CN203420006U - 掩模板清洗设备 - Google Patents

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本实用新型涉及一种掩模板清洗设备,包括电解清洗装置、漂洗装置和干燥装置,电解清洗装置内盛装有清洗液,清洗液为经过电解后可产生高速气体的碱性电解液,高速气体带动清洗液对掩模板进行清洗;漂洗装置邻接于电解清洗装置设置,对掩模板进行漂洗;干燥装置邻接于漂洗装置,对漂洗后的掩模板进行干燥处理。本实用新型可有效清洗掩模板表面和网格中的颗粒杂质,并且不会地掩模板造成任何伤害,也不会对掩模板的精度产生不利影响,从而在用于制造OLED显示屏产品时,显著提高产品的良品率。

Description

掩模板清洗设备
技术领域
[0001] 本实用新型涉及清洗设备技术领域,特别涉及一种掩模板清洗设备。
背景技术
[0002] 有机电致发光器件,具有自发光、反应时间快、视角广、成本低、制造工艺简单、分辨率佳及高亮度等多项优点,被认为是下一代的平面显示器新兴应用技术。在OLED(Organic Light-Emitting Diode,有机电致发光二极管)技术中,用于真空蒸镀的掩模板是一项非常重要和关键的部件,该部件的质量直接影响OLED产品的质量和制造成本。
[0003] 掩模板(Mask),特别是细小网格的掩模板(Fine Mask),在初加工成型后,会在网格内或表面残留金属边角料等颗粒物质,影响掩模板的正常使用。在循环使用的过程中,掩模板上也会沾上一层灰尘等杂质,这些杂质在将掩模板再次投入使用前必须清除。
[0004] 由于掩模板特别是Fine Mask对精度要求非常苛刻,例如,一般要求掩模板的网格大小误差在3 μ m内,因此,目前传统的清洗设备无法用于对FineMask或掩模板进行有效清洗,导致掩模板的使用成本大大增加,而且容易因清洗效果不佳而严重影响所生产出的OLED显示屏的质量,甚至会产生大量不良品,直接或间接地提高了 OLED显示屏的生产成本。
实用新型内容
[0005] 本实用新型的主要目的在于,针对上述现有技术中的不足,提供一种掩模板清洗设备,可有效清洗掩模板表面和网格中的颗粒杂质,并且不会对掩模板造成任何伤害,也不会对掩模板的精度产生不利影响,从而在用于制造OLED显示屏产品时,显著提高产品的良品率。
[0006] 为实现上述发明目的,本实用新型采用以下技术方案。
[0007] 本实用新型提供的掩模板清洗设备,用于清洗掩模板上的杂质,包括电解清洗装置、漂洗装置和干燥装置,所述电解清洗装置内盛装有清洗液,所述清洗液为经过电解后可产生高速气体的碱性电解液,所述高速气体带动所述清洗液对所述掩模板进行冲洗;所述漂洗装置邻接于所述电解清洗装置设置,对所述掩模板进行漂洗;所述干燥装置邻接于所述漂洗装置,对漂洗后的所述掩模板进行干燥处理。
[0008] 优选地,所述电解清洗装置包括清洗池,所述清洗池内盛装有所述清洗液,所述掩模板浸泡于所述清洗液中;所述清洗池设置有两个侧壁,所述掩模板位于所述两个侧壁之间,所述两个侧壁与第一电极连接,所述掩模板与第二电极连接,所述第一电极与第二电极的极性相反。
[0009] 优选地,所述掩模板固定于一支架,所述支架挂置于所述侧壁上。
[0010] 优选地,还包括电控装置,所述电控装置与所述电解清洗装置连接,向所述电解清洗装置输出电流,并对所述电流的大小和通电时间进行设定。
[0011] 优选地,所述电控装置根据所述掩模板不同将电流的大小设定为5A〜2000A。[0012] 优选地,所述电控装置设置有定时模块,用于当所述通电时间到达预定值时,自动断开所述电流。
[0013] 优选地,还包括过滤装置,所述过滤装置与所述电解清洗装置连接,滤除所述清洗液中的颗粒杂质。
[0014] 优选地,所述电极由耐强碱导电材料制成,所述耐强碱导电材料包括钛合金、铅合
金或石墨。
[0015] 优选地,还包括用于转运所述掩模板的机械手。
[0016] 优选地,还包括防尘外罩,所述电解清洗装置、漂洗装置和干燥装置密封设置于所述防尘外罩内。
[0017] 本实用新型具有以下优点:
[0018] 1、本实用新型的掩模板清洗设备利用大电流末端放电原理,可对掩模板网格内的金属颗粒进行有效剥离。由于采用的是物理方法来去除杂质,而非直接采用工人或机械接触的方法,因此,可以避免因操作不当而对掩模板产生伤害,从而保证掩模板的精度,提高OLED显示屏的良品率。
[0019] 2、清洗剂电解产生高速气体,利用气体带动清洗液对掩模板进行冲刷,可以有效提升清洗效果,并避免人为接触。
[0020] 3、利用强碱作为清洗液,可以有效去除掩模板上的灰尘颗粒,从而可以一次性完成对金属颗粒和灰尘颗粒的清洗,节省清洗工艺,节约清洗成本。
附图说明
[0021]图1是本实用新型实施例中掩模板清洗设备的整体结构示意图。
[0022] 图2是本实用新型实施例中电解清洗装置的俯视结构示意图。
[0023] 本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例,参照附图做进一步说明。
具体实施方式
[0024] 以下将结合附图及具体实施例详细说明本实用新型的技术方案,以便更清楚、直观地理解本实用新型的发明实质。
[0025] 参照图1和图2所示,本实施例提供一种掩模板清洗设备100,用于清洗掩模板200 (Mask),特别是具有细小网络的大尺寸掩模板Fine Mask上的杂质,如金属颗粒和灰尘。该掩模板清洗设备100包括电解清洗装置1、漂洗装置2和干燥装置3。其中,电解清洗装置I内盛装有清洗液,该清洗液为碱性电解液,在电解时,可产生高速气体,利用该高速气体带动清洗液对掩模板200进行冲刷,从而将掩模板200清洗干净。漂洗装置2邻接于上述电解清洗装置设置1,包括漂洗池,用于对掩模板200进行漂洗,以去除上述清洗液。干燥装置3邻接于上述漂洗装置2,用于对漂洗后的掩模板200进行干燥处理,使掩模板200干燥,干燥后的掩模板200即可用于下一道工序。
[0026] 具体地,电解清洗装置I包括清洗池11,在清洗池11内盛装有清洗液,掩模板200浸泡在清洗液中,由清洗液对掩模板200表面的灰尘颗粒进行清洗。清洗池11至少设置有两个侧壁111,这两个侧壁111上分别与第一电极连接,或者,将侧壁111作为第一电极(未图示)。掩模板200位于这两个侧壁111之间,并与第二电极(未图示)相连,该第一电极和第二电极的极性相反。这样,在电极放电时,掩模板200上通有大电流。根据大电流末端放电原理,掩模板200上的细小网格线会产生放电现象,凸出于网络线表面的金属颗粒或灰尘颗粒上会产生大量的热量,从而将金属颗粒或灰尘颗粒等杂质烧融或剥离。
[0027] 同时,清洗液在大电流的作用下电解,产生高速气体,这些高速气体带动清洗液运动,使清洗液产生“沸腾”的效果,从而对掩模板200进行冲刷,将烧融或剥离后的颗粒杂质带走,实现清洗效果。
[0028] 本实施例中,掩模板200被固定于一支架12上,并通过该支架12挂置于上述清洗池11的侧壁111上,以便于利用抓取机构对掩模板200进行转运,实现清洗、漂洗和干燥的连续化、自动化操作。
[0029] 此外,本实施例还包括一电控装置4,该电控装置4与电解清洗装置I连接,向电解清洗装置I输出强电流,该强电流经上述电极通入到清洗液中。该电控装置4还可以对该强电流的大小和通电时间进行设定,以便于根据需要进行调节。例如,本实施侧的电流大小可以根据掩模板200的不同而设定为IOA〜2000A,以便于达到预定的清洗效果。
[0030] 上述电控装置4还设置有定时模块(未图示),用于当通电时间到达预定值时,自动断开电流。
[0031] 本实施例还包括一过滤装置5,该过滤装置5与上述电解清洗装置I连接,用于滤除清洗液中的颗粒杂质,使清洗液能循环利用。
[0032] 为了使电极能长时间使用,电极由耐强碱导电材料制成,该耐强碱导电材料包括但不限于钛合金、铅合金或石墨。
[0033] 本实施例还包括用于转运掩模板200的机械手6,该机械手6可将掩模板200放入清洗池11中,清洗完成后,取出再放入漂洗池中漂洗,漂洗完成后,取出再放入干燥装置3中进行干燥处理。这样便可使本实施例的掩模板清洗设备100实现自动化,连续性操作。
[0034] 此外,本实施例还包括防尘外罩7,上述电解清洗装置1、漂洗装置2、干燥装置3、电控装置4、过滤装置5和机械手6密封设置于该防尘外罩7内,使电解清洗装置1、漂洗装置2、干燥装置3、电控装置4和过滤装置5处于一无尘空间内,有利于掩模板200的清洗,且清洗后不会再次沾染灰尘。
[0035] 综上所述,本实用新型的掩模板清洗设备利用强电流末端放电原理,可对掩模板网格内的金属颗粒进行有效剥离,可有效清洗掩模板表面和网格中的颗粒杂质,并且不会地掩模板造成任何伤害,也不会对掩模板的精度产生不利影响,从而在用于制造OLED显示屏产品时,显著提高产品的良品率。
[0036] 以上所述仅为本实用新型的优选实施例,并非因此限制其专利范围,凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换,直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种掩模板清洗设备,用于清洗掩模板上的杂质,其特征在于:包括电解清洗装置、漂洗装置和干燥装置,所述电解清洗装置内盛装有清洗液,所述清洗液为经过电解后可产生高速气体的碱性电解液,所述高速气体带动所述清洗液对所述掩模板进行冲洗;所述漂洗装置邻接于所述电解清洗装置设置,对所述掩模板进行漂洗;所述干燥装置邻接于所述漂洗装置,对漂洗后的所述掩模板进行干燥处理。
2.如权利要求1所述的掩模板清洗设备,其特征在于:所述电解清洗装置包括清洗池,所述清洗池内盛装有所述清洗液,所述掩模板浸泡于所述清洗液中;所述清洗池设置有两个侧壁,所述掩模板位于所述两个侧壁之间,所述两个侧壁与第一电极连接,所述掩模板与第二电极连接,所述第一电极与第二电极的极性相反。
3.如权利要求2所述的掩模板清洗设备,其特征在于:所述掩模板固定于一支架,所述支架挂置于所述侧壁上。
4.如权利要求2所述的掩模板清洗设备,其特征在于:还包括电控装置,所述电控装置与所述电解清洗装置连接,向所述电解清洗装置输出电流,并对所述电流的大小和通电时间进行设定。
5.如权利要求4所述的掩模板清洗设备,其特征在于:所述电控装置根据所述掩模板不同将电流的大小设定为5A〜2000A。
6.如权利要求4所述的掩模板清洗设备,其特征在于:所述电控装置设置有定时模块,用于当所述通电时间到达预定值时,自动断开所述电流。
7.如权利要求1所述的掩模板清洗设备,其特征在于:还包括过滤装置,所述过滤装置与所述电解清洗装置连接,滤除所述清洗液中的颗粒杂质。
8.如权利要求2所述的掩模板清洗设备,其特征在于:所述电极由耐强碱导电材料制成,所述耐强碱导电材料包括钛合金、铅合金或石墨。
9.如权利要求1〜8任一项中所述的掩模板清洗设备,其特征在于:还包括用于转运所述掩模板的机械手。
10.如权利要求9所述的掩模板清洗设备,其特征在于:还包括防尘外罩,所述电解清洗装置、漂洗装置和干燥装置密封设置于所述防尘外罩内。
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