CN105549334B - 曝光机 - Google Patents

曝光机 Download PDF

Info

Publication number
CN105549334B
CN105549334B CN201610060705.1A CN201610060705A CN105549334B CN 105549334 B CN105549334 B CN 105549334B CN 201610060705 A CN201610060705 A CN 201610060705A CN 105549334 B CN105549334 B CN 105549334B
Authority
CN
China
Prior art keywords
guide rail
dust collection
loading platform
slide loading
collection chamber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201610060705.1A
Other languages
English (en)
Other versions
CN105549334A (zh
Inventor
王轩
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority to CN201610060705.1A priority Critical patent/CN105549334B/zh
Publication of CN105549334A publication Critical patent/CN105549334A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN105549334B publication Critical patent/CN105549334B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70908Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask

Abstract

本发明提供一种曝光机,其包括数个搬运模块,所述搬运模块包括导轨、连接于所述导轨侧面的滑动载台、及设于所述导轨与滑动载台下方的灰尘收集室;所述滑动载台可在所述导轨中往复滑动;所述灰尘收集室的边缘设有伸出于导轨侧面的灰尘收集口;所述灰尘收集口的开口向上并朝向所述导轨与滑动载台的连接处,从而使所述滑动载台在导轨中滑动的过程中所产生的灰尘落入灰尘收集口而被收集至所述灰尘收集室中;所述灰尘收集室可与真空负压装置相连接,从而通过真空负压装置吸取滑动载台在导轨中往复滑动的过程中所产生的灰尘;有效改善曝光制程的操作环境,提升曝光制程的良率。

Description

曝光机
技术领域
本发明涉及显示装置的制造领域,尤其涉及一种曝光机。
背景技术
液晶显示装置(Liquid Crystal Display,LCD)具有机身薄、省电、无辐射等众多优点,得到了广泛的应用,如:移动电话、个人数字助理(PDA)、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。
现有市场上的液晶显示装置大部分为背光型液晶显示装置,其包括壳体、设于壳体内的液晶显示面板及设于壳体内的背光模组(Backlight module)。液晶显示面板的结构是由一彩色滤光片基板(Color Filter Substrate)、一薄膜晶体管阵列基板(Thin FilmTransistor Array Substrate,TFT Array Substrate)以及一配置于两基板间的液晶层(Liquid Crystal Layer)所构成,其中在阵列基板上排布有许多竖直的数据线(DataLine)和水平的栅极扫描线(Gate Line)。液晶显示面板的工作原理是通过在两片玻璃基板上施加驱动电压来控制液晶层的液晶分子的旋转,将背光模组的光线折射出来产生画面。
在液晶显示面板的制造过程中,会多次利用构图工艺。具体为,在涂有光刻胶的基板上方放置光罩,然后利用曝光机对基板进行曝光。基于光罩上的图案,光刻胶会有被曝光的部分和未被曝光的部分。再利用显影液对光刻胶进行显影,即可去除光刻胶被曝光的部分,保留光刻胶未被曝光的部分(正性光刻胶),或者去除光刻胶未被曝光的部分,保留光刻胶被曝光的部分(负性光刻胶),从而使光刻胶形成所需的图形。
目前的曝光机在曝光制程中一般通过可滑动的载台进行自动装载或卸载光罩,在装载或卸载光罩时,通过载台在导轨中作往复滑动以搬运光罩,此时载台与导轨之间会产生摩擦,因而不可避免地会产生灰尘等异物,这些灰尘等异物会影响曝光制程的环境,导致产品良率的下降。
因此,有必要提供一种曝光机,以解决上述问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种曝光机,导轨与滑动载台的连接处下方设有灰尘收集室,可对滑动载台在导轨中滑动的过程中所产生的灰尘进行收集,有效改善曝光制程的操作环境,提升曝光制程的良率。
为实现上述目的,本发明提供一种曝光机,包括数个搬运模块,所述搬运模块包括导轨、连接于所述导轨侧面的滑动载台、及设于所述导轨与滑动载台下方的灰尘收集室;所述滑动载台可在所述导轨中往复滑动;
所述灰尘收集室的边缘设有伸出于导轨侧面的灰尘收集口;所述灰尘收集口的开口向上并朝向所述导轨与滑动载台的连接处,从而使所述滑动载台在导轨中往复滑动的过程中所产生的灰尘落入所述灰尘收集口而被收集至所述灰尘收集室中。
所述数个搬运模块包括第一搬运模块与第二搬运模块;
所述第一搬运模块包括第一导轨、连接于所述第一导轨侧面的第一滑动载台、及设于所述第一导轨与所述第一滑动载台下方的第一灰尘收集室;所述第一滑动载台可在所述第一导轨中往复滑动;
所述第一灰尘收集室的边缘设有伸出于所述第一导轨侧面的第一灰尘收集口;所述第一灰尘收集口的开口向上并朝向所述第一导轨与第一滑动载台的连接处,从而使所述第一滑动载台在第一导轨中滑动的过程中所产生的灰尘落入所述第一灰尘收集口而被收集至所述第一灰尘收集室中;
所述第二搬运模块包括第二导轨、连接于所述第二导轨侧面的第二滑动载台、及设于所述第二导轨与所述第二滑动载台下方的第二灰尘收集室;所述第二滑动载台可在所述第二导轨中往复滑动;
所述第二灰尘收集室的边缘设有伸出于所述第二导轨侧面的第二灰尘收集口;所述第二灰尘收集口的开口向上并朝向所述第二导轨与第二滑动载台的连接处,从而使所述第二滑动载台在第二导轨中滑动的过程中所产生的灰尘落入所述第二灰尘收集口而被收集至所述第二灰尘收集室中。
所述第一、第二灰尘收集室与真空负压装置相连接,通过所述真空负压装置吸取所述第一、第二滑动载台在所述第一、第二导轨中往复滑动的过程中所产生的灰尘而使其落入第一、第二灰尘收集口。
所述第一、第二灰尘收集室的内部相连通,并且具有一共同的灰尘排放口。
所述灰尘排放口连接至外部排放管道。
所述灰尘排放口处设有过滤器。
所述第一搬运模块位于所述第二搬运模块的上方;所述第一、第二滑动载台分别连接于所述第一、第二导轨的同一侧;所述第一搬运模块中的第一滑动载台用于光罩的装载;所述第二搬运模块中的第二滑动载台用于光罩的卸载。
所述第一、第二灰尘收集室的第一、第二灰尘收集口在所述第一、第二滑动载台的滑动方向上的长度大于所述第一、第二滑动载台的单向滑动轨迹的最大长度。
所述第一、第二滑动载台的滑动轨迹相互平行。
所述第一、第二滑动载台的结构相同,均包括连接于所述第一、第二导轨侧面的滑动部、连接于所述滑动部的连接部、及连接于所述连接部的承载部。
本发明的有益效果:本发明的曝光机包括数个搬运模块,所述搬运模块包括导轨、连接于所述导轨侧面的滑动载台、及设于所述导轨与滑动载台下方的灰尘收集室;所述滑动载台可在所述导轨中往复滑动;所述灰尘收集室的边缘设有伸出于导轨侧面的灰尘收集口;所述灰尘收集口的开口向上并朝向所述导轨与滑动载台的连接处,从而使所述滑动载台在导轨中滑动的过程中所产生的灰尘落入灰尘收集口而被收集至所述灰尘收集室中;所述灰尘收集室可与真空负压装置相连接,从而通过真空负压装置吸取滑动载台在导轨中往复滑动的过程中所产生的灰尘;有效改善曝光制程的操作环境,提升曝光制程的良率。
附图说明
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容,请参阅以下有关本发明的详细说明与附图,然而附图仅提供参考与说明用,并非用来对本发明加以限制。
附图中,
图1为本发明的曝光机的立体结构示意图;
图2为本发明的曝光机的侧视示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果,以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
本发明提供一种曝光机,包括数个搬运模块,所述搬运模块包括导轨、连接于所述导轨侧面的滑动载台、及设于所述导轨与滑动载台下方的灰尘收集室;所述滑动载台可在所述导轨中往复滑动;
所述灰尘收集室的边缘设有伸出于导轨侧面的灰尘收集口;所述灰尘收集口的开口向上并朝向所述导轨与滑动载台的连接处,从而使所述滑动载台在导轨中滑动的过程中所产生的灰尘落入灰尘收集口而被收集至所述灰尘收集室中,以有效改善曝光制程的操作环境,提升曝光制程的良率。
请参阅图1至图2,为本发明的曝光机的一具体实施例,包括第一搬运模块与第二搬运模块;
所述第一搬运模块包括第一导轨11、连接于所述第一导轨11侧面的第一滑动载台12、及设于所述第一导轨11与第一滑动载台12下方的第一灰尘收集室13;所述第一滑动载台12可在所述第一导轨11中往复滑动;
所述第一灰尘收集室13的边缘设有伸出于所述第一导轨11侧面的第一灰尘收集口131;所述第一灰尘收集口131的开口向上并朝向所述第一导轨11与第一滑动载台12的连接处,从而使所述第一滑动载台12在第一导轨11中滑动的过程中所产生的灰尘落入所述第一灰尘收集口131而被收集至所述第一灰尘收集室13中。
所述第二搬运模块包括第二导轨21、连接于所述第二导轨21侧面的第二滑动载台22、及设于所述第二导轨21与第二滑动载台22下方的第二灰尘收集室23;所述第二滑动载台22可在所述第二导轨21中往复滑动;
所述第二灰尘收集室23的边缘设有伸出于所述第二导轨21侧面的第二灰尘收集口231;所述第二灰尘收集口231的开口向上并朝向所述第二导轨21与第二滑动载台22的连接处,从而使所述第二滑动载台22在第二导轨21中滑动的过程中所产生的灰尘落入所述第二灰尘收集口231而被收集至所述第二灰尘收集室23中。
进一步的,所述第一、第二灰尘收集室13、23可与真空负压装置相连接,通过所述真空负压装置吸取所述第一、第二滑动载台12、22在所述第一、第二导轨11、21中往复滑动的过程中所产生的灰尘,在吸力作用下使灰尘落入第一、第二灰尘收集口131、231,从而显著提升收集灰尘的效果。
具体地,所述第一、第二灰尘收集室13、23的内部相连通,并且具有一共同的灰尘排放口33;所述灰尘排放口33可连接至外部排放管道,用于将所述第一、第二灰尘收集室13、23中收集的灰尘排放至预定地点进行处理。
具体地,所述灰尘排放口33处设有过滤器30,以防止管道内积累过多灰尘而发生堵塞,所述过滤器30安装于曝光机的外部以便定期进行更换。
具体地,第一搬运模块位于所述第二搬运模块的上方;所述第一、第二滑动载台12、22分别连接于所述第一、第二导轨11、21的同一侧;所述第一搬运模块中的第一滑动载台12用于光罩的装载;所述第二搬运模块中的第二滑动载台22用于光罩的卸载。
具体地,所述第一、第二灰尘收集室13、23的第一、第二灰尘收集口131、231在所述第一、第二滑动载台12、22的滑动方向上的长度大于所述第一、第二滑动载台12、22的单向滑动轨迹的最大长度,以尽可能地使所述第一、第二滑动载台12、22在往复滑动的过程中所产生的灰尘收集至所述第一、第二灰尘收集室13、23中。
具体地,所述第一、第二滑动载台12、22的滑动轨迹相互平行。
具体地,所述第一、第二滑动载台12、22的结构相同,均包括连接于所述第一、第二导轨11、21侧面的滑动部41、连接于所述滑动部41的连接部42、及连接于所述连接部42的承载部43。所述滑动部41与导轨相配合,使得所述第一、第二滑动载台12、22可实现往复滑动;所述承载部43用于承载曝光制程中的光罩。
综上所述,本发明的曝光机包括数个搬运模块,所述搬运模块包括导轨、连接于所述导轨侧面的滑动载台、及设于所述导轨与滑动载台下方的灰尘收集室;所述滑动载台可在所述导轨中往复滑动;所述灰尘收集室的边缘设有伸出于导轨侧面的灰尘收集口;所述灰尘收集口的开口向上并朝向所述导轨与滑动载台的连接处,从而使所述滑动载台在导轨中滑动的过程中所产生的灰尘落入灰尘收集口而被收集至所述灰尘收集室中;所述灰尘收集室可与真空负压装置相连接,从而通过真空负压装置吸取滑动载台在导轨中往复滑动的过程中所产生的灰尘;有效改善曝光制程的操作环境,提升曝光制程的良率。
以上所述,对于本领域的普通技术人员来说,可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形,而所有这些改变和变形都应属于本发明后附的权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种曝光机,其特征在于,包括数个搬运模块,所述搬运模块包括导轨、连接于所述导轨侧面的滑动载台、及设于所述导轨与滑动载台下方的灰尘收集室;所述滑动载台能在所述导轨中往复滑动;
所述灰尘收集室的边缘设有伸出于导轨侧面的灰尘收集口;所述灰尘收集口的开口向上并朝向所述导轨与滑动载台的连接处,从而使所述滑动载台在导轨中滑动的过程中所产生的灰尘落入所述灰尘收集口而被收集至所述灰尘收集室中。
2.如权利要求1所述的曝光机,其特征在于,所述数个搬运模块包括第一搬运模块与第二搬运模块;
所述第一搬运模块包括第一导轨(11)、连接于所述第一导轨(11)侧面的第一滑动载台(12)、及设于所述第一导轨(11)与第一滑动载台(12)下方的第一灰尘收集室(13);所述第一滑动载台(12)可在所述第一导轨(11)中往复滑动;
所述第一灰尘收集室(13)的边缘设有伸出于所述第一导轨(11)侧面的第一灰尘收集口(131);所述第一灰尘收集口(131)的开口向上并朝向所述第一导轨(11)与第一滑动载台(12)的连接处,从而使所述第一滑动载台(12)在第一导轨(11)中滑动的过程中所产生的灰尘落入所述第一灰尘收集口(131)而被收集至所述第一灰尘收集室(13)中;
所述第二搬运模块包括第二导轨(21)、连接于所述第二导轨(21)侧面的第二滑动载台(22)、及设于所述第二导轨(21)与第二滑动载台(22)下方的第二灰尘收集室(23);所述第二滑动载台(22)可在所述第二导轨(21)中往复滑动;
所述第二灰尘收集室(23)的边缘设有伸出于所述第二导轨(21)侧面的第二灰尘收集口(231);所述第二灰尘收集口(231)的开口向上并朝向所述第二导轨(21)与第二滑动载台(22)的连接处,从而使所述第二滑动载台(22)在第二导轨(21)中滑动的过程中所产生的灰尘落入所述第二灰尘收集口(231)而被收集至所述第二灰尘收集室(23)中。
3.如权利要求2所述的曝光机,其特征在于,所述第一、第二灰尘收集室(13、23)与真空负压装置相连接,通过所述真空负压装置吸取所述第一、第二滑动载台(12、22)在所述第一、第二导轨(11、21)中滑动的过程中所产生的灰尘而使其落入第一、第二灰尘收集口(131、231)。
4.如权利要求2所述的曝光机,其特征在于,所述第一、第二灰尘收集室(13、23)的内部相连通,并且具有一共同的灰尘排放口(33)。
5.如权利要求4所述的曝光机,其特征在于,所述灰尘排放口(33)连接至外部排放管道。
6.如权利要求4所述的曝光机,其特征在于,所述灰尘排放口(33)处设有过滤器(30)。
7.如权利要求2所述的曝光机,其特征在于,所述第一搬运模块位于所述第二搬运模块的上方;所述第一、第二滑动载台(12、22)分别连接于所述第一、第二导轨(11、21)的同一侧;所述第一搬运模块中的第一滑动载台(12)用于光罩的装载;所述第二搬运模块中的第二滑动载台(22)用于光罩的卸载。
8.如权利要求7所述的曝光机,其特征在于,所述第一、第二灰尘收集室(13、23)的第一、第二灰尘收集口(131、231)在所述第一、第二滑动载台(12、22)的滑动方向上的长度大于所述第一、第二滑动载台(12、22)的单向滑动轨迹的最大长度。
9.如权利要求8所述的曝光机,其特征在于,所述第一、第二滑动载台(12、22)的滑动轨迹相互平行。
10.如权利要求8所述的曝光机,其特征在于,所述第一、第二滑动载台(12、22)的结构相同,均包括连接于所述第一、第二导轨(11、21)侧面的滑动部(41)、连接于所述滑动部(41)的连接部(42)、及连接于所述连接部(42)的承载部(43)。
CN201610060705.1A 2016-01-28 2016-01-28 曝光机 Active CN105549334B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610060705.1A CN105549334B (zh) 2016-01-28 2016-01-28 曝光机

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610060705.1A CN105549334B (zh) 2016-01-28 2016-01-28 曝光机

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN105549334A CN105549334A (zh) 2016-05-04
CN105549334B true CN105549334B (zh) 2017-12-29

Family

ID=55828602

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610060705.1A Active CN105549334B (zh) 2016-01-28 2016-01-28 曝光机

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN105549334B (zh)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106773551B (zh) * 2017-01-23 2018-11-09 武汉华星光电技术有限公司 曝光机
CN108267936B (zh) * 2018-03-22 2021-04-23 京东方科技集团股份有限公司 一种曝光机机台异物检测和去除装置及曝光机

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0516092A (ja) * 1991-07-08 1993-01-26 Sony Corp 直交型ロボツトの集塵構造
JPH07227737A (ja) * 1994-02-18 1995-08-29 Nikon Corp ステージ装置及び露光装置
JP2700621B2 (ja) * 1995-02-20 1998-01-21 セイコー精機株式会社 ロボット
JP2013143824A (ja) * 2012-01-11 2013-07-22 Smc Corp 電動アクチュエータ
CN103676329B (zh) * 2013-12-20 2016-03-30 深圳市华星光电技术有限公司 液晶光配向设备
CN204945620U (zh) * 2015-09-09 2016-01-06 合肥芯碁微电子装备有限公司 一种用于激光直写曝光机的自动吸尘装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN105549334A (zh) 2016-05-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105118465B (zh) 一种goa电路及其驱动方法、液晶显示器
CN103995613B (zh) 触控显示面板及其制作方法、触控显示装置
CN104503150A (zh) 液晶面板及其制作方法
CN104766859B (zh) Tft基板的制作方法及其结构
CN105404048A (zh) 液晶显示装置
CN105549334B (zh) 曝光机
CN102050330B (zh) 机械手臂及具有该机械手臂的搬运装置
CN109491543A (zh) 一种触控显示面板、制作方法及驱动方法
CN106773222A (zh) 内嵌式触控面板
CN105607414A (zh) 掩膜板清洗装置及清洗方法
US20140007372A1 (en) Cleaning device
CN109669288A (zh) 基板破片检测系统及基板破片检测方法
CN107564840A (zh) 浸泡式蚀刻设备及浸泡式蚀刻方法
CN103676384A (zh) Tft基板及用该tft基板的液晶显示面板
CN105445977A (zh) 检测液晶显示面板良率的方法
CN109407359A (zh) 机械手
CN101963720A (zh) 一种液晶面板的彩色滤光片结构
CN104934439A (zh) Tft基板的制作方法及其结构
CN101038406A (zh) 薄膜晶体管阵列基板、液晶显示面板与液晶显示器
CN103676245A (zh) 一种阵列基板对位标记结构及其对位方法
CN105589233B (zh) 湿法制程设备及其维护方法
CN105487352B (zh) 曝光机及曝光灯的更换方法
CN105204196B (zh) 基板抽检方法
TWM353471U (en) Substrate stage
CN109916597A (zh) 光学检测装置及光学检测方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant