CN204462637U - 一种光罩护膜清洁装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种光罩护膜清洁装置，该装置至少包括：底座和该底座两侧的滑轨；与每个滑轨匹配的滑块；连接于滑块间的除尘模块及扫描探测模块；两个滑轨的同一端设有凹槽，凹槽中嵌有挡板；除尘模块上设有进气口及若干出气口；进气口连接有进气管路；扫描探测模块包括：线传感器、散射光接收透镜以及激光束；底座上设有集气罩；集气罩与底座接触区域设有密封圈；集气罩上表面设有排气孔。本实用新型在光罩护膜上方使用一套密封进气和出气的装置，移动于光罩护膜上表面的除尘模块使得光罩护膜与除尘模块在清洁过程中始终保持一定距离而不会损坏光罩护膜；同时采用扫描探测模块提高了光罩护膜表面清洁度；提高了产品良率以及保证了产品的交期。

Description

一种光罩护膜清洁装置

技术领域

本实用新型涉及一种光罩护膜清洁装置，特别是涉及一种防止光罩护膜被损坏的光罩护膜清洁装置。

背景技术

随着半导体制造技术的不断发展，光罩的成本费用越来也高，通常光罩的表面设有一层光罩护膜，黏贴光罩护膜为光罩制造的最后阶段，光罩护膜为用来提供阻隔外界污染的隔膜,防止微粒子或挥发性气体污染光罩表面。如图1所示，通常情况下，光罩护膜02由支撑结构支撑于光罩01表面的上方。而在光罩01与光罩护膜02之间的光罩表面存在有光掩模图形。

一般需要对光罩护膜02上裸露的上表面进行清洁，清洁方式为：利用传统的手工持氮气枪03将其表面的颗粒物吹干净，在某些情况下由于操作不当，枪头有可能戳破光罩护膜或因压力太大将光罩护膜吹皱。这样就导致光罩护膜的损坏。

在制造过程中，由于各种原因光罩护膜会被损坏，这时必须将损坏的光罩及光罩护膜拿回光罩厂重新生产，这样不仅造成制造成本的上升，也会使得产品的交期延迟。

因此，有必要提出一种新的防止光罩护膜被损坏的光罩护膜清洁装置来解决上述问题。

实用新型内容

鉴于以上所述现有技术的缺点，本实用新型的目的在于提供一种光罩护膜清洁装置，用于解决现有技术中由于使用气枪对光罩护膜清洁过程中使得光罩护膜损坏而导致制造成本上升以及产品交期延迟的问题。

为实现上述目的及其他相关目的，本实用新型提供一种光罩护膜清洁装置，所述装置至少包括：用于承载光罩护膜的底座；位于该底座及所述光罩护膜两侧的滑轨；与所述每个滑轨匹配的滑块；连接于所述滑块之间且位于所述光罩护膜正上方的除尘模块及扫描探测模块；所述两个滑轨的同一端分别设有凹槽，所述凹槽中嵌有挡板；所述除尘模块上设有进气口以及若干出气口；所述进气口连接有进气管路；所述扫描探测模块至少包括：线传感器、散射光接收透镜以及激光束；所述底座上设有将所述光罩护膜、滑轨、滑块、除尘模块及扫描探测模块容纳其中的集气罩；所述集气罩与所述底座接触区域设有密封圈；所述集气罩上表面设有排气孔。

作为本实用新型的光罩护膜清洁装置的一种优选方案，所述进气管路上安装有流量调节阀。

作为本实用新型的光罩护膜清洁装置的一种优选方案，所述光罩护膜由位于光罩表面的支撑结构支撑且位于光罩表面的上方。

作为本实用新型的光罩护膜清洁装置的一种优选方案，所述两个滑轨设有凹槽的同一端为光罩的进出端。

作为本实用新型的光罩护膜清洁装置的一种优选方案，所述除尘模块的位置较所述扫描探测模块靠近于所述光罩的进出端。

作为本实用新型的光罩护膜清+洁装置的一种优选方案，所述其中至少一个滑块由电子驱动而滑动于所述滑轨。

作为本实用新型的光罩护膜清洁装置的一种优选方案，所述除尘模块的形状为条形状，且所述进气口位于其上背离光罩护膜的一侧；所述出气口位于其上靠近光罩护膜的一侧。

作为本实用新型的光罩护膜清洁装置的一种优选方案，所述除尘模块上的若干出气口沿其长度方向呈一列排列。

作为本实用新型的光罩护膜清洁装置的一种优选方案，设于所述集气罩上的排气孔有两个；且分别对应地接近于所述凹槽。

作为本实用新型的光罩护膜清洁装置的一种优选方案，所述进气管路中进入的气体包括氮气或去离子气体。

如上所述，本实用新型的光罩护膜清洁装置，具有以下有益效果：本实用新型在光罩护膜上方使用一套密封进气和出气的装置，移动于光罩护膜上表面的除尘模块使得光罩护膜与除尘模块在清洁过程中始终保持一定的距离而不会损坏光罩护膜；同时采用扫描探测模块提高了光罩护膜表面的清洁度；提高了产品的良率以及保证了产品的交期。

附图说明

图1为现有技术中的光罩护膜清洁方式示意图。

图2为本实用新型的光罩护膜清洁装置的结构示意图。

图3为本实用新型的光罩护膜清洁装置将光罩护膜从凹槽口处放入过程的结构示意图。

图4为本实用新型的光罩护膜清洁装置中含有光罩护膜的结构示意图。

图5为本实用新型的除尘模块结构示意图。

图6为本实用新型的扫描探测模块的结构示意图。

图7为本实用新型的光罩护膜清洁装置被集气罩密封的结构示意图。

元件标号说明

01     光罩

02、10 光罩护膜

03     氮气枪

11     底座

12     滑轨

13     滑块

14     除尘模块

15     扫描探测模块

16     凹槽

17     挡板

141    进气口

142    出气口

143    进气管路

144    流量调节阀

151    线传感器

152    散射光接收透镜

153    激光束

18     集气罩

19     密封圈

20     排气孔

具体实施方式

以下通过特定的具体实例说明本发明的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本发明的其他优点与功效。本发明还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本发明的精神下进行各种修饰或改变。

请参阅图1至图7。需要说明的是，本实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本发明的基本构想，遂图式中仅显示与本发明中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局型态也可能更为复杂。

如图所示，本实用新型提供一种光罩护膜清洁装置，如图2所示，图2显示为本实用新型的光罩护膜清洁装置的结构示意图。图2显示的清洁装置中没有将光罩及光罩护膜放入其中。所述装置至少包括：用于承载光罩护膜的底座11；优选地，所述底座11呈现矩形结构；位于该底座11及所述光罩护膜两侧的滑轨12；与所述每个滑轨12匹配的滑块13；所述每个滑轨12上设有一个与其匹配的滑块13；所述滑块13可沿着滑轨12来回滑动；连接于所述滑块13之间且位于所述光罩护膜正上方的除尘模块14及扫描探测模块15；也就是说，所述除尘模块14与所述扫描探测模块15分别连接在两个滑块13之间，当其中一个滑动时，带动另一滑块13发生滑动，从而所述除尘模块14及扫描探测模块15也发生滑动；本实用新型中，所述其中至少一个滑块13由电子驱动而滑动于所述滑轨12。所述两个滑轨12的同一端分别设有凹槽16，所述凹槽16中嵌有挡板17；优选地，所述两个滑轨12设有凹槽16的同一端为光罩以及光罩护膜的进出端。优选地，如图2所示，所述除尘模块14的位置较所述扫描探测模块15靠近于所述光罩的进出端。亦即当除尘模块14及扫描探测模块15向凹槽16方向滑动的过程中，利用除尘模块14对所述光罩护膜进行清洁之后，再利用扫描探测模块15对清洁后的区域进行扫描探测，判断是否将颗粒污物清洁干净。

图3为本实用新型的光罩护膜清洁装置将光罩护膜从凹槽16口处放入过程的结构示意图。将光罩及光罩护膜10放入所述清洁装置时，需要将所述凹槽16中的挡板17拿下，沿着两个滑轨12之间的区域将光罩和光罩护膜10推入其中；图4为本实用新型的光罩护膜10清洁装置中含有光罩护膜10的结构示意图。当光罩和光罩护膜10放入所述清洁装置中时，再将所述挡板17嵌入所述凹槽16中，以防光罩和光罩护膜10滑出所述装置外发生损坏。

图5为本实用新型的除尘模块14结构示意图。所述除尘模块14上设有进气口141以及若干出气口142；如图5所示，优选地，所述除尘模块14的形状为条形状，且所述进气口141位于其上背离光罩护膜10的一侧；所述出气口142位于其上靠近光罩护膜10的一侧。

进一步优选地，所述除尘模块14上的若干出气口142沿其长度方向呈一列排列。所述进气口141连接有进气管路143；优选地，所述进气管路143上安装有流量调节阀144，可以根据流量控制阀来控制进气管路143中的气体的流量和压力，以提供合适的压力去除光罩护膜10上的颗粒污染物。进一步优选地，所述进气管路143中进入的气体包括氮气或去离子气体。

图6显示为本实用新型的扫描探测模块15的结构示意图。所述扫描探测模块15至少包括：线传感器151、散射光接收透镜152以及激光束153；所述扫描探测模块15的探测原理为：1)首先用激光束153照射颗粒污染物，颗粒污染物表面的散射光被所述散射光接收透镜152接收；2)散射光接收透镜152接受到来自颗粒污染物的散射光,将图像形成在线传感器151上；3)线传感器151将接收到的图形信号转化为电子信号来探测。

本实用新型的所述清洁装置还包括：集气罩；如图7所示，图7为本实用新型的光罩护膜10清洁装置被集气罩密封的结构示意图。所述集气罩18将所述底座11上设有将所述光罩护膜10、滑轨12、滑块13、除尘模块14及扫描探测模块15容纳其中；如图2所示，所述集气罩与所述底座11接触区域设有密封圈19；图7中，所述集气罩上表面设有排气孔20。优选地，设于所述集气罩上的排气孔有两个；且分别对应地接近于所述凹槽16。所述光罩护膜10表面的颗粒污染物被进入所述集气罩中的气体出起，然后通过所述集气罩上的排气孔排出。

综上所述，本实用新型在光罩护膜上方使用一套密封进气和出气的装置，移动于光罩护膜上表面的除尘模块使得光罩护膜与除尘模块在清洁过程中始终保持一定的距离而不会损坏光罩护膜；同时采用扫描探测模块提高了光罩护膜表面的清洁度；提高了产品的良率以及保证了产品的交期。所以，本实用新型有效克服了现有技术中的种种缺点而具高度产业利用价值。

上述实施例仅例示性说明本实用新型的原理及其功效，而非用于限制本实用新型。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本实用新型的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本实用新型所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本实用新型的权利要求所涵盖。

Claims (10)

1.一种光罩护膜清洁装置，其特征在于，所述装置至少包括：

用于承载光罩护膜的底座；位于该底座及所述光罩护膜两侧的滑轨；与所述每个滑轨匹配的滑块；连接于所述滑块之间且位于所述光罩护膜正上方的除尘模块及扫描探测模块；所述两个滑轨的同一端分别设有凹槽，所述凹槽中嵌有挡板；

所述除尘模块上设有进气口以及若干出气口；所述进气口连接有进气管路；所述扫描探测模块至少包括：线传感器、散射光接收透镜以及激光束；

所述底座上设有将所述光罩护膜、滑轨、滑块、除尘模块及扫描探测模块容纳其中的集气罩；所述集气罩与所述底座接触区域设有密封圈；所述集气罩上表面设有排气孔。

2.根据权利要求1所述的光罩护膜清洁装置，其特征在于：所述进气管路上安装有流量调节阀。

3.根据权利要求1所述的光罩护膜清洁装置，其特征在于：所述光罩护膜由位于光罩表面的支撑结构支撑且位于光罩表面的上方。

4.根据权利要求3所述的光罩护膜清洁装置，其特征在于：所述两个滑轨设有凹槽的同一端为光罩的进出端。

5.根据权利要求4所述的光罩护膜清洁装置，其特征在于：所述除尘模块的位置较所述扫描探测模块靠近于所述光罩的进出端。

6.根据权利要求1所述的光罩护膜清洁装置，其特征在于：所述其中至少一个滑块由电子驱动而滑动于所述滑轨。

7.根据权利要求1所述的光罩护膜清洁装置，其特征在于：所述除尘模块的形状为条形状，且所述进气口位于其上背离光罩护膜的一侧；所述出气口位于其上靠近光罩护膜的一侧。

8.根据权利要求7所述的光罩护膜清洁装置，其特征在于：所述除尘模块上的若干出气口沿其长度方向呈一列排列。

9.根据权利要求1所述的光罩护膜清洁装置，其特征在于：设于所述集气罩上的排气孔有两个；且分别对应地接近于所述凹槽。

10.根据权利要求2所述的光罩护膜清洁装置，其特征在于：所述进气管路中进入的气体包括氮气或去离子气体。