CN105607414B - 掩膜板清洗装置及清洗方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种掩膜板清洗装置及清洗方法，该装置包括：载台移动导轨(10)、设于载台移动导轨(10)上的掩膜板载台(20)、架设于载台移动导轨(10)上方的检测部横梁(40)、架设于载台移动导轨(10)上方且与检测部横梁(40)平行间隔设置的清洗部横梁(50)、设于检测部横梁(40)上的检测部导轨(41)、悬挂于检测部导轨(41)底部的检测相机(42)、设于清洗部横梁(50)上的清洗部导轨(51)、悬挂于清洗部导轨(51)底部的清洗机构(60)、以及分别与清洗机构(60)、检测相机(42)、及掩膜板载台(20)电性连接的控制设备，能够有效清洗掩膜板上的局部顽固性脏污，提升掩膜板的清洗效率，提高生产稼动率。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩膜板清洗装置及清洗方法。
背景技术
随着显示技术的发展，液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)与有机发光二极管显示器(Organic Light Emitting Diode，OLED)等平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄及应用范围广等优点，而被广泛的应用于手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等各种消费性电子产品，成为显示装置中的主流。
现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器，其包括液晶显示面板及背光模组(backlight module)。液晶显示面板的工作原理是在薄膜晶体管阵列基板(ThinFilm Transistor Array Substrate，TFT Array Substrate)与彩色滤光片基板(ColorFilter，CF)之间灌入液晶分子，并在两片基板上施加驱动电压来控制液晶分子的旋转方向，以将背光模组的光线折射出来产生画面。
液晶显示面板的制程可划分为三个阶段：第一阶段为阵列制程(Array)，即把薄膜晶体管制作在玻璃基板上；第二阶段为组合制程(Cell)，即把彩色滤光基板与薄膜晶体管基板对组，并在中间灌入液晶分子；第三阶段为模组制程(LCM)，即在组合后的面板背后加上背光组件及外接集成电路板，完成液晶显示面板的制作。在Array制程中，需要先在玻璃基板的表面形成金属薄膜层，并在金属薄膜层上涂布光阻层，在曝光(Exposure)制程将玻璃基板套上具有特定图案的光罩后对玻璃基板进行曝光，在显影(Developer)制程利用显影液去除被光照射到的光阻(正性光阻)或未被光照射到的光阻(负性光阻)，在蚀刻(Etching)制程蚀刻未被光阻覆盖的金属薄膜，最后去除剩余的光阻层，使光罩上的薄膜晶体管的电路图案形成在玻璃基板上。
在液晶显示面板制程中，曝光是一个关键制程，掩膜板(Mask)是曝光的一个基本工具。掩膜板在使用过程中常常会产生脏污导致品质不良，特别是在接近式曝光过程中，掩膜板脏污会导致曝光出现共同性缺陷，对产品良率影响很大，因此掩膜板的清洗是一个必不可少的作业。
现有技术在清洗掩膜板时，常用的方法是先用氢氧化钾(KOH)溶液冲洗，然后在掩膜板自动光学检测设备(Mask AOI)中检查，检查结果不合格时，再次投入氢氧化钾溶液中反复清洗，直至检查结果合格。KOH溶液对一般的无机物清洗效果较好，但是对于油污类的脏污清洗效果不佳，在实际使用过程中，常常发生油污等有机物污染掩膜板的情况，此时往往需要多次反复清洗掩膜板，对生产稼动率造成较大的损失。四甲基氢氧化铵溶液对有机物的溶解能力非常好，但是成本较高，不适于大量使用，如果用手擦拭则容易造成掩膜板膜面损伤，且目视无法准确的定位，清洁效率较低。
发明内容
本发明的目的在于提供一种掩膜板清洗装置，能够有效清洗掩膜板上的局部顽固性脏污，提升掩膜板的清洗效率，提高生产稼动率。
本发明的目的还在于提供一种掩膜板清洗方法，能够有效清洗掩膜板上的局部顽固性脏污，提升掩膜板的清洗效率，提高生产稼动率。
为实现上述目的，本发明提供了一种掩膜板清洗装置，包括：载台移动导轨、设于所述载台移动导轨上的掩膜板载台、架设于所述载台移动导轨上方的检测部横梁、架设于所述载台移动导轨上方且与所述检测部横梁平行间隔设置的清洗部横梁、分别与所述检测部横梁两端垂直相连的用于架设所述检测部横梁的两检测部立柱、分别与所述清洗部横梁两端垂直相连的用于架设所述清洗部横梁的两清洗部立柱、设于所述检测部横梁上的检测部导轨、悬挂于所述检测部导轨底部的检测相机、设于所述清洗部横梁上的清洗部导轨、悬挂于所述清洗部导轨底部的清洗机构、以及分别与所述清洗机构、检测相机、及掩膜板载台电性连接的控制设备；
所述检测部导轨与所述清洗部导轨平行，所述检测部导轨与所述载台移动导轨垂直；
所述掩膜板载台用于放置掩膜板，通过所述检测相机沿所述检测部导轨滑动配合所述掩膜板载台沿所述载台移动导轨滑动，确定掩膜板的污染位置；
通过所述清洗机构沿所述清洗部导轨滑动、所述掩膜板载台沿所述载台移动导轨滑动、结合所述清洗机构沿竖直方向的升降，对所述掩膜板的污染位置进行局部清洗。
所述清洗机构包括：悬挂于所述清洗部导轨底部的马达、设于所述马达下方的药液槽、连接所述马达与所述药液槽的升降杆、设于所述药液槽下方的滴头、设于所述滴头上的电磁阀、以及设于所述滴头下方的转动无尘布和测高传感器。
所述药液槽内盛放有四甲基氢氧化铵溶液。
所述控制设备为计算机。
所述转动无尘布套设在两间隔设置的转轮上，通过所述转轮的旋转带动所述转动无尘布转动。
本发明还提供一种掩膜板清洗方法，包括如下步骤：
步骤1、提供一掩膜板清洗装置，包括：载台移动导轨、设于所述载台移动导轨上的掩膜板载台、架设于所述载台移动导轨上方的检测部横梁、架设于所述载台移动导轨上方且与所述检测部横梁平行间隔设置的清洗部横梁、分别与所述检测部横梁两端垂直相连的用于架设所述检测部横梁的两检测部立柱、分别与所述清洗部横梁两端垂直相连的用于架设所述清洗部横梁的两清洗部立柱、设于所述检测部横梁上的检测部导轨、悬挂于所述检测部导轨底部的检测相机、设于所述清洗部横梁上的清洗部导轨、悬挂于所述清洗部导轨底部的清洗机构、以及分别与所述清洗机构、检测相机、及掩膜板载台电性连接的控制设备；
所述检测部导轨与所述清洗部导轨平行，所述检测部导轨与所述载台移动导轨垂直；
步骤2、提供一待清洗掩膜板，将所述掩膜板放置于所述掩膜板载台上，所述控制设备控制所述掩膜板载台和检测相机分别沿所述载台移动导轨和检测部导轨进行滑动，通过所述检测相机对掩膜板进行检测，找到掩膜板的污染位置，将污染位置的坐标信息发送给控制设备；
步骤3、所述控制设备根据污染位置的坐标信息控制所述掩膜板载台和清洗机构分别沿所述载台移动导轨和清洗部导轨进行滑动，使得清洗机构移动到所述掩膜板的污染位置的正上方；
步骤4、所述清洗机构下降并靠近所述掩膜板对所述掩膜板的污染位置进行清洗。
所述清洗机构包括：悬挂于所述清洗部导轨底部的马达、设于所述马达下方的药液槽、连接所述马达与所述药液槽的升降杆、设于所述药液槽下方的滴头、设于所述滴头上的电磁阀、以及设于所述滴头下方的转动无尘布和测高传感器；
所述药液槽内盛放有四甲基氢氧化铵溶液。
所述步骤4具体包括：
步骤41、通过马达控制所述升降杆下降使得所述转动无尘布接触掩膜板的污染位置；
步骤42、电磁阀打开，药液槽内的四甲基氢氧化铵溶液经由滴头滴到转动无尘布上，转动无尘布转动对所述掩膜板污染位置进行擦洗。
所述控制设备为计算机。
所述转动无尘布套设在两间隔设置的转轮上，通过所述转轮的旋转带动所述转动无尘布转动。
本发明的有益效果：本发明提供一种掩膜板清洗装置，包括：载台移动导轨、设于所述载台移动导轨上的掩膜板载台、架设于所述载台移动导轨上方的检测部横梁、架设于载台移动导轨上方且与所述检测部横梁平行间隔设置的清洗部横梁、分别与所述检测部横梁两端垂直相连的用于架设所述检测部横梁的两检测部立柱、分别与所述清洗部横梁两端垂直相连的用于架设所述清洗部横梁的两清洗部立柱、设于所述检测部横梁上的检测部导轨、悬挂于所述检测部导轨底部的检测相机、设于所述清洗部横梁上的清洗部导轨、悬挂于所述清洗部导轨底部的清洗机构、以及分别与所述清洗机构、检测相机、及掩膜板载台电性连接的控制设备，该装置先通过控制设备控制所述检测相机对掩膜板进行检测并确定污染位置，再用清洗机构对所述掩膜板的污染位置进行局部清洗，能够有效清洗掩膜板上的局部顽固性脏污，提升掩膜板的清洗效率，提高生产稼动率。本发明还提供一种掩膜板清洗方法，能够有效清洗掩膜板上的局部顽固性脏污，提升掩膜板的清洗效率，提高生产稼动率。
附图说明
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
附图中，
图1为本发明的掩膜板清洗装置的结构图；
图2为本发明的掩膜板清洗方法的流程图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图1，本发明首先提供一种掩膜板清洗装置，包括：载台移动导轨10、设于所述载台移动导轨10上的掩膜板载台20、架设于所述载台移动导轨10上方的检测部横梁40、架设于载台移动导轨10上且与所述检测部横梁40平行间隔设置的清洗部横梁50、分别与所述检测部横梁40两端垂直相连的用于架设所述检测部横梁40的两检测部立柱43、分别与所述清洗部横梁50两端垂直相连的用于架设所述清洗部横梁50的两清洗部立柱53、设于所述检测部横梁40上的检测部导轨41、悬挂于所述检测部导轨41底部的检测相机42、设于所述清洗部横梁50上的清洗部导轨51、悬挂于所述清洗部导轨51底部的清洗机构60、以及分别与所述清洗机构60、检测相机42、及掩膜板载台20电性连接的控制设备。
其中，所述掩膜板载台20用于放置掩膜板30，所述检测相机42能够沿所述检测部导轨41滑动；所述清洗机构60能够沿所述清洗部导轨51滑动，且所述清洗机构60能够沿竖直方向进行升降，所述掩膜板载台20能够沿所述载台移动导轨10滑动，所述检测部导轨41与所述清洗部导轨51平行，所述检测部导轨41与所述载台移动导轨10垂直，从而可以通过检测相机42或清洗机构60的滑动配合掩膜板载台20的滑动，将检测相机42或清洗机构60对应移动至放置在掩膜板载台20上的掩膜板30上方的任意位置。通过所述检测相机42确定掩膜板30的污染位置，通过所述清洗机构60对所述掩膜板30的污染位置进行局部清洗。
进一步地，所述载台移动导轨10包括两个平行间隔设置导轨，所述掩膜板载台20的数量为4个，分别对应待清洗掩膜板30的四角位置设置。
具体地，所述清洗机构60包括：悬挂于所述清洗部导轨51底部的马达61、设于所述马达61下方的药液槽63、连接所述马达61与所述药液槽63的升降杆62、设于所述药液槽63下方的滴头65、设于所述滴头65上的电磁阀66、以及设于所述滴头65下方的转动无尘布67和测高传感器64。通过所述马达61控制升降杆62的上升与下降，使得转动无尘布67远离掩膜板30或靠近掩膜板30。
具体地，所述转动无尘布67套设在两间隔设置的转轮(未图示)上，通过所述转轮的旋转带动所述转动无尘布67转动。
具体地，所述药液槽63内盛放的药液可以根据掩膜板30上污染物的性质进行选择，例如，针对油污等有机物污染物，可以在所述药液槽63内盛放四甲基氢氧化铵溶液，进而有效溶解掩膜板30上的污染物。
进一步地，所述滴头65采用橡胶材料制作，通过滴头65与电磁阀66的配合可以有效控制药液的使用量，尤其是对于如四甲基氢氧化铵溶液等高成本的药液的使用量的控制，能够在提升清洗效果的同时有效控制清洗成本。通过所述测高传感器65感应所述转动无尘布67与掩膜板30之间的距离，能够防止清洗机构60下降过多压坏掩膜板30，或清洗机构60下降过少转动无尘布67不能与掩膜板30的污染位置接触。
具体地，所述控制设备通过可编程逻辑控制器(Programmable LogicController，PLC)分别与所述清洗机构60、检测相机42、及掩膜板载台20电性连接，优选地，所述控制设备为计算机。
请参阅图2，本发明还提供一种掩膜板清洗方法，包括如下步骤：
步骤1、提供一掩膜板清洗装置，包括：载台移动导轨10、设于所述载台移动导轨10上的掩膜板载台20、架设于所述载台移动导轨10上方的检测部横梁40、架设于所述载台移动导轨10上方且与所述检测部横梁40平行间隔设置的清洗部横梁50、分别与所述检测部横梁40两端垂直相连的用于架设所述检测部横梁40的两检测部立柱43、分别与所述清洗部横梁50两端垂直相连的用于架设所述清洗部横梁50的两清洗部立柱53、设于所述检测部横梁40上的检测部导轨41、悬挂于所述检测部导轨41底部的检测相机42、设于所述清洗部横梁50上的清洗部导轨51、悬挂于所述清洗部导轨51底部的清洗机构60、以及分别与所述清洗机构60、检测相机42、及掩膜板载台20电性连接的控制设备；
所述检测部导轨41与所述清洗部导轨51平行，所述检测部导轨41与所述载台移动导轨10垂直；
具体地，所述检测相机42能够沿所述检测部导轨41滑动；所述清洗机构60能够沿所述清洗部导轨51滑动，且所述清洗机构60能够沿竖直方向进行升降，所述掩膜板载台20能够沿所述载台移动导轨10滑动，所述检测部导轨41与所述清洗部导轨51平行，所述检测部导轨41与所述载台移动导轨10垂直，从而可以通过检测相机42或清洗机构60的滑动配合掩膜板载台20的滑动，将检测相机42或清洗机构60对应移动至放置在掩膜板载台20上的掩膜板30上方的任意位置。
进一步地，所述载台移动导轨10包括两个平行间隔设置导轨，所述掩膜板载台20的数量为4个，分别对应掩膜板30的四角位置设置。。
具体地，所述药液槽63内盛放的药液可以根据掩膜板30上污染物的性质进行选择，例如，针对油污等有机物污染物，可以在所述药液槽63内盛放四甲基氢氧化铵溶液，进而有效溶解掩膜板上30的污染物。
具体地，所述控制设备通过PLC分别与所述清洗机构60、检测相机42、及掩膜板载台20电性连接，优选地，所述控制设备为计算机。
步骤2、提供一待清洗掩膜板30，将所述掩膜板30放置于所述掩膜板载台20上，所述控制设备控制所述掩膜板载台20和检测相机42分别沿所述载台移动导轨10和检测部导轨41进行滑动，通过所述检测相机42对掩膜板30进行检测并找到掩膜板30的污染位置，将污染位置的坐标信息发送给控制设备。
步骤3、所述控制设备根据污染位置的坐标信息控制所述掩膜板载台20和清洗机构60分别沿所述载台移动导轨10和清洗部导轨51进行滑动，使得清洗机构60移动到所述掩膜板30的污染位置的正上方。
步骤4、所述清洗机构60下降并靠近所述掩膜板30对所述掩膜板30的污染位置进行清洗。
具体地，所述清洗机构60包括：悬挂于所述清洗部导轨51底部的马达61、设于所述马达61下方的药液槽63、连接所述马达61与所述药液槽63的升降杆62、设于所述药液槽63下方的滴头65、设于所述滴头65上的电磁阀66、以及设于所述滴头65下方的转动无尘布67和测高传感器64。所述转动无尘布67套设在两间隔设置的转轮上，通过所述转轮的旋转带动所述转动无尘布67转动。
所述步骤4具体包括：
步骤41、通过马达61控制所述升降杆62下降使得所述转动无尘布67接触掩膜板30的污染位置；
步骤42、电磁阀66打开，药液槽63内的四甲基氢氧化铵溶液经由滴头65滴到转动无尘布67上，转动无尘布67转动对所述掩膜板30污染位置进行擦洗。
具体地，通过压缩干燥空气(Compressed Dry Air，CDA)增压推出所述药液槽63内的药液。
进一步地，所述滴头65采用橡胶材料制作，通过滴头65与电磁阀66的配合可以有效控制药液的使用量，尤其是对于如四甲基氢氧化铵溶液等高成本的药液的使用量的控制，能够在提升清洗效果的同时有效控制清洗成本。通过所述测高传感器65感应所述转动无尘布67与掩膜板30之间的距离，能够防止清洗机构60下降过多压坏掩膜板30，或清洗机构60下降过少转动无尘布67不能与掩膜板30的污染位置接触。通过转动无尘布67对所述掩膜板30污染位置进行擦洗，相比于采用手动擦拭，擦拭力度控制更准确，能够减少掩膜板30的损伤。
值得一提的是，在使用过本发明的掩膜板清洗装置进行局部清洗后，还可以采用传统的清洗机对掩膜板再进行全面清洗，由于已经去除了掩膜板上的局部顽固性脏污，此次全面清洗通常可以一次完成，而无需反复多次清洗。
综上所述，本发明提供一种掩膜板清洗装置，包括：载台移动导轨、设于所述载台移动导轨上的掩膜板载台、架设于所述载台移动导轨上方的检测部横梁、架设于所述载台移动导轨上方且与所述检测部横梁平行间隔设置的清洗部横梁、分别与所述检测部横梁两端垂直相连的用于架设所述检测部横梁的两检测部立柱、分别与所述清洗部横梁两端垂直相连的用于架设所述清洗部横梁的两清洗部立柱、设于所述检测部横梁上的检测部导轨、悬挂于所述检测部导轨底部的检测相机、设于所述清洗部横梁上的清洗部导轨、悬挂于所述清洗部导轨底部的清洗机构、以及分别与所述清洗机构、检测相机、及掩膜板载台电性连接的控制设备，该装置先通过控制设备控制所述检测相机对掩膜板进行检测并确定污染位置，再用清洗机构对所述掩膜板的污染位置进行局部清洗，能够有效清洗掩膜板上的局部顽固性脏污，提升掩膜板的清洗效率，提高生产稼动率。本发明还提供一种掩膜板清洗方法，能够有效清洗掩膜板上的局部顽固性脏污，提升掩膜板的清洗效率，提高生产稼动率。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。
Claims (9)
1.一种掩膜板清洗装置，其特征在于，包括：载台移动导轨(10)、设于所述载台移动导轨(10)上的掩膜板载台(20)、架设于所述载台移动导轨(10)上方的检测部横梁(40)、架设于所述载台移动导轨(10)上方且与所述检测部横梁(40)平行间隔设置的清洗部横梁(50)、分别与所述检测部横梁(40)两端垂直相连的用于架设所述检测部横梁(40)的两检测部立柱(43)、分别与所述清洗部横梁(50)两端垂直相连的用于架设所述清洗部横梁(50)的两清洗部立柱(53)、设于所述检测部横梁(40)上的检测部导轨(41)、悬挂于所述检测部导轨(41)底部的检测相机(42)、设于所述清洗部横梁(50)上的清洗部导轨(51)、悬挂于所述清洗部导轨(51)底部的清洗机构(60)、以及分别与所述清洗机构(60)、检测相机(42)、及掩膜板载台(20)电性连接的控制设备；
所述检测部导轨(41)与所述清洗部导轨(51)平行，所述检测部导轨(41)与所述载台移动导轨(10)垂直；
所述掩膜板载台(20)用于放置掩膜板(30)，通过所述检测相机(42)沿所述检测部导轨(41)滑动配合所述掩膜板载台(20)沿所述载台移动导轨(10)滑动，确定掩膜板(30)的污染位置；
通过所述清洗机构(60)沿所述清洗部导轨(51)滑动、所述掩膜板载台(20)沿所述载台移动导轨(10)滑动、结合所述清洗机构(60)沿竖直方向的升降，对所述掩膜板(30)的污染位置进行局部清洗；
所述清洗机构(60)包括：悬挂于所述清洗部导轨(51)底部的马达(61)、设于所述马达(61)下方的药液槽(63)、连接所述马达(61)与所述药液槽(63)的升降杆(62)、设于所述药液槽(63)下方的滴头(65)、设于所述滴头(65)上的电磁阀(66)、以及设于所述滴头(65)下方的转动无尘布(67)和测高传感器(64)。
2.如权利要求1所述的掩膜板清洗装置，其特征在于，所述药液槽(63)内盛放有四甲基氢氧化铵溶液。
3.如权利要求1所述的掩膜板清洗装置，其特征在于，所述控制设备为计算机。
4.如权利要求1所述的掩膜板清洗装置，其特征在于，所述转动无尘布(67)套设在两间隔设置的转轮上，通过所述转轮的旋转带动所述转动无尘布(67)转动。
5.一种掩膜板清洗方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤1、提供一掩膜板清洗装置，包括：载台移动导轨(10)、设于所述载台移动导轨(10)上的掩膜板载台(20)、架设于所述载台移动导轨(10)上方的检测部横梁(40)、架设于所述载台移动导轨(10)上方且与所述检测部横梁(40)平行间隔设置的清洗部横梁(50)、分别与所述检测部横梁(40)两端垂直相连的用于架设所述检测部横梁(40)的两检测部立柱(43)、分别与所述清洗部横梁(50)两端垂直相连的用于架设所述清洗部横梁(50)的两清洗部立柱(53)、设于所述检测部横梁(40)上的检测部导轨(41)、悬挂于所述检测部导轨(41)底部的检测相机(42)、设于所述清洗部横梁(50)上的清洗部导轨(51)、悬挂于所述清洗部导轨(51)底部的清洗机构(60)、以及分别与所述清洗机构(60)、检测相机(42)、及掩膜板载台(20)电性连接的控制设备；
所述检测部导轨(41)与所述清洗部导轨(51)平行，所述检测部导轨(41)与所述载台移动导轨(10)垂直；
步骤2、提供一待清洗掩膜板(30)，将所述掩膜板(30)放置于所述掩膜板载台(20)上，所述控制设备控制所述掩膜板载台(20)和检测相机(42)分别沿所述载台移动导轨(10)和检测部导轨(41)进行滑动，通过所述检测相机(42)对掩膜板(30)进行检测，找到掩膜板(30)的污染位置，将污染位置的坐标信息发送给控制设备；
步骤3、所述控制设备根据污染位置的坐标信息控制所述掩膜板载台(20)和清洗机构(60)分别沿所述载台移动导轨(10)和清洗部导轨(51)进行滑动，使得清洗机构(60)移动到所述掩膜板(30)的污染位置的正上方；
步骤4、所述清洗机构(60)下降并靠近所述掩膜板(30)对所述掩膜板(30)的污染位置进行清洗；
所述清洗机构(60)包括：悬挂于所述清洗部导轨(51)底部的马达(61)、设于所述马达(61)下方的药液槽(63)、连接所述马达(61)与所述药液槽(63)的升降杆(62)、设于所述药液槽(63)下方的滴头(65)、设于所述滴头(65)上的电磁阀(66)、以及设于所述滴头(65)下方的转动无尘布(67)和测高传感器(64)。
6.如权利要求5所述的掩膜板清洗方法，其特征在于，所述药液槽(63)内盛放有四甲基氢氧化铵溶液。
7.如权利要求6所述的掩膜板清洗方法，其特征在于，所述步骤4具体包括：
步骤41、通过马达(61)控制所述升降杆(62)下降使得所述转动无尘布(67)接触掩膜板(30)的污染位置；
步骤42、电磁阀(66)打开，药液槽(63)内的四甲基氢氧化铵溶液经由滴头(65)滴到转动无尘布(67)上，转动无尘布(67)转动对所述掩膜板(30)污染位置进行擦洗。
8.如权利要求5所述的掩膜板清洗方法，其特征在于，所述控制设备为计算机。
9.如权利要求6所述的掩膜板清洗方法，其特征在于，所述转动无尘布(67)套设在两间隔设置的转轮上，通过所述转轮的旋转带动所述转动无尘布(67)转动。
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