JPH05281707A - マスク洗浄治具 - Google Patents

マスク洗浄治具

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Publication number
JPH05281707A
JPH05281707A JP7671392A JP7671392A JPH05281707A JP H05281707 A JPH05281707 A JP H05281707A JP 7671392 A JP7671392 A JP 7671392A JP 7671392 A JP7671392 A JP 7671392A JP H05281707 A JPH05281707 A JP H05281707A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
cleaning
mask
holder
component
Prior art date
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Pending
Application number
JP7671392A
Other languages
English (en)
Inventor
Yuko Nanbu
優子 南部
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electronics Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electronics Corp filed Critical Matsushita Electronics Corp
Priority to JP7671392A priority Critical patent/JPH05281707A/ja
Publication of JPH05281707A publication Critical patent/JPH05281707A/ja
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  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ペリクル付レチクルの洗浄と、酸や有機によ
るペリクルの劣化・損傷なく洗浄することができるマス
ク洗浄治具を提供する。 【構成】 洗浄を行なうチャンバー内にあり、基板をセ
ットし基板の各々の面を支持するチャックツメ構成部分
1〜5と、洗浄を行なう基板全体を載せるホルダー構成
部分6〜8とを有する。この構成により、ペリクル付レ
チクルの洗浄が可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造リソグラフ
ィに使用されるマスクのマスク洗浄治具に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】近年、マスク基板の洗浄には、マスク洗
浄装置が使用されている。
【0003】以下図面を参照しながら、上記した従来の
マスク洗浄機とその治具の一例について説明する。
【0004】図5はマスク洗浄機の治具の斜視図を示す
ものである。図5は洗浄しようとする基板をセットする
ワークチャック全体の斜視図である。1、2、20、
4、21はチャックツメの個々の構成部分、6から8は
基板を支持するホルダーの構成部分である。
【0005】チャックツメの構成部分1に基板をセット
した時、基板の四角がそれぞれ構成部分1と接する。こ
の構成部分1は洗浄した時純水ノズルアームから噴射さ
れた純水をワークチャック22の外に出すために設けて
ある。ここでは構成部分1はチャックツメの中央に彫り
込まれた溝型形状である。
【0006】構成部分2は基板をセットするチャックツ
メの上面部である。構成部分20はセットした基板の側
面と接する側面部である。この構成部分20は構成部分
2のチャックツメの上面部の一部を上面部から垂直に切
りとった側面である。構成部分20の高さは基板の四隅
上面とほぼ接する高さに設定されている。構成部分4は
構成部分20と垂直に形成されている。また洗浄しよう
とする基板面を支持するように構成部分4は平面形状と
なっている。構成部分21はホルダー上面に垂直で、か
つ構成部分4の平面の一部に形成された断面部である。
構成部分5は基板裏面が破損しないように設けられてい
る。
【0007】基板側面と接する構成部分20と基板裏面
に接する構成部分4とで基板は支持されている。構成部
分6は洗浄しようとする基板全体を支持する十字型ホル
ダーである。構成部分7は十字型ホルダーの側面であ
る。構成部分8は洗浄時にはこの十字型ホルダー構成部
分6が回転しながら洗浄するため、このホルダー軸をセ
ットする穴である。
【0008】図6はチャックツメの斜視図である。ここ
に記載されている符号は、すべて図5に記されている符
号と同じ形状で作用である。
【0009】図7は図5と図6を含むマスク洗浄機の概
略図を示すものである。図7において9は純水ノズルア
ーム、10は赤外線ランプ、22はワークチャック、1
2は操作パネル、13は圧力計、23はチャンバー、1
5は制御部、16は上蓋である。
【0010】純水ノズルアーム9は純水を供給する管と
純水を滴下する純水ノズルとからなる。赤外線ランプ1
0は洗浄したマスクを乾燥させるために用いる。ワーク
チャック22には、そのホルダーにチャックツメが備え
られている。操作パネル12は洗浄条件を入力し、それ
を表示するのに用いられる。圧力計13は洗浄装置の純
水の圧力を表示するもので、純水の圧力とコントロール
を同時に行う。チャンバー23にはワークチャック22
と純水ノズルアーム9を備えている。制御部15は洗浄
装置全体の条件等を管理するものである。この制御部1
5によって純水ノズルアーム9、赤外線ランプ10、ワ
ークチャック22は制御される。16は洗浄装置の上蓋
であり、通常洗浄時には閉まっている。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記のよ
うな構成では、セットした基板の側面と接する部分と洗
浄しない基板面の破損防止のものの幅が各々短かったた
め、ペリクル付マスクの洗浄が出来ない。また、酸や有
機で洗浄するとペリクル膜が損傷するためペリクル付マ
スクの洗浄は、不可能という問題点を有していた。
【0012】本発明は上記問題点に鑑み、ペリクル付マ
スクを洗浄でき、酸や有機によるペリクルの劣化・損傷
なく洗浄することができるマスク洗浄治具を提供するも
のである。
【0013】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに本発明のマスク洗浄治具は、洗浄を行なうチャンバ
ーと、前記洗浄を行なう基板を載せるホルダーと、純水
を噴射するノズルと、前記ホルダーを回転させる駆動部
と、前記駆動部と洗浄シーケンスとを制御する制御部と
を備えている。
【0014】また、洗浄を行なうチャンバーと、前記洗
浄を行なう基板を載せるホルダーと、純水を噴射するノ
ズルと、前記基板を保持する真空チャックと、前記ホル
ダーを回転させる駆動部と、前記駆動部と洗浄シーケン
スと真空チャックとを制御する制御部とを備えている。
【0015】
【作用】本発明は上記した構成によって、セットした基
板の側面と接する部分と基板裏面の損傷防止のために設
けた部分の幅を各々大きくしたため、ペリクル付マスク
が洗浄できる。
【0016】また、ワークチャック全体に外枠を設置す
ることにより酸や有機によるペリクルの劣化・損傷なく
洗浄することができる。
【0017】
【実施例】以下本発明の第一の実施例のマスク洗浄治具
について、図面を参照しながら説明する。
【0018】図1はマスク洗浄機の治具の斜視図を示す
ものである。この図は洗浄しようとする基板をセットす
るワークチャック全体斜視図である。1から5はチャッ
クツメの個々の構成部分、6から8は基板を支持するホ
ルダーの構成部分である。チャックツメの構成部分1に
基板をセットした時、基板の四角がそれぞれ構成部分1
と接する。この構成部分1は洗浄した時純水ノズルアー
ムから噴射された純水がワークチャック13の外に出す
ために設けてある。ここでは構成部分1はチャックツメ
の中央にほり込まれた溝型形状である。
【0019】構成部分2は基板をセットするチャックツ
メの上面部である。構成部分3はセットした基板の側面
と接する側面部である。この構成部分3は構成部分2の
チャックツメの上面部の一部を上面部から垂直に切りと
った側面である。この側面はペリクル付レチクル洗浄を
するため従来の幅より大きくしている。構成部分3の高
さは基板の四隅上面とほぼ接する高さに設定されてい
る。構成部分4は構成部分3と垂直に形成されている。
また洗浄しようとする基板面を支持するように構成部分
4は平面形状となっている。構成部分5はホルダー上面
に垂直で、かつ構成部分4の平面の一部に形成された断
面部である。構成部分5は基板裏面が破損しないように
設けられている。更に、基板裏面にもペリクルが取り付
けられたレチクルの洗浄ができるように、ペリクルとレ
チクルとの距離だけ従来の幅より大きくしている。基板
側面と接する構成部分3と基板裏面に接する構成部分4
とで基板は支持されている。
【0020】構成部分6は洗浄しようとする基板全体を
支持する十字型ホルダーである。構成部分7は十字型ホ
ルダーの側面である。構成部分8は洗浄時にはこの十字
型ホルダー構成部分6が回転しながら洗浄するため、こ
のホルダー軸をセットする穴である。
【0021】図2はチャックツメの斜視図である。この
図に記されている符号はすべて図1に記されている符号
と同じ形状で作用をする。また、このチャックツメは十
字型ホルダーの末端に設置されている。
【0022】図7で説明した従来のマスク洗浄機に、本
実施例のホルダーを用いた場合のマスク洗浄の方法につ
いて説明する。
【0023】洗浄機の上蓋16を開き、洗浄しようとす
るマスクをワークチャック11のチャックツメにセット
し、セット確認後に洗浄条件を操作パネル12に入力す
る。上蓋16を閉めスタートすると十字型ホルダー穴8
によって支持されたホルダーが回転しながら純水ノズル
アーム9から放出された純水をワークチャック11上に
受け、マスク表面に滴下されて洗浄が行なわれる。赤外
線ランプ10は洗浄したマスクを乾燥させるためのもの
である。これは、すべてチャンバー14内で行なわれる
動作である。マスク洗浄内容は、操作パネル12に表示
され、ここで洗浄条件を入力する。また、固定された基
板は、回転しながら高圧水で洗浄され、次に、赤外線ラ
ンプ10により乾燥段階に入り洗浄終了となる。これら
一連の動作はすべて制御部15によって制御される。
【0024】以上のような本実施例によれば、ワークチ
ャック13に備え付けられたチャックツメの構成部分3
と構成部分5の幅を従来幅より大きくすることにより従
来の洗浄機では不可能とされていたペリクル付マスクを
洗浄することができる。
【0025】以下本発明の第2の実施例について図面を
参照しながら説明する。図3はマスク洗浄機の治具の斜
視図を示すものである。1から5はチャックツメの個々
の構成部分、6から8と17は基板を支持するホルダー
の構成部分である。
【0026】チャックツメの構成部分1に基板をセット
した時、基板の四角がそれぞれ構成部分1と接する。こ
の構成部分1は洗浄した時純水ノズルアームから噴射さ
れた純水がワークチャック18の外に出すために設けて
ある。ここでは構成部分1はチャックツメの中央にほり
込まれた溝型形状である。
【0027】構成部分2は基板をセットするチャックツ
メの上面部である。構成部分3はセットした基板の側面
と接する側面部である。この構成部分3は構成部分2の
チャックツメの上面部の一部を上面部から垂直に切りと
った側面である。この側面はペリクル付レチクル洗浄を
するため従来の幅より大きくしている。構成部分3の高
さは基板の四隅上面とほぼ接する高さに設定されてい
る。構成部分4は構成部分3と垂直に形成されている。
また洗浄しようとする基板面を支持するように構成部分
4は平面形状となっている。構成部分5はホルダー上面
に垂直で、かつ構成部分4の平面の一部に形成された断
面部である。構成部分5は基板裏面が破損しないように
設けられている。更に、基板裏面にもペリクルが取り付
けられたレチクルの洗浄ができるように、ペリクルとレ
チクルとの距離だけ従来の幅より大きくしている。
【0028】基板側面と接する構成部分3と基板裏面に
接する構成部分4とで基板は支持されている。
【0029】構成部分6は洗浄しようとする基板全体を
支持する十字型ホルダーである。構成部分7は十字型ホ
ルダーの側面である。構成部分8は洗浄時にはこの十字
型ホルダー構成部分6が回転しながら洗浄するため、こ
のホルダー軸をセットする穴である。構成部分17はチ
ャックツメとホルダー全体を覆う凹型の外枠である。こ
の外枠を設けることによりペリクル付レチクルの洗浄が
可能となる。また、酸や有機によるペリクル膜の損傷、
劣化を防止し、高洗浄効果を得ることが可能である。
【0030】図4はチャックツメの斜視図である。この
図に記されている符号はすべて図1に記されている符号
と同じ形状で、かつ同じ作用をする。また、このチャッ
クツメは十字型ホルダーの末端に設置されている。
【0031】図7で説明した従来のマスク洗浄機に、本
実施例のホルダーを用いた場合のマスク洗浄の方法につ
いて説明する。
【0032】洗浄機の上蓋16を開き、洗浄しようとす
るマスクをワークチャック18のチャックツメにセット
し、セット確認後に洗浄条件を操作パネル12に入力す
る。上蓋16を閉めスタートすると十字型ホルダー穴8
によって支持されたホルダーが回転しながら純水ノズル
アーム9から放出された純水をワークチャック18上に
受け、マスク表面に滴下されて洗浄が行なわれる。赤外
線ランプ10は洗浄したマスクを乾燥させるためのもの
である。これは、すべてチャンバー19内で行なわれる
動作である。マスク洗浄内容は、操作パネル12に表示
され、ここで洗浄条件を入力する。また、固定された基
板は、回転しながら高圧水で洗浄され、次に、赤外線ラ
ンプ10により乾燥段階に入り洗浄終了となる。これら
一連の動作はすべて制御部15によって制御される。
【0033】以上のような本実施例によれば、チャック
ツメの構成部分3と構成部分5の幅を従来の幅より大き
くすることにより、従来のマスク洗浄機では不可能とさ
れていたペリクル付マスクを洗浄することができる。
【0034】さらに、ワークチャック18に備え付けら
れたホルダー全体を覆う凹型の形状をした外枠を設ける
ことにより、酸や有機によるペリクル膜の損傷、劣化な
く高洗浄効果を得ることができる。
【0035】なお、第1の実施例において、純水ノズル
アーム9は純水を噴射するノズルとしたが、純水ノズル
アーム9は高圧水や超音波洗浄のノズルを取り付けても
よい。
【0036】また、洗浄ノズルにリンス用ノズル等を付
け加えてかまわない。前述した発明は理解を明瞭にする
ために図解および例示の方法によって詳細に説明された
けれども、ある変化およびある変形は添付した特許請求
の範囲で行なわれ得ることは明らかである。
【0037】
【発明の効果】以上のように本発明は従来のマスク洗浄
機の洗浄を行なうチャンバーと洗浄する基板を乗せるた
めのホルダーと純水を噴射するノズルとホルダーを回転
させる駆動部・洗浄シーケンスの制御部を備えたマスク
洗浄機のホルダー部のマスク支持部とホルダー底面間を
拡大する。また、ホルダー全体に外枠を設けることによ
り、ペリクル付マスクの洗浄ができる。また、酸や有機
によるペリクル膜の損傷、劣化を防止しペリクル付マス
クの洗浄効果を上げることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例におけるマスク洗浄機の
治具の斜視図
【図2】同実施例におけるワークチャックのチャックツ
メの拡大斜視図
【図3】本発明の第2の実施例におけるマスク洗浄機の
治具の斜視図
【図4】同実施例におけるワークチャックのチャックツ
メの拡大斜視図
【図5】従来のマスク洗浄機の治具の斜視図
【図6】従来のワークチャックのチャックツメの拡大斜
視図
【図7】従来のマスク洗浄機の概略図
【符号の説明】
1〜8 構成部分 9 純水ノズルアーム 10 赤外線ランプ 11 ワークチャック 12 操作パネル 13 圧力計 14 チャンバー 15 制御部 16 上蓋

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】洗浄を行なうチャンバーと、前記洗浄を行
    なう基板を載せるホルダーと、純水を噴射するノズル
    と、前記ホルダーを回転させる駆動部と、前記駆動部と
    洗浄シーケンスとを制御する制御部とを備えたことを特
    徴とするマスク洗浄治具。
  2. 【請求項2】洗浄を行なうチャンバーと、前記洗浄を行
    なう基板を載せるホルダーと、純水を噴射するノズル
    と、前記基板を保持する真空チャックと、前記ホルダー
    を回転させる駆動部と、前記駆動部と洗浄シーケンスと
    真空チャックとを制御する制御部とを備えたことを特徴
    とするマスク洗浄治具。
JP7671392A 1992-03-31 1992-03-31 マスク洗浄治具 Pending JPH05281707A (ja)

Priority Applications (1)

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JP7671392A JPH05281707A (ja) 1992-03-31 1992-03-31 マスク洗浄治具

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JP7671392A JPH05281707A (ja) 1992-03-31 1992-03-31 マスク洗浄治具

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JPH05281707A true JPH05281707A (ja) 1993-10-29

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ID=13613192

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JP7671392A Pending JPH05281707A (ja) 1992-03-31 1992-03-31 マスク洗浄治具

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100940371B1 (ko) * 2007-12-26 2010-02-02 주식회사 케이씨텍 포토마스크 세정장치
US7673637B2 (en) * 2006-08-15 2010-03-09 Yung-Shun Pan Photomask cleaner
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KR20190094371A (ko) * 2016-11-16 2019-08-13 서스 마이크로텍 포토마스크 이큅먼트 게엠베하 운트 코. 카게 포토 마스크 또는 펠리클을 갖는 포토 마스크의 일 측면을 수용하여 세정 매체로부터 보호하기 위한 홀더, 포토 마스크 또는 펠리클을 갖는 포토 마스크를 세정하기 위한 방법, 및 홀더를 개방 및 폐쇄하기 위한 장치

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