CN101963720A - 一种液晶面板的彩色滤光片结构 - Google Patents

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吕英齐
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Abstract

本发明揭示了一种液晶面板的彩色滤光片结构,包括:一玻璃衬底;彩色滤光片层,位于该玻璃衬底的上方;一平坦层,位于该彩色滤光片层的上方;以及一防护层,位于该平坦层的上方,其中,该防护层采用无机材料来形成的。采用本发明的彩色滤光片结构,在其平坦层之上沉积一防护层,该防护层使用诸如SiO2或SiOC的无机材料,进而避免平坦层材料与水气直接接触,可解决因平坦层吸水而造成光学性能下降的问题。此外,使用无机材料制成的防护层硬度较高,在液晶面板的双面制程操作时,可避免刮伤以及静电所产生的危害,提高产品的合格率。

Description

一种液晶面板的彩色滤光片结构
技术领域
本发明涉及一种液晶显示设备中的液晶面板,尤其涉及该液晶面板中的彩色滤光片结构。
背景技术
随着显示技术的发展,具有高品质、低消耗功率、无辐射等优越性能的薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)已经逐渐成为市场的主流。
当前,液晶显示器朝着全彩化、大尺寸、高解析度的方向发展,因而彩色滤光片是液晶显示器件结构中重要的一部分,以实现彩色显示。典型地,内嵌式(in-cell)液晶显示器包括:一阵列基板(也可称为TP侧)和一彩色滤光片基板(也可称为CF侧)。其中,在阵列基板上具有多个由数据线与扫描线构成的像素,以及由多个电子元件构成的像素驱动电路。例如薄膜晶体管和电容。一般来说,在CF侧基板上无需电镀透明导电薄膜(如ITO或IZO),因而该CF侧基板上的平坦层在制程中往往会直接接触水气,使平坦层材料吸水,进而使CF基板的光学性能大为降低。此外,在现有技术中,内嵌式液晶面板通常是先操作触控面板侧的制程,然后再操作CF侧的制程,极易造成因静电放电产生的损坏。
有鉴于此,如何设计一种新型的彩色滤光片结构,有效地防止水气侵蚀和静电所形成的危害,是业内技术人员亟待解决的一项课题。
发明内容
针对现有技术中的彩色滤光片结构在使用时所存在的上述缺陷,本发明提供了一种新型的彩色滤光片结构。
依据本发明的一个方面,提供了一种液晶面板的彩色滤光片结构,包括:
一玻璃衬底;
一彩色滤光片层,位于该玻璃衬底的上方;
一平坦层,位于该彩色滤光片层的上方;以及
一防护层,位于该平坦层的上方,
其中,该防护层采用无机材料来形成的。
较佳地,无机材料为二氧化硅(SiO2)或硅氧的碳化物(SiOC)。
较佳地,使用化学气相沉积法或物理气相沉积法将所述防护层沉积于所述平坦层的上表面。
较佳地,彩色滤光片层中的多个滤光片分别对应于规则排列的Red子像素、多个Green子像素和多个Blue像素。
较佳地,无机材料的厚度介于400埃到6000埃之间。
依据一实施例,彩色滤光片结构还包括一透明导电层,位于玻璃衬底和彩色滤光片层之间。依据另一实施例,彩色滤光片结构还包括一透明导电层,位于所述平坦层和所述防护层之间。进一步,该透明导电层为IZO或ITO。
较佳地,在该液晶面板的制造工艺中,首先进行彩色滤光片侧的制程,并且在竖直翻转后再进行触控面板侧的制程。
采用本发明的彩色滤光片结构,在其平坦层之上沉积一防护层,该防护层使用诸如SiO2或SiOC的无机材料,进而避免平坦层材料与水气直接接触,可解决因平坦层吸水而造成光学性能下降的问题。此外,使用无机材料制成的防护层硬度较高,在先进行CF侧制程操作以及后续的TP侧制程操作时,可避免刮伤以及静电所产生的危害,提高产品的合格率。
附图说明
读者在参照附图阅读了本发明的具体实施方式以后,将会更清楚地了解本发明的各个方面。其中,
图1示出依据本发明的彩色滤光片结构的优选实施例;
图2示出依据本发明的彩色滤光片结构的一个可替换实施例;以及
图3示出了依据本发明的彩色滤光片结构的另一个可替换实施例。
具体实施方式
下面参照附图,对本发明的具体实施方式进行详细描述。
如前所述,在现有的液晶面板中,于CF侧基板上无需电镀透明导电薄膜(如ITO或IZO),导致该CF侧基板上的平坦层在制程中往往会直接接触水气,使平坦层材料吸水,进而使CF基板的光学性能大为降低。此外,传统的内嵌式液晶面板通常是先针对触控面板侧的制程操作,然后再针对CF侧的制程操作,极易因静电而产生损坏。需要附加说明的是,用来形成平坦层的材料多为有机化合物,其物理硬度并不高,当需要进行双面制程操作时,硬度过低很有可能造成刮伤现象。
为了成功地解决这一问题,本发明设计出一种新型的彩色滤光片结构。以下结合附图进行详细说明。图1示出依据本发明的彩色滤光片结构的优选实施例。参照图1,该彩色滤光片结构包括玻璃衬底102、彩色滤光片层104、平坦层106和防护层108。其中,玻璃衬底102位于彩色滤光片结构的最下方,在玻璃衬底102的上表面紧挨着的是彩色滤光片层104,优选地,对于RGB三原色架构来说,该彩色滤光片层104的Red滤光片、Green滤光片和Blue滤光片分别对应于规则排列的多个Red子像素、多个Green子像素和多个Blue像素。平坦层106位于彩色滤光片层104的上方,并且在平台层106的上表面沉积有防护层108,该防护层108采用无机材料而形成。
优选地,形成防护层108的无机材料为二氧化硅(SiO2)或硅氧的碳化物(SiOC)。如此一来,所设置的防护层108可阻止水气与平台层106直接接触,从而避免因平台层106吸收水分而降低彩色滤光片结构的光学性能。此外,可以使用化学气相沉积法、物理气相沉积法以及其它沉积方法中的任意一种来沉积防护层108于平坦层106的上表面。在一实施例中,该无机材料的厚度介于400埃到6000埃之间,从而可以防止在双面制程时刮伤彩色滤光片基板。需要说明的是,这里的双面制程是指,在液晶面板的制造工艺中,首先进行彩色滤光片侧的制程,并且在竖直翻转后再进行触控面板侧的制程。而在现有技术中的双面制程,往往先操作触控面板侧的制程,再操作彩色滤光片侧的制程,以避免刮伤以及因静电所产生的危害。
图2示出依据本发明的彩色滤光片结构的一个可替换实施例。参照图2,与图1所不同的是,该彩色滤光片结构还设置透明导电层110,该透明导电层位于玻璃衬底102和彩色滤光片层104之间。优选地,透明导电层110是由IZO或ITO来形成的。
图3示出了依据本发明的彩色滤光片结构的另一个可替换实施例。类似地,图3的彩色滤光片结构也设置一透明导电层112,然而透明导电层112与图2的透明导电层110的位置并不相同。具体来说,图2的透明导电层110位于玻璃衬底102和彩色滤光片层104之间,而图3的透明导电层112位于平坦层106和防护层108之间。同样,透明导电层112也可由IZO或ITO来形成。
采用本发明的彩色滤光片结构,在其平坦层之上沉积一防护层,该防护层使用诸如SiO2或SiOC的无机材料,进而避免平坦层材料与水气直接接触,可解决因平坦层吸水而造成光学性能下降的问题。此外,使用无机材料制成的防护层硬度较高,在先进行CF侧制程操作以及后续的TP侧制程操作时,可避免刮伤以及静电所产生的危害,提高产品的合格率。
上文中,参照附图描述了本发明的具体实施方式。但是,本领域中的普通技术人员能够理解,在不偏离本发明的精神和范围的情况下,还可以对本发明的具体实施方式作各种变更和替换。这些变更和替换都落在本发明权利要求书所限定的范围内。

Claims (9)

1.一种液晶面板的彩色滤光片结构,其特征在于,所述彩色滤光片结构包括:
一玻璃衬底;
一彩色滤光片层,位于所述玻璃衬底的上方;
一平坦层,位于所述彩色滤光片层的上方;以及
一防护层,位于所述平坦层的上方,
其中,所述防护层采用无机材料来形成的。
2.如权利要求1所述的液晶面板的彩色滤光片结构,其特征在于,所述无机材料为二氧化硅(SiO2)或硅氧的碳化物(SiOC)。
3.如权利要求1所述的液晶面板的彩色滤光片结构,其特征在于,使用化学气相沉积法或物理气相沉积法将所述防护层沉积于所述平坦层的上表面。
4.如权利要求1所述的液晶面板的彩色滤光片结构,其特征在于,所述彩色滤光片层的多个滤光片分别对应于规则排列的Red子像素、多个Green子像素和多个Blue像素。
5.如权利要求1所述的液晶面板的彩色滤光片结构,其特征在于,所述无机材料的厚度介于400埃到6000埃之间。
6.如权利要求1所述的液晶面板的彩色滤光片结构,其特征在于,所述彩色滤光片结构还包括一透明导电层,位于所述玻璃衬底和所述彩色滤光片层之间。
7.如权利要求1所述的液晶面板的彩色滤光片结构,其特征在于,所述彩色滤光片结构还包括一透明导电层,位于所述平坦层和所述防护层之间。
8.如权利要求6或7所述的液晶面板的彩色滤光片结构,其特征在于,所述透明导电层为IZO或ITO。
9.如权利要求1所述的液晶面板的彩色滤光片结构,其特征在于,在所述液晶面板的制造工艺中,首先进行彩色滤光片侧的制程,并且在竖直翻转后再进行触控面板侧的制程。
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