CN104730762A - 彩膜基板、彩膜基板的制造方法及显示面板 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种彩膜基板、彩膜基板的制造方法及显示面板，属于显示器技术领域，所述彩膜基板面向阵列基板一侧的表面与隔垫物相接触，所述彩膜基板中至少一层为镂空结构，所述镂空结构用于增加所述彩膜基板与所述隔垫物之间的摩擦力。本发明解决了液晶显示器的表面会出现条纹，影响显示效果的问题，实现了减少了液晶显示器的表面的条纹，增强了显示效果的效果，本发明用于彩膜基板。

Description

彩膜基板、彩膜基板的制造方法及显示面板
技术领域
本发明涉及显示器技术领域，特别涉及一种彩膜基板、彩膜基板的制造方法及显示面板。
背景技术
液晶显示器(英文：Liquid Crystal Display；简称：LCD)包括阵列基板和彩膜基板，以及填充在该阵列基板和彩膜基板之间的液晶。
在液晶显示器的生产工艺中，首先，在彩膜基板面向阵列基板一侧的表面的预设位置形成隔垫物，并将液晶洒在该彩膜基板面向阵列基板一侧的表面。然后，将彩膜基板与阵列基板进行对盒，完成该液晶显示器的制作。该隔垫物分别与该阵列基板和该彩膜基板相接触，用于支撑该阵列基板和该彩膜基板，使得该阵列基板和该彩膜基板之间形成空间，液晶位于该空间内。
当液晶显示器的表面受到外力挤压时，位于该阵列基板和该彩膜基板之间的隔垫物会在外力的作用下移动，使得隔垫物脱离预设位置。当背光源发出的光打在液晶显示器上时，由于隔垫物的位置与预设位置不同，因此，液晶显示器的表面会出现条纹，影响显示效果。
发明内容
为了解决液晶显示器的表面会出现条纹，影响显示效果的问题，本发明提供了一种彩膜基板、彩膜基板的制造方法及显示面板。所述技术方案如下：
第一方面，提供了一种彩膜基板，所述彩膜基板面向阵列基板一侧的表面与隔垫物相接触，
所述彩膜基板中至少一层为镂空结构，所述镂空结构用于增加所述彩膜基板与所述隔垫物之间的摩擦力。
可选的，所述隔垫物具有凹凸结构，所述凹凸结构根据所述镂空结构确定，所述凹凸结构的凸起部分与所述镂空结构的镂空部分对应，所述凹凸结构的凹进部分与所述镂空结构的非镂空部分对应。
可选的，所述彩膜基板包括透明基板，所述透明基板面向所述阵列基板一侧的表面形成有彩膜层；
所述彩膜层包括黑矩阵、与所述黑矩阵位于同层的第一彩色像素以及位于所述黑矩阵上方的第二彩色像素，所述第二彩色像素对应隔垫物位置处具有镂空结构。
可选的，所述彩膜基板包括透明基板，所述透明基板面向所述阵列基板一侧的表面形成有彩膜层；
所述彩膜层面向所述阵列基板一侧的表面形成有上层覆盖层；
所述彩膜层包括黑矩阵、与所述黑矩阵位于同层的第一彩色像素以及位于所述黑矩阵上方的第二彩色像素，所述上层覆盖层对应隔垫物位置处具有镂空结构，且所述镂空结构与所述第二彩色像素对应。
可选的，所述彩膜基板包括透明基板，所述透明基板面向所述阵列基板一侧的表面形成有彩膜层；
所述彩膜层面向所述阵列基板一侧的表面形成有上层覆盖层；
所述上层覆盖层面向所述阵列基板一侧的表面形成有透明电极层；
所述彩膜层包括黑矩阵、与所述黑矩阵位于同层的第一彩色像素以及位于所述黑矩阵上方的第二彩色像素，所述透明电极层对应隔垫物位置处具有镂空结构，且所述镂空结构与所述第二彩色像素对应。
可选的，所述镂空结构包括封闭的环形镂空结构。
可选的，所述封闭的环形镂空结构包括：圆形镂空结构和矩形镂空结构中的至少一种。
第二方面，提供了一种彩膜基板制造方法，用于制造第一方面所述的彩膜基板，所述彩膜基板制造方法包括：
在所述彩膜基板中至少一层形成镂空结构，所述镂空结构能够增加隔垫物与所述彩膜基板之间的摩擦力。
可选的，所述彩膜基板包括透明基板，所述在所述彩膜基板中至少一层形成镂空结构包括：
在所述透明基板面向所述阵列基板一侧的表面形成彩膜层，所述彩膜层包括黑矩阵、与所述黑矩阵位于同层的第一彩色像素以及位于所述黑矩阵上方的第二彩色像素；
在所述第二彩色像素对应隔垫物位置处形成镂空结构。
可选的，所述彩膜基板包括透明基板，所述在所述彩膜基板中至少一层形成镂空结构包括：
在所述透明基板面向所述阵列基板一侧的表面形成彩膜层，所述彩膜层包括黑矩阵、与所述黑矩阵位于同层的第一彩色像素以及位于所述黑矩阵上方的第二彩色像素；
在所述彩膜层面向所述阵列基板一侧的表面形成上层覆盖层；
在所述上层覆盖层对应隔垫物位置处形成镂空结构，且所述镂空结构与所述第二彩色像素对应。
可选的，所述彩膜基板包括透明基板，所述在所述彩膜基板中至少一层形成镂空结构包括：
在所述透明基板面向所述阵列基板一侧的表面形成彩膜层，所述彩膜层包括黑矩阵、与所述黑矩阵位于同层的第一彩色像素以及位于所述黑矩阵上方的第二彩色像素；
在所述彩膜层面向所述阵列基板一侧的表面形成上层覆盖层；
在所述上层覆盖层面向所述阵列基板一侧的表面形成透明电极层；
在所述透明电极层对应隔垫物位置处形成镂空结构，且所述镂空结构与所述第二彩色像素对应。
可选的，所述镂空结构包括封闭的环形镂空结构。
可选的，所述封闭的环形镂空结构包括：圆形镂空结构和矩形镂空结构中的至少一种。
第三方面，提供了一种显示面板，所述显示面板包括对盒成形的彩膜基板和阵列基板，所述彩膜基板和所述阵列基板之间具有隔垫物，所述彩膜基板的结构如第一方面所述。
本发明提供了一种彩膜基板、彩膜基板的制造方法及显示面板，由于在该彩膜基板中至少一层为镂空结构，且该镂空结构用于增加该彩膜基板与隔垫物之间的摩擦力，使得该隔垫物与该彩膜基板之间的摩擦力增强。防止了当液晶显示器的表面受到外力挤压时，隔垫物在外力的作用下移动，脱离预设位置，当背光源发出的光打在液晶显示器上时，隔垫物的位置与预设位置相同，所以，减少了液晶显示器的表面的条纹，增强了显示效果。
应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本发明。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
图2是本发明实施例提供的一种彩膜基板的结构示意图；
图3是本发明实施例提供的一种彩膜基板的一种具体结构示意图；
图3-1是本发明实施例提供的一种形成有彩膜层的阵列基板的俯视图；
图3-2是本发明实施例提供的一种彩膜基板的另一种具体结构示意图；
图4是本发明实施例提供的另一种彩膜基板的具体结构示意图；
图4-1是本发明实施例提供的另一种彩膜基板的另一种具体结构示意图；
图4-2是本发明实施例提供的另一种彩膜基板的又一种具体结构示意图；
图5是本发明实施例提供的又一种彩膜基板的一种具体结构示意图；
图5-1是本发明实施例提供的又一种彩膜基板的另一种具体结构示意图；
图6是本发明实施例提供的一种圆形镂空开口的形状示意图；
图7是本发明实施例提供的一种矩形镂空开口的形状示意图；
图8是本发明实施例提供的一种彩膜基板的第一种具体制造方法的方法流程图；
图9是本发明实施例提供的一种在第一种具体制造方法中在透明基板上形成彩膜层的结构示意图；
图10是本发明实施例提供的一种在第一种具体制造方法中在亚像素上形成镂空结构的结构示意图；
图11是本发明实施例提供的一种在第一种具体制造方法中在彩膜层上形成透明电极层的结构示意图；
图11-1是本发明实施例提供的一种彩膜基板的第二种具体制造方法的方法流程图；
图12是本发明实施例提供的一种彩膜基板的第三种具体制造方法的方法流程图；
图13是本发明实施例提供的一种在第三种具体制造方法中在透明基板上形成彩膜层的结构示意图；
图14是本发明实施例提供的一种在第三种具体制造方法中在彩膜层上形成上层覆盖层的结构示意图；
图15是本发明实施例提供的一种在第三种具体制造方法中在上层覆盖层上形成镂空结构的结构示意图；
图16是本发明实施例提供的一种在第三种具体制造方法中在上层覆盖层上形成透明电极层的结构示意图；
图16-1是本发明实施例提供的一种彩膜基板的第四种具体制造方法的方法流程图；
图16-2是本发明实施例提供的一种彩膜基板的第五种具体制造方法的方法流程图；
图17是本发明实施例提供的一种彩膜基板的第六种具体制造方法的方法流程图；
图18是本发明实施例提供的一种在第六种具体制造方法中在透明基板上形成彩膜层的结构示意图；
图19是本发明实施例提供的一种在第六种具体制造方法中在彩膜层上形成上层覆盖层的结构示意图；
图20是本发明实施例提供的一种在第六种具体制造方法中在上层覆盖层上形成镂空结构的结构示意图；
图20-1是本发明实施例提供的一种彩膜基板的第七种具体制造方法的方法流程图。
通过上述附图，已示出本发明明确的实施例，后文中将有更详细的描述。这些附图和文字描述并不是为了通过任何方式限制本发明构思的范围，而是通过参考特定实施例为本领域技术人员说明本发明的概念。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明实施方式作进一步地详细描述。
如图1所示，本发明实施例提供了一种显示面板0，该显示面板0可以包括对盒成形的彩膜基板01和阵列基板02，以及填充在该彩膜基板01和阵列基板02之间的液晶03。该彩膜基板01和该阵列基板02之间具有隔垫物04，该隔垫物04分别与该阵列基板01和该彩膜基板02相接触，用于支撑该阵列基板01和该彩膜基板02，使得该阵列基板01和该彩膜基板02之间形成空间A，液晶03位于该空间A内。
如图2所示，本发明实施例提供了一种彩膜基板01，该彩膜基板01面向图1中阵列基板02一侧的表面与图1中的隔垫物04相接触。
该彩膜基板01中至少一层为镂空结构B，该镂空结构B用于增加该彩膜基板01与图1中隔垫物04之间的摩擦力。
综上所述，本发明实施例提供的彩膜基板中，由于在该彩膜基板中至少一层为镂空结构，且该镂空结构用于增加该彩膜基板与隔垫物之间的摩擦力，使得该隔垫物与该彩膜基板之间的摩擦力增强。防止了当液晶显示器的表面受到外力挤压时，隔垫物在外力的作用下移动，脱离预设位置，当背光源发出的光打在液晶显示器上时，隔垫物的位置与预设位置相同，所以，减少了液晶显示器的表面的条纹，增强了显示效果。
进一步的，图2为该彩膜基板01的截面图，图2中的区域a为该彩膜基板01上设置有镂空结构B的区域，图2中的区域b为区域a的俯视图，该区域b中的镂空结构B的镂空部分的形状可以为圆环形，需要说明的是，该镂空结构B的镂空部分的形状也可以为其他形状，本发明实施例对此不做限定。由于本发明实施例提供的彩膜基板中至少一层为镂空结构，即该彩膜基板的表面存在段差，因此，在该彩膜基板上形成的隔垫物的底面和顶面也存在段差，受该镂空结构的影响，该隔垫物的底面和顶面也形成有凹凸结构，且该凹凸结构的凸起部分与该镂空结构的镂空部分对应，该凹凸结构的凹进部分与该镂空结构的非镂空部分对应。隔垫物的底面和顶面分别与该彩膜基板和该阵列基板相接触，在该凹凸结构的作用下，不仅使得该彩膜基板与隔垫物之间的摩擦力增大，而且使得隔垫物与阵列基板之间的摩擦力增大，隔垫物能够牢固的位于彩膜基板和阵列基板之间，防止在由阵列基板和彩膜基板对盒形成的显示面板在受到外力的挤压时，隔垫物在外力的作用下移动。
优选的，如图3所示，本发明实施例提供了一种彩膜基板01的一种具体结构，需要说明的是，图3所示的彩膜基板01可以适用于扭曲向列(英文：TwistedNematic；简称：TN)结构的显示面板。该彩膜基板01可以包括透明基板001、彩膜层002和透明电极层003。
该透明基板001面向图1中阵列基板02一侧的表面形成有该彩膜层002。该彩膜层002可以包括黑矩阵0021、与该黑矩阵0021位于同层的第一彩色像素0022以及位于该黑矩阵0021上方的第二彩色像素0023，且该第二彩色像素0023对应图1中隔垫物04的位置处具有该镂空结构B。图3-1为本发明实施例提供的一种形成有彩膜层002的阵列基板的俯视图，如图3-1所示，位于黑矩阵上方的第二彩色像素0023上对应图1中隔垫物04的位置处具有镂空结构B，该镂空结构B为圆形镂空结构，且该圆形镂空结构的开口区(图3-1中未示出)呈圆环状。该透明电极层003可以设置在形成有镂空结构B的彩膜层002的表面,由于该彩膜层002的表面形成有镂空结构B，且该透明电极层003的厚度较小，所以受该彩膜层002的影响，该透明电极层003形成有凹凸结构(图3中未示出)。在图3所示的彩膜基板01中，图1中的该隔垫物04可以与该透明导电层003面向图1中阵列基板02一侧的表面相接触，该凹凸结构用于增加该彩膜基板01与图1中隔垫物04之间的摩擦力。
可选的，如图3-2所示，本发明实施例提供了一种彩膜基板01的另一种具体结构，该彩膜基板01包括透明基板001、彩膜层002和透明电极层003，即图3中位于黑矩阵上方的第二彩色像素0023上对应图1中隔垫物04的位置处可以不设置镂空结构B，且可以在位于该彩膜层002上方的透明电极层003形成有该镂空结构B，使得该彩膜基板002具有镂空结构B，增大了该彩膜基板01与图1中隔垫物04之间的摩擦力。
如图4所示，本发明实施例提供了另一种彩膜基板01的具体结构，需要说明的是，图4所示的彩膜基板01可以适用于扭曲向列结构的显示面板。该彩膜基板可以包括透明基板001、彩膜层002、透明电极层003和上层覆盖(英文：Over Cover；简称：OC)层004。
该透明基板001面向图1中的阵列基板02一侧的表面上形成有该彩膜层002，该彩膜层002面向图1中阵列基板02一侧的表面可以形成有该上层覆盖层004。该彩膜层002可以包括黑矩阵0021、与该黑矩阵0021位于同层的第一彩色像素0022以及位于该黑矩阵0021上方的第二彩色像素0023，该上层覆盖层004对应图1中隔垫物04位置处具有该镂空结构B，且该镂空结构B与该彩膜层002的第二彩色像素0023对应。由于该上层覆盖层004形成有镂空结构B，且该透明电极层003的厚度较小，所以受该上层覆盖层004的影响，该透明电极层003形成有凹凸结构(图4中未示出)。在图4所示的彩膜基板01中，图1中的该隔垫物04可以与该透明导电层003面向图1中阵列基板02一侧的表面相接触，该凹凸结构用于增加该彩膜基板01与图1中隔垫物04之间的摩擦力。
可选的，如图4-1所示，本发明实施例提供了另一种彩膜基板01的另一种具体结构，彩膜基板01包括透明基板001、彩膜层002、透明电极层003和上层覆盖层004时，即图4中该上层覆盖层004上对应图1中隔垫物04位置处可以不设置该镂空结构B，且位于黑矩阵上方的第二彩色像素0023对应图1中隔垫物04的位置处可以设置有镂空结构B，使得该彩膜基板002具有镂空结构B，增大了该彩膜基板01与图1中隔垫物04之间的摩擦力。
可选的，如图4-2所示，本发明实施例提供了另一种彩膜基板01的又一种具体结构，该彩膜基板01可以包括透明基板001、彩膜层002、透明电极层003和上层覆盖层004时，即图4中该上层覆盖层004对应图1中隔垫物04位置处可以不设置该镂空结构B，且该透明电极层003上对应图1中隔垫物04位置处可以设置有镂空结构B，该镂空结构B与彩膜层002的第二彩色像素0023对应。使得该彩膜基板002具有镂空结构B，增大了该彩膜基板01与图1中隔垫物04之间的摩擦力。
如图5所示，本发明实施例提供了又一种彩膜基板01的一种具体结构，需要说明的是，图5所示的彩膜基板01可以适用于高级超维转换(英文：ADvancedSuper Dimension Switch，简称：ADS)显示面板。该彩膜基板可以包括透明基板001、彩膜层002和上层覆盖层004。
该透明基板001面向图1中的阵列基板02一侧的表面形成有该彩膜层002，该彩膜层002面向图1中阵列基板02一侧的表面可以形成有该上层覆盖层004。该彩膜层002可以包括黑矩阵0021、与该黑矩阵0021位于同层的第一彩色像素0022以及位于该黑矩阵0021上方的第二彩色像素0023，该上层覆盖层004对应图1中隔垫物04位置处具有该镂空结构B，且该镂空结构B与该彩膜层002的第二彩色像素0023对应。在图4-1所示的彩膜基板01中，图1中的该隔垫物04可以与该上层覆盖层004面向图1中阵列基板02一侧的表面相接触，该镂空结构B用于增加该彩膜基板01与图1中隔垫物04之间的摩擦力。
可选的，如图5-1所示，本发明实施例提供了又一种彩膜基板01的另一种具体结构，该彩膜基板01可以包括透明基板001、彩膜层002和上层覆盖层004时，即图5中该上层覆盖层004上对应图1中隔垫物04位置处可以不设置该镂空结构B，且位于黑矩阵上方的第二彩色像素0023上对应图1中隔垫物04的位置处可以设置有镂空结构B，使得该彩膜基板002具有镂空结构B，增大了该彩膜基板01与图1中隔垫物04之间的摩擦力。
示例的，上述镂空结构B可以包括封闭的环形镂空结构，该封闭的环形镂空结构可以包括：圆形镂空结构和矩形镂空结构中的至少一种，该封闭的环形镂空结构可以分为开口区和非开口区，具体的，如图6和图7所示，图6为本发明实施例提供的一种圆形镂空开口区的形状示意图，图7为本发明实施例提供的一种矩形镂空开口区的形状示意图。如图6所示，圆形镂空结构的开口区b1可以呈圆环状。如图7所示，该矩形镂空结构的开口区b2可以由两个套接的矩形形成，该两个套接的矩形为相似图形，且中心重合。示例的，相似图形为对应角相等，且对应边的比相等的两个图形。如图7所示，该两个套接的矩形分别为矩形c1和矩形c2，其中，该矩形c1套接在矩形c2外，且该矩形c1和该矩形c2为相似图形。需要说明的是，当该镂空结构B的个数大于或等于2时，该镂空结构B也可以同时包括圆形镂空结构和矩形镂空结构，本发明实施例对此不做限定。
现有技术中，在显示面板中，由于隔垫物直接置于彩膜基板和阵列基板之间的预设位置，在实际应用中，若该彩膜基板或阵列基板受到外力的挤压，使得该隔垫物在外力的作用下发生移动，即隔垫物脱离预设位置，当背光源发出的光打在液晶显示器上时，由于隔垫物的位置与预设位置不同，因此，液晶显示器的表面会出现条纹，影响显示效果。若该隔垫物在移动的过程中划伤该彩膜基板或阵列基板的表面，也会影响该显示面板的显示效果。本发明实施例提供的彩膜基板中，由于该彩膜基板和该隔垫物之间的摩擦力较大，可以防止隔垫物在外力的作用下移动，当背光源发出的光打在液晶显示器上时，隔垫物的位置与预设位置相同，减少了液晶显示器的表面的条纹，且该隔垫物也不会划伤该彩膜基板或阵列基板的表面，所以，提高了显示面板的显示效果。
综上所述，本发明实施例提供的彩膜基板中，由于在该彩膜基板中至少一层为镂空结构，且该镂空结构用于增加该彩膜基板与隔垫物之间的摩擦力，使得该隔垫物与该彩膜基板之间的摩擦力增强。防止了当液晶显示器的表面受到外力挤压时，隔垫物在外力的作用下移动，脱离预设位置，当背光源发出的光打在液晶显示器上时，隔垫物的位置与预设位置相同，所以，减少了液晶显示器的表面的条纹，增强了显示效果。
本发明实施例提供了一种彩膜基板制造方法，该彩膜基板制造方法可以用于制造图2、图3、图3-2、图4、图4-1、图4-2、图5或图5-1所示的彩膜基板，该彩膜基板制造方法可以包括：
在彩膜基板上中至少一层形成镂空结构，镂空结构能够增加隔垫物与彩膜基板之间的摩擦力。
综上所述，本发明实施例提供的彩膜基板制造方法中，由于在该彩膜基板中至少一层为镂空结构，且该镂空结构用于增加该彩膜基板与隔垫物之间的摩擦力，使得该隔垫物与该彩膜基板之间的摩擦力增强。防止了当液晶显示器的表面受到外力挤压时，隔垫物在外力的作用下移动，脱离预设位置，当背光源发出的光打在液晶显示器上时，隔垫物的位置与预设位置相同，所以，减少了液晶显示器的表面的条纹，增强了显示效果。
进一步的，该彩膜基板可以包括透明基板，在彩膜基板上中至少一层形成镂空结构可以包括：在透明基板面向阵列基板一侧的表面形成彩膜层，彩膜层包括黑矩阵、与黑矩阵位于同层的第一彩色像素以及位于黑矩阵上方的第二彩色像素；在第二彩色像素对应隔垫物位置处形成镂空结构。
可选的，该彩膜基板可以包括透明基板，在彩膜基板上中至少一层形成镂空结构可以包括：在透明基板面向阵列基板一侧的表面形成彩膜层，彩膜层包括黑矩阵、与黑矩阵位于同层的第一彩色像素以及位于黑矩阵上方的第二彩色像素；在彩膜层面向阵列基板一侧的表面形成上层覆盖层；在上层覆盖层对应隔垫物位置处形成镂空结构，且镂空结构与第二彩色像素对应。
可选的，该彩膜基板可以包括透明基板，在彩膜基板上中至少一层形成镂空结构可以包括：在透明基板面向阵列基板一侧的表面形成彩膜层，彩膜层包括黑矩阵、与黑矩阵位于同层的第一彩色像素以及位于黑矩阵上方的第二彩色像素；在彩膜层面向阵列基板一侧的表面形成上层覆盖层；在上层覆盖层面向阵列基板一侧的表面形成透明电极层；在透明电极层对应隔垫物位置处形成镂空结构，且镂空结构与第二彩色像素对应。
示例的，该镂空结构可以包括封闭的环形镂空结构。该封闭的环形镂空结构可以包括：封闭的圆形镂空结构和封闭的矩形镂空结构中的至少一种。
综上所述，本发明实施例提供的彩膜基板制造方法中，由于在该彩膜基板中至少一层为镂空结构，且该镂空结构用于增加该彩膜基板与隔垫物之间的摩擦力，使得该隔垫物与该彩膜基板之间的摩擦力增强。防止了当液晶显示器的表面受到外力挤压时，隔垫物在外力的作用下移动，脱离预设位置，当背光源发出的光打在液晶显示器上时，隔垫物的位置与预设位置相同，所以，减少了液晶显示器的表面的条纹，增强了显示效果。
如图8所示，本发明实施例提供了一种彩膜基板的第一种具体制造方法，该彩膜基板制造方法可以用于制造图3所示的彩膜基板，需要说明的是，图3所示的彩膜基板01可以适用于扭曲向列结构的显示面板。该彩膜基板可以包括透明基板，该彩膜基板制造方法可以包括：
步骤801、在透明基板面向阵列基板一侧的表面形成彩膜层，彩膜层包括黑矩阵、与黑矩阵位于同层的第一彩色像素以及位于黑矩阵上方的第二彩色像素。
示例的，如图9所示，可以在该透明基板001面向阵列基板一侧的表面通过构图工艺形成彩膜层002，该彩膜层002可以包括黑矩阵0021、与该黑矩阵0021位于同层的第一彩色像素0022以及位于该黑矩阵0021上方的第二彩色像素0023。具体的，该构图工艺可以包括光刻胶涂敷、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等工艺，在该透明基板001面向阵列基板一侧的表面上形成彩膜层002的具体步骤可以参考现有技术中在该透明基板上形成彩膜层的具体步骤，本发明实施例在此不做赘述。
步骤802、在第二彩色像素对应隔垫物位置处形成镂空结构。
如图10所示，可以在该第二彩色像素0023对应隔垫物的位置上通过构图工艺形成镂空结构B，该构图工艺可以包括光刻胶涂敷、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等工艺，需要说明的是，也可以通过其他构图工艺在第二彩色像素0023对应隔垫物位置处形成镂空结构B，本发明实施例对此不做限定。
步骤803、在形成有镂空结构的彩膜层表面形成透明电极层。
如图11所示，可以在该形成有镂空结构B的彩膜层002的表面上涂敷该透明电极层003，可选的，在该形成有镂空结构B的彩膜层002的表面上形成透明电极层003的方式还可以为沉积或溅射，本发明实施例对此不做限定。由于该彩膜层002的表面形成有镂空结构B，且该透明电极层003的厚度较小，所以受该彩膜层002的影响，该透明电极层003也形成有凹凸结构。且在图11所示的彩膜基板中，该隔垫物可以与该透明导电层003面向阵列基板一侧的表面相接触，该凹凸结构用于增加该彩膜基板01与隔垫物之间的摩擦力。
进一步的，在形成该彩膜基板后，可以在该彩膜基板上通过构图工艺形成隔垫物，由于该彩膜基板的表面形成有镂空结构，该镂空结构可以包括封闭的环形镂空结构，该封闭的环形镂空结构可以包括：封闭的圆形镂空结构和封闭的矩形镂空结构中的至少一种，即该彩膜基板面向阵列基板一侧的表面存在段差，因此，在该彩膜基板上形成的隔垫物的底面和顶面分别与该彩膜基板和该阵列基板相接触，即该隔垫物的底面和顶面也存在段差。受该镂空结构的影响，该隔垫物的底面和顶面形成有凹凸结构，在该凹凸结构的作用下，不仅使得该彩膜基板与该隔垫物之间的摩擦力增大，而且使得该隔垫物与该阵列基板之间的摩擦力增大，该隔垫物能够牢固的位于该彩膜基板和该阵列基板之间，防止在由阵列基板和彩膜基板对盒形成的显示面板在受到外力的挤压时，隔垫物在外力的作用下移动，当背光源发出的光打在液晶显示器上时，隔垫物的位置与预设位置相同，所以，减少了液晶显示器的表面的条纹，增强了显示效果。
综上所述，本发明实施例提供的彩膜基板制造方法中，由于在该彩膜基板中至少一层为镂空结构，且该镂空结构用于增加该彩膜基板与隔垫物之间的摩擦力，使得该隔垫物与该彩膜基板之间的摩擦力增强。防止了当液晶显示器的表面受到外力挤压时，隔垫物在外力的作用下移动，脱离预设位置，当背光源发出的光打在液晶显示器上时，隔垫物的位置与预设位置相同，所以，减少了液晶显示器的表面的条纹，增强了显示效果。
如图11-1所示，本发明实施例提供了一种彩膜基板的第二种具体制造方法，该彩膜基板制造方法可以用于制造图3-1所示的彩膜基板，需要说明的是，图3-1所示的彩膜基板01可以适用于扭曲向列结构的显示面板。该彩膜基板可以包括透明基板，该彩膜基板制造方法可以包括：
步骤811、在透明基板面向阵列基板一侧的表面形成彩膜层，彩膜层包括黑矩阵、与黑矩阵位于同层的第一彩色像素以及位于黑矩阵上方的第二彩色像素。
示例的，步骤811的具体做法可以参考图8所示的彩膜基板的制造方法中步骤801的做法。
步骤812、在该彩膜层上形成透明电极层。
示例的，可以在该彩膜层上涂敷该透明电极层，形成透明电极层的方式还可以为沉积或溅射，本发明实施例对此不做限定。
步骤813、在透明电极层对应隔垫物位置处形成镂空结构，且镂空结构与彩膜层的第二彩色像素对应。
具体的，若步骤812中采用溅射的方式在该彩膜层上形成透明电极层，则可以在溅射时使用与该镂空结构的形状相同的遮挡物进行遮挡，使得该透明电极层形成镂空结构，且镂空结构与彩膜层的第二彩色像素对应。需要说明的是，也可以通过其他工艺在透明电极层对应隔垫物位置处形成镂空结构，本发明实施例对此不做限定。
进一步的，在形成该彩膜基板后，可以在该彩膜基板上通过构图工艺形成隔垫物，由于该彩膜基板的表面形成有镂空结构，该镂空结构可以包括封闭的环形镂空结构，该封闭的环形镂空结构可以包括：封闭的圆形镂空结构和封闭的矩形镂空结构中的至少一种，即该彩膜基板面向阵列基板一侧的表面存在段差，因此，在该彩膜基板上形成的隔垫物的底面和顶面分别与该彩膜基板和该阵列基板相接触，即该隔垫物的底面和顶面也存在段差。受该镂空结构的影响，该隔垫物的底面和顶面也形成有凹凸结构，在该凹凸结构的作用下，不仅使得该彩膜基板与该隔垫物之间的摩擦力增大，而且使得该隔垫物与该阵列基板之间的摩擦力增大，该隔垫物能够牢固的位于该彩膜基板和该阵列基板之间，防止在由阵列基板和彩膜基板对盒形成的显示面板在受到外力的挤压时，隔垫物在外力的作用下移动，当背光源发出的光打在液晶显示器上时，隔垫物的位置与预设位置相同，所以，减少了液晶显示器的表面的条纹，增强了显示效果。
综上所述，本发明实施例提供的彩膜基板制造方法中，由于在该彩膜基板中至少一层为镂空结构，且该镂空结构用于增加该彩膜基板与隔垫物之间的摩擦力，使得该隔垫物与该彩膜基板之间的摩擦力增强。防止了当液晶显示器的表面受到外力挤压时，隔垫物在外力的作用下移动，脱离预设位置，当背光源发出的光打在液晶显示器上时，隔垫物的位置与预设位置相同，所以，减少了液晶显示器的表面的条纹，增强了显示效果。
如图12所示，本发明实施例提供了一种彩膜基板的第三种具体制造方法，该彩膜基板制造方法可以用于制造图4所示的彩膜基板，需要说明的是，图4所示的彩膜基板01可以适用于扭曲向列结构的显示面板。该彩膜基板可以包括透明基板，该彩膜基板制造方法可以包括：
步骤1201、在透明基板面向阵列基板一侧的表面形成彩膜层，彩膜层包括黑矩阵、与黑矩阵位于同层的第一彩色像素以及位于黑矩阵上方的第二彩色像素。
示例的，如图13所示，可以在该透明基板001面向阵列基板一侧的表面通过构图工艺形成彩膜层002，该彩膜层002可以包括黑矩阵0021、与该黑矩阵0021位于同层的第一彩色像素0022以及位于该黑矩阵0021上方的第二彩色像素0023。具体的，该构图工艺可以包括光刻胶涂敷、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等工艺，在该透明基板001面向阵列基板一侧的表面上形成彩膜层002的具体步骤可以参考现有技术中在该透明基板上形成彩膜层的具体步骤，本发明实施例在此不做赘述。
步骤1202、在彩膜层面向阵列基板一侧的表面形成上层覆盖层。
示例的，如图14所示，可以在该彩膜层002面向阵列基板一侧的表面涂敷上层覆盖层004，可选的，在该彩膜层002面向阵列基板一侧的表面上形成上层覆盖层004的方式还可以为沉积或溅射，本发明实施例对此不做限定。
步骤1203、在上层覆盖层对应隔垫物位置处形成镂空结构，且镂空结构与彩膜层的第二彩色像素对应。
如图15所示，可以在该上层覆盖层004对应隔垫物的位置上通过构图工艺形成镂空结构B，该构图工艺可以包括光刻胶涂敷、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等工艺，需要说明的是，也可以通过其他构图工艺在该上层覆盖层004对应隔垫物的位置上形成镂空结构B，该镂空结构B还可以与彩膜层002的第二彩色像素0023对应，本发明实施例对此不做限定。
步骤1204、在形成有镂空结构的上层覆盖层表面形成透明电极层。
如图16所示，可以在该形成有镂空结构B的上层覆盖层004的表面上涂敷该透明电极层003，可选的，在该形成有镂空结构B的上层覆盖层004的表面上形成透明电极层003的方式还可以为沉积或溅射，本发明实施例对此不做限定。由于该上层覆盖层004的表面形成有镂空结构B，且该透明电极层003的厚度较小，所以受该上层覆盖层004的影响，该透明电极层003也形成有凹凸结构。且在图16所示的彩膜基板中，该隔垫物可以与该透明导电层003面向阵列基板一侧的表面相接触，该凹凸结构用于增加该彩膜基板01与隔垫物之间的摩擦力。
进一步的，在形成该彩膜基板后，可以在该彩膜基板上通过一次构图工艺形成隔垫物，由于该彩膜基板的表面形成有镂空结构，该镂空结构可以包括封闭的环形镂空结构，该封闭的环形镂空结构可以包括：封闭的圆形镂空结构和封闭的矩形镂空结构中的至少一种，即该彩膜基板面向阵列基板一侧的表面为凹凸不平的，即彩膜基板面向阵列基板一侧的表面存在段差，因此，在该彩膜基板上形成的隔垫物的底面和顶面分别与该彩膜基板和该阵列基板相接触，即该隔垫物的底面和顶面也存在段差。受该镂空结构的影响，该隔垫物的底面和顶面也形成有凹凸结构，在该凹凸结构的作用下，不仅使得该彩膜基板与该隔垫物之间的摩擦力增大，而且使得该隔垫物与该阵列基板之间的摩擦力增大，该隔垫物能够牢固的位于该彩膜基板和该阵列基板之间，防止在由阵列基板和彩膜基板对盒形成的显示面板在受到外力的挤压时，隔垫物在外力的作用下移动，当背光源发出的光打在液晶显示器上时，隔垫物的位置与预设位置相同，所以，减少了液晶显示器的表面的条纹，增强了显示效果。
综上所述，本发明实施例提供的彩膜基板制造方法中，由于在该彩膜基板中至少一层为镂空结构，且该镂空结构用于增加该彩膜基板与隔垫物之间的摩擦力，使得该隔垫物与该彩膜基板之间的摩擦力增强。防止了当液晶显示器的表面受到外力挤压时，隔垫物在外力的作用下移动，脱离预设位置，当背光源发出的光打在液晶显示器上时，隔垫物的位置与预设位置相同，所以，减少了液晶显示器的表面的条纹，增强了显示效果。
如图16-1所示，本发明实施例提供了一种彩膜基板的第四种具体制造方法，该彩膜基板制造方法可以用于制造图4-1所示的彩膜基板，需要说明的是，图4-1所示的彩膜基板01可以适用于扭曲向列结构的显示面板。该彩膜基板可以包括透明基板，该彩膜基板制造方法可以包括：
步骤1211、在透明基板面向阵列基板一侧的表面形成彩膜层，彩膜层包括黑矩阵、与黑矩阵位于同层的第一彩色像素以及位于黑矩阵上方的第二彩色像素。
示例的，步骤1211的具体做法可以参考图12所示的彩膜基板的制造方法中步骤1201的做法。
步骤1212、在第二彩色像素对应隔垫物位置处形成镂空结构。
可以在该第二彩色像素对应隔垫物的位置上通过构图工艺形成镂空结构，该构图工艺可以包括光刻胶涂敷、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等工艺，需要说明的是，也可以通过其他构图工艺在第二彩色像素对应隔垫物位置处形成镂空结构，本发明实施例对此不做限定。
步骤1213、在形成有镂空结构的彩膜层表面形成上层覆盖层。
示例的，可以在形成有镂空结构的彩膜层面向阵列基板一侧的表面涂敷上层覆盖层，可选的，在该形成有镂空结构的彩膜层面向阵列基板一侧的表面上形成上层覆盖层的方式还可以为沉积或溅射，本发明实施例对此不做限定。
步骤1214、在上层覆盖层表面形成透明电极层。
可以在该上层覆盖层的表面上涂敷该透明电极层，可选的，在该形成有镂空结构的上层覆盖层的表面上形成透明电极层的方式还可以为沉积或溅射，本发明实施例对此不做限定。
进一步的，在形成该彩膜基板后，可以在该彩膜基板上通过一次构图工艺形成隔垫物，由于该彩膜基板的表面形成有镂空结构，该镂空结构可以包括封闭的环形镂空结构，该封闭的环形镂空结构可以包括：封闭的圆形镂空结构和封闭的矩形镂空结构中的至少一种，即该彩膜基板面向阵列基板一侧的表面为凹凸不平的，即彩膜基板面向阵列基板一侧的表面存在段差，因此，在该彩膜基板上形成的隔垫物的底面和顶面分别与该彩膜基板和该阵列基板相接触，即该隔垫物的底面和顶面也存在段差。受该镂空结构的影响，该隔垫物的底面和顶面也形成有凹凸结构，在该凹凸结构的作用下，不仅使得该彩膜基板与该隔垫物之间的摩擦力增大，而且使得该隔垫物与该阵列基板之间的摩擦力增大，该隔垫物能够牢固的位于该彩膜基板和该阵列基板之间，防止在由阵列基板和彩膜基板对盒形成的显示面板在受到外力的挤压时，隔垫物在外力的作用下移动，当背光源发出的光打在液晶显示器上时，隔垫物的位置与预设位置相同，所以，减少了液晶显示器的表面的条纹，增强了显示效果。
综上所述，本发明实施例提供的彩膜基板制造方法中，由于在该彩膜基板中至少一层为镂空结构，且该镂空结构用于增加该彩膜基板与隔垫物之间的摩擦力，使得该隔垫物与该彩膜基板之间的摩擦力增强。防止了当液晶显示器的表面受到外力挤压时，隔垫物在外力的作用下移动，脱离预设位置，当背光源发出的光打在液晶显示器上时，隔垫物的位置与预设位置相同，所以，减少了液晶显示器的表面的条纹，增强了显示效果。
如图16-2所示，本发明实施例提供了一种彩膜基板的第五种具体制造方法，该彩膜基板制造方法可以用于制造图4-2所示的彩膜基板，需要说明的是，图4-2所示的彩膜基板01可以适用于扭曲向列结构的显示面板。该彩膜基板可以包括透明基板，该彩膜基板制造方法可以包括：
步骤1221、在透明基板面向阵列基板一侧的表面形成彩膜层，彩膜层包括黑矩阵、与黑矩阵位于同层的第一彩色像素以及位于黑矩阵上方的第二彩色像素。
示例的，步骤1221的具体做法可以参考图12所示的彩膜基板的制造方法中步骤1201的做法。
步骤1222、在彩膜层表面形成上层覆盖层。
示例的，可以在彩膜层面向阵列基板一侧的表面涂敷上层覆盖层，可选的，在该彩膜层面向阵列基板一侧的表面上形成上层覆盖层的方式还可以为沉积或溅射，本发明实施例对此不做限定。
步骤1223、在上层覆盖层上形成透明电极层。
可以在该上层覆盖层的表面上涂敷该透明电极层，可选的，在该上层覆盖层的表面上形成透明电极层的方式还可以为沉积或溅射，本发明实施例对此不做限定。
步骤1224、在透明电极层对应隔垫物位置处形成镂空结构，且镂空结构与彩膜层的第二彩色像素对应。
步骤1224的具体做法可以参考图11-1所示的彩膜基板的制造方法中步骤813的做法。
进一步的，在形成该彩膜基板后，可以在该彩膜基板上通过一次构图工艺形成隔垫物，由于该彩膜基板的表面形成有镂空结构，该镂空结构可以包括封闭的环形镂空结构，该封闭的环形镂空结构可以包括：封闭的圆形镂空结构和封闭的矩形镂空结构中的至少一种，即该彩膜基板为凹凸不平的，即彩膜基板的表面存在段差，因此，在该彩膜基板上形成的隔垫物的底面和顶面分别与该彩膜基板和该阵列基板相接触，即该隔垫物的底面和顶面也存在段差。受该镂空结构的影响，该隔垫物的底面和顶面也形成有凹凸结构，在该凹凸结构的作用下，不仅使得该彩膜基板与该隔垫物之间的摩擦力增大，而且使得该隔垫物与该阵列基板之间的摩擦力增大，该隔垫物能够牢固的位于该彩膜基板和该阵列基板之间，防止在由阵列基板和彩膜基板对盒形成的显示面板在受到外力的挤压时，隔垫物在外力的作用下移动，当背光源发出的光打在液晶显示器上时，隔垫物的位置与预设位置相同，所以，减少了液晶显示器的表面的条纹，增强了显示效果。
综上所述，本发明实施例提供的彩膜基板制造方法中，由于在该彩膜基板中至少一层为镂空结构，且该镂空结构用于增加该彩膜基板与隔垫物之间的摩擦力，使得该隔垫物与该彩膜基板之间的摩擦力增强。防止了当液晶显示器的表面受到外力挤压时，隔垫物在外力的作用下移动，脱离预设位置，当背光源发出的光打在液晶显示器上时，隔垫物的位置与预设位置相同，所以，减少了液晶显示器的表面的条纹，增强了显示效果。
如图17所示，本发明实施例提供了一种彩膜基板的第六种具体制造方法，该彩膜基板制造方法可以用于制造图5所示的彩膜基板，需要说明的是，图5所示的彩膜基板01可以适用于高级超维转换的显示面板。该彩膜基板可以包括透明基板，该彩膜基板制造方法可以包括：
步骤1701、在透明基板面向阵列基板一侧的表面形成彩膜层，彩膜层包括黑矩阵、与黑矩阵位于同层的第一彩色像素以及位于黑矩阵上方的第二彩色像素。
示例的，如图18所示，可以在该透明基板001面向阵列基板一侧的表面通过构图工艺形成彩膜层002，该彩膜层002可以包括黑矩阵0021、与该黑矩阵0021位于同层的第一彩色像素0022以及位于该黑矩阵0021上方的第二彩色像素0023。具体的，该构图工艺可以包括光刻胶涂敷、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等工艺，在该透明基板001面向阵列基板一侧的表面上形成彩膜层002的具体步骤可以参考现有技术中在该透明基板上形成彩膜层的具体步骤，本发明实施例在此不做赘述。
步骤1702、在彩膜层面向阵列基板一侧的表面形成上层覆盖层。
示例的，如图19所示，可以在该彩膜层002面向阵列基板一侧的表面涂敷上层覆盖层004，可选的，在该彩膜层002面向阵列基板一侧的表面上形成上层覆盖层004的方式还可以为沉积或溅射，本发明实施例对此不做限定。
步骤1703、在上层覆盖层对应隔垫物位置处形成镂空结构，且镂空结构与彩膜层的第二彩色像素对应。
如图20所示，可以在该上层覆盖层004对应隔垫物的位置上通过构图工艺形成镂空结构B，该构图工艺可以包括光刻胶涂敷、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等工艺，需要说明的是，也可以通过其他构图工艺在该上层覆盖层004对应隔垫物的位置上形成镂空结构B，该镂空结构B还可以与彩膜层002的第二彩色像素0023对应，本发明实施例对此不做限定。
进一步的，在形成该彩膜基板后，可以在该彩膜基板上通过一次构图工艺形成隔垫物，由于该彩膜基板的表面形成有镂空结构，该镂空结构可以包括封闭的环形镂空结构，该封闭的环形镂空结构可以包括：封闭的圆形镂空结构和封闭的矩形镂空结构中的至少一种，即该彩膜基板的表面为凹凸不平的，即彩膜基板的表面存在段差，因此，在该彩膜基板上形成的隔垫物的底面和顶面分别与该彩膜基板和该阵列基板相接触，即该隔垫物的底面和顶面也存在段差。受该镂空结构的影响，该隔垫物的底面和顶面也形成有凹凸结构，在该凹凸结构的作用下，不仅使得该彩膜基板与该隔垫物之间的摩擦力增大，而且使得该隔垫物与该阵列基板之间的摩擦力增大，该隔垫物能够牢固的位于该彩膜基板和该阵列基板之间，防止在由阵列基板和彩膜基板对盒形成的显示面板在受到外力的挤压时，隔垫物在外力的作用下移动，当背光源发出的光打在液晶显示器上时，隔垫物的位置与预设位置相同，所以，减少了液晶显示器的表面的条纹，增强了显示效果。
综上所述，本发明实施例提供的彩膜基板制造方法中，由于在该彩膜基板中至少一层为镂空结构，且该镂空结构用于增加该彩膜基板与隔垫物之间的摩擦力，使得该隔垫物与该彩膜基板之间的摩擦力增强。防止了当液晶显示器的表面受到外力挤压时，隔垫物在外力的作用下移动，脱离预设位置，当背光源发出的光打在液晶显示器上时，隔垫物的位置与预设位置相同，所以，减少了液晶显示器的表面的条纹，增强了显示效果。
如图20-1所示，本发明实施例提供了一种彩膜基板的第七种具体制造方法，该彩膜基板制造方法可以用于制造图5-1所示的彩膜基板，需要说明的是，图5-1所示的彩膜基板01可以适用于高级超维转换的显示面板。该彩膜基板可以包括透明基板，该彩膜基板制造方法可以包括：
步骤1711、在透明基板面向阵列基板一侧的表面形成彩膜层，彩膜层包括黑矩阵、与黑矩阵位于同层的第一彩色像素以及位于黑矩阵上方的第二彩色像素。
示例的，步骤1711的具体做法可以参考图17所示的彩膜基板的制造方法中步骤1701的做法。
步骤1712、在第二彩色像素对应隔垫物位置处形成镂空结构。
可以在该第二彩色像素对应隔垫物的位置上通过构图工艺形成镂空结构，该构图工艺可以包括光刻胶涂敷、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等工艺，需要说明的是，也可以通过其他构图工艺在第二彩色像素对应隔垫物位置处形成镂空结构，本发明实施例对此不做限定。
步骤1713、在形成有镂空结构的彩膜层表面形成上层覆盖层。
示例的，可以在形成有镂空结构的彩膜层面向阵列基板一侧的表面涂敷上层覆盖层，可选的，在该形成有镂空结构的彩膜层面向阵列基板一侧的表面上形成上层覆盖层的方式还可以为沉积或溅射，本发明实施例对此不做限定。
进一步的，在形成该彩膜基板后，可以在该彩膜基板上通过一次构图工艺形成隔垫物，由于该彩膜基板的表面形成有镂空结构，该镂空结构可以包括封闭的环形镂空结构，该封闭的环形镂空结构可以包括：封闭的圆形镂空结构和封闭的矩形镂空结构中的至少一种，即该彩膜基板的表面为凹凸不平的，即彩膜基板的表面存在段差，因此，在该彩膜基板上形成的隔垫物的底面和顶面分别与该彩膜基板和该阵列基板相接触，即该隔垫物的底面和顶面也存在段差。受该镂空结构的影响，该隔垫物的底面和顶面也形成有凹凸结构，在该凹凸结构的作用下，不仅使得该彩膜基板与该隔垫物之间的摩擦力增大，而且使得该隔垫物与该阵列基板之间的摩擦力增大，该隔垫物能够牢固的位于该彩膜基板和该阵列基板之间，防止在由阵列基板和彩膜基板对盒形成的显示面板在受到外力的挤压时，隔垫物在外力的作用下移动，当背光源发出的光打在液晶显示器上时，隔垫物的位置与预设位置相同，所以，减少了液晶显示器的表面的条纹，增强了显示效果。
综上所述，本发明实施例提供的彩膜基板制造方法中，由于在该彩膜基板中至少一层为镂空结构，且该镂空结构用于增加该彩膜基板与隔垫物之间的摩擦力，使得该隔垫物与该彩膜基板之间的摩擦力增强。防止了当液晶显示器的表面受到外力挤压时，隔垫物在外力的作用下移动，脱离预设位置，当背光源发出的光打在液晶显示器上时，隔垫物的位置与预设位置相同，所以，减少了液晶显示器的表面的条纹，增强了显示效果。
本发明实施例提供了一种显示面板，该显示面板可以包括对盒成形的彩膜基板和阵列基板，该彩膜基板和阵列基板之间具有隔垫物，该彩膜基板的结构可以如图2、图3、图3-2、图4、图4-1、图4-2、图5或图5-1所示。该显示面板可以为：液晶面板、电子纸、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
综上所述，本发明实施例提供的显示面板中，由于在该彩膜基板中至少一层为镂空结构，且该镂空结构用于增加该彩膜基板与隔垫物之间的摩擦力，使得该隔垫物与该彩膜基板之间的摩擦力增强。防止了当液晶显示器的表面受到外力挤压时，隔垫物在外力的作用下移动，脱离预设位置，当背光源发出的光打在液晶显示器上时，隔垫物的位置与预设位置相同，所以，减少了液晶显示器的表面的条纹，增强了显示效果。上述所有可选技术方案，可以采用任意结合形成本发明的可选实施例，在此不再一一赘述。
以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (14)

1.一种彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板面向阵列基板一侧的表面与隔垫物相接触，
所述彩膜基板中至少一层为镂空结构，所述镂空结构用于增加所述彩膜基板与所述隔垫物之间的摩擦力。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，
所述隔垫物具有凹凸结构，所述凹凸结构根据所述镂空结构确定，所述凹凸结构的凸起部分与所述镂空结构的镂空部分对应，所述凹凸结构的凹进部分与所述镂空结构的非镂空部分对应。
3.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，
所述彩膜基板包括透明基板，所述透明基板面向所述阵列基板一侧的表面形成有彩膜层；
所述彩膜层包括黑矩阵、与所述黑矩阵位于同层的第一彩色像素以及位于所述黑矩阵上方的第二彩色像素，所述第二彩色像素对应隔垫物位置处具有镂空结构。
4.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，
所述彩膜基板包括透明基板，所述透明基板面向所述阵列基板一侧的表面形成有彩膜层；
所述彩膜层面向所述阵列基板一侧的表面形成有上层覆盖层；
所述彩膜层包括黑矩阵、与所述黑矩阵位于同层的第一彩色像素以及位于所述黑矩阵上方的第二彩色像素，所述上层覆盖层对应隔垫物位置处具有镂空结构，且所述镂空结构与所述第二彩色像素对应。
5.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，
所述彩膜基板包括透明基板，所述透明基板面向所述阵列基板一侧的表面形成有彩膜层；
所述彩膜层面向所述阵列基板一侧的表面形成有上层覆盖层；
所述上层覆盖层面向所述阵列基板一侧的表面形成有透明电极层；
所述彩膜层包括黑矩阵、与所述黑矩阵位于同层的第一彩色像素以及位于所述黑矩阵上方的第二彩色像素，所述透明电极层对应隔垫物位置处具有镂空结构，且所述镂空结构与所述第二彩色像素对应。
6.根据权利要求1至5任一权利要求所述的彩膜基板，其特征在于，
所述镂空结构包括封闭的环形镂空结构。
7.根据权利要求6所述的彩膜基板，其特征在于，
所述封闭的环形镂空结构包括：圆形镂空结构和矩形镂空结构中的至少一种。
8.一种彩膜基板制造方法，用于制造权利要求1至7任一所述的彩膜基板，所述彩膜基板制造方法包括：
在所述彩膜基板中至少一层形成镂空结构，所述镂空结构能够增加隔垫物与所述彩膜基板之间的摩擦力。
9.根据权利要求8所述的彩膜基板制造方法，其特征在于，所述彩膜基板包括透明基板，所述在所述彩膜基板中至少一层形成镂空结构包括：
在所述透明基板面向所述阵列基板一侧的表面形成彩膜层，所述彩膜层包括黑矩阵、与所述黑矩阵位于同层的第一彩色像素以及位于所述黑矩阵上方的第二彩色像素；
在所述第二彩色像素对应隔垫物位置处形成镂空结构。
10.根据权利要求8所述的彩膜基板制造方法，其特征在于，所述彩膜基板包括透明基板，所述在所述彩膜基板中至少一层形成镂空结构包括：
在所述透明基板面向所述阵列基板一侧的表面形成彩膜层，所述彩膜层包括黑矩阵、与所述黑矩阵位于同层的第一彩色像素以及位于所述黑矩阵上方的第二彩色像素；
在所述彩膜层面向所述阵列基板一侧的表面形成上层覆盖层；
在所述上层覆盖层对应隔垫物位置处形成镂空结构，且所述镂空结构与所述第二彩色像素对应。
11.根据权利要求8所述的彩膜基板制造方法，其特征在于，所述彩膜基板包括透明基板，所述在所述彩膜基板中至少一层形成镂空结构包括：
在所述透明基板面向所述阵列基板一侧的表面形成彩膜层，所述彩膜层包括黑矩阵、与所述黑矩阵位于同层的第一彩色像素以及位于所述黑矩阵上方的第二彩色像素；
在所述彩膜层面向所述阵列基板一侧的表面形成上层覆盖层；
在所述上层覆盖层面向所述阵列基板一侧的表面形成透明电极层；
在所述透明电极层对应隔垫物位置处形成镂空结构，且所述镂空结构与所述第二彩色像素对应。
12.根据权利要求8至11任一权利要求所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，
所述镂空结构包括封闭的环形镂空结构。
13.根据权利要求12所述的彩膜基板，其特征在于，
所述封闭的环形镂空结构包括：圆形镂空结构和矩形镂空结构中的至少一种。
14.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括对盒成形的彩膜基板和阵列基板，所述彩膜基板和所述阵列基板之间具有隔垫物，所述彩膜基板的结构如权利要求1至7任一权利要求所述。
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