CN104460121A - 液晶显示面板及其制作方法、液晶显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种液晶显示面板及其制作方法、液晶显示装置,其中,所述液晶显示面板包括:相对设置的第一基板和第二基板,设置于所述第一基板和所述第二基板之间的多个支撑柱,各所述支撑柱的第一端均与所述第一基板连接,设置于所述第二基板上的薄膜结构,所述薄膜结构的表面设置有凹凸结构,所述薄膜结构的表面与所述支撑柱的第二端相互接触,以使所述支撑柱的第一端至所述第二基板远离所述支撑柱的一侧距离相同,其中,所述支撑柱的第二端为靠近所述薄膜结构的一端。本发明能够使得液晶显示装置的液晶盒的盒厚均匀,从而使得光透过率均匀,进而改善液晶显示装置显示不均的现象。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,具体涉及一种液晶显示面板及其制作方法、液晶显示装置
背景技术
薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display,TFT-LCD)以其体积小、功耗低和无辐射等特点,成为目前可跨越所有尺寸的显示技术,应用的领域非常广泛,如电视、笔记本电脑、监视器或手机等。
如图1所示,图1是现有技术中液晶显示装置中支撑柱的结构图,液晶显示装置是由相对设置的阵列基板2和彩膜基板1对位贴合形成的一个液晶盒,当阵列基板2和彩膜基板1对位贴合时,需要在阵列基板2和彩膜基板1之间采用起支撑作用的支撑柱3以保持液晶盒的盒厚。液晶显示装置中支撑柱3包括主支撑柱和辅支撑柱共同起到支撑液晶盒的盒厚作用,其中,主支撑柱和辅支撑柱之间存在一定的高度差,而主支撑柱主要对支撑液晶显示面板的液晶盒盒厚起决定性作用,辅支撑柱在液晶显示面板受到外力时起提高弹力的作用。现有技术中一般通过光刻的方法来制作支撑柱,但是,在制作支撑柱的过程中,由于曝光的能量均一性等原因,位于阵列基板2或彩膜基板1上的一部分区域的主支撑柱高度会低于位于其他区域的主支撑柱的高度,从而导致现有技术中的阵列基板2和彩膜基板1对位成盒后盒厚不均,从而使得光透过率发生变化,引起液晶显示装置出现显示不均,影响了液晶显示装置的显示效果。
发明内容
本发明的目的是提供一种液晶显示面板及其制作方法、液晶显示装置,以解决现有的液晶显示装置中盒厚不均匀造成的光透过率发生变化,从而导致液晶显示装置出现显示不均的现象。
第一方面,本发明实施例提供了一种液晶显示面板,包括:
第一基板;
与第一基板相对设置的第二基板;
设置于所述第一基板和所述第二基板之间的多个支撑柱,各所述支撑柱的第一端均与所述第一基板连接;
设置于所述第二基板上的薄膜结构,所述薄膜结构的表面设置有凹凸结构,所述薄膜结构的表面与所述支撑柱的第二端相互接触,以使所述支撑柱的第一端至所述第二基板远离所述支撑柱的一侧距离相同,其中,所述支撑柱的第二端为靠近所述薄膜结构的一端。
第二方面,本发明实施例提供了一种液晶显示装置,包括背光模组和第一方面所述的液晶显示面板。
第三方面,本发明实施例提供了一种液晶显示面板的制作方法,包括:
提供第一基板和第二基板;
在所述第一基板上形成支撑柱层,图案化所述支撑柱层形成多个支撑柱,各支撑柱的第一端均与所述第一基板连接;
在所述第二基板上形成薄膜层,图案化所述薄膜层形成薄膜结构,在所述薄膜结构上部形成凹凸结构,以使所述薄膜结构的表面与所述支撑柱的第二端相互接触,以使所述支撑柱的第一端至所述第二基板远离所述支撑柱的一侧距离相同,其中,所述支撑柱的第二端为靠近所述薄膜结构的一端。
本发明实施例提供的液晶显示面板及其制作方法、液晶显示装置,通过在第二基板上的薄膜结构的表面设置凹凸结构,薄膜结构的表面与所述支撑柱的第二端相互接触,使得所述支撑柱的第一端至所述第二基板远离所述支撑柱的一侧之间的距离相同。由于在支撑柱第二端对应的区域设置凹槽或者隔垫物,使得第一基板和第二基板对位成盒后,液晶盒厚均匀,从而使得光透过率均匀,进而改善液晶显示装置显示不均的现象。
附图说明
下面将通过参照附图详细描述本发明的示例性实施例,使本领域的普通技术人员更清楚本发明的上述及其他特征和优点,附图中:
图1是现有技术中液晶显示装置中支撑柱的结构图;
图2是本发明实施例一提供的液晶显示面板的俯视图;
图3是沿图2中HH1的剖面图;
图4是本发明实施例二提供的液晶显示面板的剖面图;
图5a是液晶显示面板制作过程中曝光机台的高度分布示意图;
图5b是与图5a对应的液晶显示面板各区域的支撑柱的高度分布曲线图;
图6a所示是本发明实施例三提供的液晶显示面板的剖面图;
图6b是与图5b中位于区域D2中的主支撑柱对应的液晶显示面板的剖面图;
图7是与图6a对应的液晶显示面板的另一种剖面图;
图8是本发明实施例四提供的液晶显示面板的剖面图;
图9是本发明实施例五提供的液晶显示面板的剖面图;
图10是本发明实施例六提供的液晶显示面板的制作方法的流程图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明,而非对本发明的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部内容,并且附图中相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。
如图2和图3所示,图2是本发明实施例一提供的液晶显示面板的俯视图,图3是沿图2中HH1的剖面图,所述液晶显示面板包括:第一基板11,与第一基板11相对设置的第二基板12,设置于第一基板11和第二基板12之间的多个支撑柱17,各支撑柱17的第一端均与所述第一基板11连接,设置于第二基板12上的薄膜结构14,薄膜结构14的表面设置有凹凸结构,薄膜结构14的表面与支撑柱17的第二端相互接触,以使得支撑柱17的第一端至第二基板12远离支撑柱的一侧距离相同,其中,支撑柱17的第二端为靠近薄膜结构14的一端。此外,所述液晶显示面板包括显示区域G和围绕显示区域G的非显示区域,在非显示区域可以设置集成电路13。
优选的,第一基板11可以为彩膜基板,第二基板12可以为阵列基板,如图3所示,所述液晶显示面板包括阵列基板12、彩膜基板11、液晶层(未图示)和支撑柱17,其中,阵列基板12和彩膜基板11通过框状密封材料(未图示)粘合,液晶层被密封封装在阵列基板12和彩膜基板11之间。彩膜基板11主要包括位于彩膜基板11内侧的黑色矩阵15和彩色滤光膜16,黑色矩阵15由黑色绝缘材料制成,其为具有多个开口(未图示)的网状结构,彩色滤光膜16分别对应设置在黑色矩阵15的开口内,支撑柱17的第一端设置于彩膜基板11内侧,支撑柱17的第二端为靠近薄膜结构14的一端,支撑柱17的第一端可以设置于彩膜基板11内侧黑色矩阵15对应的区域。
在本实施例中,薄膜结构14的表面设置有凹凸结构,支撑柱17的第二端与薄膜结构14的表面相互接触,例如:如图2和图3所示。在制作支撑柱的过程中,由于曝光机等原因,制成的支撑柱的高度不一致,比如,区域B对应的支撑柱b的高度最低,区域C对应的支撑柱c的高度介于区域A对应的支撑柱a和区域B对应的支撑柱b的高度之间,区域A对应的支撑柱a的高度最高,因此,可以在区域A的支撑柱a对应的薄膜结构上设置第一凹槽a1,在区域C的支撑柱c对应的薄膜结构上设置第二凹槽c1,在区域B的支撑柱b的第二端与薄膜结构的表面接触,其中,第一凹槽a1的深度大于第二凹槽c1的深度,使得区域B的支撑柱b的第一端、区域C的支撑柱c的第一端以及区域A的支撑柱a的第一端至所述第二基板远离所述支撑柱的一侧距离相同,从而阵列基板12和彩膜基板11对位贴合后形成的液晶盒的盒厚均匀。
在本实施例的优选实施例中,所述支撑柱为主支撑柱和辅支撑柱,所述主支撑柱的直径大于所述辅支撑柱的直径。各支撑柱的第一端至所述第二基板远离支撑柱的一侧距离相同,也即各支撑柱的第一端至所述薄膜结构靠近第二基板的一侧距离相同。
本领域技术人员可以理解,本实施例只是对薄膜结构设置凹槽的一个具体实施例,在本发明的另一些实施例中,可以区域B对应的薄膜结构14上设置第一隔垫物,在区域C对应的薄膜结构14上设置第二隔垫物,在区域A的支撑柱的第二端与薄膜结构14的表面接触,其中,第一隔垫物的高度大于第二隔垫物的高度,使得区域B的支撑柱的第一端、区域C的支撑柱的第一端以及区域A的支撑柱的第一端至所述第二基板远离所述支撑柱的一侧距离相同,从而阵列基板12和彩膜基板11对位贴合后形成的液晶盒厚均匀。此外,还有其他的实施方式,本实施例只是一个优选实施例,只要各支撑柱的第一端至第二基板远离支撑柱的一侧距离相同即可,因此,不应以图2和图3中的示意性结构作为对本发明实施例的限制。
需要说明的是,图3中示意性的示出了位于阵列基板上的薄膜结构,由于所述阵列基板的结构可以多种,因此相应的,所述阵列基板上的膜层也可以多样。本实施例中并没有对阵列基板上的膜层或结构进行细化,只要支撑柱的第一端位于彩膜基板上,支撑柱的第二端距离所述薄膜结构靠近阵列基板一侧的距离相同即可。因此,不应以图3作为对本实施例结构的限制。并且,为清楚反映本实施例的重点,图3中,所述阵列基板上的不相关膜层都已相应省略,不应以此限制本实施例。
还需要说明的是,在本发明的另一些实施例中,所述第一基板可以为阵列基板,所述第二基板可以为彩膜基板,所述彩膜基板包括位于所述彩膜基板内侧的黑色矩阵。
进一步的,在本实施例中,还提供了液晶显示装置,包括背光模组和上述实施例所述的液晶显示面板。
本发明实施例提供的液晶显示面板和液晶显示装置,通过在第二基板的薄膜结构上设置凹凸结构,薄膜结构的表面与支撑柱的第二端相互接触,支撑柱的第一端至第二基板源极支撑柱的一侧距离相同,从而使得第一基板和第二基板对位贴合后的液晶盒盒厚均匀,透光率相同,从而改善液晶显示面板显示不均的现象,提高液晶显示面板的显示效果。
实施例二
如图4所示是本发明实施例二提供的液晶显示面板的剖面图,所述液晶显示面板中的支撑柱为主支撑柱。
具体地,所述液晶显示面板包括:
第一基板11,与第一基板11相对设置的第二基板12,设置于第一基板11和第二基板12之间的多个支撑柱,所述多个支撑柱包括主支撑柱17和辅支撑柱18,其中,主支撑柱17的直径大于辅支撑柱18的直径,各支撑柱的第一端均与第一基板11连接,设置于第二基板12上的薄膜结构14,薄膜结构14的表面设置有凹凸结构,薄膜结构14的表面与主支撑柱17的第二端相互接触,以使主支撑柱17的第一端至第二基板12远离主支撑柱17的一侧距离相同,其中,所述主支撑柱17的第二端为靠近薄膜结构的一端。
进一步的,在本实施例中,还提供了液晶显示装置,包括背光模组和上述实施例所述的液晶显示面板。
本实施例中,薄膜结构表面的凹凸结构的设置与本发明第一实施例基本相同,由于主支撑柱一般起支撑液晶盒盒厚的作用,因此,只需要薄膜结构的表面与主支撑柱的第二端相互接触,主支撑柱的第一端至第二基板远离主支撑柱的一侧距离相同,就可以保证第一基板和第二基板对位贴合后液晶盒的盒厚均匀。本领域技术人员参考实施例一公开的内容可理解,此处不再赘述。
实施例三
图5a是液晶显示面板制作过程中曝光机台棱镜的高度分布示意图,在制作支撑柱的过程中,由于曝光机台棱镜接续部分曝光能量比正常区域的曝光能量小,一般小15mj,所述曝光机可采用紫外线进行曝光,且曝光分成了两次,因而导致曝光机台棱镜接续部分对应的支撑柱的高度比正常区域中支撑柱的高度低。如图5a所示,例如:在曝光机台棱镜M4和曝光机台棱镜M5接续部分,该曝光机台棱镜尖的长度为16.8mm,除掉棱镜尖后曝光机台棱镜的长度为105mm,不同的曝光机具有不同的曝光机台棱镜长度,该接续部分包括接续的中间部分D1和接续的边缘部分D2,由于接续的中间部分D1和接续的边缘部分D2曝光能量均小于正常区域E的曝光能量,且该部分分为两次累加进行曝光,因而导致M4和M5的接续的中间部分D1对应的支撑柱的高度低于接续的边缘部分D2对应的支撑柱,且二者对应的支撑柱的高度均低于正常区域E对应的支撑柱的高度。如图5b所示,图5b是与图5a对应的液晶显示面板各支撑柱的高度分布曲线图,图中,矩形方框表示支撑柱高度差异较大区域,从图中可以看出,点E对应的主支撑柱的高度为区域E的主支撑柱高度,点D1对应的主支撑柱的高度为区域D1对应的主支撑柱的高度,点D2对应的主支撑柱的高度为区域D2对应的主支撑柱的高度,支撑柱高度差异较大区域的宽度约为20mm,在区域D1中主支撑柱的高度明显下降,区域D1对应的主支撑柱的高度比显示区域E对应的主支撑柱的高度低约0.1μm,区域D2对应的主支撑柱的高度比正常区域E对应的主支撑柱的高度低约0.05μm。因而,通过在薄膜结构上设置凹凸结构来消除主支撑柱高度不均匀造成的液晶盒盒厚不均的现象。
如图6a所示是本发明实施例三提供的液晶显示面板的剖面图,图6a是分别与图5b中位于区域E、区域D2和区域D1中的主支撑柱对应区域的液晶显示面板的剖面图,由于液晶显示面板整体剖面图较大,因此此处仅示出位于区域E、区域D2和区域D1三个位置的剖面图。在本实施例中,各支撑柱的第一端均设置在第一基板11上,支撑柱的第二端与位于第二基板22上的薄膜结构的表面接触。具体地,所述薄膜结构包括:位于第二基板22上的公共电极结构19,位于公共电极结构19上的绝缘层20,位于绝缘层20上的像素电极21,像素电极21通过过孔与绝缘层20下方的开关器件电连接,具体地,开关器件包括源极、漏极和栅极,像素电极21通过过孔与开关器件的漏极30电连接。像素电极21和公共电极结构19都为透明电极,透明电极可通过氧化铟锡(ITO)、铟锡氧化物(IZO)、上述材料的组合或者其他透明导电材料制造。绝缘层20包括深度不同的凹槽,各凹槽的底部与主支撑柱的第二端相互接触。
具体地,薄膜结构除了上述膜层外,如图6a所示,在公共电极结构19和第二基板22之间,所述薄膜结构还可包括:位于第二基板22上的缓冲层23,位于缓冲层23上的多晶硅层24,覆盖多晶硅层24的栅绝缘层25,位于栅绝缘层上25的第一电极26以及第一公共电极27,所述第一电极26包括开关器件的栅极;覆盖第一电极26和第一公共电极27的第二绝缘层28,位于第二绝缘层28上的源极29和漏极30,所述源极29和漏极30通过贯穿所述第二绝缘层28和栅极绝缘层25的过孔与所述多晶硅层24电连接,覆盖源极29、漏极30及第二绝缘层28的平坦化层31。所述第一公共电极27与位于平坦化层31上的公共电极19通过过孔电连接(未图示)。
具体地,如图6a所示,可以在绝缘层20上设置深度不同的凹槽,绝缘层20的厚度可以为100nm,在区域E中的主支撑柱171对应区域的绝缘层20中设置第一凹槽e,所述第一凹槽的深度为0.1μm,使得第一凹槽e的底部与主支撑柱171的第二端相互接触;在区域D2中的主支撑柱172对应区域的绝缘层20中设置第二凹槽d2,所述第二凹槽d2的深度为0.05μm,使得第二凹槽d2的底部与主支撑柱172的第二端相互接触;区域D1中的支撑柱173对应区域的绝缘层20表面和区域D1中的支撑柱173的第二端相互接触。所述第一凹槽e和第二凹槽d2采用半灰阶掩膜(halftone)工艺在同一工艺步骤中形成,通过控制形成第一凹槽e和第二凹槽d2上方的透过掩膜板的光强,从而制作出符合工艺要求的不同深度的凹槽。从而使得区域D1、区域D2以及区域E对应的支撑柱的第二端都与薄膜结构的表面接触,进而各支撑柱的第一端至阵列基板远离支撑柱的一侧距离相同,使得第一基板11和第二基板12对位贴合后形成的液晶盒盒厚均匀,光穿透率均匀,从而改善液晶显示面板显示不均的现象。
作为本实施例图6a的一种变形,如图6b所示,图6b是与图5b中位于区域D2中的主支撑柱对应的液晶显示面板的剖面图,也可以在公共电极结构19上形成第二凹槽d2,所述第二凹槽d2的深度为0.05μm,之后在形成第二凹槽d2的公共电极结构19上形成绝缘层20。
优选的,第一基板11为彩膜基板,第二基板12为阵列基板,需要说明的是,图6a-图6b所描述的液晶显示面板中的阵列基板结构仅仅用于解释本发明,而非对本发明的限定。本实施例只是一个优选实施例,所有现有的阵列基板的结构均可应用于本发明。
还需要说明的是,本实施例中所列举的第一凹槽、第二凹槽的深度仅仅用于解释本发明,本实施例只是设置不同深度凹槽的一个具体实施例。在实际应用中,可根据不同主支撑柱的高度设置不同深度的凹槽,因此,不应以第一凹槽和第二凹槽的具体数值作为对本发明实施例的限定。
在本实施例的一个优选实施例中,所述薄膜结构在图6b所示的结构的基础上可以做一些改变,相同之处不再重复。如图7所示,图7是本发明另一个实施例的液晶显示面板的剖面图,图7只示出了区域D2的结构,在区域D2中的支撑柱对应区域的绝缘层20内设置第二凹槽d2,所述第二凹槽d2的深度为0.1μm,在第二凹槽d2内设置隔垫物e2,该隔垫物e2的厚度为0.05μm,隔垫物e2的表面与区域D2中的支撑柱172的第二端相互接触,从而使得区域D1、区域D2以及区域E对应的支撑柱的第二端都与薄膜结构的表面接触,进而各支撑柱的第一端至阵列基板远离支撑柱的一侧距离相同,使得第一基板11和第二基板12对位贴合后形成的液晶盒盒厚均匀,光穿透率均匀,从而改善液晶显示面板显示不均的现象。
在本实施例的优选实施例中,所述第二凹槽d2与第一凹槽d1在同一工艺步骤中形成,且第一凹槽d1和第二凹槽d2的深度相同,在第二凹槽d2内设置隔垫物e2,该隔垫物e2的材料与像素电极21的材料相同,且与像素电极21在同一个工艺步骤中形成。
在本发明的另一些实施例中,所述第一基板可以为阵列基板,所述第二基板可以为彩膜基板,所述彩膜基板包括位于所述阵列基板内侧的黑色矩阵。
本发明实施例提供的液晶显示面板,各主支撑柱的第二端与薄膜结构的表面相互接触,主支撑柱的第一端至阵列基板远离主支撑柱的一侧距离相同,从而使得液晶盒各区域盒厚均匀,能够改善液晶显示面板显示不均的现象,此外,将主支撑柱设置于凹槽内,还能够防止主支撑柱滑入像素电极与开关器件进行电连接时的过孔内,从而能够避免漏光现象,此外,通过在凹槽内设置隔垫物,可以改善公共电极的信号延迟。
实施例四
如图8所示是本发明实施例四提供的液晶显示面板的剖面图,在本实施例中,各支撑柱的第一端均设置在彩膜基板上,支撑柱的第二端与薄膜结构的表面接触,各支撑柱和本发明实施例三中的支撑柱相同,与第三实施例的不同之处在于,本实施例中阵列基板上的薄膜结构上包括高度不同的隔垫物,各所述隔垫物的表面与所述主支撑柱的第二端相互接触。
具体地,如图5b和图8所示,可以在薄膜结构14上设置高度不同的隔垫物,支撑柱171为图5b中区域E对应的支撑柱,支撑柱172为图5b中区域D2对应的支撑柱,支撑柱173为图5b中区域D1对应的支撑柱,将区域E中的支撑柱171对应区域的薄膜结构14的表面与支撑柱171的第二端相互接触,将区域D2中的支撑柱172对应区域的薄膜结构14的表面设置第一隔垫物f1,所述第一隔垫物的厚度为0.05μm,使得第一隔垫物f1的表面与支撑柱172的第二端相互接触,将区域D1中的支撑柱173对应区域的薄膜结构14的表面设置第二隔垫物f2,所述第二隔垫物f2的厚度为0.1μm,使得第二隔垫物f2的表面与支撑柱173的第二端相互接触。所述第一隔垫物f1和第二隔垫物f2在同一个工艺步骤中形成,所述第一隔垫物f1和第二隔垫物f2的材料与像素电极21的材料相同,且与像素电极21在同一个工艺步骤中形成。
优选的,所述第一隔垫物f1和第二隔垫物f2的形状为块状、条状、三角形或者多边形中的任意一种。
在本发明的另一些实施例中,所述第一基板可以为阵列基板,所述第二基板可以为彩膜基板,所述彩膜基板包括位于所述阵列基板内侧的黑色矩阵。
需要说明的是,本实施例中所列举的第一隔垫物f1、第二隔垫物f2的厚度仅仅用于解释本发明,本实施例只是设置不同厚度隔垫物的一个具体实施例。在实际应用中,可根据不同主支撑柱的高度设置不同厚度的隔垫物,因此,不应以第一隔垫物f1和第二隔垫物f2的具体数值作为对本发明实施例的限定。
本发明第四实施例通过在绝缘层的表面设置厚度不同的隔垫物,使得区域D1、区域D2以及区域E对应的支撑柱的第二端都与薄膜结构的表面接触,进而各支撑柱的第一端至阵列基板远离支撑柱的一侧距离相同,使得阵列基板和彩膜基板对位贴合后形成的液晶盒盒厚均匀,光穿透率均匀,从而改善液晶显示面板显示不均的现象。
实施例五
如图9所示是本发明实施例五提供的液晶显示面板的剖面图,在本实施例中,各支撑柱的第一端均设置在彩膜基板上,支撑柱的第二端与薄膜结构的表面接触,各支撑柱为本发明实施例三和实施例四中的支撑柱,与第三实施例和第四实施例的不同之处在于,本实施例中阵列基板上的薄膜结构中的绝缘层上包括深度不同的凹槽以及高度不同的隔垫物,各所述凹槽的底部与所述主支撑柱的第二端相互接触以及各所述隔垫物与所述主支撑柱的第二端相互接触。
具体地,如图5b和图9所示,可以在薄膜结构14上设置深度不同的凹槽和高度不同的隔垫物,支撑柱171为图5b中显示正常区域对应的支撑柱,支撑柱172为图5b中区域D2对应的支撑柱,支撑柱173为图5b中区域D1对应的支撑柱,将区域E中的支撑柱171对应区域的薄膜结构14的表面设置第一凹槽d3,所述第一凹槽d3的深度为0.05μm,使得第一凹槽d3的表面与支撑柱171的第二端相互接触,将阵列基板上区域D2中的支撑柱172对应区域的薄膜结构14的表面与支撑柱172的第二端相互接触,将阵列基板上区域中D1的支撑柱173对应区域的薄膜结构14的表面设置第一隔垫物f3,所述第一隔垫物f3的厚度为0.05μm,使得第一隔垫物f3的表面与支撑柱173的第二端相互接触。所述第一隔垫物f3与所述像素电极的材料相同,且与所述像素电极在同一个工艺步骤中形成。
优选的,所述隔垫物的形状为块状、条状、三角形或者多边形中的任意一种。
在本发明的另一些实施例中,所述第一基板可以为阵列基板,所述第二基板可以为彩膜基板,所述彩膜基板包括位于所述阵列基板内侧的黑色矩阵。
需要说明的是,本实施例中所列举的第一凹槽d3的深度以及第一隔垫物f3的厚度仅仅用于解释本发明,本实施例只是一个具体实施例。在实际应用中,可根据不同主支撑柱的高度设置不同深度的凹槽和不同厚度的隔垫物,因此,不应以第一凹槽d3的深度以及第一隔垫物f3的厚度作为对本发明实施例的限定。
本发明第五实施例通过在绝缘层的表面设置深度不同的凹槽和高度不同的隔垫物,使得区域D1、区域D2以及区域E对应的支撑柱的第二端都与薄膜结构的表面接触,进而各支撑柱的第一端至阵列基板远离支撑柱的一侧距离相同,使得阵列基板和彩膜基板对位贴合后形成的液晶盒盒厚均匀,光穿透率均匀,从而改善液晶显示面板显示不均的现象。
实施例六
如图10所示是本发明实施例六提供的液晶显示面板的制作方法的流程图,该方法用于制作上述实施例提供的液晶显示面板,具体地,所述液晶显示面板的制作方法包括:
步骤11、提供第一基板和第二基板。
在本实施例中,所述第一基板可以为彩膜基板,所述第二基板可以为阵列基板,所述彩膜基板包括位于所述阵列基板内侧的黑色矩阵,或者,所述第一基板可以为阵列基板,所述第二基板可以为彩膜基板。
步骤12、在所述第一基板上形成支撑柱层,图案化所述支撑柱层形成多个支撑柱,各支撑柱的第一端均与所述第一基板连接。
在本步骤中,采用光刻的方法在第一基板上形成多个支撑柱,所述支撑柱为主支撑柱和辅支撑柱,或者所述支撑柱为主支撑柱。但是,在制作主支撑柱的过程中,由于曝光机等原因,会使得制作出来的主支撑柱的高度存在一定的差异,例如:两个主支撑柱的高度会相差0.1μm到0.5μm等。
步骤13、在所述第二基板上形成薄膜层,图案化所述薄膜层形成薄膜结构,在所述薄膜结构上部形成凹凸结构,以使所述薄膜结构的表面与所述支撑柱的第二端相互接触,以使所述支撑柱的第一端至所述第二基板远离所述支撑柱的一侧距离相同,其中,所述支撑柱的第二端为靠近所述薄膜结构的一端。
在本步骤中,所述薄膜结构可包括位于第二基板上的公共电极结构,位于所述公共电极结构上的绝缘层,位于所述绝缘层上的像素电极,所述像素电极通过过孔与所述绝缘层下方的开关器件电连接,可以在所述绝缘层上形成深度不同的凹槽,各凹槽的底部与所述主支撑柱的第二端相互接触,或者可以在所述绝缘层上形成深度不同的凹槽,部分凹槽内形成高度不同的隔垫物,各所述凹槽的底部与所述主支撑柱的第二端相互接触以及各所述隔垫物与所述主支撑柱的第二端相互接触,或者可以在所述绝缘层上形成高度不同的隔垫物,各所述隔垫物的表面与所述主支撑柱的第二端相互接触,或者可以在所述绝缘层上形成深度不同的凹槽以及高度不同的隔垫物,各所述凹槽的底部与所述主支撑柱的第二端相互接触以及各所述隔垫物与所述主支撑柱的第二端相互接触。
本发明实施例六提供的液晶显示面板的制作方法,通过在第二基板的薄膜结构上形成凹凸结构,薄膜结构的表面与支撑柱的第二端相互接触,支撑柱的第一端至第二基板源极支撑柱的一侧距离相同,从而使得第一基板和第二基板对位贴合后的液晶盒盒厚均匀,透光率相同,从而改善液晶显示面板显示不均的现象,提高液晶显示面板的显示效果。
注意,上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解,本发明不限于这里所述的特定实施例,对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此,虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明,但是本发明不仅仅限于以上实施例,在不脱离本发明构思的情况下,还可以包括更多其他等效实施例,而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。
Claims (16)
1.一种液晶显示面板,其特征在于,包括:
第一基板;
与第一基板相对设置的第二基板;
设置于所述第一基板和所述第二基板之间的多个支撑柱,各所述支撑柱的第一端均与所述第一基板连接;
设置于所述第二基板上的薄膜结构,所述薄膜结构的表面设置有凹凸结构,所述薄膜结构的表面与所述支撑柱的第二端相互接触,以使所述支撑柱的第一端至所述第二基板远离所述支撑柱的一侧距离相同,其中,所述支撑柱的第二端为靠近所述薄膜结构的一端。
2.根据权利要求1所述的液晶显示面板,其特征在于,所述第一基板为彩膜基板,所述第二基板为阵列基板,所述彩膜基板包括位于所述彩膜基板内侧的黑色矩阵。
3.根据权利要求2所述的液晶显示面板,其特征在于,所述支撑柱包括主支撑柱和辅支撑柱,所述主支撑柱的直径大于所述辅支撑柱的直径。
4.根据权利要求2所述的液晶显示面板,其特征在于,所述支撑柱为主支撑柱。
5.根据权利要求1-4任一所述的液晶显示面板,其特征在于,所述薄膜结构还包括位于所述第二基板上的公共电极结构,位于所述公共电极结构上的绝缘层,位于所述绝缘层上的像素电极,所述像素电极通过过孔与所述绝缘层下方的开关器件电连接。
6.根据权利要求5所述的液晶显示面板,其特征在于,所述绝缘层包括深度不同的凹槽,各凹槽的底部与所述主支撑柱的第二端相互接触。
7.根据权利要求5所述的液晶显示面板,其特征在于,所述绝缘层包括深度不同的凹槽,部分凹槽内设有高度不同的隔垫物,各所述凹槽的底部与所述主支撑柱的第二端相互接触以及各所述隔垫物与所述主支撑柱的第二端相互接触。
8.根据权利要求5所述的液晶显示面板,其特征在于,所述绝缘层上包括高度不同的隔垫物,各所述隔垫物的表面与所述主支撑柱的第二端相互接触。
9.根据权利要求5所述的液晶显示面板,其特征在于,所述绝缘层上包括深度不同的凹槽以及高度不同的隔垫物,各所述凹槽的底部与所述主支撑柱的第二端相互接触以及各所述隔垫物与所述主支撑柱的第二端相互接触。
10.根据权利要求7或8或9所述的液晶显示面板,其特征在于,所述隔垫物的材料与所述像素电极的材料相同,所述隔垫物与所述像素电极在同一个工艺步骤中形成。
11.根据权利要求10所述的液晶显示面板,其特征在于,所述隔垫物的形成为块状、条状、三角形或多边形中的任意一种。
12.根据权利要求1所述的液晶显示面板,其特征在于,所述第一基板为阵列基板,所述第二基板为彩膜基板,所述彩膜基板包括位于所述阵列基板内侧的黑色矩阵。
13.一种液晶显示装置,其特征在于,包括背光模组和如权利要求1-12任一项所述的液晶显示面板。
14.一种液晶显示面板的制作方法,其特征在于,包括:
提供第一基板和第二基板;
在所述第一基板上形成支撑柱层,图案化所述支撑柱层形成多个支撑柱,各支撑柱的第一端均与所述第一基板连接;
在所述第二基板上形成薄膜层,图案化所述薄膜层形成薄膜结构,在所述薄膜结构上部形成凹凸结构,以使所述薄膜结构的表面与所述支撑柱的第二端相互接触,以使所述支撑柱的第一端至所述第二基板远离所述支撑柱的一侧距离相同,其中,所述支撑柱的第二端为靠近所述薄膜结构的一端。
15.根据权利要求14所述的液晶显示装置的制作方法,其特征在于,所述第一基板为彩膜基板,所述第二基板为阵列基板,所述彩膜基板包括位于所述阵列基板内侧的黑色矩阵。
16.根据权利要求14所述的液晶显示装置的制作方法,其特征在于,所述第一基板为阵列基板,所述第二基板为彩膜基板,所述彩膜基板包括位于所述阵列基板内侧的黑色矩阵。
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