JPH05281707A - マスク洗浄治具 - Google Patents
マスク洗浄治具Info
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- JPH05281707A JPH05281707A JP7671392A JP7671392A JPH05281707A JP H05281707 A JPH05281707 A JP H05281707A JP 7671392 A JP7671392 A JP 7671392A JP 7671392 A JP7671392 A JP 7671392A JP H05281707 A JPH05281707 A JP H05281707A
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- JP
- Japan
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- substrate
- cleaning
- mask
- holder
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ペリクル付レチクルの洗浄と、酸や有機によ
るペリクルの劣化・損傷なく洗浄することができるマス
ク洗浄治具を提供する。 【構成】 洗浄を行なうチャンバー内にあり、基板をセ
ットし基板の各々の面を支持するチャックツメ構成部分
１〜５と、洗浄を行なう基板全体を載せるホルダー構成
部分６〜８とを有する。この構成により、ペリクル付レ
チクルの洗浄が可能となる。
るペリクルの劣化・損傷なく洗浄することができるマス
ク洗浄治具を提供する。 【構成】 洗浄を行なうチャンバー内にあり、基板をセ
ットし基板の各々の面を支持するチャックツメ構成部分
１〜５と、洗浄を行なう基板全体を載せるホルダー構成
部分６〜８とを有する。この構成により、ペリクル付レ
チクルの洗浄が可能となる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造リソグラフ
ィに使用されるマスクのマスク洗浄治具に関するもので
ある。
ィに使用されるマスクのマスク洗浄治具に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】近年、マスク基板の洗浄には、マスク洗
浄装置が使用されている。
浄装置が使用されている。
【０００３】以下図面を参照しながら、上記した従来の
マスク洗浄機とその治具の一例について説明する。
マスク洗浄機とその治具の一例について説明する。
【０００４】図５はマスク洗浄機の治具の斜視図を示す
ものである。図５は洗浄しようとする基板をセットする
ワークチャック全体の斜視図である。１、２、２０、
４、２１はチャックツメの個々の構成部分、６から８は
基板を支持するホルダーの構成部分である。
ものである。図５は洗浄しようとする基板をセットする
ワークチャック全体の斜視図である。１、２、２０、
４、２１はチャックツメの個々の構成部分、６から８は
基板を支持するホルダーの構成部分である。
【０００５】チャックツメの構成部分１に基板をセット
した時、基板の四角がそれぞれ構成部分１と接する。こ
の構成部分１は洗浄した時純水ノズルアームから噴射さ
れた純水をワークチャック２２の外に出すために設けて
ある。ここでは構成部分１はチャックツメの中央に彫り
込まれた溝型形状である。
した時、基板の四角がそれぞれ構成部分１と接する。こ
の構成部分１は洗浄した時純水ノズルアームから噴射さ
れた純水をワークチャック２２の外に出すために設けて
ある。ここでは構成部分１はチャックツメの中央に彫り
込まれた溝型形状である。
【０００６】構成部分２は基板をセットするチャックツ
メの上面部である。構成部分２０はセットした基板の側
面と接する側面部である。この構成部分２０は構成部分
２のチャックツメの上面部の一部を上面部から垂直に切
りとった側面である。構成部分２０の高さは基板の四隅
上面とほぼ接する高さに設定されている。構成部分４は
構成部分２０と垂直に形成されている。また洗浄しよう
とする基板面を支持するように構成部分４は平面形状と
なっている。構成部分２１はホルダー上面に垂直で、か
つ構成部分４の平面の一部に形成された断面部である。
構成部分５は基板裏面が破損しないように設けられてい
る。
メの上面部である。構成部分２０はセットした基板の側
面と接する側面部である。この構成部分２０は構成部分
２のチャックツメの上面部の一部を上面部から垂直に切
りとった側面である。構成部分２０の高さは基板の四隅
上面とほぼ接する高さに設定されている。構成部分４は
構成部分２０と垂直に形成されている。また洗浄しよう
とする基板面を支持するように構成部分４は平面形状と
なっている。構成部分２１はホルダー上面に垂直で、か
つ構成部分４の平面の一部に形成された断面部である。
構成部分５は基板裏面が破損しないように設けられてい
る。
【０００７】基板側面と接する構成部分２０と基板裏面
に接する構成部分４とで基板は支持されている。構成部
分６は洗浄しようとする基板全体を支持する十字型ホル
ダーである。構成部分７は十字型ホルダーの側面であ
る。構成部分８は洗浄時にはこの十字型ホルダー構成部
分６が回転しながら洗浄するため、このホルダー軸をセ
ットする穴である。
に接する構成部分４とで基板は支持されている。構成部
分６は洗浄しようとする基板全体を支持する十字型ホル
ダーである。構成部分７は十字型ホルダーの側面であ
る。構成部分８は洗浄時にはこの十字型ホルダー構成部
分６が回転しながら洗浄するため、このホルダー軸をセ
ットする穴である。
【０００８】図６はチャックツメの斜視図である。ここ
に記載されている符号は、すべて図５に記されている符
号と同じ形状で作用である。
に記載されている符号は、すべて図５に記されている符
号と同じ形状で作用である。
【０００９】図７は図５と図６を含むマスク洗浄機の概
略図を示すものである。図７において９は純水ノズルア
ーム、１０は赤外線ランプ、２２はワークチャック、１
２は操作パネル、１３は圧力計、２３はチャンバー、１
５は制御部、１６は上蓋である。
略図を示すものである。図７において９は純水ノズルア
ーム、１０は赤外線ランプ、２２はワークチャック、１
２は操作パネル、１３は圧力計、２３はチャンバー、１
５は制御部、１６は上蓋である。
【００１０】純水ノズルアーム９は純水を供給する管と
純水を滴下する純水ノズルとからなる。赤外線ランプ１
０は洗浄したマスクを乾燥させるために用いる。ワーク
チャック２２には、そのホルダーにチャックツメが備え
られている。操作パネル１２は洗浄条件を入力し、それ
を表示するのに用いられる。圧力計１３は洗浄装置の純
水の圧力を表示するもので、純水の圧力とコントロール
を同時に行う。チャンバー２３にはワークチャック２２
と純水ノズルアーム９を備えている。制御部１５は洗浄
装置全体の条件等を管理するものである。この制御部１
５によって純水ノズルアーム９、赤外線ランプ１０、ワ
ークチャック２２は制御される。１６は洗浄装置の上蓋
であり、通常洗浄時には閉まっている。
純水を滴下する純水ノズルとからなる。赤外線ランプ１
０は洗浄したマスクを乾燥させるために用いる。ワーク
チャック２２には、そのホルダーにチャックツメが備え
られている。操作パネル１２は洗浄条件を入力し、それ
を表示するのに用いられる。圧力計１３は洗浄装置の純
水の圧力を表示するもので、純水の圧力とコントロール
を同時に行う。チャンバー２３にはワークチャック２２
と純水ノズルアーム９を備えている。制御部１５は洗浄
装置全体の条件等を管理するものである。この制御部１
５によって純水ノズルアーム９、赤外線ランプ１０、ワ
ークチャック２２は制御される。１６は洗浄装置の上蓋
であり、通常洗浄時には閉まっている。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記のよ
うな構成では、セットした基板の側面と接する部分と洗
浄しない基板面の破損防止のものの幅が各々短かったた
め、ペリクル付マスクの洗浄が出来ない。また、酸や有
機で洗浄するとペリクル膜が損傷するためペリクル付マ
スクの洗浄は、不可能という問題点を有していた。
うな構成では、セットした基板の側面と接する部分と洗
浄しない基板面の破損防止のものの幅が各々短かったた
め、ペリクル付マスクの洗浄が出来ない。また、酸や有
機で洗浄するとペリクル膜が損傷するためペリクル付マ
スクの洗浄は、不可能という問題点を有していた。
【００１２】本発明は上記問題点に鑑み、ペリクル付マ
スクを洗浄でき、酸や有機によるペリクルの劣化・損傷
なく洗浄することができるマスク洗浄治具を提供するも
のである。
スクを洗浄でき、酸や有機によるペリクルの劣化・損傷
なく洗浄することができるマスク洗浄治具を提供するも
のである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに本発明のマスク洗浄治具は、洗浄を行なうチャンバ
ーと、前記洗浄を行なう基板を載せるホルダーと、純水
を噴射するノズルと、前記ホルダーを回転させる駆動部
と、前記駆動部と洗浄シーケンスとを制御する制御部と
を備えている。
めに本発明のマスク洗浄治具は、洗浄を行なうチャンバ
ーと、前記洗浄を行なう基板を載せるホルダーと、純水
を噴射するノズルと、前記ホルダーを回転させる駆動部
と、前記駆動部と洗浄シーケンスとを制御する制御部と
を備えている。
【００１４】また、洗浄を行なうチャンバーと、前記洗
浄を行なう基板を載せるホルダーと、純水を噴射するノ
ズルと、前記基板を保持する真空チャックと、前記ホル
ダーを回転させる駆動部と、前記駆動部と洗浄シーケン
スと真空チャックとを制御する制御部とを備えている。
浄を行なう基板を載せるホルダーと、純水を噴射するノ
ズルと、前記基板を保持する真空チャックと、前記ホル
ダーを回転させる駆動部と、前記駆動部と洗浄シーケン
スと真空チャックとを制御する制御部とを備えている。
【００１５】
【作用】本発明は上記した構成によって、セットした基
板の側面と接する部分と基板裏面の損傷防止のために設
けた部分の幅を各々大きくしたため、ペリクル付マスク
が洗浄できる。
板の側面と接する部分と基板裏面の損傷防止のために設
けた部分の幅を各々大きくしたため、ペリクル付マスク
が洗浄できる。
【００１６】また、ワークチャック全体に外枠を設置す
ることにより酸や有機によるペリクルの劣化・損傷なく
洗浄することができる。
ることにより酸や有機によるペリクルの劣化・損傷なく
洗浄することができる。
【００１７】
【実施例】以下本発明の第一の実施例のマスク洗浄治具
について、図面を参照しながら説明する。
について、図面を参照しながら説明する。
【００１８】図１はマスク洗浄機の治具の斜視図を示す
ものである。この図は洗浄しようとする基板をセットす
るワークチャック全体斜視図である。１から５はチャッ
クツメの個々の構成部分、６から８は基板を支持するホ
ルダーの構成部分である。チャックツメの構成部分１に
基板をセットした時、基板の四角がそれぞれ構成部分１
と接する。この構成部分１は洗浄した時純水ノズルアー
ムから噴射された純水がワークチャック１３の外に出す
ために設けてある。ここでは構成部分１はチャックツメ
の中央にほり込まれた溝型形状である。
ものである。この図は洗浄しようとする基板をセットす
るワークチャック全体斜視図である。１から５はチャッ
クツメの個々の構成部分、６から８は基板を支持するホ
ルダーの構成部分である。チャックツメの構成部分１に
基板をセットした時、基板の四角がそれぞれ構成部分１
と接する。この構成部分１は洗浄した時純水ノズルアー
ムから噴射された純水がワークチャック１３の外に出す
ために設けてある。ここでは構成部分１はチャックツメ
の中央にほり込まれた溝型形状である。
【００１９】構成部分２は基板をセットするチャックツ
メの上面部である。構成部分３はセットした基板の側面
と接する側面部である。この構成部分３は構成部分２の
チャックツメの上面部の一部を上面部から垂直に切りと
った側面である。この側面はペリクル付レチクル洗浄を
するため従来の幅より大きくしている。構成部分３の高
さは基板の四隅上面とほぼ接する高さに設定されてい
る。構成部分４は構成部分３と垂直に形成されている。
また洗浄しようとする基板面を支持するように構成部分
４は平面形状となっている。構成部分５はホルダー上面
に垂直で、かつ構成部分４の平面の一部に形成された断
面部である。構成部分５は基板裏面が破損しないように
設けられている。更に、基板裏面にもペリクルが取り付
けられたレチクルの洗浄ができるように、ペリクルとレ
チクルとの距離だけ従来の幅より大きくしている。基板
側面と接する構成部分３と基板裏面に接する構成部分４
とで基板は支持されている。
メの上面部である。構成部分３はセットした基板の側面
と接する側面部である。この構成部分３は構成部分２の
チャックツメの上面部の一部を上面部から垂直に切りと
った側面である。この側面はペリクル付レチクル洗浄を
するため従来の幅より大きくしている。構成部分３の高
さは基板の四隅上面とほぼ接する高さに設定されてい
る。構成部分４は構成部分３と垂直に形成されている。
また洗浄しようとする基板面を支持するように構成部分
４は平面形状となっている。構成部分５はホルダー上面
に垂直で、かつ構成部分４の平面の一部に形成された断
面部である。構成部分５は基板裏面が破損しないように
設けられている。更に、基板裏面にもペリクルが取り付
けられたレチクルの洗浄ができるように、ペリクルとレ
チクルとの距離だけ従来の幅より大きくしている。基板
側面と接する構成部分３と基板裏面に接する構成部分４
とで基板は支持されている。
【００２０】構成部分６は洗浄しようとする基板全体を
支持する十字型ホルダーである。構成部分７は十字型ホ
ルダーの側面である。構成部分８は洗浄時にはこの十字
型ホルダー構成部分６が回転しながら洗浄するため、こ
のホルダー軸をセットする穴である。
支持する十字型ホルダーである。構成部分７は十字型ホ
ルダーの側面である。構成部分８は洗浄時にはこの十字
型ホルダー構成部分６が回転しながら洗浄するため、こ
のホルダー軸をセットする穴である。
【００２１】図２はチャックツメの斜視図である。この
図に記されている符号はすべて図１に記されている符号
と同じ形状で作用をする。また、このチャックツメは十
字型ホルダーの末端に設置されている。
図に記されている符号はすべて図１に記されている符号
と同じ形状で作用をする。また、このチャックツメは十
字型ホルダーの末端に設置されている。
【００２２】図７で説明した従来のマスク洗浄機に、本
実施例のホルダーを用いた場合のマスク洗浄の方法につ
いて説明する。
実施例のホルダーを用いた場合のマスク洗浄の方法につ
いて説明する。
【００２３】洗浄機の上蓋１６を開き、洗浄しようとす
るマスクをワークチャック１１のチャックツメにセット
し、セット確認後に洗浄条件を操作パネル１２に入力す
る。上蓋１６を閉めスタートすると十字型ホルダー穴８
によって支持されたホルダーが回転しながら純水ノズル
アーム９から放出された純水をワークチャック１１上に
受け、マスク表面に滴下されて洗浄が行なわれる。赤外
線ランプ１０は洗浄したマスクを乾燥させるためのもの
である。これは、すべてチャンバー１４内で行なわれる
動作である。マスク洗浄内容は、操作パネル１２に表示
され、ここで洗浄条件を入力する。また、固定された基
板は、回転しながら高圧水で洗浄され、次に、赤外線ラ
ンプ１０により乾燥段階に入り洗浄終了となる。これら
一連の動作はすべて制御部１５によって制御される。
るマスクをワークチャック１１のチャックツメにセット
し、セット確認後に洗浄条件を操作パネル１２に入力す
る。上蓋１６を閉めスタートすると十字型ホルダー穴８
によって支持されたホルダーが回転しながら純水ノズル
アーム９から放出された純水をワークチャック１１上に
受け、マスク表面に滴下されて洗浄が行なわれる。赤外
線ランプ１０は洗浄したマスクを乾燥させるためのもの
である。これは、すべてチャンバー１４内で行なわれる
動作である。マスク洗浄内容は、操作パネル１２に表示
され、ここで洗浄条件を入力する。また、固定された基
板は、回転しながら高圧水で洗浄され、次に、赤外線ラ
ンプ１０により乾燥段階に入り洗浄終了となる。これら
一連の動作はすべて制御部１５によって制御される。
【００２４】以上のような本実施例によれば、ワークチ
ャック１３に備え付けられたチャックツメの構成部分３
と構成部分５の幅を従来幅より大きくすることにより従
来の洗浄機では不可能とされていたペリクル付マスクを
洗浄することができる。
ャック１３に備え付けられたチャックツメの構成部分３
と構成部分５の幅を従来幅より大きくすることにより従
来の洗浄機では不可能とされていたペリクル付マスクを
洗浄することができる。
【００２５】以下本発明の第２の実施例について図面を
参照しながら説明する。図３はマスク洗浄機の治具の斜
視図を示すものである。１から５はチャックツメの個々
の構成部分、６から８と１７は基板を支持するホルダー
の構成部分である。
参照しながら説明する。図３はマスク洗浄機の治具の斜
視図を示すものである。１から５はチャックツメの個々
の構成部分、６から８と１７は基板を支持するホルダー
の構成部分である。
【００２６】チャックツメの構成部分１に基板をセット
した時、基板の四角がそれぞれ構成部分１と接する。こ
の構成部分１は洗浄した時純水ノズルアームから噴射さ
れた純水がワークチャック１８の外に出すために設けて
ある。ここでは構成部分１はチャックツメの中央にほり
込まれた溝型形状である。
した時、基板の四角がそれぞれ構成部分１と接する。こ
の構成部分１は洗浄した時純水ノズルアームから噴射さ
れた純水がワークチャック１８の外に出すために設けて
ある。ここでは構成部分１はチャックツメの中央にほり
込まれた溝型形状である。
【００２７】構成部分２は基板をセットするチャックツ
メの上面部である。構成部分３はセットした基板の側面
と接する側面部である。この構成部分３は構成部分２の
チャックツメの上面部の一部を上面部から垂直に切りと
った側面である。この側面はペリクル付レチクル洗浄を
するため従来の幅より大きくしている。構成部分３の高
さは基板の四隅上面とほぼ接する高さに設定されてい
る。構成部分４は構成部分３と垂直に形成されている。
また洗浄しようとする基板面を支持するように構成部分
４は平面形状となっている。構成部分５はホルダー上面
に垂直で、かつ構成部分４の平面の一部に形成された断
面部である。構成部分５は基板裏面が破損しないように
設けられている。更に、基板裏面にもペリクルが取り付
けられたレチクルの洗浄ができるように、ペリクルとレ
チクルとの距離だけ従来の幅より大きくしている。
メの上面部である。構成部分３はセットした基板の側面
と接する側面部である。この構成部分３は構成部分２の
チャックツメの上面部の一部を上面部から垂直に切りと
った側面である。この側面はペリクル付レチクル洗浄を
するため従来の幅より大きくしている。構成部分３の高
さは基板の四隅上面とほぼ接する高さに設定されてい
る。構成部分４は構成部分３と垂直に形成されている。
また洗浄しようとする基板面を支持するように構成部分
４は平面形状となっている。構成部分５はホルダー上面
に垂直で、かつ構成部分４の平面の一部に形成された断
面部である。構成部分５は基板裏面が破損しないように
設けられている。更に、基板裏面にもペリクルが取り付
けられたレチクルの洗浄ができるように、ペリクルとレ
チクルとの距離だけ従来の幅より大きくしている。
【００２８】基板側面と接する構成部分３と基板裏面に
接する構成部分４とで基板は支持されている。
接する構成部分４とで基板は支持されている。
【００２９】構成部分６は洗浄しようとする基板全体を
支持する十字型ホルダーである。構成部分７は十字型ホ
ルダーの側面である。構成部分８は洗浄時にはこの十字
型ホルダー構成部分６が回転しながら洗浄するため、こ
のホルダー軸をセットする穴である。構成部分１７はチ
ャックツメとホルダー全体を覆う凹型の外枠である。こ
の外枠を設けることによりペリクル付レチクルの洗浄が
可能となる。また、酸や有機によるペリクル膜の損傷、
劣化を防止し、高洗浄効果を得ることが可能である。
支持する十字型ホルダーである。構成部分７は十字型ホ
ルダーの側面である。構成部分８は洗浄時にはこの十字
型ホルダー構成部分６が回転しながら洗浄するため、こ
のホルダー軸をセットする穴である。構成部分１７はチ
ャックツメとホルダー全体を覆う凹型の外枠である。こ
の外枠を設けることによりペリクル付レチクルの洗浄が
可能となる。また、酸や有機によるペリクル膜の損傷、
劣化を防止し、高洗浄効果を得ることが可能である。
【００３０】図４はチャックツメの斜視図である。この
図に記されている符号はすべて図１に記されている符号
と同じ形状で、かつ同じ作用をする。また、このチャッ
クツメは十字型ホルダーの末端に設置されている。
図に記されている符号はすべて図１に記されている符号
と同じ形状で、かつ同じ作用をする。また、このチャッ
クツメは十字型ホルダーの末端に設置されている。
【００３１】図７で説明した従来のマスク洗浄機に、本
実施例のホルダーを用いた場合のマスク洗浄の方法につ
いて説明する。
実施例のホルダーを用いた場合のマスク洗浄の方法につ
いて説明する。
【００３２】洗浄機の上蓋１６を開き、洗浄しようとす
るマスクをワークチャック１８のチャックツメにセット
し、セット確認後に洗浄条件を操作パネル１２に入力す
る。上蓋１６を閉めスタートすると十字型ホルダー穴８
によって支持されたホルダーが回転しながら純水ノズル
アーム９から放出された純水をワークチャック１８上に
受け、マスク表面に滴下されて洗浄が行なわれる。赤外
線ランプ１０は洗浄したマスクを乾燥させるためのもの
である。これは、すべてチャンバー１９内で行なわれる
動作である。マスク洗浄内容は、操作パネル１２に表示
され、ここで洗浄条件を入力する。また、固定された基
板は、回転しながら高圧水で洗浄され、次に、赤外線ラ
ンプ１０により乾燥段階に入り洗浄終了となる。これら
一連の動作はすべて制御部１５によって制御される。
るマスクをワークチャック１８のチャックツメにセット
し、セット確認後に洗浄条件を操作パネル１２に入力す
る。上蓋１６を閉めスタートすると十字型ホルダー穴８
によって支持されたホルダーが回転しながら純水ノズル
アーム９から放出された純水をワークチャック１８上に
受け、マスク表面に滴下されて洗浄が行なわれる。赤外
線ランプ１０は洗浄したマスクを乾燥させるためのもの
である。これは、すべてチャンバー１９内で行なわれる
動作である。マスク洗浄内容は、操作パネル１２に表示
され、ここで洗浄条件を入力する。また、固定された基
板は、回転しながら高圧水で洗浄され、次に、赤外線ラ
ンプ１０により乾燥段階に入り洗浄終了となる。これら
一連の動作はすべて制御部１５によって制御される。
【００３３】以上のような本実施例によれば、チャック
ツメの構成部分３と構成部分５の幅を従来の幅より大き
くすることにより、従来のマスク洗浄機では不可能とさ
れていたペリクル付マスクを洗浄することができる。
ツメの構成部分３と構成部分５の幅を従来の幅より大き
くすることにより、従来のマスク洗浄機では不可能とさ
れていたペリクル付マスクを洗浄することができる。
【００３４】さらに、ワークチャック１８に備え付けら
れたホルダー全体を覆う凹型の形状をした外枠を設ける
ことにより、酸や有機によるペリクル膜の損傷、劣化な
く高洗浄効果を得ることができる。
れたホルダー全体を覆う凹型の形状をした外枠を設ける
ことにより、酸や有機によるペリクル膜の損傷、劣化な
く高洗浄効果を得ることができる。
【００３５】なお、第１の実施例において、純水ノズル
アーム９は純水を噴射するノズルとしたが、純水ノズル
アーム９は高圧水や超音波洗浄のノズルを取り付けても
よい。
アーム９は純水を噴射するノズルとしたが、純水ノズル
アーム９は高圧水や超音波洗浄のノズルを取り付けても
よい。
【００３６】また、洗浄ノズルにリンス用ノズル等を付
け加えてかまわない。前述した発明は理解を明瞭にする
ために図解および例示の方法によって詳細に説明された
けれども、ある変化およびある変形は添付した特許請求
の範囲で行なわれ得ることは明らかである。
け加えてかまわない。前述した発明は理解を明瞭にする
ために図解および例示の方法によって詳細に説明された
けれども、ある変化およびある変形は添付した特許請求
の範囲で行なわれ得ることは明らかである。
【００３７】
【発明の効果】以上のように本発明は従来のマスク洗浄
機の洗浄を行なうチャンバーと洗浄する基板を乗せるた
めのホルダーと純水を噴射するノズルとホルダーを回転
させる駆動部・洗浄シーケンスの制御部を備えたマスク
洗浄機のホルダー部のマスク支持部とホルダー底面間を
拡大する。また、ホルダー全体に外枠を設けることによ
り、ペリクル付マスクの洗浄ができる。また、酸や有機
によるペリクル膜の損傷、劣化を防止しペリクル付マス
クの洗浄効果を上げることができる。
機の洗浄を行なうチャンバーと洗浄する基板を乗せるた
めのホルダーと純水を噴射するノズルとホルダーを回転
させる駆動部・洗浄シーケンスの制御部を備えたマスク
洗浄機のホルダー部のマスク支持部とホルダー底面間を
拡大する。また、ホルダー全体に外枠を設けることによ
り、ペリクル付マスクの洗浄ができる。また、酸や有機
によるペリクル膜の損傷、劣化を防止しペリクル付マス
クの洗浄効果を上げることができる。
【図１】本発明の第１の実施例におけるマスク洗浄機の
治具の斜視図
治具の斜視図
【図２】同実施例におけるワークチャックのチャックツ
メの拡大斜視図
メの拡大斜視図
【図３】本発明の第２の実施例におけるマスク洗浄機の
治具の斜視図
治具の斜視図
【図４】同実施例におけるワークチャックのチャックツ
メの拡大斜視図
メの拡大斜視図
【図５】従来のマスク洗浄機の治具の斜視図
【図６】従来のワークチャックのチャックツメの拡大斜
視図
視図
【図７】従来のマスク洗浄機の概略図
１〜８ 構成部分 ９ 純水ノズルアーム １０ 赤外線ランプ １１ ワークチャック １２ 操作パネル １３ 圧力計 １４ チャンバー １５ 制御部 １６ 上蓋
Claims (2)
- 【請求項１】洗浄を行なうチャンバーと、前記洗浄を行
なう基板を載せるホルダーと、純水を噴射するノズル
と、前記ホルダーを回転させる駆動部と、前記駆動部と
洗浄シーケンスとを制御する制御部とを備えたことを特
徴とするマスク洗浄治具。 - 【請求項２】洗浄を行なうチャンバーと、前記洗浄を行
なう基板を載せるホルダーと、純水を噴射するノズル
と、前記基板を保持する真空チャックと、前記ホルダー
を回転させる駆動部と、前記駆動部と洗浄シーケンスと
真空チャックとを制御する制御部とを備えたことを特徴
とするマスク洗浄治具。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7671392A JPH05281707A (ja) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | マスク洗浄治具 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7671392A JPH05281707A (ja) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | マスク洗浄治具 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05281707A true JPH05281707A (ja) | 1993-10-29 |
Family
ID=13613192
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7671392A Pending JPH05281707A (ja) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | マスク洗浄治具 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05281707A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100940371B1 (ko) * | 2007-12-26 | 2010-02-02 | 주식회사 케이씨텍 | 포토마스크 세정장치 |
| US7673637B2 (en) * | 2006-08-15 | 2010-03-09 | Yung-Shun Pan | Photomask cleaner |
| US9864283B2 (en) | 2015-11-18 | 2018-01-09 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and methods for photomask backside cleaning |
| KR20190094371A (ko) * | 2016-11-16 | 2019-08-13 | 서스 마이크로텍 포토마스크 이큅먼트 게엠베하 운트 코. 카게 | 포토 마스크 또는 펠리클을 갖는 포토 마스크의 일 측면을 수용하여 세정 매체로부터 보호하기 위한 홀더, 포토 마스크 또는 펠리클을 갖는 포토 마스크를 세정하기 위한 방법, 및 홀더를 개방 및 폐쇄하기 위한 장치 |
-
1992
- 1992-03-31 JP JP7671392A patent/JPH05281707A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7673637B2 (en) * | 2006-08-15 | 2010-03-09 | Yung-Shun Pan | Photomask cleaner |
| KR100940371B1 (ko) * | 2007-12-26 | 2010-02-02 | 주식회사 케이씨텍 | 포토마스크 세정장치 |
| US9864283B2 (en) | 2015-11-18 | 2018-01-09 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and methods for photomask backside cleaning |
| KR20190094371A (ko) * | 2016-11-16 | 2019-08-13 | 서스 마이크로텍 포토마스크 이큅먼트 게엠베하 운트 코. 카게 | 포토 마스크 또는 펠리클을 갖는 포토 마스크의 일 측면을 수용하여 세정 매체로부터 보호하기 위한 홀더, 포토 마스크 또는 펠리클을 갖는 포토 마스크를 세정하기 위한 방법, 및 홀더를 개방 및 폐쇄하기 위한 장치 |
| JP2019536114A (ja) * | 2016-11-16 | 2019-12-12 | ズース マイクロテク フォトマスク エクイップメント ゲゼルシャフトミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフトＳｕｓｓ ＭｉｃｒｏＴｅｃ Ｐｈｏｔｏｍａｓｋ Ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ ＧｍｂＨ ＆ Ｃｏ． ＫＧ | フォトマスクまたはペリクル付きフォトマスクの一面を収容し、洗浄媒体から保護するためのホルダ、フォトマスクまたはペリクル付きフォトマスクを洗浄する方法、およびホルダを開閉する装置 |
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