CN104152846A - 一种掩模板清洗系统 - Google Patents

一种掩模板清洗系统 Download PDF

Info

Publication number
CN104152846A
CN104152846A CN201410059568.0A CN201410059568A CN104152846A CN 104152846 A CN104152846 A CN 104152846A CN 201410059568 A CN201410059568 A CN 201410059568A CN 104152846 A CN104152846 A CN 104152846A
Authority
CN
China
Prior art keywords
cleaning
mask plate
rinsing
equipment
scavenging solution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201410059568.0A
Other languages
English (en)
Other versions
CN104152846B (zh
Inventor
唐军
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Anhui Junying photoelectric Co., Ltd
Original Assignee
唐军
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 唐军 filed Critical 唐军
Priority to CN201410059568.0A priority Critical patent/CN104152846B/zh
Publication of CN104152846A publication Critical patent/CN104152846A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN104152846B publication Critical patent/CN104152846B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Abstract

本发明提供一种掩模板清洗系统,其具有第一清洗设备,用于清洗表面的有机材料残留物、第二清洗设备,用于清洗颗粒杂质和第一漂洗装置、第二漂洗装置,分别用于对经第一清洗设备和第二清洗设备清洗过的掩模板进行漂洗,最终将掩模板清洗干净,本发明不仅可有效提高清洗效果,而且可以减少清洗液的损耗,提高清洗液的利用率,从而降低清洗成本。同时,在清洗的过程中,本发明采用机械手对掩模板进行转运,可实现清洗过程的连续化和自动化控制,提高了清洗效率,并进一步降低了清洗成本。

Description

一种掩模板清洗系统
技术领域
[0001] 本发明涉及清洗设备技术领域,特别涉及一种掩模板清洗系统。
背景技术
[0002] 有机电致发光器件,具有自发光、反应时间快、视角广、成本低、制造工艺简单、 分辨率佳及高亮度等多项优点,被认为是下一代的平面显示器新兴应用技术。在0LED (Organic Light-Emitting Diode,有机电致发光二极管)技术中,用于真空蒸镀的掩模板 是一项非常重要和关键的部件,该部件的质量直接影响0LED产品的质量和制造成本。
[0003] 掩模板(Mask),特别是细小网格的掩模板(Fine Mask),在初加工成型后,会在网 格内或表面残留金属边角料等颗粒物质,影响掩模板的正常使用。在循环使用的过程中,掩 模板上会沾上有机发光材料等杂质,这些杂质将影响掩模板的精度或正常使用,在将掩模 板再次投入使用前必须清除。
[0004] 由于掩模板特别是Fine Mask对精度要求非常苛刻,例如,一般要求掩模板的网 格大小误差在3 μ m内,因此,目前传统的清洗设备无法用于对Fine Mask或掩模板进行有 效清洗,导致掩模板的使用成本大大增加,而且容易因清洗效果不佳而严重影响所生产出 的0LED显示屏的质量,甚至会产生大量不良品,直接或间接地提高了 0LED显示屏的生产成 本。
发明内容
[0005] 本发明的主要目的在于,针对上述现有技术中的不足,提供一种掩模板清洗系统, 可有效清洗掩模板表面和蒸镀孔处的颗粒杂质,并且不会对掩模板造成任何伤害,也不会 对掩模板的精度产生不利影响,从而在用于制造0LED显示屏产品时,显著提高产品的良品 率。
[0006] 为实现上述发明目的,本发明采用以下技术方案。
[0007] 本发明提供一种掩模板清洗系统,所述掩模板具有蒸镀孔,所述掩模板清洗系统 包括用于去除所述掩模板表面的有机材料残留物的第一清洗设备、用于漂洗所述掩模板的 第一漂洗设备、用于去除所述蒸镀孔内的颗粒杂质的第二清洗设备和用于漂洗所述掩模板 的第二漂洗设备,所述第一漂洗设备与所述第一清洗设备邻接设置,所述第二漂洗设备与 所述第二清洗设备邻接设置;所述第一清洗设备包括至少一个超声清洗槽,所述第一漂洗 设备包括至少一个第一漂洗槽,所述掩模板在所述超声清洗槽内清洗后再在所述第一漂洗 槽内漂洗,以去除所述有机材料残留物;所述第二清洗设备包括至少一个电解清洗槽,所述 第二漂洗设备包括至少一个第二漂洗槽,所述掩模板在所述电解清洗槽内清洗后再在所述 第二漂洗槽内漂洗,以去除所述颗粒杂质。
[0008] 优选地,还包括用于回收第一清洗液的第一纯化回收设备,所述第一纯化回收设 备邻接于所述第一清洗设备,所述超声清洗槽内盛装有所述第一清洗液,所述有机材料残 留物的沸点低于所述有机材料残留物。
[0009] 优选地,还包括用于回收第一漂洗液的第二纯化回收设备,所述第二纯化回收设 备邻接于所述第一漂洗设备,所述第一漂洗槽内盛装有第一漂洗液,所述第一漂洗液的沸 点低于所述第一清洗液,或者所述第一漂洗液在常温下易挥发。
[0010] 优选地,还包括用于回收第二清洗液的第三纯化回收设备,所述第三纯化回收设 备邻接于所述第二清洗设备,所述第二清洗设备中盛装有第二清洗液。
[0011] 优选地,还包括用于回收第二漂洗液的第四纯化回收设备,所述第四纯化回收设 备邻接于所述第二漂洗设备,所述第二漂洗槽内盛装有第二漂洗液,所述第二漂洗液的沸 点低于所述第二清洗液。
[0012] 优选地,还包括封闭外罩,所述第一清洗设备、第二清洗设备、第一漂洗设备和第 二漂洗设备均设置于所述封闭外罩内。
[0013] 优选地,还包括机械手,所述机械手设置于一支架上,对所述掩模板进行转运。
[0014] 优选地,所述掩模板容置于一洗篮内,所述机械手适于通过所述洗篮对所述掩模 板进行转运。
[0015] 优选地,还包括电控箱,所述电控箱包括极性相反的第一电极和第二电极,所述电 解清洗槽内至少设置有两个侧壁,所述掩模板浸泡于所述第一清洗液中,且位于所述两个 侧壁之间;所述两个侧壁与所述第一电极连接,所述掩模板与所述第二电极连接。
[0016] 优选地,还包括适于装载掩模板料台,所述料台邻接于所述第一清洗设备。
[0017] 本发明具有以下优点: 本发明利用第一清洗设备去除掩模板上蒸镀孔处的有机材料残留物,利用第二清洗设 备去除掩模板表面的颗粒杂质,并在第一清洗设备和第二清洗设备中盛装不同的清洗液, 由于本发明是根据清洗液的不同,采用不同的清洗装置对不同的杂质进行清洗,因此,不仅 可有效提高清洗效果,而且可以减少清洗液的损耗,提高清洗液的利用率,从而降低清洗成 本。同时,在清洗的过程中,本发明采用机械手对掩模板进行转运,可实现清洗过程的连续 化和自动化控制,提高了清洗效率,并进一步降低了清洗成本。
附图说明
[0018] 图1是本发明实施例中掩模板清洗系统的框架示意图。
[0019] 图2是本发明实施例中掩模板清洗系统的结构示意图。
[0020] 图3是本发明实施例中电解清洗槽的结构示意图。
[0021] 本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例,参照附图做进一步说明。
具体实施方式
[0022] 以下将结合附图及具体实施例详细说明本发明的技术方案,以便更清楚、直观地 理解本发明的发明实质。
[0023] 参照图1和图2所示,本实施例提供一种掩模板清洗系统100,其主要用于清洗掩 模板200表面附着的有机发光材料的残留物和掩模板200上的蒸镀孔处的颗粒杂质。该掩 模板清洗系统1〇〇包括第一清洗设备1、第一漂洗设备2、第二清洗设备3和第二漂洗设备 4,且第一漂洗设备与第一清洗设备邻接设置,第二漂洗设备与第二清洗设备邻接设置。其 中,第一清洗设备1用于去除掩模板表面的有机发光材料的残留物,第二清洗设备3用于去 除蒸镀孔内的颗粒杂质,第一漂洗设备2和第二漂洗设备4用于漂洗上述清洗过的掩模板 200。
[0024] 具体地,第一清洗设备1包括至少一个超声清洗槽11 (本实施例设置为1飞个), 第一漂洗设备2包括至少一个第一漂洗槽21 (本实施例设置为广3个),掩模板200在上述 超声清洗槽11内经1飞次清洗后再在第一漂洗槽内漂洗1~3次,以去除有机发光材料残留 物。第二清洗设备3包括至少一个电解清洗槽31 (本实施例设置为1~3个),第二漂洗设备 4包括至少一个第二漂洗槽41 (本实施例设置为1~3个),掩模板200在电解清洗槽31内 清洗Γ3次后再在第二漂洗槽41内漂洗Γ3次,以去除颗粒杂质,从而将掩模板200清洗 洁净,使其达到生产0LED显示屏所要求的洁净度。
[0025] 掩模板200放置于第一清洗液中进行超声清洗,通过第一清洗液对掩模板200表 面或网格中的有机发光材料残留物进行清除,完成第一阶段的清洗。
[0026] 为了节约清洗成本,减少废水排放,本实施例还包括用于回收第一清洗液的第一 纯化回收设备12,所述第一纯化回收设备12邻接于所述第一清洗设备1,所述超声清洗槽 11内盛装有所述第一清洗液,所述有机材料残留物的沸点低于所述有机材料残留物。一般 的有机发光材料沸点大约在150摄氏度左右,为了便于使第一清洗液与第一漂洗液分开, 本实施例的第一清洗液的沸点大约为80摄氏度左右。
[0027] 第一阶段清洗完成后,便可将掩模板200放入第一漂洗设备2中漂洗,以去除掩模 板200表面的第一清洗液,达到进一步清洁的作用。
[0028] 本实施例还包括用于回收第一漂洗液的第二纯化回收设备22,所述第二纯化回收 设备22邻接于所述第一漂洗设备2,所述第一漂洗槽21内盛装有第一漂洗液,所述第一漂 洗液的沸点低于所述第一清洗液,或者所述第一漂洗液在常温下易挥发,以便于将第一漂 洗液与第一清洗液分尚开来。
[0029] 具体地,参照图3所示,本实施例的掩模板清洗系统100还设置有电控箱5,该电 控箱5包括极性相反的第一电极(未图示)和第二电极(未图示),所述电解清洗槽31内至 少设置有两个侧壁311,所述掩模板200在完成第一漂洗设备2的漂洗后,被放置于第二清 洗设备3,并浸泡于所述第二清洗液中,利用第二清洗液对其进行第二阶段的清洗。掩模板 200位于所述两个侧壁311之间,且两个侧壁311与第一电极连接,掩模板200与第二电极 连接。这样,在放电时,掩模板200上通有强电流。根据大电流末端放电原理,掩模板200 上的细小网格线会产生放电现象,凸出于网格线表面的金属颗粒或灰尘颗粒上会产生大量 的热量,从而将金属颗粒或灰尘颗粒等杂质烧融或剥离。
[0030] 同时,本实施例的第一清洗液在强电流的作用下电解,会产生高速气体,这些高速 气体带动第一清洗液运动,使第一清洗液产生"沸腾"的效果,从而对掩模板200进行冲刷, 将烧融或剥离后的颗粒杂质带走,从而完成第二阶段的清洗。
[0031] 本实施例还包括用于回收第二清洗液的第三纯化回收设备32,所述第三纯化回收 设备32邻接于所述第二清洗设备3,第二清洗液盛放于所述电解清洗槽31中。
[0032] 第二阶段清洗完成后,将掩模板200放入第二漂洗设备3中漂洗去除表面的第二 清洗液,达到进一步清洁的目的。
[0033] 本实施例还包括用于回收第二漂洗液的第四纯化回收设备42,所述第四纯化回收 设备42邻接于所述第二漂洗设备4,所述第二漂洗槽41内盛装有第二漂洗液,所述第二漂 洗液的沸点低于所述第二清洗液。当然,第二漂洗液可以采用与第一漂洗液相同的漂洗液, 并且易挥发,这样便有利于将第二漂洗液从第二清洗液中分离,以便循环利用。
[0034] 本实施例还设置有用于转运掩模板200的机械手6,该机械手6可将掩模板200放 入第一清洗设备1、第一漂洗设备2、第二清洗设备3和第二漂洗设备4中,这样便可使本实 施例的掩模板清洗设备100实现自动化,连续性操作。
[0035] 同时,本实施例还包括有封闭外罩7,上述第一清洗设备1、第一漂洗设备2、第二 清洗设备3和第二漂洗设备4均设置于封闭外罩7内,使内部形成一个无尘空间,避免清洗 后的掩模板200再次沾染到灰尘。
[0036] 参照图3,为了便于机械手6的抓持或挂置,本实施例将掩模板200容置于一洗篮 300内,该洗篮300可以放入到第一清洗设备1、第一漂洗设备2、第二清洗设备3和第二漂 洗设备4中,作为掩模板200的托架,机械手6可以通过该洗篮300对掩模板200进行转运。
[0037] 本实施例中,电解清洗装置11是通过大电流尖端放电原理去除颗粒杂质的,在电 极放电时,电流从掩模板200中穿过,使掩模板200通有强电流,从而将颗粒杂质去除。为 保证电极能长时间使用而不被第二清洗液腐蚀,本实施例的电极由耐强碱导电材料制成, 该耐强碱导电材料包括但不限于钛合金、铅合金和石墨。
[0038] 当采用的第二漂洗液为常温下易挥发性溶剂时,掩模板200经过第二漂洗液漂洗 后,其表面的第二漂洗液自然风干,因此无需再设置干燥设备。若采用其它常温下不易挥发 的溶剂,则可根据需要设置一干燥设备,对掩模板200进行风干处理。
[0039] 此外,本实施例还设置有料台8,用于装载掩模板,该料台8邻接于第一清洗设备 1,机械手6可以从料台8上抓取掩模板200,放入第一清洗设备1中清洗。
[0040] 综上所述,本发明利用第一清洗设备去除掩模板上蒸镀孔处的有机材料残留物, 利用第二清洗设备去除掩模板表面的颗粒杂质,并在第一清洗设备和第二清洗设备中盛装 不同的清洗液,由于本发明是根据清洗液的不同,采用不同的清洗装置对不同的杂质进行 清洗,因此,不仅可有效提高清洗效果,而且可以减少清洗液的损耗,提高清洗液的利用率, 从而降低清洗成本。同时,在清洗的过程中,本发明采用机械手对掩模板进行转运,可实现 清洗过程的连续化和自动化控制,提高了清洗效率,并进一步降低了清洗成本。
[0041] 以上所述仅为本发明的优选实施例,并非因此限制其专利范围,凡是利用本发明 说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,直接或间接运用在其他相关的技术领 域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (10)

1. 一种掩模板清洗系统,所述掩模板具有蒸镀孔,其特征在于:所述掩模板清洗系统 包括用于去除所述掩模板表面的有机材料残留物的第一清洗设备、用于漂洗所述掩模板的 第一漂洗设备、用于去除所述蒸镀孔内的颗粒杂质的第二清洗设备和用于漂洗所述掩模板 的第二漂洗设备,所述第一漂洗设备与所述第一清洗设备邻接设置,所述第二漂洗设备与 所述第二清洗设备邻接设置;所述第一清洗设备包括至少一个超声清洗槽,所述第一漂洗 设备包括至少一个第一漂洗槽,所述掩模板在所述超声清洗槽内清洗后再在所述第一漂洗 槽内漂洗,以去除所述有机材料残留物;所述第二清洗设备包括至少一个电解清洗槽,所述 第二漂洗设备包括至少一个第二漂洗槽,所述掩模板在所述电解清洗槽内清洗后再在所述 第二漂洗槽内漂洗,以去除所述颗粒杂质。
2. 如权利要求1所述的掩模板清洗系统,其特征在于:还包括用于回收第一清洗液的 第一纯化回收设备,所述第一纯化回收设备邻接于所述第一清洗设备,所述超声清洗槽内 盛装有所述第一清洗液,所述有机材料残留物的沸点低于所述有机材料残留物。
3. 如权利要求1所述的掩模板清洗系统,其特征在于:还包括用于回收第一漂洗液的 第二纯化回收设备,所述第二纯化回收设备邻接于所述第一漂洗设备,所述第一漂洗槽内 盛装有第一漂洗液,所述第一漂洗液的沸点低于所述第一清洗液,或者所述第一漂洗液在 常温下易挥发。
4. 如权利要求1所述的掩模板清洗系统,其特征在于:还包括用于回收第二清洗液的 第三纯化回收设备,所述第三纯化回收设备邻接于所述第二清洗设备,所述第二清洗设备 中盛装有第二清洗液。
5. 如权利要求1所述的掩模板清洗系统,其特征在于:还包括用于回收第二漂洗液的 第四纯化回收设备,所述第四纯化回收设备邻接于所述第二漂洗设备,所述第二漂洗槽内 盛装有第二漂洗液,所述第二漂洗液的沸点低于所述第二清洗液。
6. 如权利要求1所述的掩模板清洗系统,其特征在于:还包括封闭外罩,所述第一清洗 设备、第二清洗设备、第一漂洗设备和第二漂洗设备均设置于所述封闭外罩内。
7. 如权利要求1所述的掩模板清洗系统,其特征在于:还包括机械手,所述机械手设置 于一支架上,对所述掩模板进行转运。
8. 如权利要求7所述的掩模板清洗系统,其特征在于:所述掩模板容置于一洗篮内,所 述机械手适于通过所述洗篮对所述掩模板进行转运。
9. 如权利要求1所述的掩模板清洗系统,其特征在于:还包括电控箱,所述电控箱包括 极性相反的第一电极和第二电极,所述电解清洗槽内至少设置有两个侧壁,所述掩模板浸 泡于所述第一清洗液中,且位于所述两个侧壁之间;所述两个侧壁与所述第一电极连接,所 述掩模板与所述第二电极连接。
10. 如权利要求1所述的掩模板清洗系统,其特征在于:还包括适于装载掩模板料台, 所述料台邻接于所述第一清洗设备。
CN201410059568.0A 2014-02-21 2014-02-21 一种掩模板清洗系统 Active CN104152846B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410059568.0A CN104152846B (zh) 2014-02-21 2014-02-21 一种掩模板清洗系统

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410059568.0A CN104152846B (zh) 2014-02-21 2014-02-21 一种掩模板清洗系统

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN104152846A true CN104152846A (zh) 2014-11-19
CN104152846B CN104152846B (zh) 2016-08-17

Family

ID=51878466

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201410059568.0A Active CN104152846B (zh) 2014-02-21 2014-02-21 一种掩模板清洗系统

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN104152846B (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108267929A (zh) * 2017-01-03 2018-07-10 昆山国显光电有限公司 掩膜板的清洗方法及装置
CN110295371A (zh) * 2019-06-28 2019-10-01 云谷(固安)科技有限公司 掩膜版的清洗方法
CN111715605A (zh) * 2019-03-22 2020-09-29 潍坊华光光电子有限公司 一种光学镀膜夹具的清洗装置及清洗方法

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108251794A (zh) * 2018-01-19 2018-07-06 昆山国显光电有限公司 掩膜板的后处理方法及掩膜板

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1623688A (zh) * 2003-12-02 2005-06-08 精工爱普生株式会社 清洗方法、清洗装置及电光学装置
CN1746331A (zh) * 2004-09-01 2006-03-15 三洋电机株式会社 清洗装置
CN101677122A (zh) * 2008-09-17 2010-03-24 株式会社日立高新技术 有机el用掩模清洁装置及方法、有机el显示器及其制造装置
CN101834118A (zh) * 2009-03-09 2010-09-15 株式会社日立高新技术 掩膜构件的清洗装置及清洗方法以及有机el显示器
CN102034937A (zh) * 2009-09-28 2011-04-27 株式会社日立高新技术 有机el用掩模清洗方法、有机el用掩模清洗装置及有机el显示器的制造装置
CN102436138A (zh) * 2011-07-12 2012-05-02 上海华力微电子有限公司 一种紫外线掩模板干法清洗设备
CN102650031A (zh) * 2012-04-19 2012-08-29 彩虹(佛山)平板显示有限公司 一种mask表面附着有机物的清除方法
CN103469152A (zh) * 2013-08-11 2013-12-25 唐军 掩模板清洗系统
CN203420006U (zh) * 2013-08-11 2014-02-05 唐军 掩模板清洗设备

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1623688A (zh) * 2003-12-02 2005-06-08 精工爱普生株式会社 清洗方法、清洗装置及电光学装置
CN1746331A (zh) * 2004-09-01 2006-03-15 三洋电机株式会社 清洗装置
CN101677122A (zh) * 2008-09-17 2010-03-24 株式会社日立高新技术 有机el用掩模清洁装置及方法、有机el显示器及其制造装置
CN103394490A (zh) * 2008-09-17 2013-11-20 株式会社日立高新技术 有机el用掩模清洁装置及方法
CN101834118A (zh) * 2009-03-09 2010-09-15 株式会社日立高新技术 掩膜构件的清洗装置及清洗方法以及有机el显示器
CN102034937A (zh) * 2009-09-28 2011-04-27 株式会社日立高新技术 有机el用掩模清洗方法、有机el用掩模清洗装置及有机el显示器的制造装置
CN102436138A (zh) * 2011-07-12 2012-05-02 上海华力微电子有限公司 一种紫外线掩模板干法清洗设备
CN102650031A (zh) * 2012-04-19 2012-08-29 彩虹(佛山)平板显示有限公司 一种mask表面附着有机物的清除方法
CN103469152A (zh) * 2013-08-11 2013-12-25 唐军 掩模板清洗系统
CN203420006U (zh) * 2013-08-11 2014-02-05 唐军 掩模板清洗设备

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108267929A (zh) * 2017-01-03 2018-07-10 昆山国显光电有限公司 掩膜板的清洗方法及装置
CN111715605A (zh) * 2019-03-22 2020-09-29 潍坊华光光电子有限公司 一种光学镀膜夹具的清洗装置及清洗方法
CN110295371A (zh) * 2019-06-28 2019-10-01 云谷(固安)科技有限公司 掩膜版的清洗方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN104152846B (zh) 2016-08-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104152846A (zh) 一种掩模板清洗系统
CN103469152A (zh) 掩模板清洗系统
CN203420006U (zh) 掩模板清洗设备
CN103451712A (zh) 掩模板清洗设备
CN206425292U (zh) 一种快速铜废料回收装置
CN204817327U (zh) 一种玻璃基板清洗生产线
CN103406301A (zh) 掩模板清洗器
CN204375658U (zh) 继电器除尘装配机
CN208743230U (zh) 一种自动清洗干燥设备
CN202962975U (zh) 烧结炉带的清洁装置及具有其的烧结炉
CN103846245A (zh) 基板清洗装置及清洗方法
CN203417881U (zh) 掩模板清洗器
CN105750275A (zh) 一种硅料清洗方法
CN208555334U (zh) 一种自动在线真空等离子清洗机
CN203842368U (zh) 一种纺织品定量化学分析用过滤装置
CN102509695B (zh) 制作图案化氧化物导电层的方法及蚀刻机台
JP2012248789A (ja) 太陽電池の製造方法
CN208712420U (zh) 一种等离子体清洗装置
CN103367211B (zh) 一种led芯片清洗提篮
CN108582770A (zh) 工件自动清理设备
CN204866614U (zh) 基板线路间沟槽垃圾清洁机构
CN205441973U (zh) 一种candu-6锆管涂石墨设备自动化装置
CN101740354B (zh) 晶圆表面脱液处理装置
CN211170880U (zh) 一种连续真空镀膜设备
CN106094443A (zh) 曝光机及在曝光机内进行光罩清洗的方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20160520

Address after: 518101 Guangdong province Shenzhen City Pingshan Pingshan street community of Shahu Jinlong Avenue South West No. 2-10

Applicant after: Shenzhen Junyi Technology Co., Ltd.

Address before: 3 building, A12 building, 518101 West Industrial Zone, Ho Ho Industrial Estate, Baoan District, Shenzhen, Guangdong

Applicant before: Tang Jun

Effective date of registration: 20160520

Address after: 518101 Guangdong province Shenzhen City Pingshan Pingshan street community of Shahu Jinlong Avenue South West No. 2-10

Applicant after: Shenzhen Junyi Technology Co., Ltd.

Address before: 3 building, A12 building, 518101 West Industrial Zone, Ho Ho Industrial Estate, Baoan District, Shenzhen, Guangdong

Applicant before: Tang Jun

C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
TR01 Transfer of patent right
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20210222

Address after: 236000 building 6-7, Yingshang Economic Development Zone, Shencheng Town, Yingshang County, Fuyang City, Anhui Province

Patentee after: Anhui Junying photoelectric Co., Ltd

Address before: 518101, Pingshan street, Shahu, Shenzhen, Guangdong, 2-10 South West of Jinlong Avenue.

Patentee before: Shenzhen Junyi Technology Co.,Ltd.