка захвата, причём кулачки захвата в основном положении держателя кулачка захвата ориентированы по одной линии, в основном, параллельно рычагу, и причём держатель кулачка захвата установлен вокруг проходящей перпендикулярно продольному направлению соответствующего рычага третьей поворотной оси.
32. Устройство по п.31, причём третья поворотная ось обращена к другому рычагу.
33. Устройство по п.31 или 32, которое имеет устройство предварительного натяжения, которое предварительно смещает держатель кулачка захвата в основное положение.
RU2019118487A 2016-11-16 2017-11-16 Держатель для размещения и защиты стороны фотошаблона или фотошаблона с мембраной относительно очищающей среды, способ очистки фотошаблона или фотошаблона с мембраной и устройство для открывания и закрывания держателя RU2746714C2 (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL2017806A NL2017806B1 (nl) 2016-11-16 2016-11-16 Holder for receiving and for protecting one side of a photomask or of a photomask with pellicle from a cleaning medium, method for cleaning a photomask or a photomask with pellicle and apparatus for opening and closing a holder
NL2017806 2016-11-16
PCT/EP2017/079497 WO2018091601A1 (de) 2016-11-16 2017-11-16 HALTER ZUR AUFNAHME UND ZUM SCHUTZ EINER SEITE EINER PHOTOMASKE ODER EINER PHOTOMASKE MIT PELLICLE GEGENÜBER EINEM REINIGUNGSMEDIUM, VERFAHREN ZUM REINIGEN EINER PHOTOMASKE ODER EINER PHOTOMASKE MIT PELLICLE UND VORRICHTUNG ZUM ÖFFNEN UND SCHLIEßEN EINES HALTERS

Publications (3)

Publication Number Publication Date
RU2019118487A true RU2019118487A (ru) 2020-12-17
RU2019118487A3 RU2019118487A3 (ru) 2021-02-24
RU2746714C2 RU2746714C2 (ru) 2021-04-19

Family

ID=58402100

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2019118487A RU2746714C2 (ru) 2016-11-16 2017-11-16 Держатель для размещения и защиты стороны фотошаблона или фотошаблона с мембраной относительно очищающей среды, способ очистки фотошаблона или фотошаблона с мембраной и устройство для открывания и закрывания держателя

Country Status (9)

Country Link
US (1) US10845718B2 (ru)
EP (1) EP3542220B1 (ru)
JP (1) JP6998965B2 (ru)
KR (1) KR102466844B1 (ru)
CN (1) CN110291461B (ru)
NL (1) NL2017806B1 (ru)
RU (1) RU2746714C2 (ru)
TW (1) TWI763737B (ru)
WO (1) WO2018091601A1 (ru)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11106126B2 (en) 2018-09-28 2021-08-31 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Method of manufacturing EUV photo masks
DE102019110706A1 (de) 2018-09-28 2020-04-02 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Verfahren zum herstellen von euv-fotomasken
CN114433570B (zh) * 2022-04-06 2022-06-21 深圳市龙图光电有限公司 半导体芯片用掩模版膜下异物清理方法及设备

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6141092Y2 (ru) * 1979-12-22 1986-11-22
US4648106A (en) * 1984-11-21 1987-03-03 Micronix Corporation Gas control for X-ray lithographic system
JPH04137035A (ja) * 1990-09-28 1992-05-12 Toshiba Corp ソフトウェア設計構造格納装置
JPH05281707A (ja) * 1992-03-31 1993-10-29 Matsushita Electron Corp マスク洗浄治具
US5513594A (en) * 1993-10-20 1996-05-07 Mcclanahan; Adolphus E. Clamp with wafer release for semiconductor wafer processing equipment
JPH09246235A (ja) * 1996-03-11 1997-09-19 Dainippon Printing Co Ltd エッチング方法およびエッチング装置
US5938860A (en) 1997-08-28 1999-08-17 Micron Technology, Inc. Reticle cleaning without damaging pellicle
US6855037B2 (en) * 2001-03-12 2005-02-15 Asm-Nutool, Inc. Method of sealing wafer backside for full-face electrochemical plating
CN1245668C (zh) * 2002-10-14 2006-03-15 台湾积体电路制造股份有限公司 曝光系统及其曝光方法
JP2004259756A (ja) * 2003-02-24 2004-09-16 Nikon Corp ガス置換装置、露光装置及びデバイスの製造方法
JP2004354656A (ja) * 2003-05-29 2004-12-16 Nikon Corp 光洗浄装置及び光洗浄方法、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
NL1024215C2 (nl) * 2003-09-03 2005-03-07 Otb Group Bv Systeem en werkwijze voor het behandelen van substraten, alsmede een gebruik van een dergelijke systeem en een transportinrichting.
CN1980841A (zh) * 2004-09-10 2007-06-13 日本华而卡工业株式会社 玻璃基板容纳箱、玻璃基板调换装置、玻璃基板管理装置、玻璃基板流通方法、密封部件及使用该密封部件的密封构造
US7581372B2 (en) * 2006-08-17 2009-09-01 Microtome Precision, Inc. High cleanliness article transport system
JP4802937B2 (ja) * 2006-08-24 2011-10-26 大日本印刷株式会社 フォトマスクの洗浄方法
NL1036571A1 (nl) * 2008-03-07 2009-09-08 Asml Netherlands Bv Lithographic Apparatus and Methods.
US20100028813A1 (en) 2008-08-04 2010-02-04 Banqiu Wu Backside cleaning of substrate
US8440479B2 (en) * 2009-05-28 2013-05-14 Corning Incorporated Method for forming an organic light emitting diode device
JP2012078562A (ja) * 2010-10-01 2012-04-19 Toppan Printing Co Ltd マスクケースおよびマスクの洗浄方法
CN204462637U (zh) * 2015-03-13 2015-07-08 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 一种光罩护膜清洁装置
US9864283B2 (en) * 2015-11-18 2018-01-09 Applied Materials, Inc. Apparatus and methods for photomask backside cleaning

Also Published As

Publication number Publication date
RU2746714C2 (ru) 2021-04-19
EP3542220B1 (de) 2020-10-14
KR102466844B1 (ko) 2022-11-11
CN110291461B (zh) 2021-08-31
TWI763737B (zh) 2022-05-11
US10845718B2 (en) 2020-11-24
TW201826015A (zh) 2018-07-16
US20190369510A1 (en) 2019-12-05
JP2019536114A (ja) 2019-12-12
KR20190094371A (ko) 2019-08-13
NL2017806B1 (nl) 2018-05-25
WO2018091601A1 (de) 2018-05-24
RU2019118487A3 (ru) 2021-02-24
EP3542220A1 (de) 2019-09-25
JP6998965B2 (ja) 2022-01-18
CN110291461A (zh) 2019-09-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2019118487A (ru) Держатель для размещения и защиты стороны фотошаблона или фотошаблона с мембраной относительно очищающей среды, способ очистки фотошаблона или фотошаблона с мембраной и устройство для открывания и закрывания держателя
KR102471419B1 (ko) 접합 장치 및 접합 시스템
US7207241B2 (en) Cap removing apparatus
JP2008507688A (ja) 圧力試験のための圧力試験装置および方法
JP6842300B2 (ja) 基板位置アライナ
CN101299416A (zh) 衬底支架、衬底处理装置和放置衬底的方法
EP3377941B1 (en) Apparatus for photomask backside cleaning
JPH1010705A (ja) レチクルケース
CN106611734A (zh) 定心装置及具有该定心装置的处理设备
CN111735574A (zh) 一种滤芯上料检测设备
CN111508866A (zh) 反转单元及包括反转单元的基板处理设备
US20230348127A1 (en) Nest remover and sterile chamber
KR101439742B1 (ko) 기판의 반전 장치, 반전 방법 및 기판의 처리 장치
ES2913177T3 (es) Dispositivo para la manipulación de un panel rígido y método de manipulación que utiliza dicho dispositivo
KR100781605B1 (ko) 평판 디스플레이 패널 검사장치에 구비되는 패널 고정용클램프
ES2908853T3 (es) Sellador para sellado hermético al gas de pocillos en placas de PCR
EA202191230A1 (ru) Роботизированная система для замены плиты шиберного затвора
CN111357097A (zh) 晶圆级封装组件处理
US20150050105A1 (en) Vapor dryer module with reduced particle generation
CN215750112U (zh) 玻璃基板切片夹具
CN114212524B (zh) 柔性铰链组件及基板抬升机构
RU2016150959A (ru) Способ автоматического крепления контейнеров от опрокидывания на раме вагона-платформы и устройство для его осуществления
CN215748809U (zh) 玻璃基板切片的夹具
US20210139172A1 (en) Device for inserting an object into a bag
JP3817143B2 (ja) 基板処理装置