CN103235454B - 彩色滤光片基板及其氧化铟锡薄膜图案结构、制作方法、液晶显示器 - Google Patents
彩色滤光片基板及其氧化铟锡薄膜图案结构、制作方法、液晶显示器 Download PDFInfo
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Abstract
本发明涉及一种彩色滤光片基板及其氧化铟锡薄膜图案结构、制作方法、液晶显示器。本发明提供一种彩色滤光片基板，包括：玻璃基板，形成于该玻璃基板上的黑色矩阵和彩色滤光单元，以及覆盖在所述黑色矩阵和彩色滤光单元上的氧化铟锡薄膜图案结构；所述氧化铟锡薄膜图案结构由对应有效显示区域形状的第一部分以及对应电极接触垫形状的第二部分组成。本发明还提供了彩色滤光片基板的氧化铟锡薄膜图案结构、制作方法、液晶显示器。本发明的彩色滤光片基板及其氧化铟锡薄膜图案结构、制作方法、液晶显示器，可以降低扇出区域以及线阵列区域处的栅极线、数据线及某些信号线的电容值，以降低栅极线、数据线及某些信号线的负载，使液晶面板显示效果更佳。
Description
技术领域
本发明涉及液晶显示器，尤其涉及一种彩色滤光片基板及其氧化铟锡（ITO、IndiumTinOxides）薄膜图案（Pattern）结构、制作方法、液晶显示器。
背景技术
由于液晶显示器（LiquidCrystalDisplay，LCD）具有轻薄及低功率损耗等优点，近年来，已广泛地被应用于各类电子产品中，例如：笔记型计算机、行动电话、数字相机、投影机、掌上型装置及随身听装置等多种产品。
现有TFT液晶显示器（薄膜晶体管液晶显示器、TFT-LCD）的制造工艺主要有以下几部分：在薄膜晶体管基板上形成薄膜晶体管阵列；在彩色滤光片（CF、Colorfilter）基板上形成彩色滤光片图案结构及氧化铟锡薄膜图案结构；用两块基板形成液晶盒；安装外围电路、组装背光源等模块的组装。
氧化铟锡薄一般简称为ITO，其是一种n型半导体材料，具有高的导电率、高的可见光透过率、高的机械硬度和良好的化学稳定性。因此，它是液晶显示器、等离子显示器（PDP、PlasmaDisplayPanel）、电致发光显示器（ElectroluminescentDisplayPanel）、触摸屏（TouchPanel）、太阳能电池以及其他电子仪表的透明电极最常用的薄膜材料。举例来说，氧化铟锡薄已普遍被用来形成液晶显示面板上连接各个像素的导线。
目前，氧化铟锡薄膜图案化主要有以下方法。
1、湿法蚀刻方法，主要步骤包括：
首先在真空镀膜机中通过溅射方式在基板上形成一层氧化铟锡薄膜；之后在氧化铟锡薄膜上均匀涂布一层光刻胶；再使用光罩通过曝光、显影等步骤形成图案化光刻胶；之后以湿法蚀刻的方法蚀刻掉没有被光刻胶所覆盖的氧化铟锡薄膜，最后用脱模液除去图案化的光刻胶，形成所需要的氧化铟锡薄膜图案结构。
2、干法蚀刻方法，主要步骤包括：
首先在真空镀膜机中通过溅射方式在基板上形成一层氧化铟锡薄膜；之后在氧化铟锡薄膜上均匀涂布一层光刻胶；再使用光罩通过曝光、显影等步骤形成图案化光刻胶；之后以干法蚀刻的方法采用蚀刻气体蚀刻掉没有被光刻胶所覆盖的氧化铟锡薄膜，形成所需要的氧化铟锡薄膜图案结构。
3、拔起（Lift-off）方法，主要步骤包括：
首先在基板上涂布一层光刻胶；接着通过曝光、显影将基板上欲形成的氧化铟锡薄膜图案的部分上的光刻胶去除；之后在图案化光刻胶的基板上，通过真空镀膜机镀上氧化铟锡薄膜；最后对包含有图案化光刻胶以及氧化铟锡薄膜的基板，进行脱模处理，将剩余的光刻胶以及附在其上的氧化铟锡薄膜去除，得到所需的含有氧化铟锡薄膜图案结构的基板。
在大尺寸液晶面板的生产中，栅极线（Gateline），数据线（Dataline）及某些信号线（例如栅极高电平信号（Vgh），输出允许信号（OE），时钟信号（CKV）等）的电阻、电容（R、C）负载极大的影响着面板的显示状况，当栅极线及信号线的电阻、电容负载过大时，反应在面板上，将可能导致面板显示效果不佳，以及亮度不均匀区域（Mura）的出现。
目前采用的HVA（广域垂直配向）技术，针对彩色滤光片基板的氧化铟锡薄膜图案（远离薄膜晶体管基板，位于彩色滤光片基板一侧），均为一整面镀膜，然而，除有效显示区域（AA区）对应的彩色滤光片基板的氧化铟锡薄膜之外，周边扇出区域（Fanout），线阵列（Woa）区域对应的彩色滤光片基板的氧化铟锡薄膜并非为必须。
参见图1，其为现有技术中彩色滤光片基板的彩色滤光片基板的氧化铟锡薄膜图案结构的俯视示意图。从位置关系上来看，彩色滤光片基板2位于对应的薄膜晶体管基板1上方，彩色滤光片基板2侧面的氧化铟锡薄膜图案结构3为一整面镀膜，如图1中氧化铟锡薄膜图案结构3以圆点所分布的区域来表示，可见其覆盖了整个彩色滤光片基板2，并且包含了整个对应的有效显示区域4。实际上，除有效显示区域4所对应的圆点区域所包含的氧化铟锡薄膜图案结构3，周边的扇出区域、线阵列区域对应的圆点区域所包含的氧化铟锡薄膜图案结构3外，其它的区域并不是必须的。现有技术中，一条数据线的在扇出区域走线的电容（C）值约为16pF，栅极高电平信号线在扇出区域走线的电容值约为50pF，由于负载过大，将可能导致面板显示效果不佳，以及产生亮度不均匀区域。
发明内容
因此，本发明的目的在于提供一种彩色滤光片基板，降低扇出区域以及线阵列区域处的栅极线、数据线及某些信号线的电容值，以降低栅极线、数据线及某些信号线的负载，使液晶面板显示效果更佳。
本发明的又一目的在于提供一种彩色滤光片基板的氧化铟锡薄膜图案结构，降低扇出区域以及线阵列区域处的栅极线、数据线及某些信号线的电容值，以降低栅极线、数据线及某些信号线的负载，使液晶面板显示效果更佳。
本发明的又一目的在于提供一种液晶显示器，降低扇出区域以及线阵列区域处的栅极线、数据线及某些信号线的电容值，以降低栅极线、数据线及某些信号线的负载，使液晶面板显示效果更佳。
本发明的再一目的在于提供一种彩色滤光片基板的制作方法，制作出降低扇出区域以及线阵列区域处的栅极线、数据线及某些信号线的电容值，以降低栅极线、数据线及某些信号线的负载，使液晶面板显示效果更佳的彩色滤光片基板。
为实现上述目的，本发明提供了一种彩色滤光片基板，包括：玻璃基板，形成于该玻璃基板上的黑色矩阵和彩色滤光单元，以及覆盖在所述黑色矩阵和彩色滤光单元上的氧化铟锡薄膜图案结构；所述氧化铟锡薄膜图案结构由对应有效显示区域形状的第一部分以及对应电极接触垫形状的第二部分组成。
所述氧化铟锡薄膜图案结构以湿法蚀刻方法形成。
所述氧化铟锡薄膜图案结构以干法蚀刻方法形成。
所述氧化铟锡薄膜图案结构以拔起方法形成。
本发明提供一种彩色滤光片基板的氧化铟锡薄膜图案结构，所述氧化铟锡薄膜图案结构由对应有效显示区域形状的第一部分以及对应电极接触垫形状的第二部分组成。
本发明提供一种液晶显示器，包括：薄膜晶体管基板，彩色滤光片基板，以及设于所述薄膜晶体管基板和彩色滤光片基板之间的液晶层；所述彩色滤光片基板包括：玻璃基板，形成于该玻璃基板上的黑色矩阵和彩色滤光单元，以及覆盖在所述黑色矩阵和彩色滤光单元上的氧化铟锡薄膜图案结构；所述氧化铟锡薄膜图案结构由对应有效显示区域形状的第一部分以及对应电极接触垫形状的第二部分组成。
本发明提供一种彩色滤光片基板的制作方法，包括：
步骤100、提供玻璃基板；
步骤200、在该玻璃基板上形成黑色矩阵；
步骤300、在该玻璃基板上形成彩色滤光单元；
步骤400、在所述黑色矩阵和彩色滤光单元上形成氧化铟锡薄膜图案结构，得到彩色滤光片基板，该氧化铟锡薄膜图案结构由对应有效显示区域形状的第一部分以及对应电极接触垫形状的第二部分组成。
所述步骤400包括：
步骤401、在所述玻璃基板上溅镀氧化铟锡薄膜；
步骤402、在该氧化铟锡薄膜上均匀涂布光刻胶层；
步骤403、图案化该光刻胶层，图案化后的光刻胶层由对应有效显示区域形状的第一部分以及对应电极接触垫形状的第二部分组成；
步骤404、以湿法蚀刻的方法蚀刻掉没有被光刻胶所覆盖的氧化铟锡薄膜，最后用脱模液除去图案化的光刻胶层，得到具有所需氧化铟锡薄膜图案结构的玻璃基板。
所述步骤400包括：
步骤411、在所述玻璃基板上溅镀氧化铟锡薄膜；
步骤412、在该氧化铟锡薄膜上均匀涂布光刻胶层；
步骤413、图案化该光刻胶层，图案化后的光刻胶层由对应有效显示区域形状的第一部分以及对应电极接触垫形状的第二部分组成；
步骤414、以干法蚀刻的方法蚀刻掉没有被光刻胶所覆盖的氧化铟锡薄膜，最后用脱模液除去图案化的光刻胶层，得到具有所需氧化铟锡薄膜图案结构的玻璃基板。
所述步骤400包括：
步骤421、在玻璃基板上均匀涂布光刻胶；
步骤422、将玻璃基板上对应所需要氧化铟锡薄膜图案结构的光刻胶去除，形成图案化光刻胶层；
步骤423、在具有图案化光刻胶层的玻璃基板上溅镀氧化铟锡薄膜；
步骤424、对包含图案化光刻胶层以及氧化铟锡薄膜的玻璃基板进行脱模处理，将图案化光刻胶层以及附在其上的氧化铟锡薄膜去除，得到具有所需氧化铟锡薄膜图案结构的玻璃基板。
本发明的彩色滤光片基板及其氧化铟锡薄膜图案结构、制作方法、液晶显示器，可以降低扇出区域以及线阵列区域处的栅极线、数据线及某些信号线的电容值，以降低栅极线、数据线及某些信号线的负载，使液晶面板显示效果更佳。
附图说明
下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其他有益效果显而易见。
附图中，
图1为现有技术中彩色滤光片基板的氧化铟锡薄膜图案结构的俯视示意图；
图2为本发明彩色滤光片基板的氧化铟锡薄膜图案结构的俯视示意图；
图3为本发明彩色滤光片基板的制作方法的流程图。
具体实施方式
参见图2，为本发明彩色滤光片基板的氧化铟锡薄膜图案结构的俯视示意图。从位置关系上来看，彩色滤光片基板20位于对应的薄膜晶体管基板10上方，图2中氧化铟锡薄膜图案结构30以圆点所分布的区域来表示，氧化铟锡薄膜图案结构30由对应有效显示区域40形状的第一部分31以及对应电极接触垫（TransferPad，导通薄膜晶体管基板侧及彩色滤光片基板侧的公共（Com）电极）形状的第二部分32组成。也就是说，与图1中的现有技术中彩色滤光片基板的氧化铟锡薄膜图案结构相比，本发明的彩色滤光片基板20的氧化铟锡薄膜图案结构30仅保留有效显示区域40(液晶转向所必需的图案)及对应电极接触垫处的氧化铟锡薄膜，拿掉扇出区域及线阵列区域的氧化铟锡薄膜,以降低扇出区域以及线阵列处的栅极线、数据线及某些信号线的电容值。如此即可降低栅极线、数据线以及某些信号线的负载，有利于实现液晶面板的大尺寸，提升大尺寸液晶面板的显示效果。
本发明经过调整彩色滤光片基板20一侧的氧化铟锡薄膜图案结构30，使得线阵列区域及扇出区域处的走线电容值由原来的几十～几百pF均降低为0pF。具体的，以原数据线在扇出区域及栅极高电平信号线在扇出区域走线的电容值为例，彩色滤光片基板20一侧氧化铟锡薄膜图案结构30修改前后：修改前，一条数据线在扇出区域走线的电容值约为16pF，一条栅极高电平信号线在扇出区域走线的电容值约为50pF；修改后，一条数据线在扇出区域走线的电容值约为0pF，栅极高电平信号线在扇出区域走线的电容值约为0pF。
基于本发明的氧化铟锡薄膜图案结构，本发明提供了相应的彩色滤光片基板20，包括：玻璃基板，形成于该玻璃基板上的黑色矩阵和彩色滤光单元（未图示），以及覆盖在所述黑色矩阵和彩色滤光单元上的氧化铟锡薄膜图案结构30；所述氧化铟锡薄膜图案结构30由对应有效显示区域40形状的第一部分31以及对应电极接触垫形状的第二部分32组成。通过拿掉扇出区域及线阵列区域的氧化铟锡薄膜,以降低扇出区域以及线阵列处的栅极线、数据线及某些信号线的电容值。如此即可降低栅极线、数据线以及某些信号线的负载，有利于实现液晶面板的大尺寸，提升大尺寸液晶面板的显示效果。
其中，所述氧化铟锡薄膜图案结构30可以用湿法蚀刻的方法形成，该方法现今发展已较为成熟；所述氧化铟锡薄膜图案结构30也可以用干法蚀刻的方法形成，操作较为简单，环保；所述氧化铟锡薄膜图案结构30还可以用拔起方法形成，操作较为简单、快捷。
本发明经过调整彩色滤光片基板20一侧的氧化铟锡薄膜图案结构30，使得线阵列区域及扇出区域处的走线电容值由原来的几十～几百pF均降低为0pF。具体的，以原数据线在扇出区域及栅极高电平信号线在扇出区域走线的电容值为例，彩色滤光片基板20一侧氧化铟锡薄膜图案结构30修改前后：修改前，一条数据线在扇出区域走线的电容值约为16pF，一条栅极高电平信号线在扇出区域走线的电容值约为50pF；修改后，一条数据线在扇出区域走线的电容值约为0pF，栅极高电平信号线在扇出区域走线的电容值约为0pF。
基于本发明的彩色滤光片基板的氧化铟锡薄膜图案结构及彩色滤光片基板，本发明提供了相应的液晶显示器，包括：薄膜晶体管基板10，彩色滤光片基板20，以及设于所述薄膜晶体管基板和彩色滤光片基板之间的液晶层（未图示）；所述彩色滤光片基板20包括玻璃基板，形成于该玻璃基板上的黑色矩阵和彩色滤光单元，以及覆盖在所述黑色矩阵和彩色滤光单元上的氧化铟锡薄膜图案结构30；所述氧化铟锡薄膜图案结构30由对应有效显示区域40形状的第一部分31以及对应电极接触垫形状的第二部分32组成。通过拿掉扇出区域及线阵列区域的氧化铟锡薄膜,以降低扇出区域以及线阵列处的栅极线、数据线及某些信号线的电容值。如此即可降低栅极线、数据线以及某些信号线的负载，有利于实现液晶面板的大尺寸，提升大尺寸液晶面板的显示效果。
其中，所述氧化铟锡薄膜图案结构30可以用湿法蚀刻的方法形成，该方法现今发展已较为成熟；所述氧化铟锡薄膜图案结构30也可以用干法蚀刻的方法形成，操作较为简单，环保；所述氧化铟锡薄膜图案结构30还可以用拔起方法形成，操作较为简单、快捷。
本发明经过调整彩色滤光片基板20一侧的氧化铟锡薄膜图案结构30，使得线阵列区域及扇出区域处的走线电容值由原来的几十～几百pF均降低为0pF。具体的，以原数据线在扇出区域及栅极高电平信号线在扇出区域走线的电容值为例，彩色滤光片基板20一侧氧化铟锡薄膜图案结构30修改前后：修改前，一条数据线在扇出区域走线的电容值约为16pF，一条栅极高电平信号线在扇出区域走线的电容值约为50pF；修改后，一条数据线在扇出区域走线的电容值约为0pF，栅极高电平信号线在扇出区域走线的电容值约为0pF。
参见图3，其为本发明彩色滤光片基板20的制作方法的流程图。本发明提供了相应的彩色滤光片基板20的制作方法，包括：
步骤100、提供玻璃基板；
步骤200、参照现有技术在该玻璃基板上形成黑色矩阵；
步骤300、参照现有技术在该玻璃基板上形成彩色滤光单元；
步骤400、在所述黑色矩阵和彩色滤光单元上形成氧化铟锡薄膜图案结构30，得到彩色滤光片基板20，该氧化铟锡薄膜图案结构30由对应有效显示区域40形状的第一部分31以及对应电极接触垫形状的第二部分32组成。
在本方法中，所述氧化铟锡薄膜图案结构30仅保留有效显示区域40(液晶转向所必需的图案)及对应电极接触垫处的氧化铟锡薄膜，拿掉扇出区域及线阵列区域的氧化铟锡薄膜,以降低扇出区域以及线阵列处的栅极线、数据线及某些信号线的电容值。如此即可降低栅极线、数据线以及某些信号线的负载，有利于实现液晶面板的大尺寸，提升大尺寸液晶面板的显示效果。
经过调整彩色滤光片基板20一侧的氧化铟锡薄膜图案结构30，使得线阵列区域及扇出区域处的走线电容值由原来的几十～几百pF均降低为0pF。具体的，以原数据线在扇出区域及栅极高电平信号线在扇出区域走线的电容值为例，彩色滤光片基板20一侧氧化铟锡薄膜图案结构30修改前后：修改前，一条数据线在扇出区域走线的电容值约为16pF，一条栅极高电平信号线在扇出区域走线的电容值约为50pF；修改后，一条数据线在扇出区域走线的电容值约为0pF，栅极高电平信号线在扇出区域走线的电容值约为0pF。
所述氧化铟锡薄膜图案结构30可以用湿法蚀刻的方法形成，该方法现今发展已较为成熟。所述步骤400可以采用湿法蚀刻方法可以包括以下分步骤：
步骤401、在所述玻璃基板上溅镀氧化铟锡薄膜；可以在真空镀膜机中通过溅射方式实现；
步骤402、在该氧化铟锡薄膜上均匀涂布光刻胶层；
步骤403、图案化该光刻胶层，图案化后的光刻胶层由对应有效显示区域40形状的第一部分31以及对应电极接触垫形状的第二部分32组成；可以使用光罩通过曝光、显影等步骤实现；
步骤404、以湿法蚀刻的方法蚀刻掉没有被光刻胶所覆盖的氧化铟锡薄膜，最后用脱模液除去图案化的光刻胶层，得到具有所需氧化铟锡薄膜图案结构30的玻璃基板。
上述采用湿法蚀刻的方法来形成氧化铟锡薄膜图案结构30的步骤中，具体的工艺流程及相关参数设定均可参照现有技术。
所述氧化铟锡薄膜图案结构30也可以用干法蚀刻的方法形成，操作较为简单，环保。所述步骤400可以采用干法蚀刻方法可以包括以下分步骤：
步骤411、在所述玻璃基板上溅镀氧化铟锡薄膜；
步骤412、在该氧化铟锡薄膜上均匀涂布光刻胶层；
步骤413、图案化该光刻胶层，图案化后的光刻胶层由对应有效显示区域40形状的第一部分31以及对应电极接触垫形状的第二部分32组成；
步骤414、以干法蚀刻的方法蚀刻掉没有被光刻胶所覆盖的氧化铟锡薄膜，最后用脱模液除去图案化的光刻胶层，得到具有所需氧化铟锡薄膜图案结构30的玻璃基板。
上述采用干法蚀刻的方法来形成氧化铟锡薄膜图案结构30的步骤中，具体的工艺流程及相关参数设定均可参照现有技术。
所述氧化铟锡薄膜图案结构30还可以用拔起方法形成，操作较为简单、快捷。所述步骤400可以采用拔起方法可以包括以下步骤：
步骤421、在玻璃基板上均匀涂布光刻胶；
步骤422、将玻璃基板上对应所需要氧化铟锡薄膜图案结构的光刻胶去除，形成图案化光刻胶层；
步骤423、在具有图案化光刻胶层的玻璃基板上溅镀氧化铟锡薄膜；
步骤424、对包含图案化光刻胶层以及氧化铟锡薄膜的玻璃基板进行脱模处理，将图案化光刻胶层以及附在其上的氧化铟锡薄膜去除，得到具有所需氧化铟锡薄膜图案结构30的玻璃基板。
上述采用拔起方法来形成氧化铟锡薄膜图案结构30的步骤中，具体的工艺流程及相关参数设定均可参照现有技术。
综上所述，本发明的彩色滤光片基板及其氧化铟锡薄膜图案结构、制作方法、液晶显示器，可以降低扇出区域以及线阵列区域处的栅极线、数据线及某些信号线的电容值，以降低栅极线、数据线及某些信号线的负载，使液晶面板显示效果更佳。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明后附的权利要求的保护范围。
Claims (8)
1.一种彩色滤光片基板，其特征在于，包括：玻璃基板，形成于该玻璃基板上的黑色矩阵和彩色滤光单元，以及覆盖在所述黑色矩阵和彩色滤光单元上的氧化铟锡薄膜图案结构；所述氧化铟锡薄膜图案结构由对应有效显示区域形状的第一部分以及对应电极接触垫形状的第二部分组成；
所述氧化铟锡薄膜图案结构以湿法蚀刻方法形成；
所述氧化铟锡薄膜图案结构在线阵列区域及扇出区域处的走线电容值为0pF。
2.一种彩色滤光片基板，其特征在于，包括：玻璃基板，形成于该玻璃基板上的黑色矩阵和彩色滤光单元，以及覆盖在所述黑色矩阵和彩色滤光单元上的氧化铟锡薄膜图案结构；所述氧化铟锡薄膜图案结构由对应有效显示区域形状的第一部分以及对应电极接触垫形状的第二部分组成；
所述氧化铟锡薄膜图案结构以干法蚀刻方法形成；
所述氧化铟锡薄膜图案结构在线阵列区域及扇出区域处的走线电容值为0pF。
3.一种彩色滤光片基板，其特征在于，包括：玻璃基板，形成于该玻璃基板上的黑色矩阵和彩色滤光单元，以及覆盖在所述黑色矩阵和彩色滤光单元上的氧化铟锡薄膜图案结构；所述氧化铟锡薄膜图案结构由对应有效显示区域形状的第一部分以及对应电极接触垫形状的第二部分组成；
所述氧化铟锡薄膜图案结构以拔起方法形成；
所述氧化铟锡薄膜图案结构在线阵列区域及扇出区域处的走线电容值为0pF。
4.一种彩色滤光片基板的氧化铟锡薄膜图案结构，其特征在于，所述氧化铟锡薄膜图案结构由对应有效显示区域形状的第一部分以及对应电极接触垫形状的第二部分组成；所述氧化铟锡薄膜图案结构在线阵列区域及扇出区域处的走线电容值为0pF。
5.一种液晶显示器，其特征在于，包括：薄膜晶体管基板，彩色滤光片基板，以及设于所述薄膜晶体管基板和彩色滤光片基板之间的液晶层；所述彩色滤光片基板包括：玻璃基板，形成于该玻璃基板上的黑色矩阵和彩色滤光单元，以及覆盖在所述黑色矩阵和彩色滤光单元上的氧化铟锡薄膜图案结构；所述氧化铟锡薄膜图案结构由对应有效显示区域形状的第一部分以及对应电极接触垫形状的第二部分组成；所述氧化铟锡薄膜图案结构在线阵列区域及扇出区域处的走线电容值为0pF。
6.一种彩色滤光片基板的制作方法，其特征在于，包括：
步骤100、提供玻璃基板；
步骤200、在该玻璃基板上形成黑色矩阵；
步骤300、在该玻璃基板上形成彩色滤光单元；
步骤400、在所述黑色矩阵和彩色滤光单元上形成氧化铟锡薄膜图案结构，得到彩色滤光片基板，该氧化铟锡薄膜图案结构由对应有效显示区域形状的第一部分以及对应电极接触垫形状的第二部分组成；所述氧化铟锡薄膜图案结构在线阵列区域及扇出区域处的走线电容值为0pF；
所述步骤400包括：
步骤401、在所述玻璃基板上溅镀氧化铟锡薄膜；
步骤402、在该氧化铟锡薄膜上均匀涂布光刻胶层；
步骤403、图案化该光刻胶层，图案化后的光刻胶层由对应有效显示区域形状的第一部分以及对应电极接触垫形状的第二部分组成；
步骤404、以湿法蚀刻的方法蚀刻掉没有被光刻胶所覆盖的氧化铟锡薄膜，最后用脱模液除去图案化的光刻胶层，得到具有所需氧化铟锡薄膜图案结构的玻璃基板。
7.一种彩色滤光片基板的制作方法，其特征在于，包括：
步骤100、提供玻璃基板；
步骤200、在该玻璃基板上形成黑色矩阵；
步骤300、在该玻璃基板上形成彩色滤光单元；
步骤400、在所述黑色矩阵和彩色滤光单元上形成氧化铟锡薄膜图案结构，得到彩色滤光片基板，该氧化铟锡薄膜图案结构由对应有效显示区域形状的第一部分以及对应电极接触垫形状的第二部分组成；所述氧化铟锡薄膜图案结构在线阵列区域及扇出区域处的走线电容值为0pF；
所述步骤400包括：
步骤411、在所述玻璃基板上溅镀氧化铟锡薄膜；
步骤412、在该氧化铟锡薄膜上均匀涂布光刻胶层；
步骤413、图案化该光刻胶层，图案化后的光刻胶层由对应有效显示区域形状的第一部分以及对应电极接触垫形状的第二部分组成；
步骤414、以干法蚀刻的方法蚀刻掉没有被光刻胶所覆盖的氧化铟锡薄膜，最后用脱模液除去图案化的光刻胶层，得到具有所需氧化铟锡薄膜图案结构的玻璃基板。
8.一种彩色滤光片基板的制作方法，其特征在于，包括：
步骤100、提供玻璃基板；
步骤200、在该玻璃基板上形成黑色矩阵；
步骤300、在该玻璃基板上形成彩色滤光单元；
步骤400、在所述黑色矩阵和彩色滤光单元上形成氧化铟锡薄膜图案结构，得到彩色滤光片基板，该氧化铟锡薄膜图案结构由对应有效显示区域形状的第一部分以及对应电极接触垫形状的第二部分组成；所述氧化铟锡薄膜图案结构在线阵列区域及扇出区域处的走线电容值为0pF；
所述步骤400包括：
步骤421、在所述玻璃基板上均匀涂布光刻胶；
步骤422、将玻璃基板上对应所需要氧化铟锡薄膜图案结构的光刻胶去除，形成图案化光刻胶层；
步骤423、在具有图案化光刻胶层的玻璃基板上溅镀氧化铟锡薄膜；
步骤424、对包含图案化光刻胶层以及氧化铟锡薄膜的玻璃基板进行脱模处理，将图案化光刻胶层以及附在其上的氧化铟锡薄膜去除，得到具有所需氧化铟锡薄膜图案结构的玻璃基板。
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