CN103451712A - 掩模板清洗设备 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种掩模板清洗设备，包括电解清洗装置、漂洗装置和干燥装置，电解清洗装置内盛装有清洗液，清洗液为经过电解后可产生高速气体的碱性电解液，高速气体带动清洗液对掩模板进行清洗；漂洗装置邻接于电解清洗装置设置，对掩模板进行漂洗；干燥装置邻接于漂洗装置，对漂洗后的掩模板进行干燥处理。本发明可有效清洗掩模板表面和网格中的颗粒杂质，并且不会地掩模板造成任何伤害，也不会对掩模板的精度产生不利影响，从而在用于制造OLED显示屏产品时，显著提高产品的良品率。

Description

掩模板清洗设备
技术领域
本发明涉及清洗设备技术领域，特别涉及一种掩模板清洗设备。
背景技术
有机电致发光器件，具有自发光、反应时间快、视角广、成本低、制造工艺简单、分辨率佳及高亮度等多项优点，被认为是下一代的平面显示器新兴应用技术。在OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机电致发光二极管)技术中，用于真空蒸镀的掩模板是一项非常重要和关键的部件，该部件的质量直接影响OLED产品的质量和制造成本。
掩模板(Mask)，特别是细小网格的掩模板(Fine Mask)，在初加工成型后，会在网格内或表面残留金属边角料等颗粒物质，影响掩模板的正常使用。在循环使用的过程中，掩模板上也会沾上一层灰尘等杂质，这些杂质在将掩模板再次投入使用前必须清除。
由于掩模板特别是Fine Mask对精度要求非常苛刻，例如，一般要求掩模板的网格大小误差在3μm内，因此，目前传统的清洗设备无法用于对FineMask或掩模板进行有效清洗，导致掩模板的使用成本大大增加，而且容易因清洗效果不佳而严重影响所生产出的OLED显示屏的质量，甚至会产生大量不良品，直接或间接地提高了OLED显示屏的生产成本。
发明内容
本发明的主要目的在于，针对上述现有技术中的不足，提供一种掩模板清洗设备，可有效清洗掩模板表面和网格中的颗粒杂质，并且不会对掩模板造成任何伤害，也不会对掩模板的精度产生不利影响，从而在用于制造OLED显示屏产品时，显著提高产品的良品率。
为实现上述发明目的，本发明采用以下技术方案。
本发明提供的掩模板清洗设备，用于清洗掩模板上的杂质，包括电解清洗装置、漂洗装置和干燥装置，所述电解清洗装置内盛装有清洗液，所述清洗液为经过电解后可产生高速气体的碱性电解液，所述高速气体带动所述清洗液对所述掩模板进行冲洗；所述漂洗装置邻接于所述电解清洗装置设置，对所述掩模板进行漂洗；所述干燥装置邻接于所述漂洗装置，对漂洗后的所述掩模板进行干燥处理。
优选地，所述电解清洗装置包括清洗池，所述清洗池内盛装有所述清洗液，所述掩模板浸泡于所述清洗液中；所述清洗池设置有两个侧壁，所述掩模板位于所述两个侧壁之间，所述两个侧壁与第一电极连接，所述掩模板与第二电极连接，所述第一电极与第二电极的极性相反。
优选地，所述掩模板固定于一支架，所述支架挂置于所述侧壁上。
优选地，还包括电控装置，所述电控装置与所述电解清洗装置连接，向所述电解清洗装置输出电流，并对所述电流的大小和通电时间进行设定。
优选地，所述电控装置根据所述掩模板不同将电流的大小设定为5A～2000A。
优选地，所述电控装置设置有定时模块，用于当所述通电时间到达预定值时，自动断开所述电流。
优选地，还包括过滤装置，所述过滤装置与所述电解清洗装置连接，滤除所述清洗液中的颗粒杂质。
优选地，所述电极由耐强碱导电材料制成，所述耐强碱导电材料包括钛合金、铅合金或石墨。
优选地，还包括用于转运所述掩模板的机械手。
优选地，还包括防尘外罩，所述电解清洗装置、漂洗装置和干燥装置密封设置于所述防尘外罩内。
本发明具有以下优点：
1、本发明的掩模板清洗设备利用大电流末端放电原理，可对掩模板网格内的金属颗粒进行有效剥离。由于采用的是物理方法来去除杂质，而非直接采用工人或机械接触的方法，因此，可以避免因操作不当而对掩模板产生伤害，从而保证掩模板的精度，提高OLED显示屏的良品率。
2、清洗剂电解产生高速气体，利用气体带动清洗液对掩模板进行冲刷，可以有效提升清洗效果，并避免人为接触。
3、利用强碱作为清洗液，可以有效去除掩模板上的灰尘颗粒，从而可以一次性完成对金属颗粒和灰尘颗粒的清洗，节省清洗工艺，节约清洗成本。
附图说明
图1是本发明实施例中掩模板清洗设备的整体结构示意图。
图2是本发明实施例中电解清洗装置的俯视结构示意图。
本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
以下将结合附图及具体实施例详细说明本发明的技术方案，以便更清楚、直观地理解本发明的发明实质。
参照图1和图2所示，本实施例提供一种掩模板清洗设备100，用于清洗掩模板200(Mask)，特别是具有细小网络的大尺寸掩模板Fine Mask上的杂质，如金属颗粒和灰尘。该掩模板清洗设备100包括电解清洗装置1、漂洗装置2和干燥装置3。其中，电解清洗装置1内盛装有清洗液，该清洗液为碱性电解液，在电解时，可产生高速气体，利用该高速气体带动清洗液对掩模板200进行冲刷，从而将掩模板200清洗干净。漂洗装置2邻接于上述电解清洗装置设置1，包括漂洗池，用于对掩模板200进行漂洗，以去除上述清洗液。干燥装置3邻接于上述漂洗装置2，用于对漂洗后的掩模板200进行干燥处理，使掩模板200干燥，干燥后的掩模板200即可用于下一道工序。
具体地，电解清洗装置1包括清洗池11，在清洗池11内盛装有清洗液，掩模板200浸泡在清洗液中，由清洗液对掩模板200表面的灰尘颗粒进行清洗。清洗池11至少设置有两个侧壁111，这两个侧壁111上分别与第一电极连接，或者，将侧壁111作为第一电极(未图示)。掩模板200位于这两个侧壁111之间，并与第二电极(未图示)相连，该第一电极和第二电极的极性相反。这样，在电极放电时，掩模板200上通有大电流。根据大电流末端放电原理，掩模板200上的细小网格线会产生放电现象，凸出于网络线表面的金属颗粒或灰尘颗粒上会产生大量的热量，从而将金属颗粒或灰尘颗粒等杂质烧融或剥离。
同时，清洗液在大电流的作用下电解，产生高速气体，这些高速气体带动清洗液运动，使清洗液产生“沸腾”的效果，从而对掩模板200进行冲刷，将烧融或剥离后的颗粒杂质带走，实现清洗效果。
本实施例中，掩模板200被固定于一支架12上，并通过该支架12挂置于上述清洗池11的侧壁111上，以便于利用抓取机构对掩模板200进行转运，实现清洗、漂洗和干燥的连续化、自动化操作。
此外，本实施例还包括一电控装置4，该电控装置4与电解清洗装置1连接，向电解清洗装置1输出强电流，该强电流经上述电极通入到清洗液中。该电控装置4还可以对该强电流的大小和通电时间进行设定，以便于根据需要进行调节。例如，本实施例的电流大小可以根据掩模板200的不同而设定为10A～2000A，以便于达到预定的清洗效果。
上述电控装置4还设置有定时模块(未图示)，用于当通电时间到达预定值时，自动断开电流。
本实施例还包括一过滤装置5，该过滤装置5与上述电解清洗装置1连接，用于滤除清洗液中的颗粒杂质，使清洗液能循环利用。
为了使电极能长时间使用，电极由耐强碱导电材料制成，该耐强碱导电材料包括但不限于钛合金、铅合金或石墨。
本实施例还包括用于转运掩模板200的机械手6，该机械手6可将掩模板200放入清洗池11中，清洗完成后，取出再放入漂洗池中漂洗，漂洗完成后，取出再放入干燥装置3中进行干燥处理。这样便可使本实施例的掩模板清洗设备100实现自动化，连续性操作。
此外，本实施例还包括防尘外罩7，上述电解清洗装置1、漂洗装置2、干燥装置3、电控装置4、过滤装置5和机械手6密封设置于该防尘外罩7内，使电解清洗装置1、漂洗装置2、干燥装置3、电控装置4和过滤装置5处于一无尘空间内，有利于掩模板200的清洗，且清洗后不会再次沾染灰尘。
综上所述，本发明的掩模板清洗设备利用强电流末端放电原理，可对掩模板网格内的金属颗粒进行有效剥离，可有效清洗掩模板表面和网格中的颗粒杂质，并且不会地掩模板造成任何伤害，也不会对掩模板的精度产生不利影响，从而在用于制造OLED显示屏产品时，显著提高产品的良品率。
以上所述仅为本发明的优选实施例，并非因此限制其专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种掩模板清洗设备，用于清洗掩模板上的杂质，其特征在于：包括电解清洗装置、漂洗装置和干燥装置，所述电解清洗装置内盛装有清洗液，所述清洗液为经过电解后可产生高速气体的碱性电解液，所述高速气体带动所述清洗液对所述掩模板进行冲洗；所述漂洗装置邻接于所述电解清洗装置设置，对所述掩模板进行漂洗；所述干燥装置邻接于所述漂洗装置，对漂洗后的所述掩模板进行干燥处理。
2.如权利要求1所述的掩模板清洗设备，其特征在于：所述电解清洗装置包括清洗池，所述清洗池内盛装有所述清洗液，所述掩模板浸泡于所述清洗液中；所述清洗池设置有两个侧壁，所述掩模板位于所述两个侧壁之间，所述两个侧壁与第一电极连接，所述掩模板与第二电极连接，所述第一电极与第二电极的极性相反。
3.如权利要求2所述的掩模板清洗设备，其特征在于：所述掩模板固定于一支架，所述支架挂置于所述侧壁上。
4.如权利要求2所述的掩模板清洗设备，其特征在于：还包括电控装置，所述电控装置与所述电解清洗装置连接，向所述电解清洗装置输出电流，并对所述电流的大小和通电时间进行设定。
5.如权利要求4所述的掩模板清洗设备，其特征在于：所述电控装置根据所述掩模板不同将电流的大小设定为5A～2000A。
6.如权利要求4所述的掩模板清洗设备，其特征在于：所述电控装置设置有定时模块，用于当所述通电时间到达预定值时，自动断开所述电流。
7.如权利要求1所述的掩模板清洗设备，其特征在于：还包括过滤装置，所述过滤装置与所述电解清洗装置连接，滤除所述清洗液中的颗粒杂质。
8.如权利要求2所述的掩模板清洗设备，其特征在于：所述电极由耐强碱导电材料制成，所述耐强碱导电材料包括钛合金、铅合金或石墨。
9.如权利要求1～8任一项中所述的掩模板清洗设备，其特征在于：还包括用于转运所述掩模板的机械手。
10.如权利要求9所述的掩模板清洗设备，其特征在于：还包括防尘外罩，所述电解清洗装置、漂洗装置和干燥装置密封设置于所述防尘外罩内。
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