NL1024215C2

NL1024215C2 - Systeem en werkwijze voor het behandelen van substraten, alsmede een gebruik van een dergelijke systeem en een transportinrichting.

Info

Publication number: NL1024215C2
Application number: NL1024215A
Authority: NL
Inventors: Marinus Franciscus Johan Evers; Paul August Marie Lindelauf
Original assignee: Otb Group Bv
Priority date: 2003-09-03
Filing date: 2003-09-03
Publication date: 2005-03-07
Also published as: TWI256667B; WO2005026405A1; TW200520031A; EP1964941A2; ES2309561T3; KR20060123068A; EP1668166B1; CN101094931B; JP4477004B2; JP2007504675A; DE602004014796D1; EP1964941A3; US20060280871A1; CN101094931A; EP1668166A1; ATE399888T1; US7678196B2

Description

Titel: Systeem en werkwijze voor het behandelen van substraten, alsmede een gebruik van een dergelijke systeem en een transportinrichting.

De uitvinding heeft betrekking op een systeem voor het behandelen van substraten, waarbij het systeem is voorzien van ten minste één behandelingekamer om ten minste één substraat met een vacuümproces te behandelen, waarbij genoemde behandelingekamer is voorzien van een door 5 een afsluitlichaam afsluitbare substraattoegang, waarbij het systeem is voorzien van een transportinrichting die ten minste is ingericht om genoemd afsluitlichaam te verplaatsen.

Een dergelijk systeem is uit de praktijk bekend. Genoemd vacuümproces kan diverse soorten processen omvatten, bijvoorbeeld een 10 depositieproces, etsproces, opdampproces, moleculaire bundel epitaxie, PVD, CVD, PE-CVD, printing, curing en dergelijke. Bij het bekende systeem wordt een substraat via de substraattoegang in de behandelingskamer gebracht. Vervolgens kan de substraattoegang hermetisch worden afgesloten, opdat wordt verhinderd dat bepaalde processtoften de 15 behandelingskamer tijdens de substraatbehandeling kunnen verlaten en/of om de behandelingskamer op een gewenste druk te houden. Daarna wordt genoemde behandeling gestart. De afsluiting van de substraattoegang tijdens de substraatbehandeling kan bijvoorbeeld door een substraatdrager worden bewerkstelligd, hetgeen bekend is uit de niet vóórgepubliceerde 20 Europese octrooiaanvrage nr. EP 03076554.9 ten name van aanvrager, welke aanvrage door referentie wordt geacht hierin te zijn opgenomen.

Het hermetisch afsluiten van de behandelingskamer is bovendien gewenst wanneer geen substraat in de behandelingskamer is gebracht, bijvoorbeeld tijdens onderhoud van de behandelingskamer, en/of om 25 vervuiling van een zich buiten de behandelingskamer aan genoemde substraattoegang gekoppelde vacuüm substraat-transportruimte tegen te 1024215

2 I

gaan. In dat geval kan de substraattoegang eveneens door genoemd, door de I

traneportinrichting verplaatsbaar afsluitlichaam worden afgesloten. I

In bepaalde gevallen is het verder gewenst om een deel van het I

substraat te bedekken, in het bijzonder om het substraat plaatselijk te I

5 behandelen, bijvoorbeeld ten behoeve van het plaatselijk opbrengen van I

materiaallagen. Dit wordt doorgaans bereikt door een masker in de I

behandelingskamer op te stellen, op een substraat-bedekkingspositie voor I

het substraat. Een dergelijk masker is bij voorkeur verwisselbaar, I

bijvoorbeeld om het masker te reinigen indien het is vervuild, en/of wanneer I

10 gebruik van een anders uitgevoerd masker is gewenst. Het nauwkeurig I

positioneren van het masker ten opzichte van het substraat is doorgaans I

lastig. I

De onderhavige uitvinding beoogt een verbetering van het in de I

aanhef beschreven systeem. In het bijzonder beoogt de uitvinding een I

15 systeem, waarmee genoemd masker relatief eenvoudig en snel kan worden I

verwisseld. I

Hiertoe wordt het systeem volgens de uitvinding gekenmerkt door I

de maatregelen van conclusie 1. I

Genoemde transportinrichting is ingericht om een masker, bestemd I

20 om genoemd substraat tijdens genoemd vacuümprocee ten minste I

gedeeltelijk te bedekken, ten minste tussen een positie buiten de I

behandelingskamer en een positie binnen de behandelingskamer te I

transporteren. Op deze manier heeft genoemde transportinrichting ten I

minste twee functies, te weten het transporteren van genoemd I

25 afsluitlichaam, alsmede maskertransport. Het masker kan eenvoudig door I

deze transportinrichting in en uit de behandelingskamer worden gebracht. I

Het systeem kan op deze manier bovendien relatief eenvoudig en compact I

worden uitgevoerd. Bij voorkeur is het systeem voorzien van een buiten de I

behandelingskamer opgestelde maskervacuümsluis om genoemd masker te I

30 verwisselen, waarbij genoemde transportinrichting is ingericht om genoemd I

1024210 I

3 masker vanuit de behandelingskamer naar genoemde vacuümsluis te transporteren en omgekeerd. Door toepassing van de vacuümsluis kan de druk in de behandelingskamer op een gewenst, relatief laag niveau worden gehouden tijdens de maskerverwisseling, zodat verontreiniging van de 6 behandelingskamer goed kan worden tegengegaan tijdens maskerverwisseling.

Het is volgens de uitvinding bijzonder voordelig, wanneer genoemde transportinrichting is ingericht om genoemd masker en genoemd a&hiitlichaam in hoofdzaak gelijktijdig te dragen. Op deze manier kan het 10 verwisselen van het masker relatief snel worden uitgevoerd, aangezien het masker en het a&luitlichaam zo in hoofdzaak gelijktijdig kunnen worden verplaatst. Genoemd masker kan bijvoorbeeld door de transportinrichting uit de behandelingskamer worden bewogen, terwijl genoemd a&luitlichaam de behandelingskamer wordt in bewogen, en omgekeerd.Daarbij wordt 15 beweging van het masker in hoofdzaak niet of relatief weinig gehinderd door beweging van genoemd a&luitlichaam. Verder is het voordelig, wanneer genoemde transportinrichting & ingericht om genoemd masker en genoemd a&luitlichaam in een gemeenschappelijke transportrichting te verplaatsen, zodat relatief weinig ruimte beschikbaar hoeft te zijn ten behoeve van het 20 maskertransport en de beweging van het a&luitlichaam.

De transportinrichting kan op diverse manieren zijn uitgevoerd ten behoeve van de verplaatsing van genoemd masker en genoemd a&luitlichaam. Volgens de uitvinding & het voordelig wanneer de transportinrichting is voorzien van een verplaatsbaar transportframe dat is 25 ingericht om genoemd masker en genoemd a&luitlichaam te dragen. In dat geval kan de behandelingskamer bijvoorbeeld zijn voorzien van ten minste één framedoorgang om althans een deel van genoemd transportframe doorheen te bewegen.

Daarnaast verschaft de uitvinding een transportinrichting volgens 30 conclusie 28. Deze transportinrichting kan bijvoorbeeld in een 10242 ΐ 5

4 I

substraatbehandelingssysteem worden aangebracht om daaraan I

bovengenoemde voordelen te bieden. I

Verder verschaft de uitvinding een werkwijze die wordt I

gekenmerkt door de maatregelen van conclusie 29. De werkwijze maakt op I

5 voordelige wijze gebruik van genoemd, door de uitvinding verschaft I

systeem. Volgens de werkwijze wordt genoemd, ten minste ene substraat in I

genoemde behandelingskamer opgesteld. Een deel van een te behandelen I

oppervlak van genoemd substraat wordt door genoemd masker bedekt. I

Vervolgens wordt een vacuumproces in de behandelingskamer uitgevoerd I

10 om althans het niet door het masker bedekte deel van het genoemde I

substraatoppervlak te behandelen. Genoemd masker kan relatief snel en I

eenvoudig door middel van genoemde transportinrichting worden I

verwisseld. I

Verder beoogt de uitvinding een systeem, waarmee genoemd I

15 substraat relatief eenvoudig, nauwkeurig en snel kan worden gepositioneerd I

ten opzichte van het masker. I

Hiertoe wordt een behandelingssysteem volgens de uitvinding I

gekenmerkt door de maatregelen van conclusie 33. Doordat ten minste I

genoemde substraatdrager is voorzien van positioneringsmiddelen om de I

20 substraatdrager en het masker ten opzichte van elkaar te positioneren, I

kunnen het substraat en het masker relatief eenvoudig en nauwkeurig ten I

opzichte van elkaar worden gepositioneerd. Een dergelijk systeem wordt op I

voordelige wijze gebruikt volgens de maatregelen van conclusie 41. Het I

substraat wordt eerst ten opzichte van de substraatdrager gepositioneerd. I

25 Vervolgens kan de substraatdrager, met genoemd substraat, naar de I

behandelingskamer worden gebracht en op de maskerdraagmiddelen I

worden gepositioneerd. Daarbij wordt het substraat relatief snel, bij I

voorkeur automatisch, ten opzichte van het masker gepositioneerd door I

genoemde positioneringsmiddelen. I

1024215 I

5

Nadere uitwerkingen van de uitvinding zijn beschreven in de volgcondusies. Thans zal de uitvinding worden verduidelijkt aan de hand van een uitvoeringsvoorbeeld en de tekening. Daarin toont: fig. 1 een gedeeltelijk opengewerkt weergegeven perspectief-5 aanzicht van een uitvoeringsvoorbeeld van de uitvinding, waarbij transportframes zich in bovenste stand bevinden; fig. 2 een dergelijk aanzicht als fig. 1, waarbij de transportframes zich in een tussenstand bevinden; fig. 3 een dergelijk aanzicht als fig. 1, waarbij de transportframes 10 zich in een onderste stand bevinden; fig. 4 een opengewerkt zijaanzicht van een deel van het in fig. 1 weergegeven uitvoeringsvoorbeeld, waarbij het transportframe zich in de bovenste stand bevindt; . fig. 5 een dergelijk zijaanzicht als fig. 4, waarbij het transportframe 15 zich in de onderste stand bevindt; fig. 6. een doorsnede-aanzicht over lijn VI-VT van het in fig. 5 weergegeven zijaanzicht, waarbij het masker niet is weergegeven; en fig. 7 een dergelijke aanzicht als fig. 6, waarbij het masker wel is weergegeven.

20 De figuren 1-3 tonen een vacuümsysteem voor het behandelen van substraten. Het systeem is in het bijzonder ingericht om relatief platte en/of dunne substraten te behandelen, bijvoorbeeld schijfvormige substraten, halfgeleider substraten, optische informatiedrager-subetraten, displays, driedimensionale substraten en/of dergelijke. Het systeem omvat sübstraat-25 transportmiddelen 19, 20, 21, die bij voorkeur in hoofdzaak zijn uitgevoerd overeenkomstig het uit genoemde Europese octrooiaanvrage nr. EP03076554.9 bekende substraten-transportsysteem. Voordeel van een dergelijk substraten-transportsysteem is, dat daarmee een relatief groot aantal substraten in relatief korte tijd aan een of meer gewenste 30 vacuümbehandelingen kan worden onderworpen.

1024215

6 I

Bij het onderhavige uitvoeringsvoorbeeld omvat het I

transportsysteem twee evenwijdig opgestelde, langwerpige transportkamers I

14a, 14b die vacuüm traneportruimtee 12 omgeven. De transportruimtes 12 I

van de twee transporttrajecten 14a, 14b zijn met uiteinden aan elkaar I

5 gekoppeld door substraat-overbrengingsstatioiis 25. Substraten 5 zijn in een I

in hoofdzaak verticale stand, door middel van verticaal opgestelde I

substraatdragers 2, door de transportruimtee 12 en overbrengingsstations I

25 beweegbaar. Genoemde verticale substraatstand is voordelig om I

vervuiling van de substraten 5 tegen te gaan. I

10 Een voorzijde van de in fig. 1-3 weergegeven transporttrajecten 14a I

is voorzien van vijf openingen 13 die elk een toegang tot een respectieve I

behandelingskamer 1 vormen. Voor de duidelijkheid zijn genoemde I

behandelingskamers 1 niet in figuren 1-3 weergegeven. De opstelling van I

een behandelingskamer 1 ten opzichte van het transporttraject 14a is I

15 schematisch in figuren 4 en 5 getoond. De behandelingskamers 1 dienen elk I

om de substraten 5 een bepaalde behandeling te geven. Genoemde I

substraatdragers 2 zijn ingericht om de substraten 5 in een in hoofdzaak I

verticale stand in de behandelingskamer 1 te houden, en gelijktijdig I

genoemde substraattoegang 13 af te sluiten, hetgeen in fig. 5 is I

20 weergegeven. Ten behoeve van genoemde afsluiting is elke substraatdrager I

2 voorzien van een -in figuren 6 en 7 weergegeven- afdichtingsprofiel 48. I

Het voorste transporttraject 14a is voorzien van een vacuümsluis 28 om I

substraten 5 vanuit een atmosferische omgeving in het vacuümsysteem te I

brengen en daaruit te halen. I

25 Zoals figuur 6 toont, is de substraatdrager 2 voorzien van I

substraat-poeitioneringsmiddelen 40, 41 om het zich daarop bevindende I

substraat 5 te positioneren. In het onderhavige uitvoeringsvoorbeeld I

omvatten de substraat-positioneringsmiddelen een tweetal excentrisch I

roteerbare steunrollen 40a waarop het substraat 5 met een onderzijde 42 I

30 plaatsbaar is. Een derde excentrisch roteerbare rol 40b is voorzien om het I

\i vh &'v I

·>.. f o 7 substraat aan een langszijde 43 te steunen. De substraat-poeitioneringsmiddelen omvatten bovendien veren 41 die zijn ingericht het substraat 5 met veerkracht tegen genoemde steunrollen 40 te klemmen, via tegenoverliggende substraatzijden 44, 45. Vanzelfsprekend kan de 5 substraatdrager 2 van diverse andere middelen zjjn voorzien om de substraatpositionering uit te voeren.

Door rotatie van genoemde steunrollen 40a, 40b kan het substraat 5 relatief nauwkeurig ten opzichte van de substraatdrager 2 worden gepositioneerd, bijvoorbeeld zodanig dat een marker 46 van het substraat 5 10 op gewenste afstanden in X· en Y-richting wordt gebracht ten opzichte van een marker 47 van de substraatdrager 2. Ten behoeve van positionering kunnen genoemd substraat 5 en substraatdrager 2 zijn voorzien van diverse typen uitlijnmiddelen, bijvoorbeeld optische uitlijnmiddelen, markers, lichtbronnen, lichtdetectoren, mechanische uitlijnmiddelen en/of degelijke. 15 Zoals figuren 4 en 5 tonen, is het substraat-transporttraject 14a voorzien van rails 20 om onderstellen 19 van genoemde substraatdragers 2 door de vacuümruimte 22 te geleiden. Het systeem omvat magneetmiddelen 26 om elke substraatdrager 2 langs de rails 20 te bewegen, in het bijzonder buiten het transporttraject 14 opgestelde spoelen 21 en op genoemde 20 onderstellen 19 aangebrachte magneten 26. Elke substraatdrager 2 is in horizontale richting H beweegbaar aan het respectieve onderstel 19 gekoppeld, in het bijzonder door middel van kniehefboomstelsels 22. Vanzelfsprekend kan dit op vele ander manieren worden uitgevoerd. Deze hefboomstelsels 22 zijn bij genoemde behandelingskamer 1 door eerste 25 actuatoren 3 bedienbaar om de substraatdrager 2 tegen de substraattoegang 13 van de behandelingskamer 1 te drukken en die toegang 13 van buiten uit af te sluiten. De actuatoren 3 kunnen bijvoorbeeld zowel aan de kamer 14a bevestigd zijn als aan het onderstel 19.

Elke behandelingskamer 1 is verder voorzien van een 30 afeluitlichaam 15 om genoemde substraattoegang 13 van binnen uit 1024215

hermetisch af te sluiten, althans bij een afsluitstand welke in fig. 4 is I

weergegeven, en om de substraattoegang 13 bij een vrijgee£3tand vrij te I

geven. Genoemde substraatdrager 2 en het afsluitlichaam 15 zijn bovendien I

ingericht om de substraattoegang 13 gelijktijdig, aan weerszijden, af te I

5 sluiten, terwijl een substraat 5 door de substraatdrager 2 in de I

substraattoegang 2 wordt gehouden. I

De vrijgeefstand van het afsluitlichaam is in fig. 5 weergegeven. Bij I

de vrijgeefstand is het afsluitlichaam 15 tussen een niet weergegeven I

bovenste, zich tegenover de substraattoegang 13 uitstrekkende positie en I

10 een onderste, in fig. 5 getoonde positie verplaatsbaar. Bij genoemde onderste I

positie strekt het afsluitlichaam 15 zich niet tegenover de substraattoegang I

13 uit, maar bevindt zich in een onder de behandelingskamer 1 opgestelde I

ontvangstkamer 16. De behandelingskamer 1 is voorzien van tweede I

lineaire actuatoren 23 om genoemd afsluitlichaam 15 in horizontale richting I

15 H tussen genoemde afsluitstand en de bovenste positie van de vrijgeefstand I

te bewegen. I

Het systeem is voorzien van een aantal transportinrichtingen om de verticale beweging van genoemde afsluitlichamen 15 te bewerkstellingen.

Elke transportinrichting omvat een zich verticale richting uitstrekkend I

20 traneportframe 8, dat in longitudinale framerichting V tussen een bovenste I

en een onderste framestand beweegbaar is. De bovenste framestand is in fig. I

4 weergegeven, terwijl fig. 5 de onderste framestand toont. Een onderste I

framesegment 8b van het frame 8 is ingericht om het afsluitlichaam bij

genoemde vrijgeefstand te ontvangen. Wanneer het traneportframe 8 zich in I

25 de bovenste stand bevindt strekt het onderste framesegment 8b zich I

tegenover de substraattoegang 13 uit. Bij de onderste framestand strekt het I

tweede segment 8b zich in genoemde ontvangstkamer 16 uit. Het onderste I

framesegment 8b is samen met het afsluitlichaam 15 door een onderste I

framedoorgang 29 van de wand van de respectieve behandelingskamer 1 I

30 beweegbaar. Een onderste uiteinde van het traneportframe 8 is voorzien van I

' ij Ö *£ 'ï '£ ï I

9 een afsluitelement 30 om de onderste framedoorgang 29 af te sluiten wanneer het transportframe 8 naar de bovenste framestand is bewogen. Beweging van genoemd transportframe 8 wordt door een niet weergegeven aandrijving bewerkstelligd. Deze aandrijving kan op diverse manieren zijn 5 uitgevoerd, hetgeen de vakman duidelijk zal zijn.

De behandelingekamer 1 van het systeem is voorts voorzien van maeker-draagmiddelen 35 die zijn ingericht om een masker 4 in een in hoofdzaak verticale, in fig. 5 weergegeven substraat-bedekkingspositie in de respectieve behandelingekamer 1 te houden voor het bedekken van althans 10 een deel van genoemd, door de substraatdrager 2 in de behandelingekamer 1 gehouden substraat 5. De masker-draagmiddelen 35 zijn bovendien ingericht om op het masker 4 aan te grijpen en het masker 4 in genoemde horizontale richting H te bewegen. Ten behoeve van beweging zijn de masker-draagmiddelen 35 voorzien van derde actuatoren 33. Verder kan het 15 systeem bijvoorbeeld zijn voorzien van middelen om het masker 4 in een andere, bijvoorbeeld verticale, richting te positioneren ten opzichte van genoemde substraat-bedekkingspositie. Doordat elk masker 4 in in hoofdzaak verticale stand in het systeem wordt gehouden, kan ophoping van vervuiling op het masker 4 goed worden tegengaat. Derhalve kan het 20 masker 4 bij relatief veel substraatbehandelingen worden gebruikt alvorens het masker een schoonmaakbehandeling dient te ondergaan, hetgeen de productiviteit van het systeem verhoogt. Verder wordt de kans zo verkleind dat genoemd substraat 5 via het masker 4 wordt vervuild.

Volgens de uitvinding is het voordelig, wanneer genoemde 25 substraatdrager 2 is voorzien van positioneringsmiddelen 50 om de substraatdrager 2 en het masker 4 ten opzichte van elkaar te positioneren. In het onderhavige uitvoeringsvoorbeeld zijn deze positioneringsmiddelen ingericht om het masker 4 ten opzichte van de substraatdrager 2 te positioneren. Derhalve worden deze positioneringsmiddelen in het 30 onderstaande voor de duidelijkheid masker-positioneringsmiddelen 1024215

10 I

genoemd. Bij voorkeur zijn genoemd masker 4 en/of genoemde I

maskerdraagmiddelen 35 voorzien van masker-positioneringsmiddelen 51 I

die zijn ingericht om met de masker-positioneringsmiddelen 50 van I

genoemde substraatdrager 2 samen te werken ten behoeve van genoemde I

5 positionering van het masker 4. Daardoor kan het masker eenvoudig I

worden gepositioneerd ten opzichte van de substraatdrager 2 en een daarop I

gepositioneerd substraat 5. Verder is het voordelig, wanneer genoemde I

masker-positioneringemiddelen 50,51 zijn ingericht om genoemde I

substraatdrager 2 in een voor positionering gewenste stand aan genoemde I

10 maskerdraagmiddelen 35 en/of genoemd masker 4 te koppelen wanneer de I

substraatdrager 2 en het masker 4 in een naar elkaar toe bewogen stand I

worden gebracht. I

Zoals figuren 6 en 7 tonen, is bjj het onderhavige I

uitvoeringsvoorbeeld elk masker 4 van genoemde masker- I

15 positioneringsmiddelen 51 voorzien, welke zijn ingericht om met de masker- I

positioneringsmiddelen 50 van de substraatdrager 2 samen te werken. De I

. masker-positioneringsmiddelen 50, 51 kunnen op verschillende manieren I

zijn uitgevoerd, bijvoorbeeld mechanisch, elektromagnetisch, optisch en I

dergelijke. Het onderhavige uitvoeringsvoorbeeld is van relatief eenvoudige I

20 mechanische masker-positioneringsmiddelen 50, 51 voorzien, welke in het I

bijzonder haaks op de substraatdrager 2 aangebrachte stiften 50 omvatten I

die in respectieve gaten 51 brengbaar zijn bij het naar de substraatdrager 2 I

toe bewegen van het masker 4. I

Elke behandelingskamer 1 van het uitvoeringsvoorbeeld is voorzien I

25 van een maskerwisseleenheid 6 om genoemd masker 4 te wisselen. Zoals de I

figuren 1-5 tonen, omvat elke maskerwisseleenheid 6 een boven de I

respectieve behandelingskamer 1 opgestelde maskervacuümsluis 7 met een I

toegangsluik 25. Genoemde maskervacuümsluis 6 en genoemde I

afsluitlichaam-ontvangstkamer 16 zijn in hoofdzaak tegenover elkaar I

30 opgesteld ten opzichte van de behandelingskamer 1. I

1024215 I

11

Het systeem omvat maskertransportmiddelen 8 om het masker 4 van de behandelingekamer 1 naar de maskervacuümsluis 7 te transporteren en omgekeerd. In het onderhavige uitvoeringsvoorbeeld omvatten deze maskertransportmiddelen op voordelige wijze een bovenste framesegment 5 8a van genoemd transportframe 8. Het bovenste framesegment 8a strekt zich in het verlengde van genoemd onderste framesegment 8b uit. Bij de bovenste stand van bet transportframe 8 strekt het bovenste framesegment 8a zich in de maskervacuümsluis 7 uit, hetgeen in fig. 4 is weergegeven. Bij de onderste frame stand strekt het bovenste framesegment 8a zich juist 10 tegenover genoemde substraattoegang 13 uit, zie fig. 5.

Zoals figuren 4 en 5 tonen, is bet transportframe 8 ingericht om bet masker 4 in in hoofdzaak verticale stand te houden tijdens maskertransport. Daarnaast is bet transportframe 8 ingericht om het masker 4 in in hoofdzaak verticale richting in en uit de behandelingekamer 15 1 te bewegen, via een zich door de wand van de behandelingekamer 1 uitstrekkende bovenste framedoorgang 9. Genoemde bovenste framedoorgang 9 strekt zich tegenover genoemde onderste framedoorgang 29 in de wand van de behandelingekamer 1 uit. Deze bovenste framedoorgang 9 is bij voorkeur relatief smal uitgevoerd. Doordat het frame 20 met het masker in longitudinale framerichting beweegbaar is, kan de binnenruimte van de maskersluis 6 bovendien relatief weinig; volume innemen. Derhalve kan verontreiniging van de maskersluis 6 en de behandelingekamer 1 goed worden tegengegaan, terwijl de maskersluis relatief snel op een gewenste vacuümdruk kan worden gebracht. Het 25 transportframe 8 is tussen genoemd bovenste framesegment 8a en onderste framesegment 8b voorzien van een afdichtingselement 10 om genoemde bovenste framedoorgang 9 af te sluiten wanneer het frame 8 in de naar boven bewogen stand is gebracht.

Tussen genoemde substraat>transportruimte 12 en genoemde 30 maskervacuümsluis 7 is een door een afsluiter 18 afsluitbare ï I , i .y t v/

12 I

fluïdumverbinding 17 voorzien. Tijdens gebruik kan de vacuümsluis 7 via I

deze fluïdumverbinding 17 en de vacuüm transportruimte 12 op vacuüm I

worden gebracht. Bovendien kan de maskersluis 7 bijvoorbeeld via een I

dergelijke, van een afsluiter voorziene fluïdumverbinding op genoemde I

5 behandelingskamer 1 zijn aangesloten om de sluis via de I

behandelinsgkamer 1 af te pompen. Daarnaast kan de maskersluis 7 I

bijvoorbeeld van aparte vacuümpompen zijn voorzien om de sluis op een I

gewenst vacuüm te brengen. I

Bij voorkeur is het systeem, bijvoorbeeld de maskersluis 7, voorzien I

10 van maskerinspectiemiddelen om de kwaliteit van bet masker 4 te I

inspecteren en/of om zich op het masker 4 bevindende vervuiling waar te I

nemen. De maskersluis 7 kan voorts bijvoorbeeld schoonmaakmiddelen I

omvatten om een zich in de sluis 7 bevindend masker 4 schoon te maken, I

bijvoorbeeld echoonblaasmiddelen. I

15 Met de maskerwisseleenheid 6 en het transportframe 8 kan I

genoemd masker 4 relatief snel automatisch worden verwisseld, I

bijvoorbeeld om te worden schoongemaakt en/of om in de I

behandelingskamer 1 een proces met een verschillend ingericht masker uit I

te voeren. Doordat genoemde maskerwisseleenheid 6 een I

20 maskervacuümsluie 7 omvat, kan maskerverwisseling worden uitgevoerd I

zonder dat genoemde behandelingskamer op atmosferische druk dient te I

worden gebracht. Vervuiling van de behandelingskamer 1 tijdens het I

wisselen van het masker kan derhalve goed worden tegengegaan. Bij I

voorkeur is het systeem voorzien van of aangesloten op een besturing om de I

25 maekerwieseling geautomatiseerd te laten plaatsvinden. I

Tijdens gebruik van het systeem kunnen substraten 5 via I

genoemde substraatsluis 28 in en/of uit de transportruimte 12 worden I

gebracht. De substraten 5 worden in de transportruimte 12 in een verticale I

stand gehouden en door genoemde substraatdragers 2 naar de I

30 behandelingskamers 1 gebracht om een behandeling te ondergaan. De I

1024215 I

13 substraten 2 worden tijdens gebruik elk eenmalig, nauwkeurig, op de eubstraatdragers 2 in voor behandeling gewenste standen gepositioneerd door middel van genoemde substraat-positioneringsmiddelen 40a, 40b. Deze substraat-positionering kan bijvoorbeeld in genoemde substraatsluis 28 5 plaatsvinden of elders in bet systeem. Tijdens behandeling kan een substraat 5 bovendien door genoemd masker 4 althans gedeeltelijk worden bedekt.

Genoemd masker 4 kan tijdens gebruik op eenvoudige wijze vanuit een atmosferische omgeving naar een positie binnen de behandelingskamer 10 1 worden gebracht en omgekeerd ten behoeve van substraatbehandeling, hetgeen in het volgende nader wordt toegelicht. Figuren 1 en 4 tonen een uitgangssituatie, waarbij de substraattoegang 13 van elke behandelingskamer 1 door een respectief afsluitlichaam 15 hermetisch van de substraat-transportruimte 12 is afgesloten. Zo kunnen de 15 behandelingskamers 1 en de substraat-transportruimte 12 op een gewenste, lage druk worden gehouden, terwijl vervuiling van de substraat-transportruimte 12 kan worden tegengegaan, bijvoorbeeld vervuiling door uit de proceskamer 1 afkomstige procesgassen en/of op te brengen coatings. In de transportruimte 12 is tegenover elke substraattoegang 13 een 20 substraatdrager 2, met een substraat 5, opgesteld.

Zoals üg. 4 toont, bevindt genoemd transportframe 8 zich bij genoemde uitgangssituatie in de bovenste stand, zodat genoemde bovenste framedoorgang 9 door het afdichtingselement 10 van het frame 8 wordt afgesloten. Verder wordt de fluïdumverbinding 17 tussen de maskersluis 7 25 en de substraat-transportruimte 12 door de zich in de afsluitstand bevindende afsluiter 18 afgesloten. Daardoor ie de maskersluis 7 van de behandelingskamer 1 en de substraat-transportruimte 12 afgesloten, zodat de maskersluis 7 op in hoofdzaak atmosferische druk kan worden gebracht en geopend om een masker 4 van het bovenste frameeegment 8a af nemen 30 en met een ander masker 4 te verwisselen. Verder kan een zich in de 1024215

14 I

maskersluie 7 bevindend masker bijvoorbeeld een inspectie- en/of I

reinigingshandeling ondergaan. I

Het transportframe 8 kan bet zich daarop bevindende masker 4 I

gemakkelijk vanuit de maskersluie 7 naar een positie binnen de I

5 behandelingskamer 1 brengen, waarbij het frame 8 genoemd afeluitlichaam I

15 gelijktijdig uit de behandelingskamer 1 wordt gevoerd, hetgeen in figuren I

2, 3 en 5 is weergegeven. Daartoe wordt de maskersluie 7 eerst op een I

gewenste, lage druk gebracht door middel van genoemde vacuümpompen I

en/of door de afsluiter 18 van de fluïdumverbinding 17 te openen. Het op de I

10 gewenste druk brengen kan relatief snel worden uitgevoerd, doordat de I

maskersluie 7 een relatief klein intern volume heeft. Bovendien wordt de I

substraat-toegang 13 aan een van de behandelingskamer 1 afgekeerde zjjde I

afgesloten, door de substraatdrager 2 met het afsluitprofiel 48 tegen die I

toegang 13 te drukken, hetgeen wordt uitgevoerd door genoemde I

15 kniehefboomstelsele 22 en de eerste actuatoren 3. Daarbij wordt het door de I

substraatdrager 2 gedragen substraat 5 in de substraattoegang 13 van de

behandelingskamer 1 gebracht. Bij deze, niet weergegeven stand van het I

systeem wordt de substraattoegang 13 aan de ene zijde door de I

substraatdrager 2 afgesloten, en aan de andere zjjde door het afeluitlichaam I

20 15. Het door de substraatdrager 2 gehouden substraat 5 bevindt zich dan I

tussen de substraatdrager 2 en het afeluitlichaam 13, in de I

substraattoegang 13. I

Nadat de substraattoegang 13 door de substraatdrager 2 is I

afgesloten, wordt het afeluitlichaam 15 door de tweede actuatoren 23 in een I

25 horizontale richting H van de substraat-toegang 13 af bewogen en op het I

onderste framesegment 8b geplaatst. I

Wanneer zowel het masker 4 als het afeluitlichaam 15 door het I

transportframe 8 worden gedragen, de maekervacuumsluis 7 is af gepompt I

en de substraattoegang 13 door de substraatdrager 2 is afgesloten, wordt I

30 het transportframe 8 naar beneden bewogen, via een in fig. 2 weergegeven I

1024215 I

16 middenstand naar de in figuren 3 en 5 getoonde onderste stand. Daardoor worden zowel het masker 4 als het afeluitlichaam 1 in verticale richting V verplaatst. Het masker 4 bevindt zich vervolgens in een positie tegenover de geopende substraattoegang 13, binnen de behandelinsgkamer 1.

5 Daarna wordt het masker 4 door genoemde masker-draagmiddelen 35 van het transportframe 8 afgenomen en naar de in fig. 5 weergegeven substraat-bedekkingspositie nabij of in de substraattoegang 13 gebracht. Het masker 4 wordt hierbij bijvoorbeeld tegen het substraat 6 gedrukt of op relatief korte afstand van het substraat 5 gehouden. Tijdens het naar het 10 substraat 5 toe bewegen grijpen de positioneringspennen 50 van de substraatdrager 2 en de respectieve positioneringsgaten 51 van het masker op elkaar aan om een eenvoudige, mechanische positionering van de substraatdrager 2 ten opzichte van het masker 4 te bewerkstelligen. Genoemde positionering van het substraat 5 ten opzichte van de 15 substraatdrager 2, alsmede de positionering van de substraatdrager 2 en het masker 4 zijn daarbij bij voorkeur zodanig, dat het substraat 5 in een voor behandeling gewenste en geschikte stand is gepositioneerd ten opzichte het masker 4.

Wanneer het masker 4 in de substraatbedekkingspositie voor het 20 substraat 5 is gebracht, kan een vacuümprocee in de behandelingskamer 1 worden uitgevoerd om althans het niet door het masker 4 bedekte deel van het naar de behandelingskamer 1 gekeerde deel van het substraatoppervlak te behandelen. Zoals fig. 5 toont, wordt genoemd afsluitlichaam 15 hierbij door het transportframe in de respectieve ontvangstkamer 16 buiten de 25 behandelingskamer 1 gehouden wanneer het transportframe 8 naar de onderste stand is gebracht. Daardoor ondervindt genoemde subetraatbehandeling geen hinder van het afeluitlichaam 15. Tijdens de 8ubstraatbehandeling wordt de substraatdrager 2 bij voorkeur in hoofdzaak door het substraat 5 en het masker 4 van het in de behandelingskamer 1 1024215

16 I

uitgeyoerde behandelingsproces afgeschermd, bijvoorbeeld om vervuiling I

van de substraatdrager 2 tegen te gaan. I

Na de substraatbehandeling wordt het masker 4 door middel van I

de maskerdraagmiddelen 35 en het transportframe 8 terug naar de I

5 maskersluie 7 gebracht, terwijl het afsluitlichaam 15 door middel van het I

transportframe 8 en de tweede actuatoren 23 op de substraattoegang 13 I

wordt geplaatst om die toegang 13 af te sluiten. Het masker 4 kan dan I

bijvoorbeeld opnieuw in de maskersluis 7 worden geïnspecteerd en/of I

worden verwisseld. Vervolgens kan de substraatdrager 2 van de I

10 substraattoegang 13 worden af bewogen en verwisseld met een volgende I

substraatdrager die een volgend te behandelen substraat draagt. Daarna I

kan het masker 4 vanuit de maskersluis 7 weer naar de masker· I

bedekkingspositie in de behandelingskamer 1 worden gebracht om dat I

volgende substraat gedeeltelijk af te dekken ten behoeve van behandeling. I

15 Uit het bovenstaande volgt, dat de substraattoegang 13 tijdens I

maskertransport wordt afgesloten door een substraatdrager 2, terwijl de I

substraattoegang 13 tijdens substraatwisseling door het afsluitlichaam 15 I

wordt afgesloten. Op deze manier wordt de substraattoegang 13 hoofdzaak I

voortdurend afgesloten, hetgeen bijvoorbeeld voordelig is om mogelijke I

20 drukverschillen tussen de behandelingskamer 1 en de substraat· I

transportruimte 12 op te vangen. I

Het spreekt vanzelf dat de uitvinding niet is beperkt tot het I

beschreven uitvoeringsvoorbeeld. Diverse wijzigingen zijn mogelijk binnen I

het raam van de uitvinding zoals is verwoord in de navolgende conclusies. I

25 Zo kan genoemd transportframe 8 op diverse manieren en in I

diverse vormen zijn uitgevoerd. I

Verder kan het systeem zijn ingericht om genoemde substraten I

en/of maskers in diverse standen te houden en/of bewegen, bijvoorbeeld I

horizontaal, schuin, ondersteboven en/ofverticaal· I

1 02421 S" I

17

De draagmiddelen voor genoemd masker 4 en/of genoemd afsluitlichaam kunnen op verschillende manieren zijn uitgevoerd en bijvoorbeeld zijn voorzien van actuatoren, lineaire actuatoren, hefboommechanismen, elektromotoren, magnetische en/of 5 elektromagnetische aangrijpmiddelen en dergehjke.

Verder kunnen tijdens gebruik verschillende drukken heersen in het systeem. Zo kan de druk in genoemde behandelingskamer 1 tijdens een eubstraatbehandeling bijvoorbeeld hoger zijn dan de druk wanneer de behandelingskamer 1 niet in bedrijf is.

10 De term Vacuüm' dient relatief ruim te worden opgevat. Zo dient onder Vacuüm' ook te worden verstaan elke geconditioneerde omgeving ten opzichte van de buitenlucht ten aanzien van druk en samenstelling van het gas.

Daarnaast kunnen genoemde positioneringsmiddelen om de 15 substraatdrager en het masker ten opzichte van elkaar te positioneren op verschillende manieren zijn uitgevoerd. Deze positioneringsmiddelen kunnen bijvoorbeeld actieve en/of passieve middelen, aangrijpmiddelen, geleidemiddelen, positioneringssensoren en dergelijke omvatten.

20 1 0 S 42 1 5

Claims

1. Systeem voor het behandelen van substraten, voorzien van ten I minste één behandelingskamer (1) om ten minste één substraat (5) met een I vacuümproces te behandelen, waarbij genoemde behandelingskamer (1) is I voorzien van een door een afsluitlichaam (15) afsluitbare substraattoegang I 5 (13), waarbij het systeem is voorzien van een transportinrichting (8) die ten I minste is ingericht om genoemd afsluitlichaam (15) te verplaatsen, waarbij I genoemde transportinrichtmg (8) is ingericht om een masker (4), bestemd I om genoemd substraat (5) tijdens genoemd vacuümproces ten minste I gedeeltelijk te bedekken, ten minste tussen een positie buiten de I 10 behandelingskamer (1) en een positie binnen de behandelingskamer (1) te I transporteren. I

2. Systeem volgens conclusie 1, waarbij het systeem is voorzien van I een buiten de behandelingskamer (1) opgestelde maskervacuümsluis (7), I waarbij genoemde transportinrichting (8) is ingericht om genoemd masker I 15 (4) vanuit de behandelingskamer (1) naar genoemde vacuümsluis te I transporteren en omgekeerd. I

3. Systeem volgens conclusie 1 of 2, waarbij het systeem is voorzien I van een buiten de behandelingskamer (1) opgestelde afsluitlichaam- I ontvangstkamer (16), waarbij genoemde transportinrichting (8) is ingericht I 20 om genoemd afsluitlichaam (15) vanuit de behandelingskamer (1) naar I genoemde ontvangstkamer (16) te transporteren en omgekeerd. I

4. Systeem volgens conclusies 2 en 3, waarbij genoemde I maskervacuümsluis (6) en genoemde afsluithchaam-ontvangstkamer (16) in I hoofdzaak tegen over elkaar zijn opgesteld. I

5. Systeem volgens één van de voorgaande conclusies, waarbij I genoemde transportinrichting (8) is ingericht om genoemd masker (4) en I genoemd afsluitlichaam (15) gelijktijdig te dragen. I 10242? 5 I

6. Systeem volgens één van de voorgaande conclusies, waarbij genoemde transportinrichting (8) ie ingericht om genoemd masker (4) en genoemd afeluitlichaam (15) in een gemeenschappelijke transportrichting (V) te verplaatsen.

7. Systeem volgens conclusie 6, waarbij genoemde gemeenschappelijke transportrichting een verticale transportrichting (V) omvat.

8. Systeem volgens één van de voorgaande conclusies, waarbij genoemde transportinrichting is voorzien van een verplaatsbaar 10 transportframe (8) dat is ingericht om genoemd masker (4) en genoemd afeluitlichaam (15) te dragen.

9 Systeem volgens conclusies 8, waarbij genoemd transportframe (8) zich in in hoofdzaak verticale richting uitstrekt.

10. Systeem volgens conclusie 8 of 9 waarbij genoemd transportframe 15 (8) in hoofdzaak in een longitudinale framerichting beweegbaar is opgesteld.

11. Systeem volgens één van de conclusies 8-10, waarbij genoemd transportframe (8) is voorzien van een eerste framesegment (8a) om genoemd masker (4) te dragen, en van een tweede framesegment (8b) om genoemd afeluitlichaam (15) te dragen.

12. Systeem volgens conclusies 2, 3 en 11, waarbij het transportframe (8) tussen een eerste en tweede stand beweegbaar is, waarbij bet eerste framesegment (8a) zich in de maskervacuümsluis (7) uitstrekt terwijl het tweede segment (8b) zich tegenover de substraattoegang (13) uitstrekt bij genoemde eerste framestand, waarbij het eerste framesegment (8a) zich 25 tegenover genoemde substraattoegang (13) uitstrekt en het tweede segment (8b) zich in genoemde ontvangstkamer (16) uitstrekt bij genoemde tweede framestand.

13. Systeem volgens één van de conclusies 8*12, waarbij een wand van de behandelingskamer (1) is voorzien van ten minste één framedoorgang (9, 1024215

14. Systeem volgens ten minste conclusies 11 en 13, waarbij de I behandelingskamer (1) aan een eerste zijde is voorzien van een eerste I 5 framedoorgang (9) om genoemd eerste framesegment (8a) door te laten, en I aan een tegenoverliggende tweede zijde van een tweede framedoorgang (29) I om genoemd tweede framesegment (8b) door te laten. I

15. Systeem volgens conclusie 13 of 14, waarbij het systeem, in het I bijzonder genoemd transportframe (8), is voorzien van afsluitmiddelen (10, I 10 30) om genoemde framedoorgang (9, 29) af te sluiten. I

16. Systeem volgens één van de voorgaande conclusies, waarbij de I transportinrichting (8) is voorzien van afeluitlichaam-draagmiddelen (23) I die ten minste zijn ingericht om genoemd afsluitlichaam (15) in een I zodanige afsluitstand te houden, dat genoemde subetraattoegang (13) door I 15 het afsluitlichaam (15) wordt afgesloten. I

17. Systeem volgens conclusie 16, waarbij genoemde afsluitlichaam- I draagmiddelen (23) zijn ingericht om genoemd afsluitlichaam (15) tussen I genoemde afsluitstand en een zich op genoemd transportframe (8) I bevindende stand te bewegen. I

18. Systeem volgens één van de voorgaande conclusies, waarbij de I transportinrichting (8) is voorzien van maeker-draagmiddelen (35) die ten I minste zijn ingericht om genoemd masker (4) in een substraat- I bedekkingspositie in de behandelingskamer (1) te houden voor het bedekken I van althans een deel van genoemd te behandelen substraat (5). I

18 I CONCLUSIES I

19. Systeem volgens conclusie 18, waarbij genoemde masker- I draagmiddelen (35) zijn ingericht om genoemd masker (4) tussen genoemde I substraat-bedekkingspositie en een positie op genoemd transportframe (8) I te bewegen. I 102 421 6’__I

20. Systeem volgens conclusie 18 of 19, waarbij genoemde masker-draagmiddelen (35) zijn ingericht om genoemd masker (4) in een hoofdzaak verticale stand te houden.

20 I 29. om althans een deel van genoemd transportframe (8) doorheen te I bewegen. I

21. Systeem volgens één van de conclusies 18-20, waarbij genoemde 5 masker-draagmiddelen (35) zijn voorzien van actuatoren (33).

22 I

22. Systeem volgens één van de voorgaande conclusies, waarbij het systeem is voorzien van maskerinspectiemiddelen om de kwaliteit van het masker (4) te inspecteren en/of om zich op het masker (4) bevindende vervuiling waar te nemen.

23. Systeem volgens één van de voorgaande conclusies, waarbij het systeem is voorzien van een vacuüm substraat-transportruimte (12) die aan genoemde substraattoegang (13) van genoemde behandelingskamer (1) is gekoppeld, waarbij de transportruimte (12) substraat-transportmiddelen (19, 20, 21) omvat om genoemd substraat (5) naar de substraattoegang (13) 15 van de behandelingskamer (1) toe en daarvan af te voeren.

24 I

24. Systeem volgens conclusies 2 èn 23, waarbij het systeem is voorzien van ten minste één, zich tussen genoemde maskervacuümsluis (7) enerzijds en genoemde substraat-transportruimte (12) en/of behandelingskamer (1) anderzijds uitstrekkende, afsluitbare fluïdumverbinding (17).

25. Systeem volgens conclusie 23 of 24, waarbij genoemde substraat- transportmiddelen (19, 20,21) zijn ingericht om genoemd substraat (5) in een in hoofdzaak verticale stand te transporteren.

26. Systeem volgens één van de conclusies 23-25, waarbij de substraat-transportmiddelen zijn voorzien van een aantal beweegbare 25 substraatdragers (2), waarbij elke substraatdrager (2) is ingericht om ten minste één substraat (5) in genoemde behandelingskamer (1) te houden en gelijktijdig genoemde substraattoegang (13) af te sluiten.

27. Systeem volgens conclusie 26, waarbij genoemde substraatdragers (2) elk zijn voorzien van positioneringsmiddelen (50) om de substraatdrager 30 (2) en genoemd masker (4) ten opzichte van elkaar te positioneren. 10242 IS

28. Transportinrichting (8) van een systeem volgens één van de I voorgaande conclusies. I

29. Werkwijze voor het behandelen van substraten onder I gebruikmaking van een systeem volgens één van de voorgaande conclusies, I 5 waarbij genoemd, ten minste ene substraat (5) in genoemde I behandelingskamer (1) wordt opgesteld, waarbij een deel van een te I behandelen oppervlak van genoemd substraat (5) door genoemd masker (4) I wordt bedekt, waarbij vervolgens een vacuümproces in de I behandelingskamer (1) wordt uitgevoerd om althans het niet door het I 10 masker (4) bedekte deel van het genoemde substraatoppervlak te I behandelen. I

30. Werkwijze volgens conclusie 29, waarbij genoemd masker (4) I voorafgaand aan en/of na genoemde substraatbehandeling door genoemde I transportinrichting (8) wordt verwisseld. I

31. Werkwijze volgens conclusie 30, waarbij genoemd masker (4) uit de I behandelingskamer (1) in een masker-vacuümsluie (7) wordt bewogen I terwijl genoemd afsluitlichaam (15) de behandelingskamer (1) wordt in I bewogen om genoemde substraatdoorgang (13) af te sluiten, waarbij de I vacuümsluie (7) wordt geopend, althans nadat de vacuümsluis (7) van de I 20 behandelingskamer (1) is afgesloten, om het masker (4) te verwisselen. I

32. Werkwijze volgens conclusie 31, waarbij genoemd masker (4) I tijdens het verwisselen in in hoofdzaak verticale richting uit en in genoemde I behandelingskamer (1) wordt bewogen. I

33. Systeem voor het behandelen van substraten, waarbij het systeem I 25 is voorzien van ten minste één behandelingskamer (1), waarbij het systeem I ie voorzien van ten minste één beweegbare substraatdrager (2) die is I ingericht om ten minste één substraat (5) in genoemde behandelingskamer I (1) te houden, waarbij het systeem is voorzien van masker- draagmiddelen I (35) die zijn ingericht om een masker (4) in een substraat-bedekkingspositie I 30 in de behandelingskamer (1) te houden voor het bedekken van althans een I 1024215 I deel van genoemd substraat (5), waarbij ten minste genoemde eubstraatdrager (2) ie voorzien van positioneringsmiddelen (50) om de subetraatdrager (2) en het masker (4) ten opzichte van elkaar te positioneren.

34. Systeem volgens conclusie 33, waarbij genoemde positioneringsmiddelen (50) zijn ingericht om genoemde subetraatdrager (2) in een voor positionering gewenste stand aan genoemde maskerdraagmiddelen (35) en/of genoemd masker (4) te koppelen wanneer de subetraatdrager (2) en het masker (4) in een naar elkaar toe bewogen 10 stand worden gebracht.

35. Systeem volgens conclusie 33 of 34, waarbij genoemd masker (4) is voorzien van positioneringsmiddelen (51) die zijn ingericht om met genoemde positioneringsmiddelen (50) van genoemde subetraatdrager (2) samen te werken ten behoeve van genoemde positionering.

36. Systeem volgens één van de conclusies 33-35, waarbij genoemde maskerdraagmiddelen (35) zijn voorzien van positioneringsmiddelen die zijn ingericht om met genoemde positioneringsmiddelen (50) van genoemde subetraatdrager (2) samen te werken ten behoeve van genoemde positionering.

37. Systeem volgens één van de conclusies 33-36, waarbij genoemde i positioneringsmiddelen (50, 51) mechanische positioneringsmiddelen omvatten.

38. Systeem volgens conclusie 37, waarbij genoemde positioneringsmiddelen stift/gat-positioneringsmiddelen (50, 51) omvatten.

39. Systeem volgens één van de conclusies 33-38, waarbij genoemde subetraatdrager (2) is voorzien van substraat-positioneringsmiddelen (40) om genoemd substraat (5) ten opzichte van de eubstraatdrager (2) te positioneren.

40. Systeem volgens één van de conclusies 33-39 in combinatie met één 30 van dé conclusies 1-26. < ϋ¢,: J ij

41. Gebruik van een systeem volgens één van de conclusies 33-40, I waarbij genoemd substraat op een gewenste positie op genoemde I subetraatdrager (2) wordt gepositioneerd, waarbij de substraatdrager (2) en I genoemd masker (4) vervolgens ten opzichte van elkaar worden I 5 gepositioneerd onder gebruikmaking van genoemde positioneringsmiddelen I (50). I 1024215 I