CN107422599A - 曝光光罩清洁装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种曝光光罩清洁装置，包括用于承载曝光光罩的固定基座和用于吹扫清洁的离子风枪，还包括设置在所述固定基座上方的第一滑轨、第二滑轨和第三滑轨，第一滑轨和第二滑轨分别设置在固定基座上方的相对两侧，第三滑轨的两端分别可滑动地连接在第一滑轨和第二滑轨上，第三滑轨上可滑动地连接有离子风枪固定座，所述离子风枪固定座用于将所述离子风枪固定在所述固定基座的相对上方。本发明提供的曝光光罩清洁装置，由相互连接的多个滑轨将离子风枪连接在固定基座的相对上方，通过滑轨的移动，使得离子风枪对曝光光罩的各个位置都可以吹扫清洁，在进行吹扫清洁时，离子风枪又可与曝光光罩保持一定的安全距离，杜绝离子风枪刮伤曝光光罩。

Description

曝光光罩清洁装置
技术领域
本发明涉及液晶显示器制造技术领域，具体是一种曝光光罩清洁装置。
背景技术
薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD，Thin Film Transistor-Liquid CrystalDisplay)工艺可分为三大流程，第一段为阵列基板及彩膜基板的工艺，第二段为配向、液晶填充与封合面板工艺；第三段则为偏光片、背光片与面板组装的液晶显示模块。其中，阵列基板和彩膜基板的工艺中包含多个光刻工艺的步骤，每一次光刻工艺中又分别包括涂胶、曝光显影、刻蚀和剥离等工艺。
曝光显影是先将一具有图案的曝光光罩设置在光刻胶层上方，再利用一曝光光源透过曝光光罩照射在光刻胶层上，然后将光刻胶层浸入显影液中，就可以在光刻胶层上得到曝光光罩的图案。在曝光显影的制程中，必须注意到曝光光罩的表面是否清洁，一般曝光光罩表面都存在很多肉眼看不见的微尘粒子，如果在尚未清洁掉这些粒子就进行曝光，那么就可能显出与曝光光罩图案不一样的图案。现有技术中，对于曝光光罩表面上的微尘粒子，通常是使用人工方式进行清洁，具体地，首先将曝光光罩稳固的置放于一架体上，然后人工一手拿着手持强光灯照射曝光光罩的表面，若发现有微尘粒子，则人工的另一手拿着手持离子风枪朝着微尘粒子吹扫，以吹除所述微尘粒子。
在以上的清洁方式中，离子风枪为人工手持，离子风枪的距离和角度都是认为判断，并且由于清洁过程中使用到强光灯照射，对作业员的视线存在影响，因此手持的离子风枪经常会触碰到曝光光罩，导致曝光光罩刮花损伤，对所述曝光光罩造成破坏。
发明内容
鉴于现有技术存在的不足，本发明提供了一种曝光光罩清洁装置，该装置中，在使用离子风枪吹扫去除曝光光罩上的微尘粒子时，可以防止离子风枪触碰到曝光光罩，在清洁的过程中有效地保护曝光光罩。
为了达到上述的目的，本发明采用了如下的技术方案：
一种曝光光罩清洁装置，包括用于承载待清洁的曝光光罩的固定基座和用于吹扫清洁所述曝光光罩的离子风枪，所述曝光光罩清洁装置还包括设置在所述固定基座上方的第一滑轨、第二滑轨和第三滑轨，所述第一滑轨和所述第二滑轨分别设置在所述固定基座上方的相对两侧，所述第三滑轨的一端可滑动地连接在所述第一滑轨上，另一端可滑动地连接在所述第二滑轨上，所述第三滑轨上可滑动地连接有离子风枪固定座，所述离子风枪固定座用于将所述离子风枪固定在所述固定基座的相对上方，以避免所述离子风枪接触到所述曝光光罩。
其中，所述第一滑轨上设置有可滑动的第一滑块，所述第二滑轨上设置有可滑动的第二滑块，所述第三滑轨上设置有可滑动的第三滑块；所述第三滑轨的一端连接到所述第一滑块上，另一端连接到所述第二滑块上，所述离子风枪固定座连接到所述第三滑块上。
其中，所述离子风枪固定座包括环状固定架，所述离子风枪可摆动地穿设在所述环状固定架中，所述环状固定架将所述离子风枪夹持固定在所述固定基座的相对上方。
其中，所述环状固定架的四周设置有限位挡片，所述限位挡片用于限制所述离子风枪在所述环状固定架中的摆动角度。
其中，所述离子风枪在所述环状固定架中摆动的角度不超过20°。
其中，所述离子风枪固定在所述固定基座的相对上方，所述离子风枪的出风口与放置在所述固定基座上的曝光光罩具有一安全距离，所述安全距离不小于1cm。
其中，所述第一滑轨和所述第二滑轨分别通过支撑柱连接在所述固定基座上。
其中，所述支撑柱为伸缩杆。
本发明实施例提供的曝光光罩清洁装置，由相互连接的多个滑轨将离子风枪连接在固定基座的相对上方，通过滑轨的移动，使得离子风枪对曝光光罩的各个位置都可以吹扫清洁，在进行吹扫清洁时，离子风枪又可与曝光光罩保持一定的安全距离，杜绝离子风枪刮伤曝光光罩，在清洁的过程中有效地保护曝光光罩。
附图说明
图1是本发明实施例提供的曝光光罩清洁装置的结构示意图；
图2是本发明实施例中的离子风枪与固定座相互连接的结构示意图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面结合附图对本发明的具体实施方式进行详细说明。这些优选实施方式的示例在附图中进行了例示。附图中所示和根据附图描述的本发明的实施方式仅仅是示例性的，并且本发明并不限于这些实施方式。
在此，还需要说明的是，为了避免因不必要的细节而模糊了本发明，在附图中仅仅示出了与根据本发明的方案密切相关的结构和/或处理步骤，而省略了与本发明关系不大的其他细节。
本实施例提供了一种曝光光罩清洁装置，如图1所示，所述曝光光罩清洁装置包括固定基座1、离子风枪2以及设置在在所述固定基座1上方的第一滑轨3、第二滑轨4和第三滑轨5。所述固定基座1用于承载待清洁的曝光光罩6，所述固定基座1是一个承载面可翻转的固定基座，曝光光罩6放置在承载面上。所述第一滑轨3、第二滑轨4和第三滑轨5架设在所述固定基座1的相对上方，所述离子风枪2连接到所述第三滑轨5上，所述离子风枪2用于吹扫清洁所述曝光光罩6。
具体地，如图1所示，所述第一滑轨3和所述第二滑轨4分别设置在所述固定基座1上方的相对两侧，所述第一滑轨3和所述第二滑轨4沿第一方向延伸(如图1中的Y方向，即固定基座1的纵向)。所述第三滑轨5沿第二方向延伸(如图1中的X方向，即固定基座1的横向)，所述第三滑轨5的一端可滑动地连接在所述第一滑轨3上，另一端可滑动地连接在所述第二滑轨4上，所述第三滑轨5上可滑动地连接有离子风枪固定座7，所述离子风枪固定座7用于将所述离子风枪2固定在所述固定基座1的相对上方，以避免所述离子风枪2接触到所述曝光光罩6。通过控制所述第三滑轨5在所述第一滑轨3和所述第二滑轨4上的位置，可以调整离子风枪2在固定基座1的纵向的移动位置；通过控制离子风枪固定座7在所述第三滑轨5上的位置，可以调整离子风枪2在固定基座1的横向的移动位置。
在本实施例中，如图1所示，所述第一滑轨3上设置有可滑动的第一滑块31，所述第二滑轨4上设置有可滑动的第二滑块41，所述第三滑轨5上设置有可滑动的第三滑块51。所述第三滑轨5的一端连接到所述第一滑块31上，另一端连接到所述第二滑块41上，由此，所述第三滑轨5可滑动地连接到所述第一滑轨3和所述第二滑轨4。所述离子风枪固定座7连接到所述第三滑块51上，由此，所述离子风枪固定座7可滑动地连接到所述第三滑轨5。进一步地，所述第一滑块31、第二滑块41和第三滑块51上可以分别设置有锁紧机构(图中未示出)，当所述第一滑块31、第二滑块41和第三滑块51移动到预定位置时，通过锁紧机构将其锁紧固定，若需要再次滑动时，将锁紧机构松开即可。
在本实施例中，如图1所示，所述第一滑轨3和所述第二滑轨4分别通过支撑柱8连接在所述固定基座1上。具体地，所述第一滑轨3的两端分别与一个支撑柱8，所述第二滑轨4的两端也分别与一个支撑柱8。所述支撑柱8的高度决定了所述第一滑轨3、第二滑轨4和第三滑轨5架设在所述固定基座1的相对上方的高度，相应地决定了离子风枪2的固定高度。其中，所述离子风枪2固定在所述离子风枪固定座7中时，所述离子风枪2下端的出风口应当与放置在所述固定基座1上的曝光光罩6具有一安全距离，以杜绝离子风枪2刮伤曝光光罩6。通过更换不同高度的支撑柱8，可以调节所述安全距离，优选地，所述安全距离不小于1cm。
在优选地方案中，所述支撑柱8为伸缩杆，不需要拆卸更换即可调整高度。
在本实施例中，如图1和图2所示，所述离子风枪固定座7包括环状固定架71，所述环状固定架71与所述第三滑块51连接，所述离子风枪2可摆动地穿设在所述环状固定架71中，所述环状固定架71将所述离子风枪2夹持固定在所述固定基座1的相对上方。
进一步地，如图2所示，所述环状固定架71的四周设置有限位挡片72，所述限位挡片72用于限制所述离子风枪2在所述环状固定架71中的摆动角度α。所述摆动角度α是指所述离子风枪2的轴线方向与所述固定基座1的法线方向的夹角。图2中的虚线结构表示所述离子风枪2在摆动偏离固定基座1的法线方向的状态示意图，在优选的方案中，所述摆动角度α设置为不超过20°。
如上实施例提供的提供的曝光光罩清洁装置，由相互连接的多个滑轨将离子风枪连接在固定基座的相对上方，通过滑轨的移动，使得离子风枪对曝光光罩的各个位置都可以吹扫清洁，在进行吹扫清洁时，离子风枪又可与曝光光罩保持一定的安全距离，杜绝离子风枪刮伤曝光光罩，在清洁的过程中有效地保护曝光光罩。
需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
以上所述仅是本申请的具体实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。

Claims (8)

1.一种曝光光罩清洁装置，包括用于承载待清洁的曝光光罩的固定基座和用于吹扫清洁所述曝光光罩的离子风枪，其特征在于，所述曝光光罩清洁装置还包括设置在所述固定基座上方的第一滑轨、第二滑轨和第三滑轨，所述第一滑轨和所述第二滑轨分别设置在所述固定基座上方的相对两侧，所述第三滑轨的一端可滑动地连接在所述第一滑轨上，另一端可滑动地连接在所述第二滑轨上，所述第三滑轨上可滑动地连接有离子风枪固定座，所述离子风枪固定座用于将所述离子风枪固定在所述固定基座的相对上方，以避免所述离子风枪接触到所述曝光光罩。
2.根据权利要求1所述的曝光光罩清洁装置，其特征在于，所述第一滑轨上设置有可滑动的第一滑块，所述第二滑轨上设置有可滑动的第二滑块，所述第三滑轨上设置有可滑动的第三滑块；所述第三滑轨的一端连接到所述第一滑块上，另一端连接到所述第二滑块上，所述离子风枪固定座连接到所述第三滑块上。
3.根据权利要求1所述的曝光光罩清洁装置，其特征在于，所述离子风枪固定座包括环状固定架，所述离子风枪可摆动地穿设在所述环状固定架中，所述环状固定架将所述离子风枪夹持固定在所述固定基座的相对上方。
4.根据权利要求3所述的曝光光罩清洁装置，其特征在于，所述环状固定架的四周设置有限位挡片，所述限位挡片用于限制所述离子风枪在所述环状固定架中的摆动角度。
5.根据权利要求4所述的曝光光罩清洁装置，其特征在于，所述离子风枪在所述环状固定架中摆动的角度不超过20°。
6.根据权利要求1所述的曝光光罩清洁装置，其特征在于，所述离子风枪固定在所述固定基座的相对上方，所述离子风枪的出风口与放置在所述固定基座上的曝光光罩具有一安全距离，所述安全距离不小于1cm。
7.根据权利要求1-6任一所述的曝光光罩清洁装置，其特征在于，所述第一滑轨和所述第二滑轨分别通过支撑柱连接在所述固定基座上。
8.根据权利要求7所述的曝光光罩清洁装置，其特征在于，所述支撑柱为伸缩杆。
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